JPH01310552A - 半導体基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体デバイスを製造するのに使用される半導
体基板に関し、特に半導体基板上に形成される位置検出
用パターンの位置検出を容易にするためのパターン構造
に関するものである。

〔従来の技術〕

一般に、半導体デバイスを製造する場合、半導体基板の
一主面に、エピタキシャル成長やフォトエツチング、拡
散、蒸着等の素子形成工程を経て半導体素子を形成した
後、その工程の完了した半導体基板を個々のテップに分
割したうえ、パッケージに実装することによυ、各種の
半導体デバイスが製造されている。

ところで、かかる半導体デバイスの製造工程では、フォ
トエツチング工程等でのマスク合せや半導体基板分割時
の位置決め等のために、第３図に示すように、半導体基
板の一主面に形成される複数個の半導体素子２と隣接し
て設けられたスクライブライン３の中に、十文字形の特
定パターン４が位置検出用のパターンとして各半導体素
子２毎に形成されている。そして、このパターン４は、
半導体基板上の主表面１を任意に走有することによシ、
所定の顕微鏡あるいはカメラ等で検出されるものとなっ
ている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、このような従来の半導体基板では、主表面に
形成される位置検出用の特定パターンを顕微鏡あるいは
カメラ等で検出する際に、その検出作業に熟練が必要で
、また、検出時間が長くなるなどの問題点があった。

本発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、容易に特定パターンを検出できるとともに、検
出時間が短くなる半導体基板を得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明に係る半導体基板は、位置検出用の特定パターン
の周辺に、核パターンの存在する方向がわかるように形
成された副パターンを配置したものである。

〔作　用〕

本発明においては、副パターンは特定パターンの存在す
る方向を示すため、この副パターンを検出することによ
り、特定パターンが検出される。

〔実施例〕

以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて説明する。

第１図は本発明の一実施例による半導体基板の一部平面
図である。この実施例の半導体基板は、その−主面上に
複数個の半導体素子２が形成され、これら半導体素子２
と隣接してスクライブライン３が形成されるとともに、
それらスクライブライン３の中に十文字形を有する位置
検出用の特定パターン４が形成されている点は、第３図
に示した従来例のものと同様であるが、前記特定パター
ン４の周辺に、該パターン４の存在する方向がわかるよ
うに矢印の形状を有して形成された副パターン５が複数
個それぞれ配置されている。なお、特定パターン及び副
パターン４，５は、アルミ（Ａｔ）等の金属や酸化膜、
あるいはエツチングによる段差部などから形成される。

このように構成された半導体基板によると、位置検出用
の特定パターン４を顕微鏡あるいはカメラで検出する際
に１半導体基板上の主表面１をその副パターン５の示す
方向に走査することによシ、該副バター１５が特定パタ
ーン４の存在する方向を指し示すため、この副パターン
４を目印として特定パターン４の位置検出を容易に行な
うことができる。

なお、上記実施例ではスクライブライン３中に特定パタ
ーン４及び副パターン５を設けたが、第２図に示すよう
に、半導体素子２の中に設けてもよい。

〔発明の効果〕

以上のように本発明の半導体基板によれは、位置検出用
の特定パターンの周辺に副パターンを配置したので、容
易に特定パターンが検出でき、また、検出時間が短くな
る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による半導体基板の一部平面
図、第２図は本発明の他の実施例を示す第１図相当の一
部平面図、第３図は従来の半導体基板の一例を示す一部
平面図である。 １・・・・半導体基板の主表面、２・・・・半導体素子
、３・・・・スクライブライン、４・・・・位置検出用
の特定パターン、５・・・・副パターン。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　一主面に複数個の半導体素子が形成された半導体基板
   において、前記半導体素子毎に設けられた位置検出用の
   特定パターンの周辺に、該パターンの存在する方向がわ
   かるように形成された副パターンを配置したことを特徴
   とする半導体基板。