JP2000048757A - 分析装置 - Google Patents
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- JP2000048757A JP2000048757A JP10213205A JP21320598A JP2000048757A JP 2000048757 A JP2000048757 A JP 2000048757A JP 10213205 A JP10213205 A JP 10213205A JP 21320598 A JP21320598 A JP 21320598A JP 2000048757 A JP2000048757 A JP 2000048757A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】点分析を行っている場合において、オペレータ
が手動により試料ステージを移動させて、電子ビームと
試料の分析点の位置関係を最初の状態に戻そうとする
際、その時点で得たＳＥＭ像と、分析点を定める際に用
いた最初のＳＥＭ像の二つのＳＥＭ像とから、目視によ
り、どの方向にどれだけずれているかを容易に判断でき
るようにする。 【解決手段】手動により試料ステージの移動を行おうと
する場合、制御装置６は点分析の動作を停止し、走査電
子顕微鏡の機能を起動してこのときのＳＥＭ像を得る。
そして、このＳＥＭ像と初期ＳＥＭ像をモニタ７に表示
する。このとき制御装置６は、これらの両ＳＥＭ像に対
して格子グリッドを重畳表示する。オペレータは両ＳＥ
Ｍ像の格子グリッドを参照することによって、今回のＳ
ＥＭ像が初期ＳＥＭ像からどの方向にどれだけずれてい
るかを容易に判断できる。
が手動により試料ステージを移動させて、電子ビームと
試料の分析点の位置関係を最初の状態に戻そうとする
際、その時点で得たＳＥＭ像と、分析点を定める際に用
いた最初のＳＥＭ像の二つのＳＥＭ像とから、目視によ
り、どの方向にどれだけずれているかを容易に判断でき
るようにする。 【解決手段】手動により試料ステージの移動を行おうと
する場合、制御装置６は点分析の動作を停止し、走査電
子顕微鏡の機能を起動してこのときのＳＥＭ像を得る。
そして、このＳＥＭ像と初期ＳＥＭ像をモニタ７に表示
する。このとき制御装置６は、これらの両ＳＥＭ像に対
して格子グリッドを重畳表示する。オペレータは両ＳＥ
Ｍ像の格子グリッドを参照することによって、今回のＳ
ＥＭ像が初期ＳＥＭ像からどの方向にどれだけずれてい
るかを容易に判断できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、点分析が可能な分析装
置に関する。
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】分析装置を用いた分析手法の一つとして
点分析と称されるものがある。この点分析は、試料の所
定の位置に定めた分析点に電子ビームを照射し、そのと
きに試料から放射されるＸ線等の放射線を検出して定性
分析、定量分析等を行う分析手法である。
点分析と称されるものがある。この点分析は、試料の所
定の位置に定めた分析点に電子ビームを照射し、そのと
きに試料から放射されるＸ線等の放射線を検出して定性
分析、定量分析等を行う分析手法である。
【０００３】その点分析は次のように行われる。まず、
走査電子顕微鏡の機能を用いて試料上を電子ビームで走
査し、そのときに試料から放射される２次電子ビームを
検出して、２次電子による走査電子顕微鏡像（以下、Ｓ
ＥＭ像と称す）を得、そのＳＥＭ像を観察して分析点を
定める。そして、その分析点の位置に電子ビームを固定
して照射し、そのときに試料から放射されるＸ線等の放
射線を検出するのである。
走査電子顕微鏡の機能を用いて試料上を電子ビームで走
査し、そのときに試料から放射される２次電子ビームを
検出して、２次電子による走査電子顕微鏡像（以下、Ｓ
ＥＭ像と称す）を得、そのＳＥＭ像を観察して分析点を
定める。そして、その分析点の位置に電子ビームを固定
して照射し、そのときに試料から放射されるＸ線等の放
射線を検出するのである。
【０００４】しかし、点分析を行っている最中に、温度
上昇等による試料ステージや、試料自体の膨張等の種々
の原因によって、電子ビームが照射される位置が最初に
定めた分析点からずれることがある。
上昇等による試料ステージや、試料自体の膨張等の種々
の原因によって、電子ビームが照射される位置が最初に
定めた分析点からずれることがある。
【０００５】そのために、点分析においては、適宜な時
間だけ点分析を行ったら一旦電子ビームの照射を中断し
て、電子ビームの照射位置を補正することが行われる。
これは通常、ドリフト補正と称されているが、このドリ
フト補正は、点分析を中断して再度ＳＥＭ像を得、その
ＳＥＭ像と、最初に得たＳＥＭ像とのパターンマッチン
グを行って、ずれの方向及びずれ量を求め、それを電子
ビームの偏向系にフィードバックして、電子ビームを最
初に定めた分析点に照射させるようにすることによって
行われている。
間だけ点分析を行ったら一旦電子ビームの照射を中断し
て、電子ビームの照射位置を補正することが行われる。
これは通常、ドリフト補正と称されているが、このドリ
フト補正は、点分析を中断して再度ＳＥＭ像を得、その
ＳＥＭ像と、最初に得たＳＥＭ像とのパターンマッチン
グを行って、ずれの方向及びずれ量を求め、それを電子
ビームの偏向系にフィードバックして、電子ビームを最
初に定めた分析点に照射させるようにすることによって
行われている。
【０００６】例えば、最初に試料のＳＥＭ像を得、分析
点を定めて点分析を開始したとし、このとき、図４
（ａ）に示すように、電子ビーム３０は試料３１上の、
図中黒丸で示す分析点Ａに真っ直ぐに照射していたとす
る。この状態で点分析を行うのであるが、点分析を継続
していくと、温度上昇等によって試料ステージ（図４に
は図示せず）や、試料３１自体が膨張する等して、図４
（ｂ）に示すように電子ビーム３０が試料３１の分析点
Ａの位置からずれることがある。そこで、適宜な時間だ
け点分析を行ったら一旦点分析を中断して再度ＳＥＭ像
を得、このＳＥＭ像と最初に得たＳＥＭ像とのパターン
マッチングによりずれの方向、ずれの量を求め、それを
偏向系３２にフィードバックするのである。これによ
り、電子ビーム３０は図４（ｃ）に示すように偏向系３
２によって偏向され、最初に定めた分析点に照射するよ
うになる。
点を定めて点分析を開始したとし、このとき、図４
（ａ）に示すように、電子ビーム３０は試料３１上の、
図中黒丸で示す分析点Ａに真っ直ぐに照射していたとす
る。この状態で点分析を行うのであるが、点分析を継続
していくと、温度上昇等によって試料ステージ（図４に
は図示せず）や、試料３１自体が膨張する等して、図４
（ｂ）に示すように電子ビーム３０が試料３１の分析点
Ａの位置からずれることがある。そこで、適宜な時間だ
け点分析を行ったら一旦点分析を中断して再度ＳＥＭ像
を得、このＳＥＭ像と最初に得たＳＥＭ像とのパターン
マッチングによりずれの方向、ずれの量を求め、それを
偏向系３２にフィードバックするのである。これによ
り、電子ビーム３０は図４（ｃ）に示すように偏向系３
２によって偏向され、最初に定めた分析点に照射するよ
うになる。
【０００７】以上のように、点分析を行うに際しては、
適宜な時間毎に上述したようなドリフト補正を行うので
あるが、ドリフト補正を何度も繰り返していくと、偏向
系による電子ビームの偏向量が大きくなり、偏向系によ
るドリフト補正が可能な限界に達してしまうことがあ
る。
適宜な時間毎に上述したようなドリフト補正を行うので
あるが、ドリフト補正を何度も繰り返していくと、偏向
系による電子ビームの偏向量が大きくなり、偏向系によ
るドリフト補正が可能な限界に達してしまうことがあ
る。
【０００８】例えば、点分析の開始時点では図５（ａ）
に示すように、電子ビーム３０は試料３１上の、図中黒
丸で示す分析点Ａに真っ直ぐに照射していたとし、次に
ドリフト補正を行ったときにはパターンマッチングによ
り電子ビーム３０は図５（ｂ）に示すように偏向され、
更に次にドリフト補正を行ったときにはパターンマッチ
ングにより電子ビーム３０が図５（ｃ）に示すように偏
向されるというように、電子ビーム３０の偏向がある特
定の方向にだけ偏向される場合がある。なお、図５
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）において、３２は偏向系を示
す。
に示すように、電子ビーム３０は試料３１上の、図中黒
丸で示す分析点Ａに真っ直ぐに照射していたとし、次に
ドリフト補正を行ったときにはパターンマッチングによ
り電子ビーム３０は図５（ｂ）に示すように偏向され、
更に次にドリフト補正を行ったときにはパターンマッチ
ングにより電子ビーム３０が図５（ｃ）に示すように偏
向されるというように、電子ビーム３０の偏向がある特
定の方向にだけ偏向される場合がある。なお、図５
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）において、３２は偏向系を示
す。
【０００９】しかし、偏向系３２による電子ビーム３０
の偏向には限度があり、上述したように電子ビームがあ
る特定の方向に偏向される場合には、ドリフト補正を何
度も繰り返していくと、偏向系による電子ビームの偏向
量が大きくなり、偏向系によるドリフト補正が可能な限
界に達してしまうことがあるのである。
の偏向には限度があり、上述したように電子ビームがあ
る特定の方向に偏向される場合には、ドリフト補正を何
度も繰り返していくと、偏向系による電子ビームの偏向
量が大きくなり、偏向系によるドリフト補正が可能な限
界に達してしまうことがあるのである。
【００１０】パターンマッチングによるドリフト補正は
有効なものではあるが、それを何度も繰り返すことには
問題があるのである。
有効なものではあるが、それを何度も繰り返すことには
問題があるのである。
【００１１】そこで、通常は、パターンマッチングによ
るドリフト補正を何度か行ったら、手動により試料ステ
ージを移動させ、電子ビームと試料の分析点との位置関
係を最初の状態に戻すことが行われている。例えば、点
分析の開始時点では図５（ａ）に示すように、電子ビー
ム３０は試料３１上の分析点Ａに真っ直ぐに照射してい
たとすると、何度かパターンマッチングによるドリフト
補正を行った後には、手動により電子ビーム３０と試料
３１の分析点Ａとの位置関係を最初の状態である図５
（ａ）に示す状態に戻すのである。
るドリフト補正を何度か行ったら、手動により試料ステ
ージを移動させ、電子ビームと試料の分析点との位置関
係を最初の状態に戻すことが行われている。例えば、点
分析の開始時点では図５（ａ）に示すように、電子ビー
ム３０は試料３１上の分析点Ａに真っ直ぐに照射してい
たとすると、何度かパターンマッチングによるドリフト
補正を行った後には、手動により電子ビーム３０と試料
３１の分析点Ａとの位置関係を最初の状態である図５
（ａ）に示す状態に戻すのである。
【００１２】このように手動により試料ステージを移動
させて、電子ビームと試料の分析点の位置関係を最初の
状態に戻そうとする場合には、その時点でＳＥＭ像を
得、そのＳＥＭ像と、分析点を定める際に用いた最初の
ＳＥＭ像の二つのＳＥＭ像をモニタに表示して、オペレ
ータが目視により、どの方向にどれだけずれているかを
判断して試料ステージを移動させているのが通常であ
る。
させて、電子ビームと試料の分析点の位置関係を最初の
状態に戻そうとする場合には、その時点でＳＥＭ像を
得、そのＳＥＭ像と、分析点を定める際に用いた最初の
ＳＥＭ像の二つのＳＥＭ像をモニタに表示して、オペレ
ータが目視により、どの方向にどれだけずれているかを
判断して試料ステージを移動させているのが通常であ
る。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おいては、オペレータが手動により試料ステージを移動
させて、電子ビームと試料の分析点の位置関係を最初の
状態に戻そうとする場合、その時点で得たＳＥＭ像と、
分析点を定める際に用いた最初のＳＥＭ像の二つのＳＥ
Ｍ像を単にモニタに表示しているので、オペレータが目
視により、どの方向にどれだけずれているかを判断する
のは非常に難しいものであった。
おいては、オペレータが手動により試料ステージを移動
させて、電子ビームと試料の分析点の位置関係を最初の
状態に戻そうとする場合、その時点で得たＳＥＭ像と、
分析点を定める際に用いた最初のＳＥＭ像の二つのＳＥ
Ｍ像を単にモニタに表示しているので、オペレータが目
視により、どの方向にどれだけずれているかを判断する
のは非常に難しいものであった。
【００１４】そこで、本発明は、点分析を行っている場
合において、オペレータが手動により試料ステージを移
動させて、電子ビームと試料の分析点の位置関係を最初
の状態に戻そうとする際、その時点で得たＳＥＭ像と、
分析点を定める際に用いた最初のＳＥＭ像の二つのＳＥ
Ｍ像とから、目視により、どの方向にどれだけずれてい
るかを容易に判断することができる分析装置を提供する
ことを目的とするものである。
合において、オペレータが手動により試料ステージを移
動させて、電子ビームと試料の分析点の位置関係を最初
の状態に戻そうとする際、その時点で得たＳＥＭ像と、
分析点を定める際に用いた最初のＳＥＭ像の二つのＳＥ
Ｍ像とから、目視により、どの方向にどれだけずれてい
るかを容易に判断することができる分析装置を提供する
ことを目的とするものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１記載の分析装置は、点分析が可能な分析
装置において、電子ビームにより試料の所定の範囲を走
査して得た走査電子顕微鏡像を表示するに際して、当該
走査電子顕微鏡像に格子グリッドを重畳表示することを
特徴とする。
めに、請求項１記載の分析装置は、点分析が可能な分析
装置において、電子ビームにより試料の所定の範囲を走
査して得た走査電子顕微鏡像を表示するに際して、当該
走査電子顕微鏡像に格子グリッドを重畳表示することを
特徴とする。
【００１６】請求項２記載の分析装置は、請求項１記載
の分析装置において、前記格子グリッドの格子の間隔
は、走査電子顕微鏡像の倍率に応じて変更可能となされ
ていることを特徴とする。
の分析装置において、前記格子グリッドの格子の間隔
は、走査電子顕微鏡像の倍率に応じて変更可能となされ
ていることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ発明の実
施の形態について説明する。図１は本発明に係る分析装
置の一実施形態を示す図であり、図中、１は分析装置本
体、２は２次電子検出器、３はエネルギー分散型Ｘ線検
出器（ＥＤＳ）、４は試料、５は偏向系、６は制御装
置、７はモニタ、８は入力装置、９は画像メモリ、１０
は格子グリッドメモリを示す。
施の形態について説明する。図１は本発明に係る分析装
置の一実施形態を示す図であり、図中、１は分析装置本
体、２は２次電子検出器、３はエネルギー分散型Ｘ線検
出器（ＥＤＳ）、４は試料、５は偏向系、６は制御装
置、７はモニタ、８は入力装置、９は画像メモリ、１０
は格子グリッドメモリを示す。
【００１８】分析装置本体１は、走査電子顕微鏡の機能
と、ＥＤＳ３によるＸ線分析装置としての機能が一体化
されたものであり、この分析装置本体１の内部には、２
次電子検出器２、ＥＤＳ３、試料４、及び点分析におけ
るドリフト補正を行うための偏向系５が備えられてい
る。分析装置本体１の内部には、試料４を保持する試料
ステージ、及び種々のレンズ等も備えられているが、図
１では省略している。なお、試料ステージは手動によ
り、その位置が操作可能となされている。
と、ＥＤＳ３によるＸ線分析装置としての機能が一体化
されたものであり、この分析装置本体１の内部には、２
次電子検出器２、ＥＤＳ３、試料４、及び点分析におけ
るドリフト補正を行うための偏向系５が備えられてい
る。分析装置本体１の内部には、試料４を保持する試料
ステージ、及び種々のレンズ等も備えられているが、図
１では省略している。なお、試料ステージは手動によ
り、その位置が操作可能となされている。
【００１９】制御装置６は、ＣＰＵ及びその周辺回路で
構成されており、２次電子検出器２からの信号を取り込
んでＳＥＭ像を形成する処理、ＥＤＳ３からの信号を取
り込んで分析を行う処理、点分析を行うための処理、上
述したパターンマッチングにより検出したずれの方向、
ずれの量を偏向系５にフィードバックしてドリフト補正
を行う処理等の所定の処理を行う。
構成されており、２次電子検出器２からの信号を取り込
んでＳＥＭ像を形成する処理、ＥＤＳ３からの信号を取
り込んで分析を行う処理、点分析を行うための処理、上
述したパターンマッチングにより検出したずれの方向、
ずれの量を偏向系５にフィードバックしてドリフト補正
を行う処理等の所定の処理を行う。
【００２０】入力装置８はキーボード、マウスで構成さ
れている。画像メモリ９はＳＥＭ像を格納するためのも
のである。格子グリッドメモリ１０には、ＳＥＭ像の倍
率に応じた格子グリッドのパターンが格納されている。
なお、制御装置６、モニタ７及び入力装置８はパーソナ
ルコンピュータ、あるいはワークステーションによって
構成することができる。
れている。画像メモリ９はＳＥＭ像を格納するためのも
のである。格子グリッドメモリ１０には、ＳＥＭ像の倍
率に応じた格子グリッドのパターンが格納されている。
なお、制御装置６、モニタ７及び入力装置８はパーソナ
ルコンピュータ、あるいはワークステーションによって
構成することができる。
【００２１】さて、入力装置８から点分析の実行を指示
すると、制御装置６は分析装置本体１の走査電子顕微鏡
の機能を起動する。これにより、試料４の所定の範囲に
おいて電子ビームの走査が行われ、このとき試料４から
放射された２次電子は２次電子検出器２で検出される。
制御装置６は、２次電子検出器２からの信号を取り込ん
でＳＥＭ像を形成し（以下、この最初に得たＳＥＭ像を
初期ＳＥＭ像と称す）、画像メモリ９に格納すると共
に、モニタ７に表示する。このとき、制御装置６は、初
期ＳＥＭ像をモニタ７に表示するに際して、格子グリッ
ドメモリ１０からこのときのＳＥＭ像の倍率に応じた格
子グリッドのパターンを読み出し、その格子グリッドの
パターンを初期ＳＥＭ像に重畳して表示する。例えば、
初期ＳＥＭ像が図２（ａ）に示すようであり、このとき
の倍率に対応した格子グリッドのパターンが図２（ｂ）
に示すようであった場合には、図２（ｃ）に示すよう
な、初期ＳＥＭ像と格子グリッドパターンが重畳された
画像がモニタ７に表示されることになる。
すると、制御装置６は分析装置本体１の走査電子顕微鏡
の機能を起動する。これにより、試料４の所定の範囲に
おいて電子ビームの走査が行われ、このとき試料４から
放射された２次電子は２次電子検出器２で検出される。
制御装置６は、２次電子検出器２からの信号を取り込ん
でＳＥＭ像を形成し（以下、この最初に得たＳＥＭ像を
初期ＳＥＭ像と称す）、画像メモリ９に格納すると共
に、モニタ７に表示する。このとき、制御装置６は、初
期ＳＥＭ像をモニタ７に表示するに際して、格子グリッ
ドメモリ１０からこのときのＳＥＭ像の倍率に応じた格
子グリッドのパターンを読み出し、その格子グリッドの
パターンを初期ＳＥＭ像に重畳して表示する。例えば、
初期ＳＥＭ像が図２（ａ）に示すようであり、このとき
の倍率に対応した格子グリッドのパターンが図２（ｂ）
に示すようであった場合には、図２（ｃ）に示すよう
な、初期ＳＥＭ像と格子グリッドパターンが重畳された
画像がモニタ７に表示されることになる。
【００２２】さて、オペレータはモニタ７に表示された
当該初期ＳＥＭ像を観察して、点分析を行うための分析
点をマウスによって指示する。これにより、制御装置６
は当該指示された分析点に電子ビームを照射させるため
の偏向方向及び偏向量を求め、それを偏向系５に与え
る。これによって、電子ビームは指示された分析点に照
射され、点分析が開始される。
当該初期ＳＥＭ像を観察して、点分析を行うための分析
点をマウスによって指示する。これにより、制御装置６
は当該指示された分析点に電子ビームを照射させるため
の偏向方向及び偏向量を求め、それを偏向系５に与え
る。これによって、電子ビームは指示された分析点に照
射され、点分析が開始される。
【００２３】点分析の開始後、適宜な時間が経過したと
きに入力装置８からドリフト補正の指示を行うと、制御
装置６は、点分析の動作を停止する。そして、制御装置
６は走査電子顕微鏡の機能を起動して、このとき２次電
子検出器２からの信号に基づいてＳＥＭ像を得、このＳ
ＥＭ像と初期ＳＥＭ像とのパターンマッチングを行って
ずれ方向とずれ量を求め、その求めたずれ方向とずれ量
を偏向系５にフィードバックしてドリフト補正の処理を
行う。これによってドリフトが補正された状態で点分析
が継続される。
きに入力装置８からドリフト補正の指示を行うと、制御
装置６は、点分析の動作を停止する。そして、制御装置
６は走査電子顕微鏡の機能を起動して、このとき２次電
子検出器２からの信号に基づいてＳＥＭ像を得、このＳ
ＥＭ像と初期ＳＥＭ像とのパターンマッチングを行って
ずれ方向とずれ量を求め、その求めたずれ方向とずれ量
を偏向系５にフィードバックしてドリフト補正の処理を
行う。これによってドリフトが補正された状態で点分析
が継続される。
【００２４】その後、オペレータが手動による試料ステ
ージの移動を行おうとする場合には、入力装置８により
その旨の指示を行う。これにより、制御装置６は点分析
の動作を停止し、走査電子顕微鏡の機能を起動して、こ
のときの２次電子検出器２からの信号に基づいてＳＥＭ
像を得、当該ＳＥＭ像を画像メモリ９に格納すると共
に、当該ＳＥＭ像と、初期ＳＥＭ像とを並べてモニタ７
に表示する。このとき、制御装置６は、格子グリッドメ
モリ１０からそれぞれのＳＥＭ像の倍率に応じた格子グ
リッドのパターンを読み出して、当該ＳＥＭ像と初期Ｓ
ＥＭ像の両方のＳＥＭ像に対して格子グリッドのパター
ンを重畳表示する。その例を図３に示す。図３において
は、このとき得られた当該ＳＥＭ像はモニタ７の右側に
表示され、初期ＳＥＭ像はモニタ７の画面の左側に表示
されており、それぞれに格子グリッドが重畳表示されて
いる。
ージの移動を行おうとする場合には、入力装置８により
その旨の指示を行う。これにより、制御装置６は点分析
の動作を停止し、走査電子顕微鏡の機能を起動して、こ
のときの２次電子検出器２からの信号に基づいてＳＥＭ
像を得、当該ＳＥＭ像を画像メモリ９に格納すると共
に、当該ＳＥＭ像と、初期ＳＥＭ像とを並べてモニタ７
に表示する。このとき、制御装置６は、格子グリッドメ
モリ１０からそれぞれのＳＥＭ像の倍率に応じた格子グ
リッドのパターンを読み出して、当該ＳＥＭ像と初期Ｓ
ＥＭ像の両方のＳＥＭ像に対して格子グリッドのパター
ンを重畳表示する。その例を図３に示す。図３において
は、このとき得られた当該ＳＥＭ像はモニタ７の右側に
表示され、初期ＳＥＭ像はモニタ７の画面の左側に表示
されており、それぞれに格子グリッドが重畳表示されて
いる。
【００２５】そして、オペレータは、格子グリッドが重
畳表示されたこれらの両ＳＥＭ像を観察することによっ
て、当該ＳＥＭ像が初期ＳＥＭ像から、縦方向及び横方
向にどれだけ、どちらの方向にずれているかを判断し、
試料ステージを点分析開始時の状態に移動する。
畳表示されたこれらの両ＳＥＭ像を観察することによっ
て、当該ＳＥＭ像が初期ＳＥＭ像から、縦方向及び横方
向にどれだけ、どちらの方向にずれているかを判断し、
試料ステージを点分析開始時の状態に移動する。
【００２６】以上のように、この分析装置によれば、モ
ニタ７に表示されるＳＥＭ像には格子グリッドが重畳表
示されるので、点分析を行っている場合において、オペ
レータが手動により試料ステージを移動させて、電子ビ
ームと試料の分析点の位置関係を最初の状態に戻そうと
する際に、目視により、現在のＳＥＭ像が初期ＳＥＭ像
からどの方向にどれだけずれているかを容易に判断する
ことが可能となる。また、この格子グリッドの格子の間
隔はＳＥＭ像の倍率に応じて自動的に変わるので便利で
ある。
ニタ７に表示されるＳＥＭ像には格子グリッドが重畳表
示されるので、点分析を行っている場合において、オペ
レータが手動により試料ステージを移動させて、電子ビ
ームと試料の分析点の位置関係を最初の状態に戻そうと
する際に、目視により、現在のＳＥＭ像が初期ＳＥＭ像
からどの方向にどれだけずれているかを容易に判断する
ことが可能となる。また、この格子グリッドの格子の間
隔はＳＥＭ像の倍率に応じて自動的に変わるので便利で
ある。
【００２７】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明は上記実施形態に限定されるものではな
く、種々の変形が可能である。例えば、格子グリッドの
パターンは、初期ＳＥＭ像とのずれの方向、ずれ量が判
断できればどのようなパターンであってもよい。また、
格子グリッドの間隔はオペレータが任意に設定可能とし
てもよい。
たが、本発明は上記実施形態に限定されるものではな
く、種々の変形が可能である。例えば、格子グリッドの
パターンは、初期ＳＥＭ像とのずれの方向、ずれ量が判
断できればどのようなパターンであってもよい。また、
格子グリッドの間隔はオペレータが任意に設定可能とし
てもよい。
【図１】 本発明に係る分析装置の一実施形態を示す図
である。
である。
【図２】 ＳＥＭ像と格子グリッドの重畳表示を説明す
るための図である。
るための図である。
【図３】 オペレータが手動による試料ステージの移動
を行おうとする場合にモニタ７に表示される当該時点で
のＳＥＭ像と、初期ＳＥＭ像の表示例を示す図である。
を行おうとする場合にモニタ７に表示される当該時点で
のＳＥＭ像と、初期ＳＥＭ像の表示例を示す図である。
【図４】 点分析時のドリフト補正を説明するための図
である。
である。
【図５】 ドリフト補正の限界を説明するための図であ
る。
る。
１…分析装置本体、２…２次電子検出器、３…エネルギ
ー分散型Ｘ線検出器（ＥＤＳ）、４…試料、５…偏向
系、６…制御装置、７…モニタ、８…入力装置、９…画
像メモリ、１０…格子グリッドメモリ。
ー分散型Ｘ線検出器（ＥＤＳ）、４…試料、５…偏向
系、６…制御装置、７…モニタ、８…入力装置、９…画
像メモリ、１０…格子グリッドメモリ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 康則 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 十文字 清 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子エンジニアリング株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】点分析が可能な分析装置において、電子ビ
ームにより試料の所定の範囲を走査して得た走査電子顕
微鏡像を表示するに際して、当該走査電子顕微鏡像に格
子グリッドを重畳表示することを特徴とする分析装置。 - 【請求項２】前記格子グリッドの格子の間隔は、走査電
子顕微鏡像の倍率に応じて変更可能となされていること
を特徴とする請求項１記載の分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10213205A JP2000048757A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10213205A JP2000048757A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000048757A true JP2000048757A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16635288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10213205A Pending JP2000048757A (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | 分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000048757A (ja) |
-
1998
- 1998-07-28 JP JP10213205A patent/JP2000048757A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040615 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061016 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061018 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061215 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070221 |