JPH01284849A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0387—Polyamides or polyimides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、平版印刷版、IC回路やフォトマスク等の製
造に適する感光性組成物に関するものである。更に詳し
くは、ネガ型に作用する感光性化合物と、耐摩耗性及び
アルカリ性水溶液への溶解性に優れた高分子化合物から
なる感光性組成物に関するものである。
造に適する感光性組成物に関するものである。更に詳し
くは、ネガ型に作用する感光性化合物と、耐摩耗性及び
アルカリ性水溶液への溶解性に優れた高分子化合物から
なる感光性組成物に関するものである。
ネガ型に作用する感光性組成物において感光性物質とし
て使用されているものの大多数はジアゾニウム化合物で
あり、その最も常用されているものにp−ジアゾジフェ
ニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表されるジア
ゾ樹脂がある。
て使用されているものの大多数はジアゾニウム化合物で
あり、その最も常用されているものにp−ジアゾジフェ
ニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表されるジア
ゾ樹脂がある。
ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版の感光性層の組成
物は、例えば米国特許第2.714.066号明細書に
記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結
合剤を使用しないものと、例えば特開昭50−3060
4号公報に記載されているように結合剤とジアゾ樹脂が
混合されているものに分頌することができるが、近年ジ
アゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版の多くのも
のは高耐刷性を持たせるためにジアゾニウム化合物と結
合剤として使用されるポリマーよりなっている。
物は、例えば米国特許第2.714.066号明細書に
記載されているようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結
合剤を使用しないものと、例えば特開昭50−3060
4号公報に記載されているように結合剤とジアゾ樹脂が
混合されているものに分頌することができるが、近年ジ
アゾニウム化合物を用いた感光性平版印刷版の多くのも
のは高耐刷性を持たせるためにジアゾニウム化合物と結
合剤として使用されるポリマーよりなっている。
このような感光層としては特開昭50−30604号公
報に記載されているように、未露光部が水性アルカリ現
像液によって除去(現像)される所謂アルカリ現像型と
、有機溶剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型
が知ちれているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が
注目されており、これは主に結合剤の性質により決まる
。結合剤にアルカリ現像性を持たせる方法としては前記
特開昭50−30604号公報に記載されているように
カルボン酸含有のモノマーを共重合させるか、米国特許
第2.861.058号明細書に記載されているように
ポリビニルアルコールのヒドロキシル基と無水フタル酸
のような環状酸無水物を反応させることによりポリマー
中にカルボン酸を導入する方法があるが、得られたポリ
マーは構造上、耐摩耗性が悪く、このような結合剤を感
光層に含む感光性平版印刷版からは耐刷力の低い平版印
刷版しか得られなかった。一方ポリビニルアセタールは
強靭な皮膜を形成し、耐摩耗性もあるが有機溶剤現像型
の感光性平版印刷版しか得られないという欠点があった
。
報に記載されているように、未露光部が水性アルカリ現
像液によって除去(現像)される所謂アルカリ現像型と
、有機溶剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型
が知ちれているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が
注目されており、これは主に結合剤の性質により決まる
。結合剤にアルカリ現像性を持たせる方法としては前記
特開昭50−30604号公報に記載されているように
カルボン酸含有のモノマーを共重合させるか、米国特許
第2.861.058号明細書に記載されているように
ポリビニルアルコールのヒドロキシル基と無水フタル酸
のような環状酸無水物を反応させることによりポリマー
中にカルボン酸を導入する方法があるが、得られたポリ
マーは構造上、耐摩耗性が悪く、このような結合剤を感
光層に含む感光性平版印刷版からは耐刷力の低い平版印
刷版しか得られなかった。一方ポリビニルアセタールは
強靭な皮膜を形成し、耐摩耗性もあるが有機溶剤現像型
の感光性平版印刷版しか得られないという欠点があった
。
また、光重合性組成物をネガ作用の感光性平版印刷版の
感光性画像形成層として用いる試みは多く、特公昭46
32714号公報に開示されているようなバインダー
としてのポリマー、モノマーおよび光重合開始剤から成
る基本組成、特公昭49−34041号公報に開示され
ているようなバインダーとしてのポリマーに不飽和二重
結合を導入し、硬化効率を改善した組成、特公昭48−
38403号及び特公昭53−27605号の各公報、
及び英国特許第1. :388.492号明細書等に開
示されているような新規な光重合開始剤を用いた組成等
が知られており、一部で実用に供されているが、いづれ
の感光性組成物も、画像露光時の感光性平版印刷版の表
面温度により、感度が大きく左右され、また画像露光時
に酸素による重合阻害を強く受けるという欠点があった
。
感光性画像形成層として用いる試みは多く、特公昭46
32714号公報に開示されているようなバインダー
としてのポリマー、モノマーおよび光重合開始剤から成
る基本組成、特公昭49−34041号公報に開示され
ているようなバインダーとしてのポリマーに不飽和二重
結合を導入し、硬化効率を改善した組成、特公昭48−
38403号及び特公昭53−27605号の各公報、
及び英国特許第1. :388.492号明細書等に開
示されているような新規な光重合開始剤を用いた組成等
が知られており、一部で実用に供されているが、いづれ
の感光性組成物も、画像露光時の感光性平版印刷版の表
面温度により、感度が大きく左右され、また画像露光時
に酸素による重合阻害を強く受けるという欠点があった
。
また、−CD−NH−CO−基を有する高分子化合物を
含有する感光性組成物としては、特開昭60−1159
32号等に記載されている組成物がある。
含有する感光性組成物としては、特開昭60−1159
32号等に記載されている組成物がある。
しかし、これらはポジ型の感光性組成物であり、ネガ型
ではない。
ではない。
一方、これらのネガ型感光性平版印刷版を露光後現像す
る際、用いられる水性アルカリ現像液組成物としては、
例えば、特開昭51−77401号に示されている、ベ
ンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤
及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44202
号に記載されテイル、ベンジルアルコール、アニオン性
界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現
像液組成物、特開昭55−155355号に記載されて
いる、水に対する溶解度が常温において10重量%以下
である有機溶剤とアルカリ剤と水を含をする現像液組成
物等が挙げられる。
る際、用いられる水性アルカリ現像液組成物としては、
例えば、特開昭51−77401号に示されている、ベ
ンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤
及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44202
号に記載されテイル、ベンジルアルコール、アニオン性
界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現
像液組成物、特開昭55−155355号に記載されて
いる、水に対する溶解度が常温において10重量%以下
である有機溶剤とアルカリ剤と水を含をする現像液組成
物等が挙げられる。
これらは、いずれも有機溶剤、界面活性剤等の有機物を
、現像液組成物中に含有している。しかしながら有機溶
剤は、一般に毒性及び臭気があり、また火災に対する危
険性を持っており、さらに廃液においてもBOD規制を
受けるなどの多くの欠点を有し、コストも高くなる。ま
た界面活性剤は、現像作業時泡が発生するという問題が
あり、これらの有機物を実質土倉まない現像液組成物を
使用する事が望ましい。
、現像液組成物中に含有している。しかしながら有機溶
剤は、一般に毒性及び臭気があり、また火災に対する危
険性を持っており、さらに廃液においてもBOD規制を
受けるなどの多くの欠点を有し、コストも高くなる。ま
た界面活性剤は、現像作業時泡が発生するという問題が
あり、これらの有機物を実質土倉まない現像液組成物を
使用する事が望ましい。
一方、これらの有機物を実質土倉まない現像液組成物と
しては特開昭59−84241号に記載されている現像
液組成物等がある。しかし、これらの現像液組成物は0
−ナフトキノンジアジド化合物を感光性化合物として含
むポジ型感光性平版印刷版を現像する際に用いられてお
り、これらの実質上有機物を含まない現像液組成物を用
いて、前述したネガ型感光性平版印刷版を現像すると、
残膜を生ずる事なく現像する事ができず、さらに、未露
光部が黄変する等の適正な現像性が得られないという問
題があった。
しては特開昭59−84241号に記載されている現像
液組成物等がある。しかし、これらの現像液組成物は0
−ナフトキノンジアジド化合物を感光性化合物として含
むポジ型感光性平版印刷版を現像する際に用いられてお
り、これらの実質上有機物を含まない現像液組成物を用
いて、前述したネガ型感光性平版印刷版を現像すると、
残膜を生ずる事なく現像する事ができず、さらに、未露
光部が黄変する等の適正な現像性が得られないという問
題があった。
尚、本発明において、「実質上有機物を含まない」とは
、前述した安全性の点から該物質の組成物中に占める割
合が3重量%以下であれば十分であるが、好ましくは1
重量%以下である。
、前述した安全性の点から該物質の組成物中に占める割
合が3重量%以下であれば十分であるが、好ましくは1
重量%以下である。
従って、本発明の目的は、バインダーとして用いる高分
子化合物の耐摩耗性が優れ、耐刷力の大きい平版印刷版
を与える感光性組成物を提供することである。
子化合物の耐摩耗性が優れ、耐刷力の大きい平版印刷版
を与える感光性組成物を提供することである。
さらに本発明の他の目的はバインダーとして用いる高分
子化合物の、アルカリ性水溶液に対する溶解性が侵れ有
機溶剤および/または界面活性剤等の有機物を含む水性
アルカリ現像液により、露光後現像した際適正な現像性
が得られ、かつこれらの有機物を実質上台まない水性ア
ルカリ現像液により、露光後現像した際においても、適
正な現像性が得られる平版印刷版を与える感光性組成物
を提供することである。
子化合物の、アルカリ性水溶液に対する溶解性が侵れ有
機溶剤および/または界面活性剤等の有機物を含む水性
アルカリ現像液により、露光後現像した際適正な現像性
が得られ、かつこれらの有機物を実質上台まない水性ア
ルカリ現像液により、露光後現像した際においても、適
正な現像性が得られる平版印刷版を与える感光性組成物
を提供することである。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
新規な感光性組成物を使用することにより、これらの目
的が達成されることを見い出し、本発明に到達した。
新規な感光性組成物を使用することにより、これらの目
的が達成されることを見い出し、本発明に到達した。
即ち本発明は、−CD−NH−Co−基を有し、水不溶
かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物とネガ型に
作用する感光性化合物を含有する事を特徴とする感光性
組成物を提供するものである。
かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物とネガ型に
作用する感光性化合物を含有する事を特徴とする感光性
組成物を提供するものである。
本発明の感光性組成物に含まれる感光性化合物としては
下記の(i>、(1i)または(iii )から選ばれ
た感光性化合物を用いる事ができる。
下記の(i>、(1i)または(iii )から選ばれ
た感光性化合物を用いる事ができる。
以下本発明に使用されるーCO−NH−CD−基を含む
高分子化合物及びその他の成分と、本発明の感光性組成
物の製造法及び使用法について詳細に説明する。
高分子化合物及びその他の成分と、本発明の感光性組成
物の製造法及び使用法について詳細に説明する。
(1)−CD−NH−CD−基を含む高分子化合物本発
明に使用される一CO−N)I−CD−基を有し、水不
溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、側鎖
または主鎖中に−Co−NH−CO−基を含有する高分
子化合物、又は主鎖と共に環を形成した一CO−’1:
H−[0−基を有する高分子化合物であることが好まし
く、側鎖中に−Co−NH−Co−基を含有する高分子
化合物、又は主鎖と共に環を形成した一CD−NH−C
D−基を有する高分子化合物であることが特に好ましい
。
明に使用される一CO−N)I−CD−基を有し、水不
溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、側鎖
または主鎖中に−Co−NH−CO−基を含有する高分
子化合物、又は主鎖と共に環を形成した一CO−’1:
H−[0−基を有する高分子化合物であることが好まし
く、側鎖中に−Co−NH−Co−基を含有する高分子
化合物、又は主鎖と共に環を形成した一CD−NH−C
D−基を有する高分子化合物であることが特に好ましい
。
本発明において好適に使用されるーCO−NH−CD
−基を有し、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分
子化合物は、分子中に1つ以上の−CO−N)I−CD
−基と1つ以上の重合可能な不飽和結合を有する低分子
化合物を公知の重合開始剤を用いて適当な溶媒中で重合
する事により得られる。
−基を有し、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分
子化合物は、分子中に1つ以上の−CO−N)I−CD
−基と1つ以上の重合可能な不飽和結合を有する低分子
化合物を公知の重合開始剤を用いて適当な溶媒中で重合
する事により得られる。
本発明において好適に使用される一CD−NH−CD−
基及び重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物とし
ては、マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミドが
ある。これらの低分子化合物は、重合により主鎖と共に
環を形成した一CD−NH−CD−基を有する高分子化
合物となる。
基及び重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物とし
ては、マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミドが
ある。これらの低分子化合物は、重合により主鎖と共に
環を形成した一CD−NH−CD−基を有する高分子化
合物となる。
本発明において好適に使用される一CD−NH−CD
−基及び重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物と
しては、上記以外に−CO−NH−CD−基を有するメ
タクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体がある。
−基及び重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物と
しては、上記以外に−CO−NH−CD−基を有するメ
タクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体がある。
このようなメタクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体と
しては例えば、N−アセチルメタクリルアミド、N−プ
ロピオニルメタクリルアミド、N−ブタノイルメタクリ
ルアミド、N−ペンタノイルメタクリルアミド、N−デ
カノイルメタクリルアミド、N−ドデカノイルメタクリ
ルアミド、N −ベンゾイルメタクリルアミド、N−(
p−メチルベンゾイル)メタクリルアミド、N−(p−
クロロベンゾイル)メタクリルアミド、N−(ナフチル
カルボニル)メタクリルアミド、N −(フェニルアセ
チル)メタクリルアミド、4−メタクリロイルアミノフ
タルイミド等のメタクリルアミド誘導体、及びこれらと
同様の置換基を有するアクリルアミド誘導体がある。こ
れらの低分子化合物は重合により側鎖に−CO−NH−
CD−基を有する高分子化合物となる。
しては例えば、N−アセチルメタクリルアミド、N−プ
ロピオニルメタクリルアミド、N−ブタノイルメタクリ
ルアミド、N−ペンタノイルメタクリルアミド、N−デ
カノイルメタクリルアミド、N−ドデカノイルメタクリ
ルアミド、N −ベンゾイルメタクリルアミド、N−(
p−メチルベンゾイル)メタクリルアミド、N−(p−
クロロベンゾイル)メタクリルアミド、N−(ナフチル
カルボニル)メタクリルアミド、N −(フェニルアセ
チル)メタクリルアミド、4−メタクリロイルアミノフ
タルイミド等のメタクリルアミド誘導体、及びこれらと
同様の置換基を有するアクリルアミド誘導体がある。こ
れらの低分子化合物は重合により側鎖に−CO−NH−
CD−基を有する高分子化合物となる。
本発明に好適に使用される一cO−NH−CO−基を有
する高分子化合物は上記の分子中に1つ以上の−CO−
NH−Co−基と1つ以上の重合可能な不飽和結合を有
する低分子化合物の単独重合体または二種以上の共重合
体であってもよいが、好ましくは1つ以上の重合可能な
不飽和結合を含有し、かつCo−NH−C()−基を含
まない低分子化合物の一種以上との共重合体である。
する高分子化合物は上記の分子中に1つ以上の−CO−
NH−Co−基と1つ以上の重合可能な不飽和結合を有
する低分子化合物の単独重合体または二種以上の共重合
体であってもよいが、好ましくは1つ以上の重合可能な
不飽和結合を含有し、かつCo−NH−C()−基を含
まない低分子化合物の一種以上との共重合体である。
このような重合可能な不飽和結合を含有しかつ−CD−
NH−CD−基を含まない化合物としては、例えばアク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、アクリ
ルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミ
ド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステ
ル類、スチレン類、クロトン酸エステル類などから選ば
れる重合性不飽和結合を有する化合物があげられる。具
体的には、例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキ
ル(該アルキル基の炭素原子数は1〜10のものが好ま
しい)アクリレート(例えばアクリル酸メチノペアクリ
ル酸エチノペアクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、
アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリ
ル酸オクチノベアクリル酸−1−オクチル、クロルエチ
ルアクリレート、アリルアクリレート、2−ヒドロキシ
エチルアクリレ−)、2.2−ジメチルヒドロキシプロ
ピルアクリレート・、5−ヒドロキシペンチルアクリレ
ート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペン
タエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアク
リレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフル
フリルアクリレート、など)、アリールアクリレート(
例えばフェニルアクリレートなど):メタクリル酸エス
テル類、例えば、アルキル(該アルキル基の炭素原子数
は1〜10のものが好ましい)メタクリレート(例えば
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘ
キシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、
アリルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−
3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトール
モノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フル
フリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレートなど)、アリールメタクリレート(例えば、フ
ェニルメタクリレート、タレジルメタクリレート、ナフ
チルメタクリレートなど)ニアクリルアミド類、例えば
アクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド(該アル
キル基としては、炭素原子数1〜10のもの、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル
基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒド
ロキシエチル基、ベンジル基などがある。)、N−アリ
ールアクリルアミド(該アリール基としては、例えばフ
ェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、
ヒドロキシフェニル基などがある。)、N、N−ジアル
キルアクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子
数1〜10のもの、例えばメギル基、エチル基、ブチル
基、イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル
基などがある。)、N、N−アリールアクリルアミド(
該アリール基としては、例えばフェニル基などがある。
NH−CD−基を含まない化合物としては、例えばアク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、アクリ
ルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミ
ド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステ
ル類、スチレン類、クロトン酸エステル類などから選ば
れる重合性不飽和結合を有する化合物があげられる。具
体的には、例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキ
ル(該アルキル基の炭素原子数は1〜10のものが好ま
しい)アクリレート(例えばアクリル酸メチノペアクリ
ル酸エチノペアクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、
アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリ
ル酸オクチノベアクリル酸−1−オクチル、クロルエチ
ルアクリレート、アリルアクリレート、2−ヒドロキシ
エチルアクリレ−)、2.2−ジメチルヒドロキシプロ
ピルアクリレート・、5−ヒドロキシペンチルアクリレ
ート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペン
タエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアク
リレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフル
フリルアクリレート、など)、アリールアクリレート(
例えばフェニルアクリレートなど):メタクリル酸エス
テル類、例えば、アルキル(該アルキル基の炭素原子数
は1〜10のものが好ましい)メタクリレート(例えば
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘ
キシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、
アリルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−
3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトール
モノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フル
フリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレートなど)、アリールメタクリレート(例えば、フ
ェニルメタクリレート、タレジルメタクリレート、ナフ
チルメタクリレートなど)ニアクリルアミド類、例えば
アクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド(該アル
キル基としては、炭素原子数1〜10のもの、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル
基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒド
ロキシエチル基、ベンジル基などがある。)、N−アリ
ールアクリルアミド(該アリール基としては、例えばフ
ェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、
ヒドロキシフェニル基などがある。)、N、N−ジアル
キルアクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子
数1〜10のもの、例えばメギル基、エチル基、ブチル
基、イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル
基などがある。)、N、N−アリールアクリルアミド(
該アリール基としては、例えばフェニル基などがある。
)、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−
アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミド、N
−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(p−
メチルフェニルスルホニル)アクリルアミド、など:メ
タクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N−アル
キルメタクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原
子数1〜10のもの、例えばメチル基、エチル基、t−
ブチル基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シ
クロヘキシル基などがある。)、N−アリールメタクリ
ルアミド(該アリール基としては、フェニル基などがあ
る。)、N、N−ジアルキルメタクリルアミド(該アル
キル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基など
がある。)、N、N−ジアリールメタクリルアミド(核
子り−ル基としては、フェニル基などがある。)、N−
ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド、N−
メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−
N−フェニルメタクリルアミド、N−(フェニルスルホ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−メチルフニニルス
ルホニル)メタクリルレアミドナト二アリル化合物、例
えばアリルエステル頚(例えば酢酸アリル、カプロン酸
アリノベカブリル酸アリル、ラウリン酸アリノペパルミ
チン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、
アセト酢酸アリル、乳酪アリルなど)、アリルオキシエ
タノールなど:ビニルエーテル類、例えばアルキルビニ
ルエーテル(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテA/、
エトキシエチルビニルエーテノヘク口ルエチルビニルエ
ーテル、1−メチル−2゜2−ジメチルプロピルビニル
エーテル、2−エチルフチルエーテノペヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテ
ノベジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルア
ミノエチルビニルエーテノペブチルアミノエチルビニル
エーテノベベンジルビニルエーテノペテトラヒドロフル
フリルビニルエーテルなト)、ビニル了り−ルエーテル
(例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテ
ル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−
ジクロルフェニルエーテノベビニルナフチルエーテノペ
ビニルアントラニルエーテルなど):ビニルエステル類
、例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビ
ニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート
、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロル
アセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキ
シアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェ
ニルアセテート、とニルアセトアセテート、ビニルラク
テート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシク
ロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチ
ル酸ビニノヘクロル安息審酸ビニル、テトラクロル安息
香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど:スチレン類、例え
ばスチレン、アルキルスチレン(例え・ばメチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルス
チレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブ
チルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチ
レン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメ
チルスチレン、アセトキシメチルスチレンナト)、アル
コキシスチレン(例えばメトキシスチレン、4−メトキ
シ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、
ハロゲノスチレン(例えばクロロスチレン、ジクロロス
チレン、トリクロロスチレン、ナトラクロロスチレン、
ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジプロモスチ
レン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオ
ロスチレン、2−ブロモ−4−)!Jフルオロメチルス
チレン、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレ
ンなど):クロトン酸エステル類、例えば、クロトン酸
アルキル(例えばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシ
ル、グリセリンモノクロトネートなど):イタコン酸ジ
アルキル類(例えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジ
エチノベイタコン酸ジブチルなど):マレイン酸あるい
はフマール酸のジアルキル類(例えばジメチルマレエー
ト、ジブチルフマレートなど):アクリロニトリル、メ
タシクロニトリル等がある。
ドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−
アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミド、N
−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(p−
メチルフェニルスルホニル)アクリルアミド、など:メ
タクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N−アル
キルメタクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原
子数1〜10のもの、例えばメチル基、エチル基、t−
ブチル基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シ
クロヘキシル基などがある。)、N−アリールメタクリ
ルアミド(該アリール基としては、フェニル基などがあ
る。)、N、N−ジアルキルメタクリルアミド(該アル
キル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基など
がある。)、N、N−ジアリールメタクリルアミド(核
子り−ル基としては、フェニル基などがある。)、N−
ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド、N−
メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−
N−フェニルメタクリルアミド、N−(フェニルスルホ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−メチルフニニルス
ルホニル)メタクリルレアミドナト二アリル化合物、例
えばアリルエステル頚(例えば酢酸アリル、カプロン酸
アリノベカブリル酸アリル、ラウリン酸アリノペパルミ
チン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、
アセト酢酸アリル、乳酪アリルなど)、アリルオキシエ
タノールなど:ビニルエーテル類、例えばアルキルビニ
ルエーテル(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテA/、
エトキシエチルビニルエーテノヘク口ルエチルビニルエ
ーテル、1−メチル−2゜2−ジメチルプロピルビニル
エーテル、2−エチルフチルエーテノペヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテ
ノベジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルア
ミノエチルビニルエーテノペブチルアミノエチルビニル
エーテノベベンジルビニルエーテノペテトラヒドロフル
フリルビニルエーテルなト)、ビニル了り−ルエーテル
(例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテ
ル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−
ジクロルフェニルエーテノベビニルナフチルエーテノペ
ビニルアントラニルエーテルなど):ビニルエステル類
、例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビ
ニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート
、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロル
アセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキ
シアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェ
ニルアセテート、とニルアセトアセテート、ビニルラク
テート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシク
ロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチ
ル酸ビニノヘクロル安息審酸ビニル、テトラクロル安息
香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど:スチレン類、例え
ばスチレン、アルキルスチレン(例え・ばメチルスチレ
ン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルス
チレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブ
チルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチ
レン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメ
チルスチレン、アセトキシメチルスチレンナト)、アル
コキシスチレン(例えばメトキシスチレン、4−メトキ
シ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、
ハロゲノスチレン(例えばクロロスチレン、ジクロロス
チレン、トリクロロスチレン、ナトラクロロスチレン、
ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジプロモスチ
レン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオ
ロスチレン、2−ブロモ−4−)!Jフルオロメチルス
チレン、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレ
ンなど):クロトン酸エステル類、例えば、クロトン酸
アルキル(例えばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシ
ル、グリセリンモノクロトネートなど):イタコン酸ジ
アルキル類(例えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジ
エチノベイタコン酸ジブチルなど):マレイン酸あるい
はフマール酸のジアルキル類(例えばジメチルマレエー
ト、ジブチルフマレートなど):アクリロニトリル、メ
タシクロニトリル等がある。
これらの重合性不飽和結合を有する化合物のうち、好適
に使用されるのは、メタクリル酸エステル類、アクリル
酸エステル類、メタクリルアミド類、アクリルアミド類
、アクリロニトリル、メタシクロニトリル、メタクリル
酸、アクリル酸である。
に使用されるのは、メタクリル酸エステル類、アクリル
酸エステル類、メタクリルアミド類、アクリルアミド類
、アクリロニトリル、メタシクロニトリル、メタクリル
酸、アクリル酸である。
さらに、後述するジアゾニウム化合物を含む感光性組成
物の場合、−OH基を有するメタクリル酸エステルn1
アクリル酸エステル類および/またはアクリロニトリル
、メタシクロニトリルを使用することが望ましく、また
重合可能なモノマーと光重合開始剤を含む感光性組成物
の場合、1合性不飽和結合を二種以上有するメタクリル
酸エステル類、アクリル酸エステル類(例えばアリルメ
タクリレート等)を使用することが望ましい。
物の場合、−OH基を有するメタクリル酸エステルn1
アクリル酸エステル類および/またはアクリロニトリル
、メタシクロニトリルを使用することが望ましく、また
重合可能なモノマーと光重合開始剤を含む感光性組成物
の場合、1合性不飽和結合を二種以上有するメタクリル
酸エステル類、アクリル酸エステル類(例えばアリルメ
タクリレート等)を使用することが望ましい。
これらの重合性不飽和結合を有する化合物の1種以上と
−CD−NH−CO−基を含有し、かつ重合性不飽和結
合を有する化合物の1種以上の共電体は、ブロック体、
ランダム体、グラフト体等いずれも用いる事ができる。
−CD−NH−CO−基を含有し、かつ重合性不飽和結
合を有する化合物の1種以上の共電体は、ブロック体、
ランダム体、グラフト体等いずれも用いる事ができる。
これらの共重合体中で−CO−NH−Co−基を含有す
る構成単位は共重合体を構成するすべての構成単位に対
して、5モル%以上含有する事が好ましく10〜90モ
ル%含有する事がさらに好ましい。
る構成単位は共重合体を構成するすべての構成単位に対
して、5モル%以上含有する事が好ましく10〜90モ
ル%含有する事がさらに好ましい。
このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノーノペエタ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノメチルエーテルベ2−メトキシエチ
ルアセテート、1−メトキシ−2−プロパツール、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート N、N−ジメチル
ホルムアミド、トルエン、酢酸エテノベ乳酸メチル、乳
酸エチルなどが挙げられる。
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノーノペエタ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノメチルエーテルベ2−メトキシエチ
ルアセテート、1−メトキシ−2−プロパツール、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート N、N−ジメチル
ホルムアミド、トルエン、酢酸エテノベ乳酸メチル、乳
酸エチルなどが挙げられる。
これらの溶媒は単独であるいは2種以上混合して用いら
れる。
れる。
本発明の高分子化合物の分子量は好ましくは重量平均で
2.000以上であり、更に好ましくは5、000〜3
0万の範囲である。本発明の高分子化合物は単独で用い
ても混合して用いてもよい。
2.000以上であり、更に好ましくは5、000〜3
0万の範囲である。本発明の高分子化合物は単独で用い
ても混合して用いてもよい。
感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化合物の含
有量は約5〜95重量%であり、好ましくは約10〜8
5重量%である。
有量は約5〜95重量%であり、好ましくは約10〜8
5重量%である。
(2)ネガ作用ジアゾニウム化合物
本発明に用いられるネガ作用ジアゾニウム化合物として
は米国特許第3.867、147号記載のジアゾニウム
化合物、米国特許第2.632.703号明細書記載の
ジアゾニウム化合物などがあげられるが、特に芳香族ジ
アゾニウム塩と例えば活性なカルボニル含有化合物(例
えばホルムアルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ
樹脂が有用である。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒド又はナセ
トアルデヒドの縮合物のへキサフルオロりん酸塩、テト
ラフルオロはう酸塩、りん酸塩が含まれる。また、米国
特許第3.300.309号に記載されているようなp
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物のスルホン酸塩(例えば、p−)ルエンスルホン酸塩
、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、2−メトキシ−4−
ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩など
)、ホスフィン酸塩(例えばベンゼンホスフィン酸塩な
ど)、ヒドロキシ基含有化合物塩(例えば2.4−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン塩など)、有機カルボン酸塩な
ども好ましい。
は米国特許第3.867、147号記載のジアゾニウム
化合物、米国特許第2.632.703号明細書記載の
ジアゾニウム化合物などがあげられるが、特に芳香族ジ
アゾニウム塩と例えば活性なカルボニル含有化合物(例
えばホルムアルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ
樹脂が有用である。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒド又はナセ
トアルデヒドの縮合物のへキサフルオロりん酸塩、テト
ラフルオロはう酸塩、りん酸塩が含まれる。また、米国
特許第3.300.309号に記載されているようなp
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物のスルホン酸塩(例えば、p−)ルエンスルホン酸塩
、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、2−メトキシ−4−
ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩など
)、ホスフィン酸塩(例えばベンゼンホスフィン酸塩な
ど)、ヒドロキシ基含有化合物塩(例えば2.4−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン塩など)、有機カルボン酸塩な
ども好ましい。
更に(ま特開昭58−2714.1号に示されているよ
うな3−メトキシ−4−ジアゾ−ジフェニルアミンを4
,4′−ビス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテル
で縮合させメシチレンスルホン酸塩としたものなども適
当である。
うな3−メトキシ−4−ジアゾ−ジフェニルアミンを4
,4′−ビス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテル
で縮合させメシチレンスルホン酸塩としたものなども適
当である。
これらジアゾニウム化合物の感光性組成物中の含有量は
、1〜50M量%、好ましくは3〜20重量%である。
、1〜50M量%、好ましくは3〜20重量%である。
また必要に応じ、ジアゾニウム化合物2種以上を併用し
てもよい。
てもよい。
(3)重合可能なモノマー/光重合開始剤本発明の感光
性組成物に添加することのできるモノマーは、常圧で沸
点100℃以上の、少なくとも1分子中に1個、より好
ましくは2個以上の付加重合可能なエチレン性不飽和基
を有する分子量10.(IOQ以下の七ツマ−またはオ
リゴマーである。このようなモノマー又はオリゴマーと
しては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレ
ート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官
能のアクリレートやメタクリレート;ポリプロレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート
、トリ (アクリロイロキシエチル)インシアネート、
グリセリンやトリメチロールエタン等の多価アルコール
にエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加さ
せた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−
41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−
37193号各公報心配載されているようなウレタンア
クリレート類、特開昭48−64L83号、特公昭49
−43191号、特公昭52−30490号各公報心配
載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹
脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレ
ート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあ
げることができる。さらに日本接着協会誌Vo1.20
、N017.300〜308ページに光硬化性七ツマ−
およびオリゴマーとして紹介されているものも使用する
ことができる。
性組成物に添加することのできるモノマーは、常圧で沸
点100℃以上の、少なくとも1分子中に1個、より好
ましくは2個以上の付加重合可能なエチレン性不飽和基
を有する分子量10.(IOQ以下の七ツマ−またはオ
リゴマーである。このようなモノマー又はオリゴマーと
しては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレ
ート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官
能のアクリレートやメタクリレート;ポリプロレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート
、トリ (アクリロイロキシエチル)インシアネート、
グリセリンやトリメチロールエタン等の多価アルコール
にエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加さ
せた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−
41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−
37193号各公報心配載されているようなウレタンア
クリレート類、特開昭48−64L83号、特公昭49
−43191号、特公昭52−30490号各公報心配
載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹
脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレ
ート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあ
げることができる。さらに日本接着協会誌Vo1.20
、N017.300〜308ページに光硬化性七ツマ−
およびオリゴマーとして紹介されているものも使用する
ことができる。
これらのモノマーまたはオリゴマーと本発明の−CO−
NH−CD−基を有する高分子化合物の組成比は重量で
5=95〜70:30の範囲が好ましく、更に好ましい
範囲は10:90〜50:50である。
NH−CD−基を有する高分子化合物の組成比は重量で
5=95〜70:30の範囲が好ましく、更に好ましい
範囲は10:90〜50:50である。
本発明の感光性組成物に添加することのできる光重合開
始剤は米国特許第2.367、660号明細書に開示さ
れているビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許
第2.367、661号及び第2.367、670号明
細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許
第2.448.828号明細書に開示されているアシロ
インエーテノベ米国特許第2.722.512号明細書
に開示されているα−位が炭化水素で置換された芳香族
アシロイン化合物、米国特許第3.046.12’7号
及び第2.951.758号明細書に開示されている多
岐キノン化合物、米国特許第3.549.367号明細
書に開示されているトリアリールイミダゾールダイマー
/p−アミノフェニルケトンの組合せ、米国特許第3.
870.524号明細書に開示されているベンゾチアゾ
ール系化合物、米国特許第3.751.259号明細書
に開示されているアクリジン及びフェナジン化合物、米
国特許第4.212.970号明細書に開示されている
オキサジアゾール化合物等が含まれる。
始剤は米国特許第2.367、660号明細書に開示さ
れているビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許
第2.367、661号及び第2.367、670号明
細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許
第2.448.828号明細書に開示されているアシロ
インエーテノベ米国特許第2.722.512号明細書
に開示されているα−位が炭化水素で置換された芳香族
アシロイン化合物、米国特許第3.046.12’7号
及び第2.951.758号明細書に開示されている多
岐キノン化合物、米国特許第3.549.367号明細
書に開示されているトリアリールイミダゾールダイマー
/p−アミノフェニルケトンの組合せ、米国特許第3.
870.524号明細書に開示されているベンゾチアゾ
ール系化合物、米国特許第3.751.259号明細書
に開示されているアクリジン及びフェナジン化合物、米
国特許第4.212.970号明細書に開示されている
オキサジアゾール化合物等が含まれる。
好ましくは下記一般式(I)又は(II)で示されるト
リハロメチル−3−)リアジン化合物又はトリへロメチ
ルオキサジアゾール化合物が挙げられる。
リハロメチル−3−)リアジン化合物又はトリへロメチ
ルオキサジアゾール化合物が挙げられる。
ここで式中、R2は置換もしくは無置換のアリール、ア
ルケニル基、R1はR2、CY3又は、置換もしくは無
置換のアルキル基を示す。Yは塩素原子又は臭素原子を
示す。
ルケニル基、R1はR2、CY3又は、置換もしくは無
置換のアルキル基を示す。Yは塩素原子又は臭素原子を
示す。
一般式(1)で示される化合物としては、例えば若林ら
著、Bull、 Chem、Soc、Japan、第4
2巻、第2924頁(1969年)に記載の化合物、英
国特許第1.388.492号、西独特許第2,718
.259号、および西独特許第3.337.024号明
細書記載の化合物が挙げちれる。具体的:こは次に示す
化合物が含まれる。
著、Bull、 Chem、Soc、Japan、第4
2巻、第2924頁(1969年)に記載の化合物、英
国特許第1.388.492号、西独特許第2,718
.259号、および西独特許第3.337.024号明
細書記載の化合物が挙げちれる。具体的:こは次に示す
化合物が含まれる。
即ち、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル
)−3−)リアジン、2−(p−クロロフェニル)−4
,6−ビス(トリクロロメチル)−3−トリアジン、2
−(p−)リル)−4,6−ヒス(トリクロロメチル)
−3−)リアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4
,6−ビス(トリクロロメチル)−3−)リアジン、2
−(2’、4’−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(
トリクロロメチル)−3−トリアジン、2゜4.6−)
リス(トリクロロメチル)−3−トリアジン、2−メチ
ル−4,6−ビス(トリクロロ−メチル)−3−)リア
ジン、2−n−ノニル−4゜6−ビス(トリクロロメチ
ル)−3−トリアジン、2−(α、α、β−トリクロロ
エチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−3−)
リアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−8−トリアジン、2−(p−メチルスチリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−3−)リアジン
、2−(p−メトキシステリル)−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−3−トリアジン、2−(4−メトキシ
−ナフト−1−イル)−4゜6−ビス(トリクロロメチ
ル)−3−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−
1−イル)−4゜6−ビス(トリクロロメチル)−3−
)リアジン、2−C4−(2−二トキシエチル)−ナフ
ト−1−イル:l−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−3−)リアジン、2− (4,7−ジメトキシ−ナフ
トー1−イルE−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
3−)リアジン、2−(アセナフト−5−イル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−37)リアジン、2−
(4−スチリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−3−)リアジン等が含まれる。
)−3−)リアジン、2−(p−クロロフェニル)−4
,6−ビス(トリクロロメチル)−3−トリアジン、2
−(p−)リル)−4,6−ヒス(トリクロロメチル)
−3−)リアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4
,6−ビス(トリクロロメチル)−3−)リアジン、2
−(2’、4’−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(
トリクロロメチル)−3−トリアジン、2゜4.6−)
リス(トリクロロメチル)−3−トリアジン、2−メチ
ル−4,6−ビス(トリクロロ−メチル)−3−)リア
ジン、2−n−ノニル−4゜6−ビス(トリクロロメチ
ル)−3−トリアジン、2−(α、α、β−トリクロロ
エチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−3−)
リアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−8−トリアジン、2−(p−メチルスチリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−3−)リアジン
、2−(p−メトキシステリル)−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−3−トリアジン、2−(4−メトキシ
−ナフト−1−イル)−4゜6−ビス(トリクロロメチ
ル)−3−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−
1−イル)−4゜6−ビス(トリクロロメチル)−3−
)リアジン、2−C4−(2−二トキシエチル)−ナフ
ト−1−イル:l−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−3−)リアジン、2− (4,7−ジメトキシ−ナフ
トー1−イルE−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
3−)リアジン、2−(アセナフト−5−イル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−37)リアジン、2−
(4−スチリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−3−)リアジン等が含まれる。
また一般式(n)で示される化合物としては、例えば特
開昭54 74728号公報、特開昭55−77742
号公報、及び特開昭59−148784号公報記載の化
合物が挙げられる。
開昭54 74728号公報、特開昭55−77742
号公報、及び特開昭59−148784号公報記載の化
合物が挙げられる。
具体的には次に示す化合物が含まれる。
即ち、2−スチリル−5−トリクロロメチル−1、3,
4−オキサジアゾール、2−(4−クロロスチリル)−
5−)リクロロメチル−1,3゜4−オキサジアゾール
、2−(4−メチルステリル)−5−)ジクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、!−(4−メトキシ
スチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキ
サジアゾールベ2−(4−ブトキシスチリル)’ −5
−)ジクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、
2− (4−スチリルスチリル)−5−)!Jクロロメ
チルー1. 3. 4−オキサジアゾール、2−フェニ
ル−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾ
ール、2−(4−メトキシフェニル)−5−トリクロロ
メチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4
−ジメトキシフェニル)−5−トリクロロメチル−1,
3,4−オキサジアゾールペ2− (4−スチリルフェ
ニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジ
アゾール、2−(1−ナフチル)−5−)リクロロメチ
ル−1,3,4−オキサジアゾール等が含まれる。
4−オキサジアゾール、2−(4−クロロスチリル)−
5−)リクロロメチル−1,3゜4−オキサジアゾール
、2−(4−メチルステリル)−5−)ジクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、!−(4−メトキシ
スチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキ
サジアゾールベ2−(4−ブトキシスチリル)’ −5
−)ジクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、
2− (4−スチリルスチリル)−5−)!Jクロロメ
チルー1. 3. 4−オキサジアゾール、2−フェニ
ル−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾ
ール、2−(4−メトキシフェニル)−5−トリクロロ
メチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4
−ジメトキシフェニル)−5−トリクロロメチル−1,
3,4−オキサジアゾールペ2− (4−スチリルフェ
ニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジ
アゾール、2−(1−ナフチル)−5−)リクロロメチ
ル−1,3,4−オキサジアゾール等が含まれる。
必要により本発明の感光性組成物j二増感剤を添加する
ことができる。具体的には、特公昭59−28328号
公報に示される芳香族チアゾール化合物、特開昭54−
151024号公報に示されるメロシアニン色素、特開
昭58−40302号公報に示される芳香族チオピリリ
ウム塩や芳香族ビリリウム塩、その他9−フェニルアク
リジン、5−ニトロアセナフテン、ケトクロリン類等の
光吸収剤が挙げられる。更にはこれらにN−フェーニル
グリシン、2−メルカブトベンゾチアゾーノぺN、N’
−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の水素供与体等を組
み合わせた系も、本発明に有効に使用される。
ことができる。具体的には、特公昭59−28328号
公報に示される芳香族チアゾール化合物、特開昭54−
151024号公報に示されるメロシアニン色素、特開
昭58−40302号公報に示される芳香族チオピリリ
ウム塩や芳香族ビリリウム塩、その他9−フェニルアク
リジン、5−ニトロアセナフテン、ケトクロリン類等の
光吸収剤が挙げられる。更にはこれらにN−フェーニル
グリシン、2−メルカブトベンゾチアゾーノぺN、N’
−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の水素供与体等を組
み合わせた系も、本発明に有効に使用される。
本発明における光重合開始剤及び/又は増感剤の量は、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と本発明の−CD
−NH−Co−基を有する高分子化合物との合計に対し
て0.01重量%から20重量%の範囲で充分であり、
更に好ましくは0.5重量%かみ10重量%で良好な結
果になる。
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と本発明の−CD
−NH−Co−基を有する高分子化合物との合計に対し
て0.01重量%から20重量%の範囲で充分であり、
更に好ましくは0.5重量%かみ10重量%で良好な結
果になる。
また、これらの感光性組成物jこさらにジアゾニウム化
合物を添加する場合、該ジアゾニウム化合物は全組成物
の好ましくは1〜50重量%、さらに好ましくは2〜3
5重量%の添加量で使用される。
合物を添加する場合、該ジアゾニウム化合物は全組成物
の好ましくは1〜50重量%、さらに好ましくは2〜3
5重量%の添加量で使用される。
(4)その他の成分
本発明の組成物中には、前記−CO−N)l−CD−基
を有する高分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール
変性キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロ
ゲン化ヒドロキシスチレン及ヒカルボキシル基含宥エポ
キシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ア
クリル樹脂、メタクリル樹脂、カルボキシル基含有ポリ
ウレタン樹脂等、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物
を含有させることができる。かかるアルカリ可溶性の高
分子化合物は全組成物の70重量%以下の添加量で用い
られる。
を有する高分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール
変性キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロ
ゲン化ヒドロキシスチレン及ヒカルボキシル基含宥エポ
キシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ア
クリル樹脂、メタクリル樹脂、カルボキシル基含有ポリ
ウレタン樹脂等、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物
を含有させることができる。かかるアルカリ可溶性の高
分子化合物は全組成物の70重量%以下の添加量で用い
られる。
本発明の組成物中には、霧光後直ちに可視像を得るため
の焼出し剤、画像着色剤としての染料、顔料、安定剤、
界面活性剤、可塑剤やその他のフィラーなどの添加剤を
加えることができる。
の焼出し剤、画像着色剤としての染料、顔料、安定剤、
界面活性剤、可塑剤やその他のフィラーなどの添加剤を
加えることができる。
露光後直ちに可視1象を得るための焼出し剤としては露
光によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る
有機染料の組合せを代表としてあげることができる。具
体的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−
8128号公報に記載されている0−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の
組合せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−
74728号公報に記載されているトリハロメチル化合
物と塩形成性有機染料の組合せをあげることができる。
光によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る
有機染料の組合せを代表としてあげることができる。具
体的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−
8128号公報に記載されている0−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の
組合せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−
74728号公報に記載されているトリハロメチル化合
物と塩形成性有機染料の組合せをあげることができる。
画像の着色剤として前記の塩形成性有機染料以外の他の
染料も用いることができる。
染料も用いることができる。
塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染料
及び塩基染料をあげることができる。具体的には、オイ
ルイエロー#10・1、オイルイエロー#130、オイ
ルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルー
BO5,オイルブルー#603、オイルブラックBY、
オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上
、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピュア
ブルー、クリスタルバイオレット(CI 42555)
、メチルバイオレット (CI42535)、ローダミ
ンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI
42000)、メチレンブルー(C152015)など
をあげることができる。
及び塩基染料をあげることができる。具体的には、オイ
ルイエロー#10・1、オイルイエロー#130、オイ
ルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルー
BO5,オイルブルー#603、オイルブラックBY、
オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上
、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピュア
ブルー、クリスタルバイオレット(CI 42555)
、メチルバイオレット (CI42535)、ローダミ
ンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI
42000)、メチレンブルー(C152015)など
をあげることができる。
またジアゾニウム化合物と組合せる場合、安定剤として
は、りん酸、亜りん酸、ピロりん酸、暮酸、ホウ酸、p
−)ルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ヒド
ロキシベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロ
キシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、リンゴ酸
、酒石酸、ジピコリン酸、ポリアクリル酸及びその共重
合体、ポリビニルホスホン酸及びその共重合体、ポリビ
ニルスルホン酸及びその共重合体、5−ニトロナフタレ
ン−1−ホスホン酸、4−クロロフェノキシメチルホス
ホン酸、ナトリウムフェニル−メチル−ピラゾロンスル
ホネート、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2
,4,1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2,2
,1−ヒドロキシエタン−1,1−ジスルホン酸等が挙
げられる。
は、りん酸、亜りん酸、ピロりん酸、暮酸、ホウ酸、p
−)ルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ヒド
ロキシベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロ
キシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、リンゴ酸
、酒石酸、ジピコリン酸、ポリアクリル酸及びその共重
合体、ポリビニルホスホン酸及びその共重合体、ポリビ
ニルスルホン酸及びその共重合体、5−ニトロナフタレ
ン−1−ホスホン酸、4−クロロフェノキシメチルホス
ホン酸、ナトリウムフェニル−メチル−ピラゾロンスル
ホネート、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2
,4,1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2,2
,1−ヒドロキシエタン−1,1−ジスルホン酸等が挙
げられる。
また、重合可能なモノマーと光重合開始剤との組合せを
使用する場合、感光性組成物の製造中あるいは保存中に
おいて重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重
合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加すること
が望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−メ
タノール、ピロガロール、t−7’チルカテコーノベベ
ンゾキノン、4.4′−チオビス(3−メチル−6−1
−ブチルフェノール)、2.2’−メチレンビス(4−
メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプト
ベンゾイミダゾール、N−ニトロンフェニルヒドロキシ
アミン第一セリウム塩等があげられる。
使用する場合、感光性組成物の製造中あるいは保存中に
おいて重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重
合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加すること
が望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−メ
タノール、ピロガロール、t−7’チルカテコーノベベ
ンゾキノン、4.4′−チオビス(3−メチル−6−1
−ブチルフェノール)、2.2’−メチレンビス(4−
メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプト
ベンゾイミダゾール、N−ニトロンフェニルヒドロキシ
アミン第一セリウム塩等があげられる。
また、塗布性を改良するためのアルキルエーテル3 (
タト、j Ifエチルセルロース、メチルセルフ−ス)
、界面活性剤類(たとえばフッ素系界面活性剤)、膜の
柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(たとえばト
リクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、りん酸トリオクチル、りん酸トリブチル
、クエン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールなど)を添加することが出来る。
タト、j Ifエチルセルロース、メチルセルフ−ス)
、界面活性剤類(たとえばフッ素系界面活性剤)、膜の
柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(たとえばト
リクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、りん酸トリオクチル、りん酸トリブチル
、クエン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールなど)を添加することが出来る。
これらの添加剤の添加量はその使用対象目的によって異
なるが、一般には感光層の全固形分に対して0.5〜3
0重量%である。
なるが、一般には感光層の全固形分に対して0.5〜3
0重量%である。
本発明の感光性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に
溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒とし
ては、メタノール、エタノール、インプロパツール、n
−ブタノール、t−ブタノール、エチレンジクロライド
、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、
エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテノベエチレングリコールモノエチルエーテル、2−
メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパ
ツール、1−メトキシ−2−プロビルアセテ−ト、N、
N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、乳酸メチ
ノペ乳酸エチルなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用する。
溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒とし
ては、メタノール、エタノール、インプロパツール、n
−ブタノール、t−ブタノール、エチレンジクロライド
、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、
エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテノベエチレングリコールモノエチルエーテル、2−
メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパ
ツール、1−メトキシ−2−プロビルアセテ−ト、N、
N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、乳酸メチ
ノペ乳酸エチルなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用する。
また、これあの溶媒や混合溶媒に少量の水やトルエン等
のジアゾ尉脂や高分子化合物を溶化させない溶媒を添加
した混合溶媒も適当である。そして、上記成分中の濃度
(固形分)は、1〜50重量%である。
のジアゾ尉脂や高分子化合物を溶化させない溶媒を添加
した混合溶媒も適当である。そして、上記成分中の濃度
(固形分)は、1〜50重量%である。
これらの溶媒に溶解させた感光液を塗布し乾燥させる場
合50℃〜120℃で乾燥させることが望ましい。乾燥
方法は始め温度を低くして予備乾燥後高温で乾燥させて
もよいが、適当な溶媒と濃度を選ぶことによって直接高
温で乾燥させてもよまた、塗布量は用途により異なるが
、例えば感光性平版印刷版についていえば一般的に固形
分として0.5〜3.0g/m’が好ましい。塗布量が
少くなるにつれ感光性は大になるが、感光膜の物性は低
下する。
合50℃〜120℃で乾燥させることが望ましい。乾燥
方法は始め温度を低くして予備乾燥後高温で乾燥させて
もよいが、適当な溶媒と濃度を選ぶことによって直接高
温で乾燥させてもよまた、塗布量は用途により異なるが
、例えば感光性平版印刷版についていえば一般的に固形
分として0.5〜3.0g/m’が好ましい。塗布量が
少くなるにつれ感光性は大になるが、感光膜の物性は低
下する。
また本発明の感光性組成物が塗布される支持体としては
、例えば、紙、プラスチックス(例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされ
た紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む、
)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セル
ロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、SjI!酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネニト、もしくは蒸着された
紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる。これ
らの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安
定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、
特公昭48−18327号公報に記載されているような
ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウム
シートが結合された複合体シートも好ましい。
、例えば、紙、プラスチックス(例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされ
た紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む、
)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セル
ロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、SjI!酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネニト、もしくは蒸着された
紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる。これ
らの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安
定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、
特公昭48−18327号公報に記載されているような
ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウム
シートが結合された複合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、適当な親水化処理をする事が望ましい。
合には、適当な親水化処理をする事が望ましい。
このような親水化処理としては、例えばアルミニウム表
面を、ワイヤブラシグレイニング、研摩粒子のスラリー
を注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブラシグレイ
ニング、ボールグレイニング等の機械的方法、HFやA
βCI!s 、HCfをエッチャントとするケミカルグ
レイニング、E’!48又は塩酸を電解液とする電解グ
レイニングやこれらの粗面化法を複合させて行う複合グ
レイニングによって表面を砂目立てした後、必要に応じ
て酸又はアルカリによりエツチング処理され、引き続き
硫酸、りん酸、謬酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン
酸またはこれらの混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸
化を行いアルミニウム表面に強固な不動態皮膜を設けた
ものが好ましい。この様な不動態皮膜自体でアルミニウ
ム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じて米国
特許第2、714.066号明細書や米国特許第3.1
81.461号明細書に記載されている珪酸塩処理(珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム)、米国特許第2. g4
6.638号明細書に記載されている弗化ジルコニウム
酸カリウム処理、米国特許第3.201.247号明細
書j二記載されているホスホモリブデート処理、英国特
許第1.108.559号に記載されているアルキルチ
タネート処理、独国持許第1.091.433号明細書
に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1.
134.093号明細書や英国特許第1.230.44
7号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理
、特公昭44−6409号公報に記載されているホスホ
ン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記
載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893
号や特開昭58−1’82’91号の各公報:こ記載さ
れている親水性有機高分子化合物と2価の金、寓よりな
る複合処理、特開昭59−101651号公報に記載さ
れているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗によ
って親水化処理を行ったものは特に好ましい。その他の
親水化処理方法としては米国特許第3.658.662
号明細書に記載されているシリケート電着をもあげるこ
とが出来る。
面を、ワイヤブラシグレイニング、研摩粒子のスラリー
を注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブラシグレイ
ニング、ボールグレイニング等の機械的方法、HFやA
βCI!s 、HCfをエッチャントとするケミカルグ
レイニング、E’!48又は塩酸を電解液とする電解グ
レイニングやこれらの粗面化法を複合させて行う複合グ
レイニングによって表面を砂目立てした後、必要に応じ
て酸又はアルカリによりエツチング処理され、引き続き
硫酸、りん酸、謬酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン
酸またはこれらの混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸
化を行いアルミニウム表面に強固な不動態皮膜を設けた
ものが好ましい。この様な不動態皮膜自体でアルミニウ
ム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じて米国
特許第2、714.066号明細書や米国特許第3.1
81.461号明細書に記載されている珪酸塩処理(珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム)、米国特許第2. g4
6.638号明細書に記載されている弗化ジルコニウム
酸カリウム処理、米国特許第3.201.247号明細
書j二記載されているホスホモリブデート処理、英国特
許第1.108.559号に記載されているアルキルチ
タネート処理、独国持許第1.091.433号明細書
に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1.
134.093号明細書や英国特許第1.230.44
7号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理
、特公昭44−6409号公報に記載されているホスホ
ン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記
載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893
号や特開昭58−1’82’91号の各公報:こ記載さ
れている親水性有機高分子化合物と2価の金、寓よりな
る複合処理、特開昭59−101651号公報に記載さ
れているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗によ
って親水化処理を行ったものは特に好ましい。その他の
親水化処理方法としては米国特許第3.658.662
号明細書に記載されているシリケート電着をもあげるこ
とが出来る。
支持体上(ご塗布された本発明の感光性組成物は線画像
、網点面像等を有する透間原画を通して露光し、次いで
水性アルカリ現像液で現像することにより、原画に対し
てネガのレリーフ像を与える。
、網点面像等を有する透間原画を通して露光し、次いで
水性アルカリ現像液で現像することにより、原画に対し
てネガのレリーフ像を与える。
霧光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ
、紫外線レーデ光線などがあげられる。
灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ
、紫外線レーデ光線などがあげられる。
本発明の感光性組成物は、支持体上j:塗布する際の塗
布性に浸れる。また塗布、乾燥、画像露光後、水性アル
カリ現像液で現像する際の現像性に曇れ、有機溶剤およ
び/または界面活性剤等の有機物を含んだ水性アルカリ
現像液により現像した際、適正な現1象性が得られ、か
つこれらの有機物を実質上音まない水性アルカリ現像液
により現像した際においても適正な現像性が得られる。
布性に浸れる。また塗布、乾燥、画像露光後、水性アル
カリ現像液で現像する際の現像性に曇れ、有機溶剤およ
び/または界面活性剤等の有機物を含んだ水性アルカリ
現像液により現像した際、適正な現1象性が得られ、か
つこれらの有機物を実質上音まない水性アルカリ現像液
により現像した際においても適正な現像性が得られる。
さらに得ちれたレリーフ像は耐摩耗性、支持体への密着
性が良く、印刷版として使用した場合、良好な印刷物が
多数枚得られる。
性が良く、印刷版として使用した場合、良好な印刷物が
多数枚得られる。
以下、本発明を合成例、実施例:こより更に詳細に税ジ
弓するが、本発ジ弓の内容がこれにより限定されるもの
ではな一ハ。
弓するが、本発ジ弓の内容がこれにより限定されるもの
ではな一ハ。
合成例1
冷却管、撹拌機を備えた1β三ツロフラスコにメタノー
ル80m1、濃塩酸134m1及び4−ニトロフタルイ
ミド38.4 g (0,2mole)を入れ、室温下
で撹拌した。この反応混合物に鉄粉33.9 g(0,
607mole)を1時間かけて、少量ずつ加えた5
(この時、フラスコ内の温度は上昇し、溶媒は還流する
。)鉄粉を添加後、フラスコ内の温度が30℃になるま
で撹拌を続けた。反応終了後、この混合物を水1.4f
!に撹拌子投入し、30分間撹拌した。析出物をろ過に
より取り出し、さらに水1βでよ<:gc浄後、乾燥す
ると、4−アミノフタルイミドの黄色固体が得られた。
ル80m1、濃塩酸134m1及び4−ニトロフタルイ
ミド38.4 g (0,2mole)を入れ、室温下
で撹拌した。この反応混合物に鉄粉33.9 g(0,
607mole)を1時間かけて、少量ずつ加えた5
(この時、フラスコ内の温度は上昇し、溶媒は還流する
。)鉄粉を添加後、フラスコ内の温度が30℃になるま
で撹拌を続けた。反応終了後、この混合物を水1.4f
!に撹拌子投入し、30分間撹拌した。析出物をろ過に
より取り出し、さらに水1βでよ<:gc浄後、乾燥す
ると、4−アミノフタルイミドの黄色固体が得られた。
(収量29.5g)次に、冷却管、撹拌機、滴下ロート
を備えた、200−三ツロフラスコに4−アミノフタル
イミド16.2 g (0,1mole)及びピリジン
80rnlを人れ、氷水塔下攪拌した。この混合物にメ
タクリル酸クロリド10.5 g (0,1mole)
を滴下ロートニより1時間かけて滴下した。
を備えた、200−三ツロフラスコに4−アミノフタル
イミド16.2 g (0,1mole)及びピリジン
80rnlを人れ、氷水塔下攪拌した。この混合物にメ
タクリル酸クロリド10.5 g (0,1mole)
を滴下ロートニより1時間かけて滴下した。
滴下終了後、氷水浴をとりはずし、油浴を備えつけ60
℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後、この混
1合物を水11に攪拌下投入し、塩酸で酸性としだ後さ
らに30分間攪拌した。析出物をろ過、乾燥することに
より、4−メタクリロイルアミノフタルイミドの黄色固
体が得られた。
℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後、この混
1合物を水11に攪拌下投入し、塩酸で酸性としだ後さ
らに30分間攪拌した。析出物をろ過、乾燥することに
より、4−メタクリロイルアミノフタルイミドの黄色固
体が得られた。
この固体はエタノール−水の混合溶媒より再結晶するこ
とにより精製できる(収量10.3 g ) c次に、
冷却管、攪拌機を備えた2 00mf三ツロフラスコに
4−メタクリロイルアミノフタルイミド6、68 g
(0,029mole)及び7 り+) D 二) !
Jル1.91 g (0,036mole)、メタクリ
ル酸0.86g (0,01mole)メタクリル酸メ
チル2.50 g(0,025mole) 、2−メト
キシエタノール18gV−650,06g(和光純薬σ
1製)を入れ、窒素気流下65℃に暖めながら3時間攪
拌した。
とにより精製できる(収量10.3 g ) c次に、
冷却管、攪拌機を備えた2 00mf三ツロフラスコに
4−メタクリロイルアミノフタルイミド6、68 g
(0,029mole)及び7 り+) D 二) !
Jル1.91 g (0,036mole)、メタクリ
ル酸0.86g (0,01mole)メタクリル酸メ
チル2.50 g(0,025mole) 、2−メト
キシエタノール18gV−650,06g(和光純薬σ
1製)を入れ、窒素気流下65℃に暖めながら3時間攪
拌した。
さらにV−650,04gを加え65℃で2時間撹拌し
た2反応終了後二の混合物を水1βに投入し、30分間
撹拌した後、ろ過乾燥する事により11gの白色固体が
得られた。ゲルパーミェーションクロマトグラフィー:
こより、この高分子化合物の重量平均分子量(ポリスチ
レン標準)を測定したところ64.000であった。(
本発明の高分子化合物(a)) 合成例2〜7 合成例1と同様にして第1表に示される高分子化合物(
b)〜(勃を合成した。これらの高分子化合物の重量平
均分子量(ポリスチレン標準)は、いずれも35.00
0〜100.000であった。
た2反応終了後二の混合物を水1βに投入し、30分間
撹拌した後、ろ過乾燥する事により11gの白色固体が
得られた。ゲルパーミェーションクロマトグラフィー:
こより、この高分子化合物の重量平均分子量(ポリスチ
レン標準)を測定したところ64.000であった。(
本発明の高分子化合物(a)) 合成例2〜7 合成例1と同様にして第1表に示される高分子化合物(
b)〜(勃を合成した。これらの高分子化合物の重量平
均分子量(ポリスチレン標準)は、いずれも35.00
0〜100.000であった。
実施例1〜5
厚さ0.24 mmのJIS1050Aアルミニウム板
をナイロンブラシと400メツシユのバミストンの水性
懸濁液を用いてその表面を砂目立てしだ後よく水で洗浄
した。これを10%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で
60秒間浸漬してエツチングした後、流水で水洗後20
%硝酸で中和洗浄し、特開昭53−67507号公報記
載の電気化学的粗面化法、即ち正弦波交番波形電流を用
い、1%硝酸水溶液中で160クロ一ン/dm2の陽極
特電気量で電解粗面化処理を行った。ひきつづき30%
の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットし
た後7%硫酸水溶液中で酸化アルミニウムの被ふく量が
2.0g/m’になるように陽極酸化処理を行った。そ
の後70℃のJIS3号のケイ酸ナトリウムの3%水溶
液に1分間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにし
て得られたアルミニウム板に次に示す感光液CA〕−1
〜〔Al−5をボイラーを用いて塗布し、80℃で2分
間乾燥した。乾燥重量は2.0 g / m’であった
。
をナイロンブラシと400メツシユのバミストンの水性
懸濁液を用いてその表面を砂目立てしだ後よく水で洗浄
した。これを10%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で
60秒間浸漬してエツチングした後、流水で水洗後20
%硝酸で中和洗浄し、特開昭53−67507号公報記
載の電気化学的粗面化法、即ち正弦波交番波形電流を用
い、1%硝酸水溶液中で160クロ一ン/dm2の陽極
特電気量で電解粗面化処理を行った。ひきつづき30%
の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットし
た後7%硫酸水溶液中で酸化アルミニウムの被ふく量が
2.0g/m’になるように陽極酸化処理を行った。そ
の後70℃のJIS3号のケイ酸ナトリウムの3%水溶
液に1分間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにし
て得られたアルミニウム板に次に示す感光液CA〕−1
〜〔Al−5をボイラーを用いて塗布し、80℃で2分
間乾燥した。乾燥重量は2.0 g / m’であった
。
なお感光液〔、へ〕−1〜〔、へ〕−5に用いた本発明
に用いる高分子化合物は第2表に示す。
に用いる高分子化合物は第2表に示す。
/
: 本発明に用いる高分子化合物 5.0g葺
自
I リ ン ゴ 酸
0.0 5 g次に比較例として、上記感
光液中の本発明に用いる高分子化合物の代わりに次の高
分子化合物を用いた感光液〔B〕を同様に塗布、乾燥し
た。乾燥重量は2.0g/m″であった。
0.0 5 g次に比較例として、上記感
光液中の本発明に用いる高分子化合物の代わりに次の高
分子化合物を用いた感光液〔B〕を同様に塗布、乾燥し
た。乾燥重量は2.0g/m″であった。
(比較例に用いた高分子化合物)
比較例に用いた高分子化合物は、
の構成を持つ高分子化合物であり、a / b / c
/dはモル比で9/24158/9であった。
/dはモル比で9/24158/9であった。
また、分子量は重量平均(ポリスチレン標準)で55.
000であった。
000であった。
感光液[A:1−1〜5及び〔B〕を用いて得られた各
感光性平板印刷版CA〕−1〜5及び(BEそれぞれに
富士写真フィルム■!!PSライトで1mの距離から1
分間画像露光し、次に示す現像液(SE及び〔T〕にて
それぞれ室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で表面を軽く
こすった。
感光性平板印刷版CA〕−1〜5及び(BEそれぞれに
富士写真フィルム■!!PSライトで1mの距離から1
分間画像露光し、次に示す現像液(SE及び〔T〕にて
それぞれ室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で表面を軽く
こすった。
現像液〔S〕
現像液CT)
1、水 1000 g
\
有機物を含む。
有機物を含む現像液C3〕を用いた場合、感光性平版印
刷版[:A)−1〜5及び〔B〕はすべて未露光部に残
膜する事なく現像可能であった。しかしながら実質上有
機物を含まない現像液〔T〕を用いた場合本発明の感光
性組成物を用いた平版印刷版〔A)−1〜5(実施例1
〜5)は未露光部に残膜することなく現像することがで
きたが、比較例の平版印刷版CBIは、未露光に残膜が
確言忍された。
刷版[:A)−1〜5及び〔B〕はすべて未露光部に残
膜する事なく現像可能であった。しかしながら実質上有
機物を含まない現像液〔T〕を用いた場合本発明の感光
性組成物を用いた平版印刷版〔A)−1〜5(実施例1
〜5)は未露光部に残膜することなく現像することがで
きたが、比較例の平版印刷版CBIは、未露光に残膜が
確言忍された。
さらに、現像液〔S〕を用いて現像した各印刷版を用い
てハイデルベルグ社製GTO型印刷機で市販のインキに
て、上質紙に印刷した。平版印刷版[A)−1〜5及び
〔B〕の最終印刷枚数を調べたところ第2表に示すとお
りであった。
てハイデルベルグ社製GTO型印刷機で市販のインキに
て、上質紙に印刷した。平版印刷版[A)−1〜5及び
〔B〕の最終印刷枚数を調べたところ第2表に示すとお
りであった。
第2表かられかるように、本発明の感光性組成物を用い
た平版印刷版[”A)−1〜5(実施例1〜5)は比較
例の〔B’lと比べて印刷枚数が多く、耐刷性が非常に
擾れたものである。
た平版印刷版[”A)−1〜5(実施例1〜5)は比較
例の〔B’lと比べて印刷枚数が多く、耐刷性が非常に
擾れたものである。
実施例6〜7
実施例1〜5で得たアルミニウム板に次に示す感光液〔
C〕−1〜CC〕−2をボイラーを用いて塗布し、80
℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g/m”であっ
た。
C〕−1〜CC〕−2をボイラーを用いて塗布し、80
℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g/m”であっ
た。
なお、感光液1:c3−1〜CCE −2!二用いた本
発明に用いる高分子化合物は第3表に示す。
発明に用いる高分子化合物は第3表に示す。
感光液CCE
次に比較例として、上記感光液中の本発明に用いる高分
子化合物の代わりに次の高分子化合物を用いた感光液〔
D〕を同様に塗布乾燥した。乾燥重量は2.0g/m’
であった。
子化合物の代わりに次の高分子化合物を用いた感光液〔
D〕を同様に塗布乾燥した。乾燥重量は2.0g/m’
であった。
(比較例に用いた高分子化合物)
比較例に用いた高分子化合物は、
([H
つ構成を持つ高分子化合物であり、a / b / c
はモル比で40/45/15であった。また分子量ま重
量平均(ポリスチレン標準)で52. OOOでうった
。
はモル比で40/45/15であった。また分子量ま重
量平均(ポリスチレン標準)で52. OOOでうった
。
感光液(CE−1〜2及びCD 1を用いて得らtた各
感光性平版印刷版(C)−1〜2及び〔D〕てれぞれ:
二富士写真フイルム@製P Sライトで1mの距離から
1分間画像露光し、先に示した現像液〔S〕及び[T]
にてそれぞれ室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で表面を
軽くこすった。
感光性平版印刷版(C)−1〜2及び〔D〕てれぞれ:
二富士写真フイルム@製P Sライトで1mの距離から
1分間画像露光し、先に示した現像液〔S〕及び[T]
にてそれぞれ室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で表面を
軽くこすった。
有機物を含む現像液〔S〕を用いた場合、感光製平版印
刷版〔C)−1〜2及び〔D〕はすべて未露光部に残膜
する事なく現像可能であった。しかしながら実質上有機
物を含まない現像液〔T〕を用いた場合、本発明の、咳
光製組成物を用いた平版印刷版〔CD−1〜2 (実施
例6〜7)は未露光部に残膜することなく現像すること
ができたが、比較例の平版印刷版[DEは、未露光部に
残膜が確認された。
刷版〔C)−1〜2及び〔D〕はすべて未露光部に残膜
する事なく現像可能であった。しかしながら実質上有機
物を含まない現像液〔T〕を用いた場合、本発明の、咳
光製組成物を用いた平版印刷版〔CD−1〜2 (実施
例6〜7)は未露光部に残膜することなく現像すること
ができたが、比較例の平版印刷版[DEは、未露光部に
残膜が確認された。
さらに、現像液〔S〕を用いて現像した各印刷版を用い
てハイデルベルグ社製GTO型印刷機で市販のインキに
て、上質紙に印刷した。平版印刷版[:CD−1〜2及
び〔D〕の最終印刷枚数を同べたところ第3表に示すと
おりであった。第3表かられかるように本発明の感光性
組成物を用いた平版印刷版CC) 1〜2 (実施例
6〜7)は比較例のCD〕と比べて印刷枚数が多く、耐
刷性が非常に優れたものである。
てハイデルベルグ社製GTO型印刷機で市販のインキに
て、上質紙に印刷した。平版印刷版[:CD−1〜2及
び〔D〕の最終印刷枚数を同べたところ第3表に示すと
おりであった。第3表かられかるように本発明の感光性
組成物を用いた平版印刷版CC) 1〜2 (実施例
6〜7)は比較例のCD〕と比べて印刷枚数が多く、耐
刷性が非常に優れたものである。
Claims (1)
- −CO−NH−CO−基を有し、水不溶かつアルカリ性
水溶液に可溶な高分子化合物と、ネガ型に作用する感光
性化合物を含有する事を特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63115597A JP2613789B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63115597A JP2613789B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 感光性平版印刷版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01284849A true JPH01284849A (ja) | 1989-11-16 |
JP2613789B2 JP2613789B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=14666559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63115597A Expired - Fee Related JP2613789B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2613789B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0277748A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
EP0731113A2 (de) * | 1995-03-04 | 1996-09-11 | Hoechst Aktiengesellschaft | Polymere und damit hergestelltes lichtempfindliches Gemisch |
JP2010015156A (ja) * | 2005-12-22 | 2010-01-21 | Samyang Ems Co Ltd | ネガティブフォトレジスト組成物 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS6294840A (ja) * | 1985-10-21 | 1987-05-01 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JPS62229242A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-10-08 | ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション | イミド含有ポリマ−の高解像力ホトレジスト |
JPS62280736A (ja) * | 1986-05-29 | 1987-12-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性樹脂組成物 |
JPS63189408A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-05 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 電子線硬化性組成物 |
JPS6410236A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Pattern forming material |
-
1988
- 1988-05-12 JP JP63115597A patent/JP2613789B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP0731113A3 (de) * | 1995-03-04 | 1997-01-22 | Hoechst Ag | Polymere und damit hergestelltes lichtempfindliches Gemisch |
JP2010015156A (ja) * | 2005-12-22 | 2010-01-21 | Samyang Ems Co Ltd | ネガティブフォトレジスト組成物 |
JP4672789B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2011-04-20 | サムヤンイーエムエス カンパニー.,リミテッド. | ネガティブフォトレジスト組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2613789B2 (ja) | 1997-05-28 |
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