JPH01308925A - カメラの測光装置 - Google Patents
カメラの測光装置Info
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- JPH01308925A JPH01308925A JP7891489A JP7891489A JPH01308925A JP H01308925 A JPH01308925 A JP H01308925A JP 7891489 A JP7891489 A JP 7891489A JP 7891489 A JP7891489 A JP 7891489A JP H01308925 A JPH01308925 A JP H01308925A
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Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Exposure Control For Cameras (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カメラの測光装置に関する。
従来の技術
従来の測光装置においては、特開昭56−89029号
公報に開示された装置のように、画面を多数に分割して
、それぞれの部分について同じ感度の測光出力を得、そ
の後それぞれの測光出力について電気的に重み付けを行
っていた。
公報に開示された装置のように、画面を多数に分割して
、それぞれの部分について同じ感度の測光出力を得、そ
の後それぞれの測光出力について電気的に重み付けを行
っていた。
発明が解決しようとする課題
ところが、この装置においては測光出力に重み付けをす
るための回路構成が必要であるため装置の大型化を招い
たり高価になるといった問題がありtこ 。
るための回路構成が必要であるため装置の大型化を招い
たり高価になるといった問題がありtこ 。
そこで本発明は、重み付けのための回路を必要としない
測光装置を提供することを目的とする。
測光装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
前記課題を解決するため、本発明は、第9図に示すよう
に、被写体光を受ける面と、この面内に配置され、前記
被写体光を受けてその光量に応じた電気量を出力する光
電変換素子からなる受光部とを有する測光装置において
、前記面内に前記受光部が密に配置された部分と粗に配
置された部分を有することを特徴とするものである。
に、被写体光を受ける面と、この面内に配置され、前記
被写体光を受けてその光量に応じた電気量を出力する光
電変換素子からなる受光部とを有する測光装置において
、前記面内に前記受光部が密に配置された部分と粗に配
置された部分を有することを特徴とするものである。
作 用
受光部が密に配置された部分に入射する被写体光は感度
が高く光電変換され粗に配置された部分に入射する被写
体光は感度が低く光電変換されて出力される。
が高く光電変換され粗に配置された部分に入射する被写
体光は感度が低く光電変換されて出力される。
実施例
1眼し7カメラの周知の光学系の構成を示す第1図にお
いて、l眼しフカメラ(1)は、撮影レンズ(2)、反
射ミラー(3)、焦点板(4)、コンデンサレンズ(5
)、ペンタプリズム(6)および接眼レンズ(7)の光
学部材を有している。これらの光学−siホトダイオ◆
−ド)が形成される。
いて、l眼しフカメラ(1)は、撮影レンズ(2)、反
射ミラー(3)、焦点板(4)、コンデンサレンズ(5
)、ペンタプリズム(6)および接眼レンズ(7)の光
学部材を有している。これらの光学−siホトダイオ◆
−ド)が形成される。
第2.3.4図は、第1図における反射ミラー(3)又
はペンタプリズム(6)の被写体光を積極的に反射させ
る面に形成されるa−siホトダイオードの構成を示す
。
はペンタプリズム(6)の被写体光を積極的に反射させ
る面に形成されるa−siホトダイオードの構成を示す
。
第2図(a)において、ガラス基体(8)は、反射ミラ
ー(3)の裏面部(3a)、ペンタプリズム(6)の屋
根部(6a)あるいは前面部(6b)のガラスに相当す
る。ガラス基体(8)の表面にはアルミまたは銀の蒸着
面(9)と半透鏡用のコーティング層(lO)が設けで
ある。コーティング層(lO)の上にはa−siホトダ
イオード(11)が形成しである。
ー(3)の裏面部(3a)、ペンタプリズム(6)の屋
根部(6a)あるいは前面部(6b)のガラスに相当す
る。ガラス基体(8)の表面にはアルミまたは銀の蒸着
面(9)と半透鏡用のコーティング層(lO)が設けで
ある。コーティング層(lO)の上にはa−siホトダ
イオード(11)が形成しである。
尚、円(12)の部分の拡大図が第2図(b)に示しで
ある。第2図(b)において、a−siホトダイオード
(11)の部分は、透明導電膜(13)、p層(14)
、i層(15)、N層(16)、アルミまたは銀の蒸着
層(17)からなっている。a−siホトダイオード(
11)の厚みは約IItn+で、半透鏡コーティング層
を含めて数μm程度である。尚、第2図(a)は次の第
3図のものに比べて比較的受光面積を広く構成した場合
を示すものである。
ある。第2図(b)において、a−siホトダイオード
(11)の部分は、透明導電膜(13)、p層(14)
、i層(15)、N層(16)、アルミまたは銀の蒸着
層(17)からなっている。a−siホトダイオード(
11)の厚みは約IItn+で、半透鏡コーティング層
を含めて数μm程度である。尚、第2図(a)は次の第
3図のものに比べて比較的受光面積を広く構成した場合
を示すものである。
第3図(a)は、受光面積の幅を比較的狭く構成した場
合のものを示す。尚、第2図(a)と同一の要素に対し
ては同一の符号を付す(以下も同様)。
合のものを示す。尚、第2図(a)と同一の要素に対し
ては同一の符号を付す(以下も同様)。
a−siホトダイオード(l l)の輻aは例えば30
μm程度につくられ、適当な間隔りをおいて規則的に配
列される。LとQの比に応じて反射面(9)全体の被写
体光に対する反射率が変化する。円(18)部の拡大図
を第3図(b)(c)に示す。図から明らかなように、
a−siホトダイオードの層構造は第2図(b)と同じ
である。
μm程度につくられ、適当な間隔りをおいて規則的に配
列される。LとQの比に応じて反射面(9)全体の被写
体光に対する反射率が変化する。円(18)部の拡大図
を第3図(b)(c)に示す。図から明らかなように、
a−siホトダイオードの層構造は第2図(b)と同じ
である。
第4図は、さらに他の構成を示す図である。第4図(a
)の円(19)部の拡大図を示す第4図(b)において
、ガラス基体(8)の表面上に全面的に透明導電膜(1
3)が付され、その上に部分的にa−siホトダイオー
ド(l l)が形成され、他の部分には透明絶縁膜(2
0)が形成されている。さらに、a−siホトダイオー
ド(11)および透明絶縁膜(20)の上に電極及び光
反射板の役目を担うアルミあるいは銀の蒸着膜(9)が
形成される。
)の円(19)部の拡大図を示す第4図(b)において
、ガラス基体(8)の表面上に全面的に透明導電膜(1
3)が付され、その上に部分的にa−siホトダイオー
ド(l l)が形成され、他の部分には透明絶縁膜(2
0)が形成されている。さらに、a−siホトダイオー
ド(11)および透明絶縁膜(20)の上に電極及び光
反射板の役目を担うアルミあるいは銀の蒸着膜(9)が
形成される。
以上、第2図においては、数μmの半透鏡用のコーティ
ング層を介してa−siホトダイオードが設けられるの
で、被写体光の一部は測光素子へ、また、他の一部は観
察のためのものとして接眼レンズ(7)に向かう。第3
.4図においては、ガラス(8)を出た光が直接a−s
iホトダイオードに入射するようになっているが、測光
素子の巾aと配列間隔りとの比を適当に定めることによ
り、像観察のための光を確保することができる。又、測
光素子の巾Qを前述の如く30μmにすれば、ファイン
ダ像観察の際、測光素子の存在は殆ど分からない。
ング層を介してa−siホトダイオードが設けられるの
で、被写体光の一部は測光素子へ、また、他の一部は観
察のためのものとして接眼レンズ(7)に向かう。第3
.4図においては、ガラス(8)を出た光が直接a−s
iホトダイオードに入射するようになっているが、測光
素子の巾aと配列間隔りとの比を適当に定めることによ
り、像観察のための光を確保することができる。又、測
光素子の巾Qを前述の如く30μmにすれば、ファイン
ダ像観察の際、測光素子の存在は殆ど分からない。
第5図及び第6図は、a−siホトダイオードを被写体
が透過する焦点板(4)の後面(4a)、コンデンサレ
ンズ(5)の後面(5a)、あるいはペンタプリズム(
6)の後面(6d)に設ける場合の実施例を示す図であ
る。第5図(a)において、ガラス基体(8)は、焦点
板(4)の後面部(4a)、コンデンサレンズ(5)の
後面部(5a)、ペンタプリズム(6)の後面部(6d
)のいずれかのガラス部に相当する。
が透過する焦点板(4)の後面(4a)、コンデンサレ
ンズ(5)の後面(5a)、あるいはペンタプリズム(
6)の後面(6d)に設ける場合の実施例を示す図であ
る。第5図(a)において、ガラス基体(8)は、焦点
板(4)の後面部(4a)、コンデンサレンズ(5)の
後面部(5a)、ペンタプリズム(6)の後面部(6d
)のいずれかのガラス部に相当する。
この場合a−siホトダイオードを設ける面は、像観察
に供される被写体光が通過する場所であるから、像を不
明確にしてしまうような配置であっては好ましくない。
に供される被写体光が通過する場所であるから、像を不
明確にしてしまうような配置であっては好ましくない。
そこで、第3図、あるいは第4図と同様にa−siホト
ダイオード(11)の幅を数十μmとし、十分の間隔を
とって配列する。全体的には光の通過可能な面積に対す
る全ホトダイオードの面積が十分小さくなるよう(例え
ばQをLの1/100倍)に設定する。円(21)部の
拡大図を第5図(b)に示す。ガラス基体(8)の表面
に透明導電膜(13)が形成され、その上にa −si
ホトダイオード(11)の層が設けである。尚、受光面
はp層(14)である。
ダイオード(11)の幅を数十μmとし、十分の間隔を
とって配列する。全体的には光の通過可能な面積に対す
る全ホトダイオードの面積が十分小さくなるよう(例え
ばQをLの1/100倍)に設定する。円(21)部の
拡大図を第5図(b)に示す。ガラス基体(8)の表面
に透明導電膜(13)が形成され、その上にa −si
ホトダイオード(11)の層が設けである。尚、受光面
はp層(14)である。
第6図は、焦点板(4)の前面部(4b)、コンデンサ
レンズ(5)の前面部(5b)、ペンタプリズム(6)
の底部(6C)のいずれかにa−siホトダイオードを
配する場合の実施例を示す図である。第6図(a)の円
(22)の部分の拡大図を示す第6図(b)において、
ガラス基体(8)の表面に透明導電膜(13)が設けら
れ、さらにその上にa−siホトダイオード(l l)
層が設けられる。この場合、図示のように、N層(16
)がガラス基体側に位置する。p層(14)の上に電極
として透明導電膜(13)が設けられる。
レンズ(5)の前面部(5b)、ペンタプリズム(6)
の底部(6C)のいずれかにa−siホトダイオードを
配する場合の実施例を示す図である。第6図(a)の円
(22)の部分の拡大図を示す第6図(b)において、
ガラス基体(8)の表面に透明導電膜(13)が設けら
れ、さらにその上にa−siホトダイオード(l l)
層が設けられる。この場合、図示のように、N層(16
)がガラス基体側に位置する。p層(14)の上に電極
として透明導電膜(13)が設けられる。
第7図は、上記実施例におけるa−siホトダイオード
の平面的配置パターン例を示すもので各パターンは、原
則的には上記実施例のいずれかの面上にも形成できる。
の平面的配置パターン例を示すもので各パターンは、原
則的には上記実施例のいずれかの面上にも形成できる。
第7図(a)は、光学部材の表面上の周辺部を除く全域
に連続的にa−siホトダイオードを設け、その全体的
出力を取出すことにより平均測光を行うようにしたもの
を示す。第7図(bXc)は、a−siホトダイオード
を光学部材表面の中央部に円形又は矩形に設は部分測光
又は中央部重点測光をするようにしたものを示し、その
形状、面積は、設計上の要求に応じて適当に定めればよ
い。第7図(dXe)は同心状に複数の領域に分割して
a−siホトダイオードを配し、各分割領域ごとに出力
を取出すようにし、その出力のうちのいずれかを選択し
たり、その出力の算数和、算術平均、幾何平均当を演算
して利用し、測光領域を選択したり、測光方式を切換え
たりするようにしたものを示す。第7図(fXg)はa
−siホトダイオードを多数の領域の分割して配し、各
分割部分ごとに出力を取出し、それ等の出力から最小値
や最大値を得たり前述のよう種々の平均値を得る所謂多
分割測光を示す。
に連続的にa−siホトダイオードを設け、その全体的
出力を取出すことにより平均測光を行うようにしたもの
を示す。第7図(bXc)は、a−siホトダイオード
を光学部材表面の中央部に円形又は矩形に設は部分測光
又は中央部重点測光をするようにしたものを示し、その
形状、面積は、設計上の要求に応じて適当に定めればよ
い。第7図(dXe)は同心状に複数の領域に分割して
a−siホトダイオードを配し、各分割領域ごとに出力
を取出すようにし、その出力のうちのいずれかを選択し
たり、その出力の算数和、算術平均、幾何平均当を演算
して利用し、測光領域を選択したり、測光方式を切換え
たりするようにしたものを示す。第7図(fXg)はa
−siホトダイオードを多数の領域の分割して配し、各
分割部分ごとに出力を取出し、それ等の出力から最小値
や最大値を得たり前述のよう種々の平均値を得る所謂多
分割測光を示す。
第8図は、第7図(a)の円(23)部の拡大図で、第
7図の斜線部内の細部におけるa−siホトダイオード
配置の状態の例を示す。
7図の斜線部内の細部におけるa−siホトダイオード
配置の状態の例を示す。
第8図(a)は受光面が前面的に広がっているもの、(
b)は複数個の素子を規則的に点状に配置したもの、(
C)は不規則に点状に配置したもの、(d)は各素子を
長橢円又は長方形のような形状とし、それぞれを同一方
向に配置したものである。第9図は(a)、(b)は例
えば第7図(a)のようなパターンにおいて、その素子
の密度を、中央部には(b)のように粗く、周辺部は(
a)のように密にした例を示す。このようにすれば、撮
影レンズの周辺光量低下に対する測光補正ができる。
b)は複数個の素子を規則的に点状に配置したもの、(
C)は不規則に点状に配置したもの、(d)は各素子を
長橢円又は長方形のような形状とし、それぞれを同一方
向に配置したものである。第9図は(a)、(b)は例
えば第7図(a)のようなパターンにおいて、その素子
の密度を、中央部には(b)のように粗く、周辺部は(
a)のように密にした例を示す。このようにすれば、撮
影レンズの周辺光量低下に対する測光補正ができる。
尚、上記の如き測光素子の配置は、−眼レフレックスカ
メラに限らず、レンズシャッタカメラやポケットカメラ
等にも適用できることは言うまでもなく、その場合、撮
影光学系やそれと独立したフアイダ光学系の光学材上に
測光素子を設ければ、測光光学系を別設する必要がなく
なる。
メラに限らず、レンズシャッタカメラやポケットカメラ
等にも適用できることは言うまでもなく、その場合、撮
影光学系やそれと独立したフアイダ光学系の光学材上に
測光素子を設ければ、測光光学系を別設する必要がなく
なる。
発明の効果
本発明により次のような効果が得られる。
被写体光を受ける面内で受光部を密に配置した部分と粗
に配置した部分を設けるため、画面内で感度の違う測光
が行われ、前記受光部の密度の違いに応じた重み付けを
施された測光出力を得ることができる。すなわち、測光
出力はすでに重み付けされた出力であり、その後、重み
付けを行うための回路構成を必要としない。
に配置した部分を設けるため、画面内で感度の違う測光
が行われ、前記受光部の密度の違いに応じた重み付けを
施された測光出力を得ることができる。すなわち、測光
出力はすでに重み付けされた出力であり、その後、重み
付けを行うための回路構成を必要としない。
第1図は一眼し7レツクスカメラの光学系の概略図、第
2図乃至第6図は本発明による光電変換層の構成例を示
す部分断面図、第7図は同光電変換層の平面的配置例を
示す説明図、第8.9図は同光電変換層の、細部におけ
る平面的配置状態を示す説明図である。 8ニガラス基体、9ニアルミまた銀の蒸着膜、lO:半
透膜、ll:光電変換層、13:透明導電膜、14:p
層、15:i層、16:N層、17:光反射性導電膜 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第1図 第2図 (αン (b)第3図 ((1) (b) (C) 第4図 ・α) 。9) 第5図 ((2) (b) 第7 図 第8 図
2図乃至第6図は本発明による光電変換層の構成例を示
す部分断面図、第7図は同光電変換層の平面的配置例を
示す説明図、第8.9図は同光電変換層の、細部におけ
る平面的配置状態を示す説明図である。 8ニガラス基体、9ニアルミまた銀の蒸着膜、lO:半
透膜、ll:光電変換層、13:透明導電膜、14:p
層、15:i層、16:N層、17:光反射性導電膜 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第1図 第2図 (αン (b)第3図 ((1) (b) (C) 第4図 ・α) 。9) 第5図 ((2) (b) 第7 図 第8 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被写体光を受ける面と、この面内に配置され、前記被写
体光を受けてその光量に応じた電気量を出力する光電変
換素子からなる受光部とを有する測光装置において、 前記面内に前記受光部が密に配置された部分と粗に配置
された部分を有することを特徴とするカメラの測光装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7891489A JPH01308925A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | カメラの測光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7891489A JPH01308925A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | カメラの測光装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57051517A Division JPS58168039A (ja) | 1982-03-29 | 1982-03-29 | カメラの測光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01308925A true JPH01308925A (ja) | 1989-12-13 |
Family
ID=13675116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7891489A Pending JPH01308925A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | カメラの測光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01308925A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011039293A (ja) * | 2009-08-11 | 2011-02-24 | Nikon Corp | 測光装置および撮像装置 |
-
1989
- 1989-03-29 JP JP7891489A patent/JPH01308925A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011039293A (ja) * | 2009-08-11 | 2011-02-24 | Nikon Corp | 測光装置および撮像装置 |
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