JPH02866A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPH02866A
JPH02866A JP63270087A JP27008788A JPH02866A JP H02866 A JPH02866 A JP H02866A JP 63270087 A JP63270087 A JP 63270087A JP 27008788 A JP27008788 A JP 27008788A JP H02866 A JPH02866 A JP H02866A
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methacrylamide
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桂太郎 青島
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彰 永島
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
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    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の分野〕 本発明は平版印刷版、IC回路やフォトマスクの製造に
適する感光性組成物に関するものである。
更に詳しくは、ポジ型に作用する感光性化合物と、耐摩
耗性、耐薬品性に優れた高分子化合物からなる感光性組
成物に関するものである。
〔従来の技術〕
0−ナフトキノンジアジド化合物とノボラック型フェノ
ール樹脂からなる感光性組成物は、非常に優れた感光性
組成物として平版印刷版の製造やフオトレ″シストとし
て工業的に用いられてきた。
しかし主体として用いられるノボラック型フェノール樹
脂の性質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろ
いこと、■重性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印刷
版に用いた時の耐剛力が十分でないこと、さらに耐薬品
性に乏しく、特にLIVインキを使用すると耐剛力が掻
めて不十分である等の改良すべき点がある。これらの諸
性能を向上させる方法としてはバーニング処理(n光、
現像後、加熱処理する事)が一般に用いられている。し
かし、バーニング処理を行うと、画像部より感光層中の
低分子化合物が非画像部等に付着し、印刷時に汚れを生
しやすくなるという問題がある。
かかる問題を解決するため種々の高分子化合物が、バイ
ンダーとして検討されてきた。たとえば特公昭52−4
1050号に記載されているポリヒドロキシスチレンま
たはヒドロキシスナレン共重合体は確かに皮膜性が改良
されたが、耐摩耗性、耐薬品性が劣るという欠点を有し
ていた。また、特開昭51−34711号公報中にはア
クリル酸誘導体の構造単位を分子構造中に有する高分子
化合物をバインダーとして用いることが提案されている
が、かかる高分子化合物は適正な現像条件の範囲が狭く
、また耐摩耗性も十分でないなどの問題があった。
〔発明の目的〕
従って本発明の目的は、バインダーとして用いる高分子
化合物の耐摩耗性が優れ、水性アルカリ現像液で現像が
でき、耐刷力の大きい平版印刷版を与える感光性組成物
を提供することである。
本発明の他の目的は、耐薬品性に優れ、バーニング処理
を行なう事なくUVインキを用いた印刷を行っても耐剛
力の大きい平版印刷版を与える感光性組成物を提供する
ことである。
さらに本発明の目的は基板に対する密着性が良く、柔軟
な皮膜を与え、有機溶剤溶解性の優れた感光性組成物を
提供することである。
〔発明の構成〕 本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。
即ち本発明は、スルホンアミド基を有し、水不溶かつア
ルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物とポジ型に作用す
る感光性組成物を含有する事を特徴とする感光性組成物
を提供するものである。
本発明に使用されるスルホンアミド基を有し、水不溶か
つアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、好ましく
は側鎖または主鎖中に一3O!−Nl+結合を含有する
高分子化合物であり、さらに好ましくは、側鎖中に一5
Q2−NH−結合を含有する高分子化合物である。
本発明に使用されるスルホンアミド基を有し、水不溶か
つアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、1分子中
に1つ以上のN上に少なくとも1つの11原子が結合し
たスルホンアミド基と1つ以上の重合可能な不飽和結合
を有する低分子化合物を公知の重合開始剤を用いて適当
な溶媒中で重合する事により得られる。
本発明において、さらに好適に使用されるこのような低
分子化合物としては、12式(+)または(■)で示さ
れる化合物がある。
式中、)<1、x!はそれぞれ−O−またはNR’−を
示す。R1、R4はそれぞれ−11または−CH5を示
す。R2,R3はそれぞれ置換基を有していてもよいC
4〜Catのフルキレン基、シクロアルキレン基、アリ
ーレン基、アラルキレン基を示す。R3は−■(、置t
A Mを有していてもよいC1〜C12のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、を示す
。またR6は、置換基を有していてもよい01〜CI□
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基、を示す。R7は水素原子または置換基を有して
いてもよいCI−C+□のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。
−数式(1)または(■)で示される低分子化合物の内
、本発明において特に好適に使用されるものは、R2、
R5がそれぞれCz−C,のアルキレン基、シクロアル
キレン基、または置換基を有していてもよいフェニレン
基、ナフチレン基であり、R3が14またはC5〜C4
のアルキル基、シクロアルキル基または置換基を有して
いてもよいフェニル基、ナフチル基であり、R4が01
〜C4のアルキル基、シクロアルキル基または置換基を
有していてもよいフェニル基、ナフチル基であり、R7
が水素原子である化合物である。
このような低分子化合物としては、例えばN(0−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(
p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N
−(0−メチルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N(m−メチルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N −(p−メチルアミノスルボニル
フェニル)メタクリルアミド、N−(0−エチルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エ
チルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N
−(p−エチルアミノスルボニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(o−nプロピルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(rn−n−プロピルアミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
nプロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N   (o  r−プロピルアミノスルボニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N −(mプロピルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−i
−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−nブチルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(m−n−ブチルアミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n−ブチル
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミF、N −
(o −i−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(m−i−ブチルアミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−i−ブチルアミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、pJ−(o
−sec−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N(m−sec−ブチルアミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミド、N−(p−sec−ブチル
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(
o−t−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(m−t−ブチルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N(p−t−ブチルアミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−フェニ
ルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N 
−(mフェニルアミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(p−フェニルアミノスルボニルフェニル
)メタクリルアミド、N−(o−(α−ナフチルアミノ
スルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N −(m
 −(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタ
クリルアミド、N −(p(α−ナフチルアミノスルホ
ニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(o−(β−
ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミ
ド、N(m−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−(β−ナフチルアミ
ノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(1
−(3−アミノスルボニル)ナフチル)メタクリルアミ
ド、N−(1−(3−メチルアミノスルホニル)ナフチ
ル)メタクリルアミド、N−(1−(3−エチルアミノ
スルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(o〜
メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、
N−(m−メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(p−メチルスルホニルアミノフェニル
)メタクリルアミド、N−(o−エチルスルホニルアミ
ノフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エチルスル
ホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
エチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、
N −(。
フェニルスルホニルアミンフェニル)メタクリルアミド
、N−(m−フェニルスルホニルアミンフェニル)メタ
クリルアミド、N −(p−フェニルスルホニルアミン
フェニル)メタクリルアミド、N−(o −(p−メチ
ルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルア
ミド、N −(m(p−メチルフェニルスルホニルアミ
ン)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(p−メ
チルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリル
アミド、N−(p−(α−ナフチルスルホニルアミノ)
フェニルメタクリルアミド、N −(p(β−ナフチル
スルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−
(2−メチルスルホニルアミンエチル)メタクリルアミ
ド、N−(2−エチルスルホニルアミノエチル)メタク
リルアミド、N−(2−フェニルスルホニルアミンエチ
ル)メタクリルアミド、N−(2−p−メチルフェニル
スルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N(2−
α−ナフチルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミ
ド、N−(2−β−ナフチルスルホニルアミノ)エチル
メタクリルアミド等のメタクリルアミド類、上記と同様
の置換基を有するアクリルアミド類、また0−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、0−メチルアミノスルボニルフェ
ニルメタクリレート、m−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p〜メチル7ミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、〇−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、m−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−エチルアミノスルボニルフェ
ニルメタクリレート、o−n−プロピルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−n−プロピルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、p−nプロピルアミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、o−i−プロピ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−1−
プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o
−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、p−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタク
リレート、m−1−ブチルアミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、p−1−ブチルアミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、171−3eCブチルアミノスルホ
ニルフエニルメタクリレート、p−3(IC−ブチルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−1−ブチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−t〜
ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、0−
フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m
−フェニルアミンスルホニルフェニルメタクリレート、
p−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−(α−ナフチルアミノスルホニルフェニル)メタ
クリレート、p−(α−ナフチルアミノスルボニルフェ
ニル)メタクリレート、m−(β−ナフチルアミノスル
ホニル)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチル
アミノスルホニル)フェニルメタクリレート、1−(3
アミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、■−(3
−メチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、
1−(3−エチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリ
レート、0−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、m−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、p−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、θ−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、m−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、p−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリ
レート、0−フェニルスルホニルアミンフェニルメタク
リレート、m−フェニルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、p−フェニルスルホニルアミノフェニルメ
タクリレート、0(p−メチルフェニルスルボニルアミ
ノ)フェニルメタクリレート、m −(p−メチルフェ
ニルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、p(
p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニルメタク
リレート、p−<α−ナフチルスルホニルアミノ)フェ
ニルメタクリレート、I)−(βナフチルスルホニルア
ミノ)フェニルメタクリレート、2−メチルスルホニル
アミノエチルメタクリレート、2−エチルスルホニルア
ミノエチルメタクリレート、2−フェニルスルホニルア
ミノエチルメタクリレート、2−p−メチルフェニルス
ルホニルアミノエチルメタクリレート、2−α−ナフチ
ルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−β−ナ
フチルスルホニルアミノエチルメタクリレート等のメタ
クリル酸エステル類、上記と同様の置換基を有するアク
リル酸エステル類などが挙げられる。
また、本発明において好適に使用される、スルホンアミ
ド基と重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物の別
の例としては、下記−数式(III)〜(V)で示され
る化合物が含まれる。
B (l■) (V) R11、RIG、R14はそれぞれ、水素原子、ハロゲ
ン原子またはメチル基を示し、好ましくは水素原子であ
る。
R9は、置換されていてもよいC1〜COXのアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレ
ン基を示し、好ましくは、置換されていてもよいメチレ
ン基、フェニレン基、ナフチレン基を示す。
R11、RI5はそれぞれ単結合または置換されていて
もよい01〜C1□のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基、アラルキレン基を示し、好ましくは
、単結合またはメチレン基である。
R1″、R+bはそれぞれ置換されていてもよいC2〜
C12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレ
ン基、アラルキレン基を示し、好ましくは、01〜C8
のアルキレン基または置換されていてもよいフェニレン
基、ナフチレン基を示す。
R13は、水素原子、置換されていてもよいC〜C32
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基を示し、好ましくは水素原子またはCI−C6の
アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよい
フェニル基、ナフチル基を示す。
R1ffは置換されていてもよい01〜CI□のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を
示し、好ましくはC,−C,のアルキル基、シクロアル
キル基、置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基
を示す。またYl、Y2はII それぞれ単結合または一〇−を示す。
上記のような一般式(IIり〜(V)で示される化合物
の具体例としては、p−アミノスルホニルスチレン、p
−アミノスルホニル−α−メチルスチレン、p−アミノ
スルホニルフェニルアリルエーテル、p−(N−メチル
アミノスルホニル)フェニルアリルエーテル、メチルス
ルホニルアミノ酢酸ビニルエステル、フェニルスルホニ
ルアミン酢酸ビニルエステル、メチルスルホニルアミノ
酢酸アリルエステル、フェニルスルホニルアミノ酢酸ア
リルエステル、p−メチルスルホニルアミノフェニルア
リルエーテルなどがある。
本発明に好適に使用されるスルホンアシド基を有する高
分子化合物は上記の分子中にN上に少なくとも1つのI
■原子が結合したスルホンアミド基と重合可能な不飽和
結合を有する低分子化合物の単独重合体または二種以上
の共重合体であってもよいが、好ましくは1つ以上の重
合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホンアミド基を
含まない化合物の一種以上との共重合体である。
このような重合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホ
ンアミド基を含まない化合物としては、例えばアクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類
、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類
、スチレン類、クロトン類エステル類などから選ばれる
重合性不飽和結合を有する化合物である。具体的には、
例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル(該アル
キル基の炭素原子数は1−10のものが好ましい)アク
リレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸t−オクチル、クロルエチルアクリレー
ト、2゜2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート
、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモ
ノアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘンシルア
クリレート、メトキシヘンシルアクリレート、フルフリ
ル了ノリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート
、など)、アリールアクリレ−1・ (例えばフェニル
アクリレートなど):メタクリル酸エステル類、例えば
、アルキル(該アルキル基の炭素原子数は1〜10のも
のが好ましい)メタクリレート(例えばメチルメタクリ
レート、エチルメククリレート、プロビルメククリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレー
ト、ヘキシルメタクリレート、シクロへキシルメタクリ
レート、ヘキシルメタクリレート、クロルベンジルメタ
クリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタク
リレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリ
レート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グ
リシジルメククリレート、フルフリルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど)、アリー
ルメタクリレート(例えば、フェニルメタクリレート、
クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど
);アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、Nアル
キルアクリルアミド 炭素原子数1−10のもの、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘプチル基、
オクチル基、シクロへキシル基、ベンジル基、ヒドロキ
シエチル基、ヘンシル基などがある。)、N−7リール
アクリルアミド(該アリール基としては、例えばフェニ
ル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒド
ロキシフェニル基などがある.)、N,N−ジアルキル
アクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1
〜lOのもの、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、
イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基な
どがある。)、N,N−アリールアクリルアミド(該ア
リール基としては、例えばフェニル基などがある。)、
N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロ
キシエチルN−メチルアクリルアミド、N−2−アセト
アミドエチル−N−アセチルアクリルアミドなど:メタ
クリルアミド類、例えばメタクリルアミド、Nアセチル
アクリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1
〜10のもの、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル
基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロへ
キシル基などがある.)、N−アリールメタクリルアミ
ドール基としては、フェニル基などがある。)、N。
N−ジアルキルメタクリルアミド(該アルキル基として
は、エチル基、プロピル基、ブチル基などがある,)、
N,N−ジアリールメタクリルアミド(=亥了りール基
としては、フェニル基などがある。)、N−ヒドロキシ
エチル−N−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N
−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニ
ルメタクリルアミドなど:アリル化合物、例えばアリル
エステル類(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カ
プリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリ
ル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸
アリル、乳剤アリルなど)、アリルオキシエタノールな
ど:ビニルエーテル類、例えばアルキルビニルエーテル
(例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエー
テル、デシルビニルエーテル、エチルヘギシルビニルエ
ーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチ
ルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、l−
メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2
−エチルブチルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチル
アミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビ
ニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベ
ンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニル
エーテルなど)、ビニルアリールエーテル(例えばビニ
ルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルク
ロルフェニルエーテル、ビニル−2.4ジクロルフエニ
ルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラ
ニルエーテルなど):ビニルエステルff、例えばビニ
ルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチ
ルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレ
ート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、
ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート
、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェニルアセテー
ト、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニ
ル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロへキシルカ
ルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、
クロル安息香61ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル
、ナフトエ酸ビニルなど:スチレン類、例えばスチレン
、アルキルスチレン(例えばメチルスチレン、ジエチル
スチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン
、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシル
スチレン、ヘンシルスチレン、クロルメチルスチレン、
トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン
、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレ
ン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲンスチ
レン(例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリ
クロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンククロル
スチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨード
スチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、
2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フ
ルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど):クロ
トン酸エステル類、例えば、クロトン酸アルキル(例え
ばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリン
モノクロトネートなど) :イタコン酸ジアルキル類(
例えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタ
コン酸ジエチルなど):マレイン酸あるいはフマール酸
のジアルキル類(例えばジメチルマレレート、ジブチル
フマレートなど)ニアクロニトリル、メタクリロニトリ
ル等がある。
これらの重合性不飽和結合を有する化合物のうち、好適
に使用されるのはメタクリル酸エステル類、アクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、アクリルアミド類、
アクリロトリル、メククリロニトリル、メタクリル酸、
アクリル酸である。
これらの重合性不飽和結合を有する化合物の1種以上と
、スルホンアミド基を含有し、かつ重合性不飽和結合を
有する化合物の1種以上の共重体は、ブロック体、ラン
ダム体、グラフト体等いずれも用いる事ができる。
これらの共重合体中で、スルホンアミド基を含有する構
成単位は、共重合体を構成するすべての構成単位に対し
て5モル%以上含有する事が好ましく、10〜90モル
%含有する事がさらに好ましい。
このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチ
ルアセテート、1−メトキシ−2−プロパツール、l−
メトキシ2−プロピルアセテート、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチルなどが挙げられる。
これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合して用いられ
る。
また本発明に好適に使用されるスルホンアミド基を有し
、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は
、上記の共重合体の他にポリウレタン樹脂がある。
本発明に好適に使用されるポリウレタン樹脂は、好まし
くはジイソシアナート化合物と、N上に少なくとも1つ
の■1原子が結合したスルホンアミド基を含有するジオ
ール化合物の反応生成物を基本骨格とするポリウレタン
樹脂である。
本発明で好適に使用されるジイソシアナート化合物とし
て具体的には以下に示すものが含まれる。
即ち、2.4−トリレンジイソシアナート、2゜4−ト
リレンジイソシアナートの二量体、2.6トリレンジイ
ソシアナート、p−キシリレンジイソシアナート、m−
キシリレンジイソシアナート、4.4’−ジフェニルメ
タンジイソシアナート、1.5−ナフチレンジイソシア
ナート、3゜3′−ジメチルビフェニル−4,4′−ジ
イソシアナート等の如き芳香族ジイソシアナート化合物
;ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアナート、リジンジイソシアナート、
ダイマー酸ジイソシアナート等の如き脂肪族ジイソシア
ナート化合物;イソホロンジイソシアナート、4.4′
−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアナート)、メ
チルシクロヘキサン−2,4(又は2.6)ジイソシア
ナート、1.3−(イソシアナートメチル)シクロヘキ
サン等の如き脂環族ジイソシアナート化合物:l。
3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアナ
ート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアナ
ートとの反応物であるジイソシアナート化合物等が挙げ
られる。
また、N上に少なくとも1つのH原子が結合したスルボ
ンアミド基を含有するジオール化合物としては、具体的
には以下に示すものが含まれる。
即ち、p−(1,1−ジヒドロキシメチルエチルアミノ
)ベンゼンスルホンアミド、p−(1゜l−ジヒドロキ
シメチルエチルカルボニルアミノ)ヘンゼンスルホンア
ミドのN−エチル体、N(m−メチルスルホニルアミノ
フェニル)−2゜2−ジヒドロキシメチルプロパンアミ
ド、N(p−メチルスルホニルアミノフェニル)−2゜
2−ジヒドロキシメチルプロパンアミド、N−(m−エ
チルスルホニルアミノフェニル)−2゜2−ジヒドロキ
シメチルプロパンアミド、N(p−エチルスルホニルア
ミノフェニル)−22−ジヒドロキシメチルプロパンア
ミド、N(2,2−(ジヒドロキシエチルアミノカルボ
ニル)エチル)メタンスルホンアミド、N−(2゜2−
(ジヒドロキシエチルアミノカルボニル)エチルベンゼ
ンスルホンアミド、N−(2,2(ジヒドロキジエチル
アミノカルボニル)エチルp−トルエンスルホンアミド
、等が挙げられる。
これらのスルホンアミド基を含有するジオール化合物は
、単独または2種以上組み合わせて使用する事ができる
また更に、スルホンアミド基を有せず、イソシアナート
と反応しない他の置換基を有していてもよいジオール化
合物を併用することもできる。
このようなジオール化合物としては、具体的には以下に
示すものが含まれる。
即ち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、1.3−ブチレングリコール、1.
6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール
、22.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオール、
1、 4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサ
ン、シクロヘキサンジメタツール、トリシクロデカンジ
メタツール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノー
ルF1ビスフエノールへのエチレンオキサイド付加体、
ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビス
フェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノ
ールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノ
ールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノー
ルAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒ
ドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール、
ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−2,4−トリレンジカルバメート、2.4−ト
リレン−ビス(2ヒドロキシエチルカルバミド)、ビス
(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカルバメ
ート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート、
3.5−ジヒドロキシ安息香酸、2.2−ビス(ヒドロ
キンメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロ
キシエチル)プロピオン酸、22−ビス(3−ヒドロキ
シプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシメチル)
酢酸、ビス(4ヒドロキシフエニル)酢酸、4.4−ビ
ス(4ヒドロキシフエニル)ペンタン酸、酒石酸等が挙
げられる。
本発明のポリウレタン樹脂は上記ジイソシアナート化合
物およびジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞ
れの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱す
ることにより合成される。
使用するジイソシアナートおよびジオール化合物のモル
比は好ましくは0.8:1−1.2:1であり、ポリマ
ー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール
類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソ
シアナート基が残存しない形で合成される。
本発明の高分子化合物の分子量は、好ましくは重量平均
で2,000以上であり、数平均で1゜000以上であ
る。更に好ましくは重量平均で5000〜30万の範囲
であり、数平均で2,000〜25万の範囲である。ま
た多分散度(重量平均分子壇/数平均分子量)は1以上
が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である
また、本発明の高分子化合物中には、未反応の単量体を
含んでいてもよい、この場合、単量体の高分子化合物中
に占める割合は15重量%以下が望ましい。
本発明の高分子化合物は単独で用いても混合して用いて
もよい。感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化
合物の含有量は約5〜95%であり、好ましくは約10
〜85%である。
一方、本発明に使用されるポジ型に作用する感光性化合
物としては、具体的には0−ナフトキノンジアジド化合
物がある。
本発明に使用されるO−ナフトキノンジアジド化合物と
しては、特公昭41−28403号公報に記載されてい
る1、2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドと
ピロガロール−アセトン樹脂とのエステルであるものが
好ましい。その他の好適なオルトキノンジアジド化合物
としては、米国特許第3,046.120号および同第
3. 188.210号明細書中に記載されている1、
  2=ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとフ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
その他の有用な0−ナフトキノンジアジド化合物として
は、数多くの特許に報告され、知られている。たとえば
、特開昭47−5303号、間開48−63802号、
開開48−63803号、間開48−96575号、同
昭49−38701号、開閉48−13354号、特公
昭3718015号、開閉41−11222号、開閉4
5−9610号、同昭49−17481号公報、米国特
許第2,797,213号、同第3.454.400号
、同第3.544.323号、同第3.573.917
号、同第3,674.495号、同第3.785.82
5号、英国特許第1゜227.602号、同第1.25
1.345号、同第1,267.005号、同第1. 
329. 888号、同第1.330,932号、ドイ
ツ特許第854,890号などの各明細書中に記載され
ているものをあげることができる。
本発明において特に好ましい0−ナフトキノンジアジド
化合物は、分子11.000以下のポリヒドロキシ化合
物と1.2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドと
の反応により得られる化合物である。このような化合物
の具体例は、特開昭51−139402号、同58−1
50948号、同58−203434号、同59−16
5053号、同60−121445号、同60−134
235号、同60−163043号、同61−1187
44号、同62−10645号、同62−10646号
、同(i2−153950号、同62178562号、
特願昭62−233292号、米国特許第3.102.
809号、同第3,126.281号、同第3,130
,047号、同第3.148.983号、同第3.18
4,310号、同第3,188.210号、同第4,6
39゜406号などの各公報または明細書に記載されて
いるものを挙げることができる。
これらのO−ナフトキノンジアジド化合物を合成する際
は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル基に対して1
.2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドを0,2
〜1.2当量反応させる事が好ましく、さらに0.3〜
1.O当量反応させる事が好ましい。
また得られる0−ナフトキノンジアジド化合物は、1.
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及
び導入量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキ
シル基がすべてl、2−ジアゾナフトキノンスルホン酸
エステルで転換された化合物がこの混合物中に占める割
合(エステル化率)は5モル%以上である事が好ましく
、さらに好ましくは20〜99モル%である。
またO−ナフトキノンジアジド化合物を用いずにポジ型
に作用する感光性化合物として、例えば特公昭56−2
696号の明細書に記載されているオルトニトロカルビ
ノールエステル基を有するポリマー化合物も本発明に使
用することができる。
更に光分野により酸を発生する化合物と、酸により解離
するーC−0−C基又は−C−0−3i基を有する化合
物との組合せ系も本発明に使用することができる。
例えば光分解により酸を発生する化合物とアセタール又
は○、N−アセタール化合物との組合せ(特開昭48−
89003号)、オルトエステル又はアミドアセクール
化合物との組合せく特開昭51−120714号)、主
鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーとの組
合せ(特開昭53−133429号)、エノールエーテ
ル化合物との組合せ(特開昭55−12995号)、N
アシルイミノ炭素化合物との組合せ(特開昭55−12
6236号)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマ
ーとの組合せ(特開昭56−17345号)、シリルエ
ステル化合物との組合せ(特開昭60−10247号)
及びシリルエーテル化合物との組合せ(特開昭60−3
7549号、特開昭60−121446号)などが挙げ
られる。
本発明の感光性組成物中に占めるこれらのポジ型に作用
する感光性化合物(上記のような組合せを含む)の量は
10〜50重量%で、より好ましくは15〜40重量%
である。
本発明の組成物中には、前記スルホンアミド基を有する
高分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒド樹脂、
m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p −/) レ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m/p−混合クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m 
−1p−l又はm/p ?n合のいずれでもよい)混合
ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロキシ
スチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン等、公知
のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させることがで
きる。これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平
均分子量が500〜20.000で数平均分子量が20
0〜60,000のものが好ましい。
かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の70
重量%以下の添加量で用いられる。
更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載さ
れているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のよ
うな、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有する
フェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用するこ
とは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。
本発明の組成物中には、感度を高めるために環状酸無水
物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着
色剤として染料やその他のフィシなどを加えることがで
きる。環状酸無水物としては米国特許第4.115.1
28号明細書に記載されているように無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3゜6−ニンドオキシーΔ4−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無
水物を全組成物中の1から15重量%含有させることに
よって感度を最大3倍程度に高めることができる。露光
後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光によ
って酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表としてあげることができる。具体的に
は特開昭50−36209号公報、特開昭53−812
8号公報に記載されているO−ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せ
や特開昭53−36223号、同54−74728号、
同60−3626号、同61−143748号、同61
−151644号、同61−58440号公報に記載さ
れているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組
合せをあげることができる0画像の着色剤として前記の
塩形成性有機染料以外に他の染料も用いることができる
。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染
料および塩基染料をあげることができる。具体的には、
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBO8、オイルブルー#603、オイルブラックBY
1オイルブラックBS1オイルブラックT−505(以
上、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピュ
アブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)
 、メチルバイオレット(C142535)、ローダミ
ンl3(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI 52015)
などをあげることができる。また、特開昭62−293
247号公報に記載されている染料は特に好ましい。
本発明の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエ
チルアセテート、l−メトキシ−2−プロパツール、l
−メトキシ−2−プロピルアセテート、トルエン、酢酸
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、水
、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアル
コール、アセトン、ジアセトンアルコール、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテルなどがあり、これらの溶媒を単独あ
るいは混合して使用する。そして、上記成分中の濃度(
固形分)は、2〜50重量%である。また、塗布量は用
途により異なるが、例えば感光性平版印刷版についてい
えば一般的に固形分として0.5〜3゜0g/rdが好
ましい。塗布量が薄くなるにつれ感光性は大になるが、
感光膜の物性は低下する。
本発明の組成物中には、塗布性を良化するための界面活
性剤、例えば特開昭170950号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、全域光性組成物の0.01−1重量
%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。
本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、アルミニウム板が好ましい。
アルミニウム板には純アルミニウム及びアルミニウム合
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属
とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は
、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得る
程度の量の不純物をも含むものである。
アルミニウム板は、必要に応じて表面処理される0例え
ば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリ
ウム、燐酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽極酸化
処理などの表面処理がなされていることが好ましい。ま
た、米国特許第2714.066号明細書に記載されて
いるように、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に
浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第3,181゜
461号明細書に記載されているようにアルミニウム板
を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶
液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記陽極酸
化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無
機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸または
これらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を
組み合わせた電界液中でアルミニウム板を陽極として電
流を流すことにより実施される。
また、米国特許第3.658,662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為
に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物と
の有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させ
る為に施されるものである。
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じ
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い
、前者のためには、トリクレン等の)8剤、界面活性剤
等が用いられている。
又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ・エツチング剤を用いる方法が広く行われて
いる。
砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学
的な方法のいずれの方法も有効である。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、
軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシ
で擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法とし
ては、特開昭54−31187号公報に記載されている
ような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸ま
たはこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解す
る方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特
開昭55−137993号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい
上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表
面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μとなる
ような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム(反は必要
に応して水洗および化学的にエツチングされる。
エツチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エツチン
グされた表面に、エツチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化すトリウム、水酸化カリウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸二すトリウム、リン酸三カリウム
、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過硫酸
、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよ
りイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバル
ト、ニッケル、銅等の塩はエツチング表面に不必要な被
膜を形成するから好ましくない。
これ等のエツチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3グラムから40グラム/dにな
る様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあ
るいは下回るものであっても差支えない。
エツチングは上記エツチング液にアルミニウム板を浸漬
したり、該アルミニウム板にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング量が0.5〜Log/m
の範囲となるように処理されることが好ましい。
上記エツチング剤としては、そのエツチング速度が早い
という特長から塩基の水溶液を使用することが好ましい
。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット
処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、
硫酸、りん酸、クロム酸、ぶつ酸、はうふつ化水素酸等
が用いられる。
エツチング処理されたアルミニウム板は、必要により水
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スルフアミン酸、
ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組
み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流ま
たは交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽
極酸化処理を形成させることができる。
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概には決定され得ないが一般的には電解液
の濃度が1〜80重里%、ン夜温5〜70゛C1電流密
度0.5〜60アンペア/ d tri、電圧l〜10
0v、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。
これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1.
412.768号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法、米国特許第4.211.6
19号明細書に記載されているような低濃度の硫酸中で
陽極酸化する方法および米国特許第3.511.661
号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極酸化
する方法が好ましい。
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2゜714.066号及
び同第3,181.461号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液ま
たは特公昭36−22063号公報に開示されている弗
化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第4,153
.461号明細書に開示されているようなポリビニルス
ルホン酸で処理する方法がある。
また、上述のように粗面化され、陽極酸化され、更に必
要に応して親水化処理されたアルミニウム板上には水溶
性化合物からなる下塗層を設けることができる。このよ
うな水溶性化合物の例としては特公昭57−16349
号公報に開示されている。水溶性金属塩と親水性セルロ
ースの組合せ(例えば、塩化亜鉛とカルボキシメチルセ
ルロース、塩化マグネシウムとヒドロキシエチルセルロ
ースなど)、米国特許3,511.(i61号明細書に
開示されているポリアクリルアミド、特公昭46−35
685号公報に開示されているポリビニルホスホン酸、
特開昭60−149491号公報に開示されているアミ
ノ酸およびその塩類(Na塩、K塩等のアルカリ金属塩
、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、りん酸塩
等)、特開昭60−232998号公報に開示されてい
る水酸基を有するアミン類およびその塩類(塩酸塩、蓚
酸塩、りん酸塩等)が挙げられ、中でもアミノ酸および
その塩、水酸基をもつアミンおよびその塩は特に好まし
い。このような水溶性化合物の下塗り層は固型分で1■
/nl〜8(lyr/rrrの範囲で設けるのが好まし
い。
本発明の感光性組成物に対する現像液としては、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、水酸化すトリウム、ykl化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリ
ン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶
液が適当であり、それらの濃度が0.1−10ffif
fi%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加
される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応し界面活性剤
やアルコールなどのような有8!!溶媒を加えることも
できる。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
〔発明の効果〕
本発明の感光性組成物は支持体上に塗布する際の塗布性
に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後、露光部を水性ア
ルカリ現像液で使用する際の現像性に優れる。得られた
レリーフ像は耐摩耗性、支持体への密着性が良く、印刷
版として使用した場合、良好な印刷物が多数枚得られる
さらに、U■インキを使用した印刷を行った場合におい
ても良好な印刷物が多数枚得られる。
「実施例」 以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
令刀は[−1 撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた11三ツロフラス
コにp−アミノヘンゼンスルホンアミド170.2g 
(1,0moj!e)及びテトラヒドロフラン700m
t’を入れ、氷水塔下攪拌した。この混合物にメタクリ
ル酸クロリド52.3g (0゜511Io l e)
を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了
後、氷水浴をとり去り、30分間室温下で攪拌し、さら
にオイルハスを用いて60℃に加熱しながら1時間撹拌
した。反応終了後、この反応混合物を水3I!に撹拌上
投入し、30分間攪拌した後、ろ過する事により、N−
(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの
白色固体が得られた。この白色固体は、−水−アセトン
の混合溶媒より再結晶する事により精製する事ができた
(収ff139.3g)。
このように得られたN−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド9.72g (0゜0408mo
ffe)及びメタクリル酸メチル7.93g (0,0
792moj!e)、N、N−ジメチルホルムアミド5
0mj!を攪拌機、冷却管を備えた200m/三ツロフ
ラスコに入れ温水浴により64℃に加熱しながら攪拌し
た。この混合物にα、α′アゾビスイソブチロニトリル
0.246gを加え64℃に保ちながら窒素気流下5時
間PA拌した。
反応終了後、この反応混合物を水21にIII↑下投入
し30分間攪拌したのらろ過、乾燥する事により16g
の白色固体を得た。ゲルパーミェーションクロマトグラ
フィーによりこの高分子化合物の重量平均分子量(ポリ
スチレン標串)を測定したところ49000であった。
(本発明の高分子化合物(a)) 令1 攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた500m1三ツロ
フラスコにメタクリル酸31.0g(0゜36111o
le)、クロロギ酸エチル39.1g (0゜3511
Iofe)及びアセトニトリル200mff1を入れ、
氷水塔下攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36
.4g (0,36mof’e)を約1時間かけて滴下
ロートにより滴下した0滴下終了後、氷水浴をとり去り
、室温下で30分間攪拌し、油浴を取り付けた。
この反、応混合物に、p−アミノベンゼンスルホンアミ
ド51. 711  (0,30mole)を加え、油
浴にて70℃に温めながら1時間攪拌した0反応終了後
、この混合物を水11にかくはん下投入し、30分間撹
拌した。固体をろ過により集め、さらに水500rr+
l!にリスラリ−したのち、ろ過、乾燥する事によりN
−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド
の白色固体が得られた。
(収量46.9g) 次に攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた20QmIl
三ツロフラスコに、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド4.61g(0,Ol 92mo
j!e)、メタクリル酸エチル2゜94 g (0,O
258moffie)、アクリロニトリル0、 80 
g (0,Q l 5mole)及びN、N−ジメチル
アセトアミド20gを入れ、温水浴により65℃に加熱
しながら攪拌した。この混合物に■65(和光純薬a菊
製)0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2
時間攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g、
メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリル0.
80g、N、N−ジメチルアセトアミド及び■−650
.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下
した。滴下終了後さらに65℃で2時間撹拌した。反応
終了後メタノール40gを加え冷却し、水21に攪拌上
投入し、30分間撹拌した後ろ過乾燥する事により15
gの白色固体を得た。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィーによりこの高
分子化合物の重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測
定したところ53,000であった。
(本発明の高分子化合物(b)) 介或鑓主二工 合成例1又は2と同様にして第1表に示される高分子化
合物(C)〜(e)を合成した。これらの高分子化合物
の重量平均分子量(ポリスチレン標4りはいずれも9.
000〜so、oooであった。
令」■(−1 攬11機、冷却管、滴下ロートを備えた500m1三ツ
ロフラスコに2.2−ジヒドロキシメチルプロピオン酸
40 g (0,298mole)及び無水節f111
00 m lを入れ、氷水浴下撹拌した。この混合物に
ピリジン100m1を滴下ロートにより約30分間かけ
て滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、オイルバ
スにて混合物を60℃に加熱しながら2時間攪拌した。
反応終了後、塩酸を加え混合物を酸性とし、分液ロート
を用いてクロロホルムにより抽出した。クロロホルム層
を水洗したのち、無水硫酸ナトリウムにより脱水した。
このクロロホルム溶液により溶媒を減圧留去する事によ
り、2.2−ジアセトキシメチルプロピオン酸の白色固
体57gを得た。
次に、2.2−ジアセトキシメチルプロピオン酸30 
g (0,137mole)及び塩化チオニル20m1
を撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた300ml三ツ
ロフラスコに入れ、80℃に加熱しながら2時間撹拌し
た。
反応終了後、減圧留去により未反応の塩化チオニル等を
十分除去した後、氷水浴をつけこの反応生成物を十分に
冷却した。この反応生成物にpアミノベンゼンスルホン
アミド46.6g (0゜274mole)とテトラヒ
ドロフラン150mlの混合物を滴下ロートにより約1
時間かけて滴下した0滴下終了後、オイルバスにて60
℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後、この反
応混合物を水21に攪拌上投入し、30分間撹拌した後
、濾過する事によりp−(1,1−ジアセトキシメチル
エチルカルボニルアミノ)ベンゼンスルホンアミドの白
色固体が得られた。この白色固体はエタノールより再結
晶する事により精製できた。
(収量26g) 次にp−(1,1−ジアセトキシメチルエチルカルボニ
ルアミノ)ベンゼンスルホンアミド22g (0,06
+5ole)及び水酸化ナトリウム4.8g (0,1
2mole) 、エタノール5 Qmj!、水50m&
を攪拌機、冷却管を備えた3 00m#三ツロフラスコ
に入れ、2時間加熱還流した。この反応混合物を水11
に撹拌上投入し、30分間攪拌した後、濾過する事によ
りp −(1,1−ジヒドロキシメチルエチルカルボニ
ルアミノ)ヘンゼンスルホンアミドの白色固体が得られ
た。この白色固体はエタノールにより再結晶する事によ
り情調できた。 (収量11g) 次にp−(1,1−ジヒドロキシメチルエチルカルボニ
ルアミノ)ヘンゼンスルホンアミド5゜73 g (0
,02mole)及び4,4′−ジフェニルメタンジイ
ソシアナー)5. 2fzr (0,021mole)
 、N、  N−ジメチルアセトアミド18gを攪拌機
、冷却管を備えた100m#三ツロフラスコに入れ、1
00℃に加熱しながら2時間攪拌した。反応終了後この
反応混合物を水500rr+1に攪拌上投入し30分間
攪拌した。析出物を濾過、乾燥する事により10gの白
色固体を得た。ゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ーによりこの高分子化合物の重量=f均分子、!i(ボ
リスヂレン標!1りを測定したところ32000であっ
た(本発明の高分子化合物(r))。
−・h 1〜6および 六 l 厚さ0,30のアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メツシユのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。
10%水酸化ナトリウムに70°Cで60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後20%1(N O3で
中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7vの条件下
で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で1
60クローン/dr/の陽掻時電気量で電解粗面化処理
を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(
Ra表示)であった、ひきつづいて30%のI4□SO
1水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、
20%1I2so、水?8液中、電流密度2A/dr/
において厚さが2.7g/n(になるように陽極酸化し
た。
次に下記感光液(A)の本発明の高分子化合物の種類を
変えて、5種類の感光液(A)−1〜(A)−5を調整
した。
さらに下記感光?&(B)を、本発明の高分子化合物(
f)を用いて調整した。これらの感光液を陽極酸化され
たアルミニウム板上に塗布し、100℃で2分間乾燥し
てそれぞれの感光性平版印刷版(A)−1〜〔八〕−5
及び(B)を作成した。
このときの塗布量は乾燥重量で2.5g/rrrであっ
た。
なお感光液(A)−1〜(A)−5に用いた本発明の高
分子化合物は第2表に示した。
感光液(A) 感光液CB) 次に比較例として下記の感光液(C)を感光液(A)及
びCB)と同様に塗布し、感光性平版印刷版(C)を作
製した。乾燥後の塗布i!tffiは2587mであっ
た。
感光液(C) 感光性平版印刷版(A)−1〜5、(B)及び(C)の
感光層上に線画及び網点画像のポジ透明原画を密着させ
、30アンペアのカーボンアーク灯で70ca+の距離
から露光を行なった。
露光された感光性平版印刷版(A)−1〜5゜CB)及
び(C)をDP−4(商品名:富士写真フィルムIll
製)の8倍希釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現
像した。
得られた平版印刷版(A)−1〜5、CB)及び(C)
を用いてハイデルヘルグ社製KOR型印刷機で市販の通
常インキ及びtJVインキを用いて上質紙に印刷した。
平版印刷版(A)−1〜5、CB)及び(C)の最終印
刷枚数を調べたところ第2表に示すとおりであった。
2表 第2表かられかる様に、本発明の高分子化合物を用いた
平版印刷版(A)−1〜5、〔B〕 (実施例1〜6)
は、比較例の(C)と比べて通常インキ、Uvインキの
どうらを用いた場合においても印刷枚数が多く耐剛性が
非常に優れたものであった。
7〜lOおよび   2 IWさ0.24mmのアルミニウム1反をナイロンフラ
ジと400メツシユのパミストンー水懸濁を用いその表
面を砂目型てした後、よく水で洗浄して基板〔1〕を用
意した。基板〔1〕を10%水酸化ナトリウムに70℃
で20秒間浸漬してエツチングした後流水で水洗後、2
0%II N Oxで中和洗浄、水洗し、12.7Vの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて0.7%硝酸水
溶液中で400クーロン/dr/の電気量で電解粗面化
処理を行い、水洗して基板〔■〕を用、意した。
この基板〔■〕を10%水酸化ナトリウム水溶液中で表
面の溶解量が0.9g/m2になるように処理した。水
洗後、20%硝酸溶液中で中和、洗浄してデスマットを
行なった後、18%硫酸水溶液中で、酸化度nutが3
g/mになるように陽極酸化した。
このようにして得られたアルミニウム板上に、下記の感
光?(I(D)で本発明の高分子化合物の種類を変えた
3種類の感光液(D)−1〜CD)3を塗布した。10
0℃で2分間乾燥し、それぞれの感光性平版印刷版(D
〕−1〜(D)−3を作製した。
さらに下記感光r&(E)および(F)を調製し、(D
J−1〜〔D)−3と同様にして塗布乾燥し感光性平版
印刷版(E)、  (F)を作製した。
これらの感光性平版印刷版の乾燥後の塗布壇は2.5g
/mであった。
なお感光液CD)−1〜CD)−3および(E)に用い
た本発明の高分子化合物は第3表に示した。
感光液CD) 02.3.4−1−リヒドロキシベン ヅフエノンとナフトキノン−1゜ 2−ジアジド−5−スルホニルク ロリドとのエステル化物 (エステル化率;90moj!%)     0.45
 go本発明の高分子化合物      0.77 g
oクレゾール(メタ体60%、オル ト体40%)−ホルムアルデヒド樹 脂(重量平均分子量; 4.000)   0.33 
g02−(p−メトキシフェニル) 4.6−ビス(トリクロロメチル) s−)リアジン        0.02 goナフト
キノン−1,2−ジアジド スルホニルクロリド      0.01goビクトリ
アピュアブルー13011  0.015g(保土谷化
学0聯製の染料) OメガファツクF−1770,004g(大日本インキ
化学工業(■製 フッ素系界面活性剤) 0ジメチルホルムアミド         4go1−
メトキシ−2−プロパツール   9goメチルエチル
ケトン         7g〔感光液 E〕 0 3 3.3’、3’−テトラメチ ル−11’−スピロビーインダン 5.6.7.5’、6’、7’ ヘキソオールとナフトキノン=1 2−ジアジド−5−スルホニルクロ リドとのエステル化物 (特願昭62−233292号明細 書 実施例1の感光物(a)) O本発明の高分子化合物 0クレゾール(メタ体60%、オル ト体40%)−ホルムアルデヒド樹 脂(重量平均分子量; 4.000)   0.33 
FXo2−(p−メトキシフェニル) 46−ビス(トリクロロメチル) s−)リアジン 0ビクトリアピユアブルーB OII (保土谷化学■製の染料) 0メガファツクF−177 (大日本インキ化学工業■製 フッ素系界面活性剤) 0、02 g 0.77g 0、45 g 0.004g 0ジメチルスルフオキシド       5go乳酸メ
チル             8gOメチルエチルケ
トン         7g感光液CF) 感光液(Dlにおいて、本発明の高分子化合物を用いず
にクレゾール(メタ体60%、オルト体40%)−ホル
ムアルデヒド樹脂(重量平均分子量;4,000)を1
.1g使用した感光液。
感光性平版印刷版CD)−1〜(D)−3、(E)及び
(F)を実施例1〜6および比較例1と同様な方法で性
能を評価したところ第3表に示すとうりであった。
第3表かられかるように、本発明の高分子化合物を用い
た平版印刷版(D)−1〜(D)−3、および〔E〕 
(実施例7〜10)は、比較例の(F)と比べて通常イ
ンキ、U■インキのどちらを用いた場合においても、耐
剛性が優れ、非常に優れているものであることがわかる
第  3 表 1゜ 事件の表示 2、発明の名称 3、補正をする者 事件との関係 昭和63年特願第−2700r 7号 感光性組成物

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. スルホンアミド基を有し、水不溶かつアルカリ性水溶液
    に可溶な高分子化合物と、ポジ型に作用する感光性化合
    物を含有する事を特徴とする感光性組成物。
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