JPH02866A - 感光性組成物 - Google Patents
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は平版印刷版、IC回路やフォトマスクの製造に
適する感光性組成物に関するものである。
適する感光性組成物に関するものである。
更に詳しくは、ポジ型に作用する感光性化合物と、耐摩
耗性、耐薬品性に優れた高分子化合物からなる感光性組
成物に関するものである。
耗性、耐薬品性に優れた高分子化合物からなる感光性組
成物に関するものである。
0−ナフトキノンジアジド化合物とノボラック型フェノ
ール樹脂からなる感光性組成物は、非常に優れた感光性
組成物として平版印刷版の製造やフオトレ″シストとし
て工業的に用いられてきた。
ール樹脂からなる感光性組成物は、非常に優れた感光性
組成物として平版印刷版の製造やフオトレ″シストとし
て工業的に用いられてきた。
しかし主体として用いられるノボラック型フェノール樹
脂の性質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろ
いこと、■重性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印刷
版に用いた時の耐剛力が十分でないこと、さらに耐薬品
性に乏しく、特にLIVインキを使用すると耐剛力が掻
めて不十分である等の改良すべき点がある。これらの諸
性能を向上させる方法としてはバーニング処理(n光、
現像後、加熱処理する事)が一般に用いられている。し
かし、バーニング処理を行うと、画像部より感光層中の
低分子化合物が非画像部等に付着し、印刷時に汚れを生
しやすくなるという問題がある。
脂の性質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろ
いこと、■重性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印刷
版に用いた時の耐剛力が十分でないこと、さらに耐薬品
性に乏しく、特にLIVインキを使用すると耐剛力が掻
めて不十分である等の改良すべき点がある。これらの諸
性能を向上させる方法としてはバーニング処理(n光、
現像後、加熱処理する事)が一般に用いられている。し
かし、バーニング処理を行うと、画像部より感光層中の
低分子化合物が非画像部等に付着し、印刷時に汚れを生
しやすくなるという問題がある。
かかる問題を解決するため種々の高分子化合物が、バイ
ンダーとして検討されてきた。たとえば特公昭52−4
1050号に記載されているポリヒドロキシスチレンま
たはヒドロキシスナレン共重合体は確かに皮膜性が改良
されたが、耐摩耗性、耐薬品性が劣るという欠点を有し
ていた。また、特開昭51−34711号公報中にはア
クリル酸誘導体の構造単位を分子構造中に有する高分子
化合物をバインダーとして用いることが提案されている
が、かかる高分子化合物は適正な現像条件の範囲が狭く
、また耐摩耗性も十分でないなどの問題があった。
ンダーとして検討されてきた。たとえば特公昭52−4
1050号に記載されているポリヒドロキシスチレンま
たはヒドロキシスナレン共重合体は確かに皮膜性が改良
されたが、耐摩耗性、耐薬品性が劣るという欠点を有し
ていた。また、特開昭51−34711号公報中にはア
クリル酸誘導体の構造単位を分子構造中に有する高分子
化合物をバインダーとして用いることが提案されている
が、かかる高分子化合物は適正な現像条件の範囲が狭く
、また耐摩耗性も十分でないなどの問題があった。
従って本発明の目的は、バインダーとして用いる高分子
化合物の耐摩耗性が優れ、水性アルカリ現像液で現像が
でき、耐刷力の大きい平版印刷版を与える感光性組成物
を提供することである。
化合物の耐摩耗性が優れ、水性アルカリ現像液で現像が
でき、耐刷力の大きい平版印刷版を与える感光性組成物
を提供することである。
本発明の他の目的は、耐薬品性に優れ、バーニング処理
を行なう事なくUVインキを用いた印刷を行っても耐剛
力の大きい平版印刷版を与える感光性組成物を提供する
ことである。
を行なう事なくUVインキを用いた印刷を行っても耐剛
力の大きい平版印刷版を与える感光性組成物を提供する
ことである。
さらに本発明の目的は基板に対する密着性が良く、柔軟
な皮膜を与え、有機溶剤溶解性の優れた感光性組成物を
提供することである。
な皮膜を与え、有機溶剤溶解性の優れた感光性組成物を
提供することである。
〔発明の構成〕
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。
即ち本発明は、スルホンアミド基を有し、水不溶かつア
ルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物とポジ型に作用す
る感光性組成物を含有する事を特徴とする感光性組成物
を提供するものである。
ルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物とポジ型に作用す
る感光性組成物を含有する事を特徴とする感光性組成物
を提供するものである。
本発明に使用されるスルホンアミド基を有し、水不溶か
つアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、好ましく
は側鎖または主鎖中に一3O!−Nl+結合を含有する
高分子化合物であり、さらに好ましくは、側鎖中に一5
Q2−NH−結合を含有する高分子化合物である。
つアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、好ましく
は側鎖または主鎖中に一3O!−Nl+結合を含有する
高分子化合物であり、さらに好ましくは、側鎖中に一5
Q2−NH−結合を含有する高分子化合物である。
本発明に使用されるスルホンアミド基を有し、水不溶か
つアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、1分子中
に1つ以上のN上に少なくとも1つの11原子が結合し
たスルホンアミド基と1つ以上の重合可能な不飽和結合
を有する低分子化合物を公知の重合開始剤を用いて適当
な溶媒中で重合する事により得られる。
つアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、1分子中
に1つ以上のN上に少なくとも1つの11原子が結合し
たスルホンアミド基と1つ以上の重合可能な不飽和結合
を有する低分子化合物を公知の重合開始剤を用いて適当
な溶媒中で重合する事により得られる。
本発明において、さらに好適に使用されるこのような低
分子化合物としては、12式(+)または(■)で示さ
れる化合物がある。
分子化合物としては、12式(+)または(■)で示さ
れる化合物がある。
式中、)<1、x!はそれぞれ−O−またはNR’−を
示す。R1、R4はそれぞれ−11または−CH5を示
す。R2,R3はそれぞれ置換基を有していてもよいC
4〜Catのフルキレン基、シクロアルキレン基、アリ
ーレン基、アラルキレン基を示す。R3は−■(、置t
A Mを有していてもよいC1〜C12のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、を示す
。またR6は、置換基を有していてもよい01〜CI□
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基、を示す。R7は水素原子または置換基を有して
いてもよいCI−C+□のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。
示す。R1、R4はそれぞれ−11または−CH5を示
す。R2,R3はそれぞれ置換基を有していてもよいC
4〜Catのフルキレン基、シクロアルキレン基、アリ
ーレン基、アラルキレン基を示す。R3は−■(、置t
A Mを有していてもよいC1〜C12のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、を示す
。またR6は、置換基を有していてもよい01〜CI□
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基、を示す。R7は水素原子または置換基を有して
いてもよいCI−C+□のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。
−数式(1)または(■)で示される低分子化合物の内
、本発明において特に好適に使用されるものは、R2、
R5がそれぞれCz−C,のアルキレン基、シクロアル
キレン基、または置換基を有していてもよいフェニレン
基、ナフチレン基であり、R3が14またはC5〜C4
のアルキル基、シクロアルキル基または置換基を有して
いてもよいフェニル基、ナフチル基であり、R4が01
〜C4のアルキル基、シクロアルキル基または置換基を
有していてもよいフェニル基、ナフチル基であり、R7
が水素原子である化合物である。
、本発明において特に好適に使用されるものは、R2、
R5がそれぞれCz−C,のアルキレン基、シクロアル
キレン基、または置換基を有していてもよいフェニレン
基、ナフチレン基であり、R3が14またはC5〜C4
のアルキル基、シクロアルキル基または置換基を有して
いてもよいフェニル基、ナフチル基であり、R4が01
〜C4のアルキル基、シクロアルキル基または置換基を
有していてもよいフェニル基、ナフチル基であり、R7
が水素原子である化合物である。
このような低分子化合物としては、例えばN(0−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(
p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N
−(0−メチルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N(m−メチルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N −(p−メチルアミノスルボニル
フェニル)メタクリルアミド、N−(0−エチルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エ
チルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N
−(p−エチルアミノスルボニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(o−nプロピルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(rn−n−プロピルアミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
nプロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N (o r−プロピルアミノスルボニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N −(mプロピルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−i
−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−nブチルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(m−n−ブチルアミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n−ブチル
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミF、N −
(o −i−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(m−i−ブチルアミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−i−ブチルアミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、pJ−(o
−sec−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N(m−sec−ブチルアミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−sec−ブチル
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(
o−t−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(m−t−ブチルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N(p−t−ブチルアミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−フェニ
ルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N
−(mフェニルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(p−フェニルアミノスルボニルフェニル
)メタクリルアミド、N−(o−(α−ナフチルアミノ
スルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N −(m
−(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタ
クリルアミド、N −(p(α−ナフチルアミノスルホ
ニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(o−(β−
ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミ
ド、N(m−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−(β−ナフチルアミ
ノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(1
−(3−アミノスルボニル)ナフチル)メタクリルアミ
ド、N−(1−(3−メチルアミノスルホニル)ナフチ
ル)メタクリルアミド、N−(1−(3−エチルアミノ
スルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(o〜
メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、
N−(m−メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(p−メチルスルホニルアミノフェニル
)メタクリルアミド、N−(o−エチルスルホニルアミ
ノフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エチルスル
ホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
エチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、
N −(。
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(
p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N
−(0−メチルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N(m−メチルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N −(p−メチルアミノスルボニル
フェニル)メタクリルアミド、N−(0−エチルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エ
チルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N
−(p−エチルアミノスルボニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(o−nプロピルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(rn−n−プロピルアミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
nプロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N (o r−プロピルアミノスルボニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N −(mプロピルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−i
−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−nブチルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(m−n−ブチルアミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n−ブチル
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミF、N −
(o −i−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(m−i−ブチルアミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−i−ブチルアミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、pJ−(o
−sec−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N(m−sec−ブチルアミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−sec−ブチル
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(
o−t−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(m−t−ブチルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N(p−t−ブチルアミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−フェニ
ルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N
−(mフェニルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(p−フェニルアミノスルボニルフェニル
)メタクリルアミド、N−(o−(α−ナフチルアミノ
スルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N −(m
−(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタ
クリルアミド、N −(p(α−ナフチルアミノスルホ
ニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(o−(β−
ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミ
ド、N(m−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−(β−ナフチルアミ
ノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(1
−(3−アミノスルボニル)ナフチル)メタクリルアミ
ド、N−(1−(3−メチルアミノスルホニル)ナフチ
ル)メタクリルアミド、N−(1−(3−エチルアミノ
スルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(o〜
メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、
N−(m−メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(p−メチルスルホニルアミノフェニル
)メタクリルアミド、N−(o−エチルスルホニルアミ
ノフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エチルスル
ホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
エチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、
N −(。
フェニルスルホニルアミンフェニル)メタクリルアミド
、N−(m−フェニルスルホニルアミンフェニル)メタ
クリルアミド、N −(p−フェニルスルホニルアミン
フェニル)メタクリルアミド、N−(o −(p−メチ
ルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルア
ミド、N −(m(p−メチルフェニルスルホニルアミ
ン)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(p−メ
チルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリル
アミド、N−(p−(α−ナフチルスルホニルアミノ)
フェニルメタクリルアミド、N −(p(β−ナフチル
スルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−
(2−メチルスルホニルアミンエチル)メタクリルアミ
ド、N−(2−エチルスルホニルアミノエチル)メタク
リルアミド、N−(2−フェニルスルホニルアミンエチ
ル)メタクリルアミド、N−(2−p−メチルフェニル
スルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N(2−
α−ナフチルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミ
ド、N−(2−β−ナフチルスルホニルアミノ)エチル
メタクリルアミド等のメタクリルアミド類、上記と同様
の置換基を有するアクリルアミド類、また0−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、0−メチルアミノスルボニルフェ
ニルメタクリレート、m−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p〜メチル7ミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、〇−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、m−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−エチルアミノスルボニルフェ
ニルメタクリレート、o−n−プロピルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−n−プロピルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、p−nプロピルアミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、o−i−プロピ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−1−
プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o
−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、p−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタク
リレート、m−1−ブチルアミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、p−1−ブチルアミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、171−3eCブチルアミノスルホ
ニルフエニルメタクリレート、p−3(IC−ブチルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−1−ブチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−t〜
ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、0−
フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m
−フェニルアミンスルホニルフェニルメタクリレート、
p−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−(α−ナフチルアミノスルホニルフェニル)メタ
クリレート、p−(α−ナフチルアミノスルボニルフェ
ニル)メタクリレート、m−(β−ナフチルアミノスル
ホニル)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチル
アミノスルホニル)フェニルメタクリレート、1−(3
アミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、■−(3
−メチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、
1−(3−エチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリ
レート、0−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、m−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、p−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、θ−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、m−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、p−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、0−フェニルスルホニルアミンフェニルメタク
リレート、m−フェニルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、p−フェニルスルホニルアミノフェニルメ
タクリレート、0(p−メチルフェニルスルボニルアミ
ノ)フェニルメタクリレート、m −(p−メチルフェ
ニルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、p(
p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニルメタク
リレート、p−<α−ナフチルスルホニルアミノ)フェ
ニルメタクリレート、I)−(βナフチルスルホニルア
ミノ)フェニルメタクリレート、2−メチルスルホニル
アミノエチルメタクリレート、2−エチルスルホニルア
ミノエチルメタクリレート、2−フェニルスルホニルア
ミノエチルメタクリレート、2−p−メチルフェニルス
ルホニルアミノエチルメタクリレート、2−α−ナフチ
ルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−β−ナ
フチルスルホニルアミノエチルメタクリレート等のメタ
クリル酸エステル類、上記と同様の置換基を有するアク
リル酸エステル類などが挙げられる。
、N−(m−フェニルスルホニルアミンフェニル)メタ
クリルアミド、N −(p−フェニルスルホニルアミン
フェニル)メタクリルアミド、N−(o −(p−メチ
ルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルア
ミド、N −(m(p−メチルフェニルスルホニルアミ
ン)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(p−メ
チルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリル
アミド、N−(p−(α−ナフチルスルホニルアミノ)
フェニルメタクリルアミド、N −(p(β−ナフチル
スルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−
(2−メチルスルホニルアミンエチル)メタクリルアミ
ド、N−(2−エチルスルホニルアミノエチル)メタク
リルアミド、N−(2−フェニルスルホニルアミンエチ
ル)メタクリルアミド、N−(2−p−メチルフェニル
スルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N(2−
α−ナフチルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミ
ド、N−(2−β−ナフチルスルホニルアミノ)エチル
メタクリルアミド等のメタクリルアミド類、上記と同様
の置換基を有するアクリルアミド類、また0−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、0−メチルアミノスルボニルフェ
ニルメタクリレート、m−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p〜メチル7ミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、〇−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、m−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−エチルアミノスルボニルフェ
ニルメタクリレート、o−n−プロピルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−n−プロピルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、p−nプロピルアミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、o−i−プロピ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−1−
プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o
−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、p−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタク
リレート、m−1−ブチルアミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、p−1−ブチルアミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、171−3eCブチルアミノスルホ
ニルフエニルメタクリレート、p−3(IC−ブチルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−1−ブチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−t〜
ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、0−
フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m
−フェニルアミンスルホニルフェニルメタクリレート、
p−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−(α−ナフチルアミノスルホニルフェニル)メタ
クリレート、p−(α−ナフチルアミノスルボニルフェ
ニル)メタクリレート、m−(β−ナフチルアミノスル
ホニル)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチル
アミノスルホニル)フェニルメタクリレート、1−(3
アミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、■−(3
−メチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、
1−(3−エチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリ
レート、0−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、m−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、p−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、θ−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、m−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、p−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、0−フェニルスルホニルアミンフェニルメタク
リレート、m−フェニルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、p−フェニルスルホニルアミノフェニルメ
タクリレート、0(p−メチルフェニルスルボニルアミ
ノ)フェニルメタクリレート、m −(p−メチルフェ
ニルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、p(
p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニルメタク
リレート、p−<α−ナフチルスルホニルアミノ)フェ
ニルメタクリレート、I)−(βナフチルスルホニルア
ミノ)フェニルメタクリレート、2−メチルスルホニル
アミノエチルメタクリレート、2−エチルスルホニルア
ミノエチルメタクリレート、2−フェニルスルホニルア
ミノエチルメタクリレート、2−p−メチルフェニルス
ルホニルアミノエチルメタクリレート、2−α−ナフチ
ルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−β−ナ
フチルスルホニルアミノエチルメタクリレート等のメタ
クリル酸エステル類、上記と同様の置換基を有するアク
リル酸エステル類などが挙げられる。
また、本発明において好適に使用される、スルホンアミ
ド基と重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物の別
の例としては、下記−数式(III)〜(V)で示され
る化合物が含まれる。
ド基と重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物の別
の例としては、下記−数式(III)〜(V)で示され
る化合物が含まれる。
B
(l■)
(V)
R11、RIG、R14はそれぞれ、水素原子、ハロゲ
ン原子またはメチル基を示し、好ましくは水素原子であ
る。
ン原子またはメチル基を示し、好ましくは水素原子であ
る。
R9は、置換されていてもよいC1〜COXのアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレ
ン基を示し、好ましくは、置換されていてもよいメチレ
ン基、フェニレン基、ナフチレン基を示す。
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレ
ン基を示し、好ましくは、置換されていてもよいメチレ
ン基、フェニレン基、ナフチレン基を示す。
R11、RI5はそれぞれ単結合または置換されていて
もよい01〜C1□のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基、アラルキレン基を示し、好ましくは
、単結合またはメチレン基である。
もよい01〜C1□のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基、アラルキレン基を示し、好ましくは
、単結合またはメチレン基である。
R1″、R+bはそれぞれ置換されていてもよいC2〜
C12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレ
ン基、アラルキレン基を示し、好ましくは、01〜C8
のアルキレン基または置換されていてもよいフェニレン
基、ナフチレン基を示す。
C12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレ
ン基、アラルキレン基を示し、好ましくは、01〜C8
のアルキレン基または置換されていてもよいフェニレン
基、ナフチレン基を示す。
R13は、水素原子、置換されていてもよいC〜C32
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基を示し、好ましくは水素原子またはCI−C6の
アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよい
フェニル基、ナフチル基を示す。
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基を示し、好ましくは水素原子またはCI−C6の
アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよい
フェニル基、ナフチル基を示す。
R1ffは置換されていてもよい01〜CI□のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を
示し、好ましくはC,−C,のアルキル基、シクロアル
キル基、置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基
を示す。またYl、Y2はII それぞれ単結合または一〇−を示す。
ル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を
示し、好ましくはC,−C,のアルキル基、シクロアル
キル基、置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基
を示す。またYl、Y2はII それぞれ単結合または一〇−を示す。
上記のような一般式(IIり〜(V)で示される化合物
の具体例としては、p−アミノスルホニルスチレン、p
−アミノスルホニル−α−メチルスチレン、p−アミノ
スルホニルフェニルアリルエーテル、p−(N−メチル
アミノスルホニル)フェニルアリルエーテル、メチルス
ルホニルアミノ酢酸ビニルエステル、フェニルスルホニ
ルアミン酢酸ビニルエステル、メチルスルホニルアミノ
酢酸アリルエステル、フェニルスルホニルアミノ酢酸ア
リルエステル、p−メチルスルホニルアミノフェニルア
リルエーテルなどがある。
の具体例としては、p−アミノスルホニルスチレン、p
−アミノスルホニル−α−メチルスチレン、p−アミノ
スルホニルフェニルアリルエーテル、p−(N−メチル
アミノスルホニル)フェニルアリルエーテル、メチルス
ルホニルアミノ酢酸ビニルエステル、フェニルスルホニ
ルアミン酢酸ビニルエステル、メチルスルホニルアミノ
酢酸アリルエステル、フェニルスルホニルアミノ酢酸ア
リルエステル、p−メチルスルホニルアミノフェニルア
リルエーテルなどがある。
本発明に好適に使用されるスルホンアシド基を有する高
分子化合物は上記の分子中にN上に少なくとも1つのI
■原子が結合したスルホンアミド基と重合可能な不飽和
結合を有する低分子化合物の単独重合体または二種以上
の共重合体であってもよいが、好ましくは1つ以上の重
合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホンアミド基を
含まない化合物の一種以上との共重合体である。
分子化合物は上記の分子中にN上に少なくとも1つのI
■原子が結合したスルホンアミド基と重合可能な不飽和
結合を有する低分子化合物の単独重合体または二種以上
の共重合体であってもよいが、好ましくは1つ以上の重
合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホンアミド基を
含まない化合物の一種以上との共重合体である。
このような重合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホ
ンアミド基を含まない化合物としては、例えばアクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類
、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類
、スチレン類、クロトン類エステル類などから選ばれる
重合性不飽和結合を有する化合物である。具体的には、
例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル(該アル
キル基の炭素原子数は1−10のものが好ましい)アク
リレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸t−オクチル、クロルエチルアクリレー
ト、2゜2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート
、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモ
ノアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘンシルア
クリレート、メトキシヘンシルアクリレート、フルフリ
ル了ノリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート
、など)、アリールアクリレ−1・ (例えばフェニル
アクリレートなど):メタクリル酸エステル類、例えば
、アルキル(該アルキル基の炭素原子数は1〜10のも
のが好ましい)メタクリレート(例えばメチルメタクリ
レート、エチルメククリレート、プロビルメククリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、ヘキシルメタクリレート、シクロへキシルメタクリ
レート、ヘキシルメタクリレート、クロルベンジルメタ
クリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタク
リレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリ
レート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グ
リシジルメククリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど)、アリー
ルメタクリレート(例えば、フェニルメタクリレート、
クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど
);アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、Nアル
キルアクリルアミド 炭素原子数1−10のもの、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘプチル基、
オクチル基、シクロへキシル基、ベンジル基、ヒドロキ
シエチル基、ヘンシル基などがある。)、N−7リール
アクリルアミド(該アリール基としては、例えばフェニ
ル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒド
ロキシフェニル基などがある.)、N,N−ジアルキル
アクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1
〜lOのもの、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、
イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基な
どがある。)、N,N−アリールアクリルアミド(該ア
リール基としては、例えばフェニル基などがある。)、
N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロ
キシエチルN−メチルアクリルアミド、N−2−アセト
アミドエチル−N−アセチルアクリルアミドなど:メタ
クリルアミド類、例えばメタクリルアミド、Nアセチル
アクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1
〜10のもの、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル
基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロへ
キシル基などがある.)、N−アリールメタクリルアミ
ドール基としては、フェニル基などがある。)、N。
ンアミド基を含まない化合物としては、例えばアクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類
、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類
、スチレン類、クロトン類エステル類などから選ばれる
重合性不飽和結合を有する化合物である。具体的には、
例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル(該アル
キル基の炭素原子数は1−10のものが好ましい)アク
リレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸t−オクチル、クロルエチルアクリレー
ト、2゜2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート
、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモ
ノアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘンシルア
クリレート、メトキシヘンシルアクリレート、フルフリ
ル了ノリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート
、など)、アリールアクリレ−1・ (例えばフェニル
アクリレートなど):メタクリル酸エステル類、例えば
、アルキル(該アルキル基の炭素原子数は1〜10のも
のが好ましい)メタクリレート(例えばメチルメタクリ
レート、エチルメククリレート、プロビルメククリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、ヘキシルメタクリレート、シクロへキシルメタクリ
レート、ヘキシルメタクリレート、クロルベンジルメタ
クリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタク
リレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリ
レート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グ
リシジルメククリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど)、アリー
ルメタクリレート(例えば、フェニルメタクリレート、
クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど
);アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、Nアル
キルアクリルアミド 炭素原子数1−10のもの、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘプチル基、
オクチル基、シクロへキシル基、ベンジル基、ヒドロキ
シエチル基、ヘンシル基などがある。)、N−7リール
アクリルアミド(該アリール基としては、例えばフェニ
ル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒド
ロキシフェニル基などがある.)、N,N−ジアルキル
アクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1
〜lOのもの、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、
イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基な
どがある。)、N,N−アリールアクリルアミド(該ア
リール基としては、例えばフェニル基などがある。)、
N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロ
キシエチルN−メチルアクリルアミド、N−2−アセト
アミドエチル−N−アセチルアクリルアミドなど:メタ
クリルアミド類、例えばメタクリルアミド、Nアセチル
アクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1
〜10のもの、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル
基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロへ
キシル基などがある.)、N−アリールメタクリルアミ
ドール基としては、フェニル基などがある。)、N。
N−ジアルキルメタクリルアミド(該アルキル基として
は、エチル基、プロピル基、ブチル基などがある,)、
N,N−ジアリールメタクリルアミド(=亥了りール基
としては、フェニル基などがある。)、N−ヒドロキシ
エチル−N−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N
−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニ
ルメタクリルアミドなど:アリル化合物、例えばアリル
エステル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カ
プリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリ
ル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸
アリル、乳剤アリルなど)、アリルオキシエタノールな
ど:ビニルエーテル類、例えばアルキルビニルエーテル
(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエー
テル、デシルビニルエーテル、エチルヘギシルビニルエ
ーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチ
ルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、l−
メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2
−エチルブチルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチル
アミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビ
ニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベ
ンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニル
エーテルなど)、ビニルアリールエーテル(例えばビニ
ルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルク
ロルフェニルエーテル、ビニル−2.4ジクロルフエニ
ルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラ
ニルエーテルなど):ビニルエステルff、例えばビニ
ルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチ
ルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレ
ート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、
ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート
、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテー
ト、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニ
ル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロへキシルカ
ルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、
クロル安息香61ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル
、ナフトエ酸ビニルなど:スチレン類、例えばスチレン
、アルキルスチレン(例えばメチルスチレン、ジエチル
スチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン
、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシル
スチレン、ヘンシルスチレン、クロルメチルスチレン、
トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン
、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレ
ン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲンスチ
レン(例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリ
クロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンククロル
スチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨード
スチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、
2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フ
ルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど):クロ
トン酸エステル類、例えば、クロトン酸アルキル(例え
ばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリン
モノクロトネートなど) :イタコン酸ジアルキル類(
例えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタ
コン酸ジエチルなど):マレイン酸あるいはフマール酸
のジアルキル類(例えばジメチルマレレート、ジブチル
フマレートなど)ニアクロニトリル、メタクリロニトリ
ル等がある。
は、エチル基、プロピル基、ブチル基などがある,)、
N,N−ジアリールメタクリルアミド(=亥了りール基
としては、フェニル基などがある。)、N−ヒドロキシ
エチル−N−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N
−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニ
ルメタクリルアミドなど:アリル化合物、例えばアリル
エステル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カ
プリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリ
ル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸
アリル、乳剤アリルなど)、アリルオキシエタノールな
ど:ビニルエーテル類、例えばアルキルビニルエーテル
(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエー
テル、デシルビニルエーテル、エチルヘギシルビニルエ
ーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチ
ルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、l−
メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2
−エチルブチルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチル
アミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビ
ニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベ
ンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニル
エーテルなど)、ビニルアリールエーテル(例えばビニ
ルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルク
ロルフェニルエーテル、ビニル−2.4ジクロルフエニ
ルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラ
ニルエーテルなど):ビニルエステルff、例えばビニ
ルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチ
ルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレ
ート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、
ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート
、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテー
ト、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニ
ル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロへキシルカ
ルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、
クロル安息香61ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル
、ナフトエ酸ビニルなど:スチレン類、例えばスチレン
、アルキルスチレン(例えばメチルスチレン、ジエチル
スチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン
、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシル
スチレン、ヘンシルスチレン、クロルメチルスチレン、
トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン
、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレ
ン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲンスチ
レン(例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリ
クロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンククロル
スチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨード
スチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、
2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フ
ルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど):クロ
トン酸エステル類、例えば、クロトン酸アルキル(例え
ばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリン
モノクロトネートなど) :イタコン酸ジアルキル類(
例えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタ
コン酸ジエチルなど):マレイン酸あるいはフマール酸
のジアルキル類(例えばジメチルマレレート、ジブチル
フマレートなど)ニアクロニトリル、メタクリロニトリ
ル等がある。
これらの重合性不飽和結合を有する化合物のうち、好適
に使用されるのはメタクリル酸エステル類、アクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、アクリルアミド類、
アクリロトリル、メククリロニトリル、メタクリル酸、
アクリル酸である。
に使用されるのはメタクリル酸エステル類、アクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、アクリルアミド類、
アクリロトリル、メククリロニトリル、メタクリル酸、
アクリル酸である。
これらの重合性不飽和結合を有する化合物の1種以上と
、スルホンアミド基を含有し、かつ重合性不飽和結合を
有する化合物の1種以上の共重体は、ブロック体、ラン
ダム体、グラフト体等いずれも用いる事ができる。
、スルホンアミド基を含有し、かつ重合性不飽和結合を
有する化合物の1種以上の共重体は、ブロック体、ラン
ダム体、グラフト体等いずれも用いる事ができる。
これらの共重合体中で、スルホンアミド基を含有する構
成単位は、共重合体を構成するすべての構成単位に対し
て5モル%以上含有する事が好ましく、10〜90モル
%含有する事がさらに好ましい。
成単位は、共重合体を構成するすべての構成単位に対し
て5モル%以上含有する事が好ましく、10〜90モル
%含有する事がさらに好ましい。
このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチ
ルアセテート、1−メトキシ−2−プロパツール、l−
メトキシ2−プロピルアセテート、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチルなどが挙げられる。
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチ
ルアセテート、1−メトキシ−2−プロパツール、l−
メトキシ2−プロピルアセテート、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチルなどが挙げられる。
これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合して用いられ
る。
る。
また本発明に好適に使用されるスルホンアミド基を有し
、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は
、上記の共重合体の他にポリウレタン樹脂がある。
、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は
、上記の共重合体の他にポリウレタン樹脂がある。
本発明に好適に使用されるポリウレタン樹脂は、好まし
くはジイソシアナート化合物と、N上に少なくとも1つ
の■1原子が結合したスルホンアミド基を含有するジオ
ール化合物の反応生成物を基本骨格とするポリウレタン
樹脂である。
くはジイソシアナート化合物と、N上に少なくとも1つ
の■1原子が結合したスルホンアミド基を含有するジオ
ール化合物の反応生成物を基本骨格とするポリウレタン
樹脂である。
本発明で好適に使用されるジイソシアナート化合物とし
て具体的には以下に示すものが含まれる。
て具体的には以下に示すものが含まれる。
即ち、2.4−トリレンジイソシアナート、2゜4−ト
リレンジイソシアナートの二量体、2.6トリレンジイ
ソシアナート、p−キシリレンジイソシアナート、m−
キシリレンジイソシアナート、4.4’−ジフェニルメ
タンジイソシアナート、1.5−ナフチレンジイソシア
ナート、3゜3′−ジメチルビフェニル−4,4′−ジ
イソシアナート等の如き芳香族ジイソシアナート化合物
;ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアナート、リジンジイソシアナート、
ダイマー酸ジイソシアナート等の如き脂肪族ジイソシア
ナート化合物;イソホロンジイソシアナート、4.4′
−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアナート)、メ
チルシクロヘキサン−2,4(又は2.6)ジイソシア
ナート、1.3−(イソシアナートメチル)シクロヘキ
サン等の如き脂環族ジイソシアナート化合物:l。
リレンジイソシアナートの二量体、2.6トリレンジイ
ソシアナート、p−キシリレンジイソシアナート、m−
キシリレンジイソシアナート、4.4’−ジフェニルメ
タンジイソシアナート、1.5−ナフチレンジイソシア
ナート、3゜3′−ジメチルビフェニル−4,4′−ジ
イソシアナート等の如き芳香族ジイソシアナート化合物
;ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアナート、リジンジイソシアナート、
ダイマー酸ジイソシアナート等の如き脂肪族ジイソシア
ナート化合物;イソホロンジイソシアナート、4.4′
−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアナート)、メ
チルシクロヘキサン−2,4(又は2.6)ジイソシア
ナート、1.3−(イソシアナートメチル)シクロヘキ
サン等の如き脂環族ジイソシアナート化合物:l。
3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアナ
ート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアナ
ートとの反応物であるジイソシアナート化合物等が挙げ
られる。
ート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアナ
ートとの反応物であるジイソシアナート化合物等が挙げ
られる。
また、N上に少なくとも1つのH原子が結合したスルボ
ンアミド基を含有するジオール化合物としては、具体的
には以下に示すものが含まれる。
ンアミド基を含有するジオール化合物としては、具体的
には以下に示すものが含まれる。
即ち、p−(1,1−ジヒドロキシメチルエチルアミノ
)ベンゼンスルホンアミド、p−(1゜l−ジヒドロキ
シメチルエチルカルボニルアミノ)ヘンゼンスルホンア
ミドのN−エチル体、N(m−メチルスルホニルアミノ
フェニル)−2゜2−ジヒドロキシメチルプロパンアミ
ド、N(p−メチルスルホニルアミノフェニル)−2゜
2−ジヒドロキシメチルプロパンアミド、N−(m−エ
チルスルホニルアミノフェニル)−2゜2−ジヒドロキ
シメチルプロパンアミド、N(p−エチルスルホニルア
ミノフェニル)−22−ジヒドロキシメチルプロパンア
ミド、N(2,2−(ジヒドロキシエチルアミノカルボ
ニル)エチル)メタンスルホンアミド、N−(2゜2−
(ジヒドロキシエチルアミノカルボニル)エチルベンゼ
ンスルホンアミド、N−(2,2(ジヒドロキジエチル
アミノカルボニル)エチルp−トルエンスルホンアミド
、等が挙げられる。
)ベンゼンスルホンアミド、p−(1゜l−ジヒドロキ
シメチルエチルカルボニルアミノ)ヘンゼンスルホンア
ミドのN−エチル体、N(m−メチルスルホニルアミノ
フェニル)−2゜2−ジヒドロキシメチルプロパンアミ
ド、N(p−メチルスルホニルアミノフェニル)−2゜
2−ジヒドロキシメチルプロパンアミド、N−(m−エ
チルスルホニルアミノフェニル)−2゜2−ジヒドロキ
シメチルプロパンアミド、N(p−エチルスルホニルア
ミノフェニル)−22−ジヒドロキシメチルプロパンア
ミド、N(2,2−(ジヒドロキシエチルアミノカルボ
ニル)エチル)メタンスルホンアミド、N−(2゜2−
(ジヒドロキシエチルアミノカルボニル)エチルベンゼ
ンスルホンアミド、N−(2,2(ジヒドロキジエチル
アミノカルボニル)エチルp−トルエンスルホンアミド
、等が挙げられる。
これらのスルホンアミド基を含有するジオール化合物は
、単独または2種以上組み合わせて使用する事ができる
。
、単独または2種以上組み合わせて使用する事ができる
。
また更に、スルホンアミド基を有せず、イソシアナート
と反応しない他の置換基を有していてもよいジオール化
合物を併用することもできる。
と反応しない他の置換基を有していてもよいジオール化
合物を併用することもできる。
このようなジオール化合物としては、具体的には以下に
示すものが含まれる。
示すものが含まれる。
即ち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、1.3−ブチレングリコール、1.
6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール
、22.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオール、
1、 4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサ
ン、シクロヘキサンジメタツール、トリシクロデカンジ
メタツール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノー
ルF1ビスフエノールへのエチレンオキサイド付加体、
ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビス
フェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノ
ールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノ
ールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノー
ルAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒ
ドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、
ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−2,4−トリレンジカルバメート、2.4−ト
リレン−ビス(2ヒドロキシエチルカルバミド)、ビス
(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメ
ート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート、
3.5−ジヒドロキシ安息香酸、2.2−ビス(ヒドロ
キンメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロ
キシエチル)プロピオン酸、22−ビス(3−ヒドロキ
シプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)
酢酸、ビス(4ヒドロキシフエニル)酢酸、4.4−ビ
ス(4ヒドロキシフエニル)ペンタン酸、酒石酸等が挙
げられる。
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、1.3−ブチレングリコール、1.
6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール
、22.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオール、
1、 4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサ
ン、シクロヘキサンジメタツール、トリシクロデカンジ
メタツール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノー
ルF1ビスフエノールへのエチレンオキサイド付加体、
ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビス
フェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノ
ールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノ
ールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノー
ルAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒ
ドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、
ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−2,4−トリレンジカルバメート、2.4−ト
リレン−ビス(2ヒドロキシエチルカルバミド)、ビス
(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメ
ート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート、
3.5−ジヒドロキシ安息香酸、2.2−ビス(ヒドロ
キンメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロ
キシエチル)プロピオン酸、22−ビス(3−ヒドロキ
シプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)
酢酸、ビス(4ヒドロキシフエニル)酢酸、4.4−ビ
ス(4ヒドロキシフエニル)ペンタン酸、酒石酸等が挙
げられる。
本発明のポリウレタン樹脂は上記ジイソシアナート化合
物およびジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞ
れの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱す
ることにより合成される。
物およびジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞ
れの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱す
ることにより合成される。
使用するジイソシアナートおよびジオール化合物のモル
比は好ましくは0.8:1−1.2:1であり、ポリマ
ー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール
類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソ
シアナート基が残存しない形で合成される。
比は好ましくは0.8:1−1.2:1であり、ポリマ
ー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール
類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソ
シアナート基が残存しない形で合成される。
本発明の高分子化合物の分子量は、好ましくは重量平均
で2,000以上であり、数平均で1゜000以上であ
る。更に好ましくは重量平均で5000〜30万の範囲
であり、数平均で2,000〜25万の範囲である。ま
た多分散度(重量平均分子壇/数平均分子量)は1以上
が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である
。
で2,000以上であり、数平均で1゜000以上であ
る。更に好ましくは重量平均で5000〜30万の範囲
であり、数平均で2,000〜25万の範囲である。ま
た多分散度(重量平均分子壇/数平均分子量)は1以上
が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である
。
また、本発明の高分子化合物中には、未反応の単量体を
含んでいてもよい、この場合、単量体の高分子化合物中
に占める割合は15重量%以下が望ましい。
含んでいてもよい、この場合、単量体の高分子化合物中
に占める割合は15重量%以下が望ましい。
本発明の高分子化合物は単独で用いても混合して用いて
もよい。感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化
合物の含有量は約5〜95%であり、好ましくは約10
〜85%である。
もよい。感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化
合物の含有量は約5〜95%であり、好ましくは約10
〜85%である。
一方、本発明に使用されるポジ型に作用する感光性化合
物としては、具体的には0−ナフトキノンジアジド化合
物がある。
物としては、具体的には0−ナフトキノンジアジド化合
物がある。
本発明に使用されるO−ナフトキノンジアジド化合物と
しては、特公昭41−28403号公報に記載されてい
る1、2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドと
ピロガロール−アセトン樹脂とのエステルであるものが
好ましい。その他の好適なオルトキノンジアジド化合物
としては、米国特許第3,046.120号および同第
3. 188.210号明細書中に記載されている1、
2=ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとフ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
しては、特公昭41−28403号公報に記載されてい
る1、2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドと
ピロガロール−アセトン樹脂とのエステルであるものが
好ましい。その他の好適なオルトキノンジアジド化合物
としては、米国特許第3,046.120号および同第
3. 188.210号明細書中に記載されている1、
2=ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとフ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
その他の有用な0−ナフトキノンジアジド化合物として
は、数多くの特許に報告され、知られている。たとえば
、特開昭47−5303号、間開48−63802号、
開開48−63803号、間開48−96575号、同
昭49−38701号、開閉48−13354号、特公
昭3718015号、開閉41−11222号、開閉4
5−9610号、同昭49−17481号公報、米国特
許第2,797,213号、同第3.454.400号
、同第3.544.323号、同第3.573.917
号、同第3,674.495号、同第3.785.82
5号、英国特許第1゜227.602号、同第1.25
1.345号、同第1,267.005号、同第1.
329. 888号、同第1.330,932号、ドイ
ツ特許第854,890号などの各明細書中に記載され
ているものをあげることができる。
は、数多くの特許に報告され、知られている。たとえば
、特開昭47−5303号、間開48−63802号、
開開48−63803号、間開48−96575号、同
昭49−38701号、開閉48−13354号、特公
昭3718015号、開閉41−11222号、開閉4
5−9610号、同昭49−17481号公報、米国特
許第2,797,213号、同第3.454.400号
、同第3.544.323号、同第3.573.917
号、同第3,674.495号、同第3.785.82
5号、英国特許第1゜227.602号、同第1.25
1.345号、同第1,267.005号、同第1.
329. 888号、同第1.330,932号、ドイ
ツ特許第854,890号などの各明細書中に記載され
ているものをあげることができる。
本発明において特に好ましい0−ナフトキノンジアジド
化合物は、分子11.000以下のポリヒドロキシ化合
物と1.2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドと
の反応により得られる化合物である。このような化合物
の具体例は、特開昭51−139402号、同58−1
50948号、同58−203434号、同59−16
5053号、同60−121445号、同60−134
235号、同60−163043号、同61−1187
44号、同62−10645号、同62−10646号
、同(i2−153950号、同62178562号、
特願昭62−233292号、米国特許第3.102.
809号、同第3,126.281号、同第3,130
,047号、同第3.148.983号、同第3.18
4,310号、同第3,188.210号、同第4,6
39゜406号などの各公報または明細書に記載されて
いるものを挙げることができる。
化合物は、分子11.000以下のポリヒドロキシ化合
物と1.2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドと
の反応により得られる化合物である。このような化合物
の具体例は、特開昭51−139402号、同58−1
50948号、同58−203434号、同59−16
5053号、同60−121445号、同60−134
235号、同60−163043号、同61−1187
44号、同62−10645号、同62−10646号
、同(i2−153950号、同62178562号、
特願昭62−233292号、米国特許第3.102.
809号、同第3,126.281号、同第3,130
,047号、同第3.148.983号、同第3.18
4,310号、同第3,188.210号、同第4,6
39゜406号などの各公報または明細書に記載されて
いるものを挙げることができる。
これらのO−ナフトキノンジアジド化合物を合成する際
は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル基に対して1
.2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドを0,2
〜1.2当量反応させる事が好ましく、さらに0.3〜
1.O当量反応させる事が好ましい。
は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル基に対して1
.2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドを0,2
〜1.2当量反応させる事が好ましく、さらに0.3〜
1.O当量反応させる事が好ましい。
また得られる0−ナフトキノンジアジド化合物は、1.
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及
び導入量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキ
シル基がすべてl、2−ジアゾナフトキノンスルホン酸
エステルで転換された化合物がこの混合物中に占める割
合(エステル化率)は5モル%以上である事が好ましく
、さらに好ましくは20〜99モル%である。
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及
び導入量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキ
シル基がすべてl、2−ジアゾナフトキノンスルホン酸
エステルで転換された化合物がこの混合物中に占める割
合(エステル化率)は5モル%以上である事が好ましく
、さらに好ましくは20〜99モル%である。
またO−ナフトキノンジアジド化合物を用いずにポジ型
に作用する感光性化合物として、例えば特公昭56−2
696号の明細書に記載されているオルトニトロカルビ
ノールエステル基を有するポリマー化合物も本発明に使
用することができる。
に作用する感光性化合物として、例えば特公昭56−2
696号の明細書に記載されているオルトニトロカルビ
ノールエステル基を有するポリマー化合物も本発明に使
用することができる。
更に光分野により酸を発生する化合物と、酸により解離
するーC−0−C基又は−C−0−3i基を有する化合
物との組合せ系も本発明に使用することができる。
するーC−0−C基又は−C−0−3i基を有する化合
物との組合せ系も本発明に使用することができる。
例えば光分解により酸を発生する化合物とアセタール又
は○、N−アセタール化合物との組合せ(特開昭48−
89003号)、オルトエステル又はアミドアセクール
化合物との組合せく特開昭51−120714号)、主
鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーとの組
合せ(特開昭53−133429号)、エノールエーテ
ル化合物との組合せ(特開昭55−12995号)、N
アシルイミノ炭素化合物との組合せ(特開昭55−12
6236号)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマ
ーとの組合せ(特開昭56−17345号)、シリルエ
ステル化合物との組合せ(特開昭60−10247号)
及びシリルエーテル化合物との組合せ(特開昭60−3
7549号、特開昭60−121446号)などが挙げ
られる。
は○、N−アセタール化合物との組合せ(特開昭48−
89003号)、オルトエステル又はアミドアセクール
化合物との組合せく特開昭51−120714号)、主
鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーとの組
合せ(特開昭53−133429号)、エノールエーテ
ル化合物との組合せ(特開昭55−12995号)、N
アシルイミノ炭素化合物との組合せ(特開昭55−12
6236号)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマ
ーとの組合せ(特開昭56−17345号)、シリルエ
ステル化合物との組合せ(特開昭60−10247号)
及びシリルエーテル化合物との組合せ(特開昭60−3
7549号、特開昭60−121446号)などが挙げ
られる。
本発明の感光性組成物中に占めるこれらのポジ型に作用
する感光性化合物(上記のような組合せを含む)の量は
10〜50重量%で、より好ましくは15〜40重量%
である。
する感光性化合物(上記のような組合せを含む)の量は
10〜50重量%で、より好ましくは15〜40重量%
である。
本発明の組成物中には、前記スルホンアミド基を有する
高分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒド樹脂、
m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p −/) レ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m/p−混合クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m
−1p−l又はm/p ?n合のいずれでもよい)混合
ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロキシ
スチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン等、公知
のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させることがで
きる。これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平
均分子量が500〜20.000で数平均分子量が20
0〜60,000のものが好ましい。
高分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒド樹脂、
m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p −/) レ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m/p−混合クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m
−1p−l又はm/p ?n合のいずれでもよい)混合
ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロキシ
スチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン等、公知
のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させることがで
きる。これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平
均分子量が500〜20.000で数平均分子量が20
0〜60,000のものが好ましい。
かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の70
重量%以下の添加量で用いられる。
重量%以下の添加量で用いられる。
更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載さ
れているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のよ
うな、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有する
フェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用するこ
とは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。
れているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のよ
うな、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有する
フェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用するこ
とは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。
本発明の組成物中には、感度を高めるために環状酸無水
物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着
色剤として染料やその他のフィシなどを加えることがで
きる。環状酸無水物としては米国特許第4.115.1
28号明細書に記載されているように無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3゜6−ニンドオキシーΔ4−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無
水物を全組成物中の1から15重量%含有させることに
よって感度を最大3倍程度に高めることができる。露光
後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光によ
って酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表としてあげることができる。具体的に
は特開昭50−36209号公報、特開昭53−812
8号公報に記載されているO−ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せ
や特開昭53−36223号、同54−74728号、
同60−3626号、同61−143748号、同61
−151644号、同61−58440号公報に記載さ
れているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組
合せをあげることができる0画像の着色剤として前記の
塩形成性有機染料以外に他の染料も用いることができる
。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染
料および塩基染料をあげることができる。具体的には、
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBO8、オイルブルー#603、オイルブラックBY
1オイルブラックBS1オイルブラックT−505(以
上、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピュ
アブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)
、メチルバイオレット(C142535)、ローダミ
ンl3(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI 52015)
などをあげることができる。また、特開昭62−293
247号公報に記載されている染料は特に好ましい。
物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着
色剤として染料やその他のフィシなどを加えることがで
きる。環状酸無水物としては米国特許第4.115.1
28号明細書に記載されているように無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3゜6−ニンドオキシーΔ4−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無
水物を全組成物中の1から15重量%含有させることに
よって感度を最大3倍程度に高めることができる。露光
後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光によ
って酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表としてあげることができる。具体的に
は特開昭50−36209号公報、特開昭53−812
8号公報に記載されているO−ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せ
や特開昭53−36223号、同54−74728号、
同60−3626号、同61−143748号、同61
−151644号、同61−58440号公報に記載さ
れているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組
合せをあげることができる0画像の着色剤として前記の
塩形成性有機染料以外に他の染料も用いることができる
。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染
料および塩基染料をあげることができる。具体的には、
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBO8、オイルブルー#603、オイルブラックBY
1オイルブラックBS1オイルブラックT−505(以
上、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピュ
アブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)
、メチルバイオレット(C142535)、ローダミ
ンl3(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI 52015)
などをあげることができる。また、特開昭62−293
247号公報に記載されている染料は特に好ましい。
本発明の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエ
チルアセテート、l−メトキシ−2−プロパツール、l
−メトキシ−2−プロピルアセテート、トルエン、酢酸
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、水
、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアル
コール、アセトン、ジアセトンアルコール、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテルなどがあり、これらの溶媒を単独あ
るいは混合して使用する。そして、上記成分中の濃度(
固形分)は、2〜50重量%である。また、塗布量は用
途により異なるが、例えば感光性平版印刷版についてい
えば一般的に固形分として0.5〜3゜0g/rdが好
ましい。塗布量が薄くなるにつれ感光性は大になるが、
感光膜の物性は低下する。
て支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエ
チルアセテート、l−メトキシ−2−プロパツール、l
−メトキシ−2−プロピルアセテート、トルエン、酢酸
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、水
、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアル
コール、アセトン、ジアセトンアルコール、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテルなどがあり、これらの溶媒を単独あ
るいは混合して使用する。そして、上記成分中の濃度(
固形分)は、2〜50重量%である。また、塗布量は用
途により異なるが、例えば感光性平版印刷版についてい
えば一般的に固形分として0.5〜3゜0g/rdが好
ましい。塗布量が薄くなるにつれ感光性は大になるが、
感光膜の物性は低下する。
本発明の組成物中には、塗布性を良化するための界面活
性剤、例えば特開昭170950号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
性剤、例えば特開昭170950号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、全域光性組成物の0.01−1重量
%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。
%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。
本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、アルミニウム板が好ましい。
合、その支持体としては、アルミニウム板が好ましい。
アルミニウム板には純アルミニウム及びアルミニウム合
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属
とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は
、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得る
程度の量の不純物をも含むものである。
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属
とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は
、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得る
程度の量の不純物をも含むものである。
アルミニウム板は、必要に応じて表面処理される0例え
ば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリ
ウム、燐酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽極酸化
処理などの表面処理がなされていることが好ましい。ま
た、米国特許第2714.066号明細書に記載されて
いるように、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に
浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第3,181゜
461号明細書に記載されているようにアルミニウム板
を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶
液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記陽極酸
化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無
機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸または
これらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を
組み合わせた電界液中でアルミニウム板を陽極として電
流を流すことにより実施される。
ば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリ
ウム、燐酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽極酸化
処理などの表面処理がなされていることが好ましい。ま
た、米国特許第2714.066号明細書に記載されて
いるように、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に
浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第3,181゜
461号明細書に記載されているようにアルミニウム板
を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶
液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記陽極酸
化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無
機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸または
これらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を
組み合わせた電界液中でアルミニウム板を陽極として電
流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3.658,662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
れているようなシリケート電着も有効である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為
に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物と
の有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させ
る為に施されるものである。
に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物と
の有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させ
る為に施されるものである。
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じ
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
、前者のためには、トリクレン等の)8剤、界面活性剤
等が用いられている。
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
、前者のためには、トリクレン等の)8剤、界面活性剤
等が用いられている。
又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行われて
いる。
のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行われて
いる。
砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学
的な方法のいずれの方法も有効である。
的な方法のいずれの方法も有効である。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、
軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシ
で擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法とし
ては、特開昭54−31187号公報に記載されている
ような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸ま
たはこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解す
る方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特
開昭55−137993号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい
。
軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシ
で擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法とし
ては、特開昭54−31187号公報に記載されている
ような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸ま
たはこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解す
る方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特
開昭55−137993号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい
。
上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表
面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μとなる
ような範囲で施されることが好ましい。
面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μとなる
ような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム(反は必要
に応して水洗および化学的にエツチングされる。
に応して水洗および化学的にエツチングされる。
エツチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エツチン
グされた表面に、エツチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化すトリウム、水酸化カリウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸二すトリウム、リン酸三カリウム
、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過硫酸
、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよ
りイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバル
ト、ニッケル、銅等の塩はエツチング表面に不必要な被
膜を形成するから好ましくない。
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エツチン
グされた表面に、エツチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化すトリウム、水酸化カリウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸二すトリウム、リン酸三カリウム
、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過硫酸
、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよ
りイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバル
ト、ニッケル、銅等の塩はエツチング表面に不必要な被
膜を形成するから好ましくない。
これ等のエツチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3グラムから40グラム/dにな
る様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあ
るいは下回るものであっても差支えない。
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3グラムから40グラム/dにな
る様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあ
るいは下回るものであっても差支えない。
エツチングは上記エツチング液にアルミニウム板を浸漬
したり、該アルミニウム板にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング量が0.5〜Log/m
の範囲となるように処理されることが好ましい。
したり、該アルミニウム板にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング量が0.5〜Log/m
の範囲となるように処理されることが好ましい。
上記エツチング剤としては、そのエツチング速度が早い
という特長から塩基の水溶液を使用することが好ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、りん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふつ化水素酸等
が用いられる。
という特長から塩基の水溶液を使用することが好ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、りん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふつ化水素酸等
が用いられる。
エツチング処理されたアルミニウム板は、必要により水
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スルフアミン酸、
ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組
み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流ま
たは交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽
極酸化処理を形成させることができる。
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スルフアミン酸、
ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組
み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流ま
たは交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽
極酸化処理を形成させることができる。
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概には決定され得ないが一般的には電解液
の濃度が1〜80重里%、ン夜温5〜70゛C1電流密
度0.5〜60アンペア/ d tri、電圧l〜10
0v、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。
化するので一概には決定され得ないが一般的には電解液
の濃度が1〜80重里%、ン夜温5〜70゛C1電流密
度0.5〜60アンペア/ d tri、電圧l〜10
0v、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。
これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1.
412.768号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法、米国特許第4.211.6
19号明細書に記載されているような低濃度の硫酸中で
陽極酸化する方法および米国特許第3.511.661
号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極酸化
する方法が好ましい。
412.768号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法、米国特許第4.211.6
19号明細書に記載されているような低濃度の硫酸中で
陽極酸化する方法および米国特許第3.511.661
号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極酸化
する方法が好ましい。
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2゜714.066号及
び同第3,181.461号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液ま
たは特公昭36−22063号公報に開示されている弗
化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第4,153
.461号明細書に開示されているようなポリビニルス
ルホン酸で処理する方法がある。
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2゜714.066号及
び同第3,181.461号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液ま
たは特公昭36−22063号公報に開示されている弗
化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第4,153
.461号明細書に開示されているようなポリビニルス
ルホン酸で処理する方法がある。
また、上述のように粗面化され、陽極酸化され、更に必
要に応して親水化処理されたアルミニウム板上には水溶
性化合物からなる下塗層を設けることができる。このよ
うな水溶性化合物の例としては特公昭57−16349
号公報に開示されている。水溶性金属塩と親水性セルロ
ースの組合せ(例えば、塩化亜鉛とカルボキシメチルセ
ルロース、塩化マグネシウムとヒドロキシエチルセルロ
ースなど)、米国特許3,511.(i61号明細書に
開示されているポリアクリルアミド、特公昭46−35
685号公報に開示されているポリビニルホスホン酸、
特開昭60−149491号公報に開示されているアミ
ノ酸およびその塩類(Na塩、K塩等のアルカリ金属塩
、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、りん酸塩
等)、特開昭60−232998号公報に開示されてい
る水酸基を有するアミン類およびその塩類(塩酸塩、蓚
酸塩、りん酸塩等)が挙げられ、中でもアミノ酸および
その塩、水酸基をもつアミンおよびその塩は特に好まし
い。このような水溶性化合物の下塗り層は固型分で1■
/nl〜8(lyr/rrrの範囲で設けるのが好まし
い。
要に応して親水化処理されたアルミニウム板上には水溶
性化合物からなる下塗層を設けることができる。このよ
うな水溶性化合物の例としては特公昭57−16349
号公報に開示されている。水溶性金属塩と親水性セルロ
ースの組合せ(例えば、塩化亜鉛とカルボキシメチルセ
ルロース、塩化マグネシウムとヒドロキシエチルセルロ
ースなど)、米国特許3,511.(i61号明細書に
開示されているポリアクリルアミド、特公昭46−35
685号公報に開示されているポリビニルホスホン酸、
特開昭60−149491号公報に開示されているアミ
ノ酸およびその塩類(Na塩、K塩等のアルカリ金属塩
、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、りん酸塩
等)、特開昭60−232998号公報に開示されてい
る水酸基を有するアミン類およびその塩類(塩酸塩、蓚
酸塩、りん酸塩等)が挙げられ、中でもアミノ酸および
その塩、水酸基をもつアミンおよびその塩は特に好まし
い。このような水溶性化合物の下塗り層は固型分で1■
/nl〜8(lyr/rrrの範囲で設けるのが好まし
い。
本発明の感光性組成物に対する現像液としては、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、水酸化すトリウム、ykl化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリ
ン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶
液が適当であり、それらの濃度が0.1−10ffif
fi%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加
される。
トリウム、珪酸カリウム、水酸化すトリウム、ykl化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリ
ン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶
液が適当であり、それらの濃度が0.1−10ffif
fi%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加
される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応し界面活性剤
やアルコールなどのような有8!!溶媒を加えることも
できる。
やアルコールなどのような有8!!溶媒を加えることも
できる。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
本発明の感光性組成物は支持体上に塗布する際の塗布性
に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後、露光部を水性ア
ルカリ現像液で使用する際の現像性に優れる。得られた
レリーフ像は耐摩耗性、支持体への密着性が良く、印刷
版として使用した場合、良好な印刷物が多数枚得られる
。
に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後、露光部を水性ア
ルカリ現像液で使用する際の現像性に優れる。得られた
レリーフ像は耐摩耗性、支持体への密着性が良く、印刷
版として使用した場合、良好な印刷物が多数枚得られる
。
さらに、U■インキを使用した印刷を行った場合におい
ても良好な印刷物が多数枚得られる。
ても良好な印刷物が多数枚得られる。
「実施例」
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
令刀は[−1
撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた11三ツロフラス
コにp−アミノヘンゼンスルホンアミド170.2g
(1,0moj!e)及びテトラヒドロフラン700m
t’を入れ、氷水塔下攪拌した。この混合物にメタクリ
ル酸クロリド52.3g (0゜511Io l e)
を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了
後、氷水浴をとり去り、30分間室温下で攪拌し、さら
にオイルハスを用いて60℃に加熱しながら1時間撹拌
した。反応終了後、この反応混合物を水3I!に撹拌上
投入し、30分間攪拌した後、ろ過する事により、N−
(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの
白色固体が得られた。この白色固体は、−水−アセトン
の混合溶媒より再結晶する事により精製する事ができた
(収ff139.3g)。
コにp−アミノヘンゼンスルホンアミド170.2g
(1,0moj!e)及びテトラヒドロフラン700m
t’を入れ、氷水塔下攪拌した。この混合物にメタクリ
ル酸クロリド52.3g (0゜511Io l e)
を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了
後、氷水浴をとり去り、30分間室温下で攪拌し、さら
にオイルハスを用いて60℃に加熱しながら1時間撹拌
した。反応終了後、この反応混合物を水3I!に撹拌上
投入し、30分間攪拌した後、ろ過する事により、N−
(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの
白色固体が得られた。この白色固体は、−水−アセトン
の混合溶媒より再結晶する事により精製する事ができた
(収ff139.3g)。
このように得られたN−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド9.72g (0゜0408mo
ffe)及びメタクリル酸メチル7.93g (0,0
792moj!e)、N、N−ジメチルホルムアミド5
0mj!を攪拌機、冷却管を備えた200m/三ツロフ
ラスコに入れ温水浴により64℃に加熱しながら攪拌し
た。この混合物にα、α′アゾビスイソブチロニトリル
0.246gを加え64℃に保ちながら窒素気流下5時
間PA拌した。
ル)メタクリルアミド9.72g (0゜0408mo
ffe)及びメタクリル酸メチル7.93g (0,0
792moj!e)、N、N−ジメチルホルムアミド5
0mj!を攪拌機、冷却管を備えた200m/三ツロフ
ラスコに入れ温水浴により64℃に加熱しながら攪拌し
た。この混合物にα、α′アゾビスイソブチロニトリル
0.246gを加え64℃に保ちながら窒素気流下5時
間PA拌した。
反応終了後、この反応混合物を水21にIII↑下投入
し30分間攪拌したのらろ過、乾燥する事により16g
の白色固体を得た。ゲルパーミェーションクロマトグラ
フィーによりこの高分子化合物の重量平均分子量(ポリ
スチレン標串)を測定したところ49000であった。
し30分間攪拌したのらろ過、乾燥する事により16g
の白色固体を得た。ゲルパーミェーションクロマトグラ
フィーによりこの高分子化合物の重量平均分子量(ポリ
スチレン標串)を測定したところ49000であった。
(本発明の高分子化合物(a))
令1
攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた500m1三ツロ
フラスコにメタクリル酸31.0g(0゜36111o
le)、クロロギ酸エチル39.1g (0゜3511
Iofe)及びアセトニトリル200mff1を入れ、
氷水塔下攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36
.4g (0,36mof’e)を約1時間かけて滴下
ロートにより滴下した0滴下終了後、氷水浴をとり去り
、室温下で30分間攪拌し、油浴を取り付けた。
フラスコにメタクリル酸31.0g(0゜36111o
le)、クロロギ酸エチル39.1g (0゜3511
Iofe)及びアセトニトリル200mff1を入れ、
氷水塔下攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36
.4g (0,36mof’e)を約1時間かけて滴下
ロートにより滴下した0滴下終了後、氷水浴をとり去り
、室温下で30分間攪拌し、油浴を取り付けた。
この反、応混合物に、p−アミノベンゼンスルホンアミ
ド51. 711 (0,30mole)を加え、油
浴にて70℃に温めながら1時間攪拌した0反応終了後
、この混合物を水11にかくはん下投入し、30分間撹
拌した。固体をろ過により集め、さらに水500rr+
l!にリスラリ−したのち、ろ過、乾燥する事によりN
−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド
の白色固体が得られた。
ド51. 711 (0,30mole)を加え、油
浴にて70℃に温めながら1時間攪拌した0反応終了後
、この混合物を水11にかくはん下投入し、30分間撹
拌した。固体をろ過により集め、さらに水500rr+
l!にリスラリ−したのち、ろ過、乾燥する事によりN
−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド
の白色固体が得られた。
(収量46.9g)
次に攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた20QmIl
三ツロフラスコに、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド4.61g(0,Ol 92mo
j!e)、メタクリル酸エチル2゜94 g (0,O
258moffie)、アクリロニトリル0、 80
g (0,Q l 5mole)及びN、N−ジメチル
アセトアミド20gを入れ、温水浴により65℃に加熱
しながら攪拌した。この混合物に■65(和光純薬a菊
製)0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2
時間攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g、
メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリル0.
80g、N、N−ジメチルアセトアミド及び■−650
.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下
した。滴下終了後さらに65℃で2時間撹拌した。反応
終了後メタノール40gを加え冷却し、水21に攪拌上
投入し、30分間撹拌した後ろ過乾燥する事により15
gの白色固体を得た。
三ツロフラスコに、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド4.61g(0,Ol 92mo
j!e)、メタクリル酸エチル2゜94 g (0,O
258moffie)、アクリロニトリル0、 80
g (0,Q l 5mole)及びN、N−ジメチル
アセトアミド20gを入れ、温水浴により65℃に加熱
しながら攪拌した。この混合物に■65(和光純薬a菊
製)0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2
時間攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g、
メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリル0.
80g、N、N−ジメチルアセトアミド及び■−650
.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下
した。滴下終了後さらに65℃で2時間撹拌した。反応
終了後メタノール40gを加え冷却し、水21に攪拌上
投入し、30分間撹拌した後ろ過乾燥する事により15
gの白色固体を得た。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィーによりこの高
分子化合物の重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測
定したところ53,000であった。
分子化合物の重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測
定したところ53,000であった。
(本発明の高分子化合物(b))
介或鑓主二工
合成例1又は2と同様にして第1表に示される高分子化
合物(C)〜(e)を合成した。これらの高分子化合物
の重量平均分子量(ポリスチレン標4りはいずれも9.
000〜so、oooであった。
合物(C)〜(e)を合成した。これらの高分子化合物
の重量平均分子量(ポリスチレン標4りはいずれも9.
000〜so、oooであった。
令」■(−1
攬11機、冷却管、滴下ロートを備えた500m1三ツ
ロフラスコに2.2−ジヒドロキシメチルプロピオン酸
40 g (0,298mole)及び無水節f111
00 m lを入れ、氷水浴下撹拌した。この混合物に
ピリジン100m1を滴下ロートにより約30分間かけ
て滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、オイルバ
スにて混合物を60℃に加熱しながら2時間攪拌した。
ロフラスコに2.2−ジヒドロキシメチルプロピオン酸
40 g (0,298mole)及び無水節f111
00 m lを入れ、氷水浴下撹拌した。この混合物に
ピリジン100m1を滴下ロートにより約30分間かけ
て滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、オイルバ
スにて混合物を60℃に加熱しながら2時間攪拌した。
反応終了後、塩酸を加え混合物を酸性とし、分液ロート
を用いてクロロホルムにより抽出した。クロロホルム層
を水洗したのち、無水硫酸ナトリウムにより脱水した。
を用いてクロロホルムにより抽出した。クロロホルム層
を水洗したのち、無水硫酸ナトリウムにより脱水した。
このクロロホルム溶液により溶媒を減圧留去する事によ
り、2.2−ジアセトキシメチルプロピオン酸の白色固
体57gを得た。
り、2.2−ジアセトキシメチルプロピオン酸の白色固
体57gを得た。
次に、2.2−ジアセトキシメチルプロピオン酸30
g (0,137mole)及び塩化チオニル20m1
を撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた300ml三ツ
ロフラスコに入れ、80℃に加熱しながら2時間撹拌し
た。
g (0,137mole)及び塩化チオニル20m1
を撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた300ml三ツ
ロフラスコに入れ、80℃に加熱しながら2時間撹拌し
た。
反応終了後、減圧留去により未反応の塩化チオニル等を
十分除去した後、氷水浴をつけこの反応生成物を十分に
冷却した。この反応生成物にpアミノベンゼンスルホン
アミド46.6g (0゜274mole)とテトラヒ
ドロフラン150mlの混合物を滴下ロートにより約1
時間かけて滴下した0滴下終了後、オイルバスにて60
℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後、この反
応混合物を水21に攪拌上投入し、30分間撹拌した後
、濾過する事によりp−(1,1−ジアセトキシメチル
エチルカルボニルアミノ)ベンゼンスルホンアミドの白
色固体が得られた。この白色固体はエタノールより再結
晶する事により精製できた。
十分除去した後、氷水浴をつけこの反応生成物を十分に
冷却した。この反応生成物にpアミノベンゼンスルホン
アミド46.6g (0゜274mole)とテトラヒ
ドロフラン150mlの混合物を滴下ロートにより約1
時間かけて滴下した0滴下終了後、オイルバスにて60
℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後、この反
応混合物を水21に攪拌上投入し、30分間撹拌した後
、濾過する事によりp−(1,1−ジアセトキシメチル
エチルカルボニルアミノ)ベンゼンスルホンアミドの白
色固体が得られた。この白色固体はエタノールより再結
晶する事により精製できた。
(収量26g)
次にp−(1,1−ジアセトキシメチルエチルカルボニ
ルアミノ)ベンゼンスルホンアミド22g (0,06
+5ole)及び水酸化ナトリウム4.8g (0,1
2mole) 、エタノール5 Qmj!、水50m&
を攪拌機、冷却管を備えた3 00m#三ツロフラスコ
に入れ、2時間加熱還流した。この反応混合物を水11
に撹拌上投入し、30分間攪拌した後、濾過する事によ
りp −(1,1−ジヒドロキシメチルエチルカルボニ
ルアミノ)ヘンゼンスルホンアミドの白色固体が得られ
た。この白色固体はエタノールにより再結晶する事によ
り情調できた。 (収量11g) 次にp−(1,1−ジヒドロキシメチルエチルカルボニ
ルアミノ)ヘンゼンスルホンアミド5゜73 g (0
,02mole)及び4,4′−ジフェニルメタンジイ
ソシアナー)5. 2fzr (0,021mole)
、N、 N−ジメチルアセトアミド18gを攪拌機
、冷却管を備えた100m#三ツロフラスコに入れ、1
00℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後この
反応混合物を水500rr+1に攪拌上投入し30分間
攪拌した。析出物を濾過、乾燥する事により10gの白
色固体を得た。ゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ーによりこの高分子化合物の重量=f均分子、!i(ボ
リスヂレン標!1りを測定したところ32000であっ
た(本発明の高分子化合物(r))。
ルアミノ)ベンゼンスルホンアミド22g (0,06
+5ole)及び水酸化ナトリウム4.8g (0,1
2mole) 、エタノール5 Qmj!、水50m&
を攪拌機、冷却管を備えた3 00m#三ツロフラスコ
に入れ、2時間加熱還流した。この反応混合物を水11
に撹拌上投入し、30分間攪拌した後、濾過する事によ
りp −(1,1−ジヒドロキシメチルエチルカルボニ
ルアミノ)ヘンゼンスルホンアミドの白色固体が得られ
た。この白色固体はエタノールにより再結晶する事によ
り情調できた。 (収量11g) 次にp−(1,1−ジヒドロキシメチルエチルカルボニ
ルアミノ)ヘンゼンスルホンアミド5゜73 g (0
,02mole)及び4,4′−ジフェニルメタンジイ
ソシアナー)5. 2fzr (0,021mole)
、N、 N−ジメチルアセトアミド18gを攪拌機
、冷却管を備えた100m#三ツロフラスコに入れ、1
00℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後この
反応混合物を水500rr+1に攪拌上投入し30分間
攪拌した。析出物を濾過、乾燥する事により10gの白
色固体を得た。ゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ーによりこの高分子化合物の重量=f均分子、!i(ボ
リスヂレン標!1りを測定したところ32000であっ
た(本発明の高分子化合物(r))。
−・h 1〜6および 六 l
厚さ0,30のアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メツシユのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。
0メツシユのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。
10%水酸化ナトリウムに70°Cで60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%1(N O3で
中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7vの条件下
で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で1
60クローン/dr/の陽掻時電気量で電解粗面化処理
を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(
Ra表示)であった、ひきつづいて30%のI4□SO
1水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、
20%1I2so、水?8液中、電流密度2A/dr/
において厚さが2.7g/n(になるように陽極酸化し
た。
エツチングした後、流水で水洗後20%1(N O3で
中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7vの条件下
で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で1
60クローン/dr/の陽掻時電気量で電解粗面化処理
を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(
Ra表示)であった、ひきつづいて30%のI4□SO
1水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、
20%1I2so、水?8液中、電流密度2A/dr/
において厚さが2.7g/n(になるように陽極酸化し
た。
次に下記感光液(A)の本発明の高分子化合物の種類を
変えて、5種類の感光液(A)−1〜(A)−5を調整
した。
変えて、5種類の感光液(A)−1〜(A)−5を調整
した。
さらに下記感光?&(B)を、本発明の高分子化合物(
f)を用いて調整した。これらの感光液を陽極酸化され
たアルミニウム板上に塗布し、100℃で2分間乾燥し
てそれぞれの感光性平版印刷版(A)−1〜〔八〕−5
及び(B)を作成した。
f)を用いて調整した。これらの感光液を陽極酸化され
たアルミニウム板上に塗布し、100℃で2分間乾燥し
てそれぞれの感光性平版印刷版(A)−1〜〔八〕−5
及び(B)を作成した。
このときの塗布量は乾燥重量で2.5g/rrrであっ
た。
た。
なお感光液(A)−1〜(A)−5に用いた本発明の高
分子化合物は第2表に示した。
分子化合物は第2表に示した。
感光液(A)
感光液CB)
次に比較例として下記の感光液(C)を感光液(A)及
びCB)と同様に塗布し、感光性平版印刷版(C)を作
製した。乾燥後の塗布i!tffiは2587mであっ
た。
びCB)と同様に塗布し、感光性平版印刷版(C)を作
製した。乾燥後の塗布i!tffiは2587mであっ
た。
感光液(C)
感光性平版印刷版(A)−1〜5、(B)及び(C)の
感光層上に線画及び網点画像のポジ透明原画を密着させ
、30アンペアのカーボンアーク灯で70ca+の距離
から露光を行なった。
感光層上に線画及び網点画像のポジ透明原画を密着させ
、30アンペアのカーボンアーク灯で70ca+の距離
から露光を行なった。
露光された感光性平版印刷版(A)−1〜5゜CB)及
び(C)をDP−4(商品名:富士写真フィルムIll
製)の8倍希釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現
像した。
び(C)をDP−4(商品名:富士写真フィルムIll
製)の8倍希釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現
像した。
得られた平版印刷版(A)−1〜5、CB)及び(C)
を用いてハイデルヘルグ社製KOR型印刷機で市販の通
常インキ及びtJVインキを用いて上質紙に印刷した。
を用いてハイデルヘルグ社製KOR型印刷機で市販の通
常インキ及びtJVインキを用いて上質紙に印刷した。
平版印刷版(A)−1〜5、CB)及び(C)の最終印
刷枚数を調べたところ第2表に示すとおりであった。
刷枚数を調べたところ第2表に示すとおりであった。
2表
第2表かられかる様に、本発明の高分子化合物を用いた
平版印刷版(A)−1〜5、〔B〕 (実施例1〜6)
は、比較例の(C)と比べて通常インキ、Uvインキの
どうらを用いた場合においても印刷枚数が多く耐剛性が
非常に優れたものであった。
平版印刷版(A)−1〜5、〔B〕 (実施例1〜6)
は、比較例の(C)と比べて通常インキ、Uvインキの
どうらを用いた場合においても印刷枚数が多く耐剛性が
非常に優れたものであった。
7〜lOおよび 2
IWさ0.24mmのアルミニウム1反をナイロンフラ
ジと400メツシユのパミストンー水懸濁を用いその表
面を砂目型てした後、よく水で洗浄して基板〔1〕を用
意した。基板〔1〕を10%水酸化ナトリウムに70℃
で20秒間浸漬してエツチングした後流水で水洗後、2
0%II N Oxで中和洗浄、水洗し、12.7Vの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて0.7%硝酸水
溶液中で400クーロン/dr/の電気量で電解粗面化
処理を行い、水洗して基板〔■〕を用、意した。
ジと400メツシユのパミストンー水懸濁を用いその表
面を砂目型てした後、よく水で洗浄して基板〔1〕を用
意した。基板〔1〕を10%水酸化ナトリウムに70℃
で20秒間浸漬してエツチングした後流水で水洗後、2
0%II N Oxで中和洗浄、水洗し、12.7Vの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて0.7%硝酸水
溶液中で400クーロン/dr/の電気量で電解粗面化
処理を行い、水洗して基板〔■〕を用、意した。
この基板〔■〕を10%水酸化ナトリウム水溶液中で表
面の溶解量が0.9g/m2になるように処理した。水
洗後、20%硝酸溶液中で中和、洗浄してデスマットを
行なった後、18%硫酸水溶液中で、酸化度nutが3
g/mになるように陽極酸化した。
面の溶解量が0.9g/m2になるように処理した。水
洗後、20%硝酸溶液中で中和、洗浄してデスマットを
行なった後、18%硫酸水溶液中で、酸化度nutが3
g/mになるように陽極酸化した。
このようにして得られたアルミニウム板上に、下記の感
光?(I(D)で本発明の高分子化合物の種類を変えた
3種類の感光液(D)−1〜CD)3を塗布した。10
0℃で2分間乾燥し、それぞれの感光性平版印刷版(D
〕−1〜(D)−3を作製した。
光?(I(D)で本発明の高分子化合物の種類を変えた
3種類の感光液(D)−1〜CD)3を塗布した。10
0℃で2分間乾燥し、それぞれの感光性平版印刷版(D
〕−1〜(D)−3を作製した。
さらに下記感光r&(E)および(F)を調製し、(D
J−1〜〔D)−3と同様にして塗布乾燥し感光性平版
印刷版(E)、 (F)を作製した。
J−1〜〔D)−3と同様にして塗布乾燥し感光性平版
印刷版(E)、 (F)を作製した。
これらの感光性平版印刷版の乾燥後の塗布壇は2.5g
/mであった。
/mであった。
なお感光液CD)−1〜CD)−3および(E)に用い
た本発明の高分子化合物は第3表に示した。
た本発明の高分子化合物は第3表に示した。
感光液CD)
02.3.4−1−リヒドロキシベン
ヅフエノンとナフトキノン−1゜
2−ジアジド−5−スルホニルク
ロリドとのエステル化物
(エステル化率;90moj!%) 0.45
go本発明の高分子化合物 0.77 g
oクレゾール(メタ体60%、オル ト体40%)−ホルムアルデヒド樹 脂(重量平均分子量; 4.000) 0.33
g02−(p−メトキシフェニル) 4.6−ビス(トリクロロメチル) s−)リアジン 0.02 goナフト
キノン−1,2−ジアジド スルホニルクロリド 0.01goビクトリ
アピュアブルー13011 0.015g(保土谷化
学0聯製の染料) OメガファツクF−1770,004g(大日本インキ
化学工業(■製 フッ素系界面活性剤) 0ジメチルホルムアミド 4go1−
メトキシ−2−プロパツール 9goメチルエチル
ケトン 7g〔感光液 E〕 0 3 3.3’、3’−テトラメチ ル−11’−スピロビーインダン 5.6.7.5’、6’、7’ ヘキソオールとナフトキノン=1 2−ジアジド−5−スルホニルクロ リドとのエステル化物 (特願昭62−233292号明細 書 実施例1の感光物(a)) O本発明の高分子化合物 0クレゾール(メタ体60%、オル ト体40%)−ホルムアルデヒド樹 脂(重量平均分子量; 4.000) 0.33
FXo2−(p−メトキシフェニル) 46−ビス(トリクロロメチル) s−)リアジン 0ビクトリアピユアブルーB OII (保土谷化学■製の染料) 0メガファツクF−177 (大日本インキ化学工業■製 フッ素系界面活性剤) 0、02 g 0.77g 0、45 g 0.004g 0ジメチルスルフオキシド 5go乳酸メ
チル 8gOメチルエチルケ
トン 7g感光液CF) 感光液(Dlにおいて、本発明の高分子化合物を用いず
にクレゾール(メタ体60%、オルト体40%)−ホル
ムアルデヒド樹脂(重量平均分子量;4,000)を1
.1g使用した感光液。
go本発明の高分子化合物 0.77 g
oクレゾール(メタ体60%、オル ト体40%)−ホルムアルデヒド樹 脂(重量平均分子量; 4.000) 0.33
g02−(p−メトキシフェニル) 4.6−ビス(トリクロロメチル) s−)リアジン 0.02 goナフト
キノン−1,2−ジアジド スルホニルクロリド 0.01goビクトリ
アピュアブルー13011 0.015g(保土谷化
学0聯製の染料) OメガファツクF−1770,004g(大日本インキ
化学工業(■製 フッ素系界面活性剤) 0ジメチルホルムアミド 4go1−
メトキシ−2−プロパツール 9goメチルエチル
ケトン 7g〔感光液 E〕 0 3 3.3’、3’−テトラメチ ル−11’−スピロビーインダン 5.6.7.5’、6’、7’ ヘキソオールとナフトキノン=1 2−ジアジド−5−スルホニルクロ リドとのエステル化物 (特願昭62−233292号明細 書 実施例1の感光物(a)) O本発明の高分子化合物 0クレゾール(メタ体60%、オル ト体40%)−ホルムアルデヒド樹 脂(重量平均分子量; 4.000) 0.33
FXo2−(p−メトキシフェニル) 46−ビス(トリクロロメチル) s−)リアジン 0ビクトリアピユアブルーB OII (保土谷化学■製の染料) 0メガファツクF−177 (大日本インキ化学工業■製 フッ素系界面活性剤) 0、02 g 0.77g 0、45 g 0.004g 0ジメチルスルフオキシド 5go乳酸メ
チル 8gOメチルエチルケ
トン 7g感光液CF) 感光液(Dlにおいて、本発明の高分子化合物を用いず
にクレゾール(メタ体60%、オルト体40%)−ホル
ムアルデヒド樹脂(重量平均分子量;4,000)を1
.1g使用した感光液。
感光性平版印刷版CD)−1〜(D)−3、(E)及び
(F)を実施例1〜6および比較例1と同様な方法で性
能を評価したところ第3表に示すとうりであった。
(F)を実施例1〜6および比較例1と同様な方法で性
能を評価したところ第3表に示すとうりであった。
第3表かられかるように、本発明の高分子化合物を用い
た平版印刷版(D)−1〜(D)−3、および〔E〕
(実施例7〜10)は、比較例の(F)と比べて通常イ
ンキ、U■インキのどちらを用いた場合においても、耐
剛性が優れ、非常に優れているものであることがわかる
。
た平版印刷版(D)−1〜(D)−3、および〔E〕
(実施例7〜10)は、比較例の(F)と比べて通常イ
ンキ、U■インキのどちらを用いた場合においても、耐
剛性が優れ、非常に優れているものであることがわかる
。
第 3
表
1゜
事件の表示
2、発明の名称
3、補正をする者
事件との関係
昭和63年特願第−2700r 7号
感光性組成物
Claims (1)
- スルホンアミド基を有し、水不溶かつアルカリ性水溶液
に可溶な高分子化合物と、ポジ型に作用する感光性化合
物を含有する事を特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (4)
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JP63270087A JPH0769605B2 (ja) | 1988-02-25 | 1988-10-26 | 感光性組成物 |
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EP89103424A EP0330239B1 (en) | 1988-02-25 | 1989-02-27 | Photosensitive composition |
DE68926516T DE68926516T2 (de) | 1988-02-25 | 1989-02-27 | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4263188 | 1988-02-25 | ||
JP63-42631 | 1988-02-25 | ||
JP63270087A JPH0769605B2 (ja) | 1988-02-25 | 1988-10-26 | 感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02866A true JPH02866A (ja) | 1990-01-05 |
JPH0769605B2 JPH0769605B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=26382350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63270087A Expired - Fee Related JPH0769605B2 (ja) | 1988-02-25 | 1988-10-26 | 感光性組成物 |
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Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0330239B1 (ja) |
JP (1) | JPH0769605B2 (ja) |
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