JPS6329754A - ポジ形像形成用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、活性化輻射線に露光してレジスト像を形成す
るのに適したポジ形像形成用組成物に関する。

〔従来の技術〕

レノスト組成物は、超小形電子加工品の分野において新
たな挑戦に直面している。顕微鏡的寸法のエツチング化
構造体を大量生産する必要性は、より大きな感度、より
高いコントラストおよびより良好な分光感度の特性をも
ち、従って像解像度および処理融通性が改良され、そし
て最終製品１子装置の単価が減少するレジストへの需要
をもたらした。なお、本明細書において、「感度（ｓｐ
ｅｅｄ）Ｊとは、活性化輻射線に対する化合物の感光度
（ｓｅｎｓｉｔｉｖｉｔｙ）を意味し、現゛像速度と混
同すべきではない。

ボッ形フォトレジスト組成物の有用な群は、光感受性の
インダントキノンジアジド基をもつ繰返し単位含有ポリ
マーと、キノンジアットが活性化輻射線への露光によっ
て分解されなかった領域においてポリマーを不溶化する
傾向のある溶解阻害モノマーとを含む。そのモノマーの
機能の１つは、熱的にケテンに変換して架橋を起こし、
これによって熱抵抗性を提供することであり、これは周
知である。その例は米国特許第４，３６５，０１９号明
Ｍ書に記載されておシ、そのモノマーは例えば１．２−
ナフトキノンジアジドスルホン酸（ＮＤＳ　）でエステ
ル化された１、３．５−）リヒドロキシベンゼンからな
る。特に有用なポリマーの例にはいわゆるノブラック樹
脂が含まれ、これも周知である。ジアゾケトン／ノボラ
ックフォトレジスト系の像／非像の差異は溶解阻害の原
理によって定まる。前記のジアゾケトン／ノボラックポ
ジ形系に基づくレジストは通、常、非常に良好に機能す
るが完全に充分とはいえ々い。

〔発明が解決しようとする問題点〕

よシ高い感度、よシ高いコントラストおよびよ）良好な
分光感光度をもつレジスト組成物が手に入れば、化学の
可能性が大幅に拡大し、そして回路設計者の処理形態に
よシ密度に適合する。本発明の課題は、従来のジアゾケ
トン／ノ？ラック系ト比へて、よシ高い感度、より高い
コントラストおよびより良好な分光感光度を可能にする
ポジ形フォトレジスト組成物を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者は、高分子バインダーと、活性化輻射線に露光
した際に組成物にアルカリ溶解性を提供するのに有効な
増感剤とを含んでなる新規のポジ形フォトレジスト組成
物を提供することによって前記の問題を解決した。本発
明の組成物は、前記の増感剤が構造式 す、Ｒ１は水素原子、ハロケ゛ン原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、アリール基、アラルキル基、アルクアリー
ル基、シアノ基または複素環式基でちり、Ｒ２およびＲ
３は各々独立に水素原子、アリール基−ル基、アラルキ
ル基またはアルクアリール基である）であるか、あるい
は−緒になって１個または２個の縮合炭素環を形成して
いるものとし、Ｒ４およびＲは各々独立してアルキル基
、アルクアリール基、アラルキル基またはアリール基で
あるか、あるいは−緒になって複素環を形成しているも
のとし、２は＝０または−”？’ＪＳＯ２−Ａｒ　Ｔあ
り、Ｒ６およびＲは各々独立して水素原子、アルキル基
、アリール基、アルクアリール基、アラルキル基または
一〇Ｈ基であるか、あるいは−緒になって炭素環または
複素環を形成しているものとする〕で表されるキノンか
らなることを特徴としている。

成る種のキノン化合物は、それｔポジ形フォトレジスト
組成物中に増感剤として配合すると特に有用であること
を本発明者は見出した。そのキノンは、その組成物を活
性化輻射線に露光した場合にレジスト組成物にアルカリ
溶解性を提供する。

これらの化合物については、以下主に、好ましい露光源
すなわち波長範囲２００〜３００　ｎｒｎをもつものと
して定義される深ＵＶ光源および電子ビームに関して説
明するが、他の活性化輻射線についても有用である。こ
れらの感光性キノンは、感光性・ぐイングーとの共用に
、そして非感光性バインダーとの共用に有用である。

本発明のレノスト用に背に有用なキノンは、前記の式（
１）において、Ｒ１が水素原子；・・ロケ゛ン原子例え
ば弗素原子、塩素原子、臭素原子または沃素原子；アル
キル基、好ましくは炭素原子１〜５個のアルキル基例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、インプロピル基、
ブチル基環；アルコキシ基好ましくは炭素原子１〜５個
のアルコキシ基例えばメトキシ基、エトキシ基、グロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等ニアリール基
好ましくは炭素原子６〜１０個のアリール基例えばフェ
ニル基およびナフチル基等；アラルキル基好ましくは炭
素原子７〜１０個のアラルキル基例えばベンジル基等：
アルクアリール基好ましくは炭素原子７〜１０個のアル
クアリール基例えばエチルペンツル基環ニジアノ基；複
素環式基好ましくは窒素環原子少なくとも１個と環原子
合計５個または６個を含む複素環式基例えばトリアゾリ
ル基、ピロリル基、オキサジニル基、ピリジニル基およ
びそれらの異性体であり、Ｒ２およびＲ３は各々独立に
水素原子；前記のとお）のアリール基；基アリール基、
アラルキル基またはアルクアリール基である）；あるい
はＲ２と８３とが一緒に々って１個または２個の縮合炭
素環例えば好ましくは炭素原子６〜１０個を含む環を形
成するのに必要々炭素原子であシ、Ｒ４およびＲ５は各
々独立して前記のとおりのアルキル基、アルクアリール
基、アラルキル基またはアリール基：あるいはＲとＲと
が一緒になって前記のとおりの複素環を形成するのに必
要な原子構成員であり、Ｚは＝０または＝ＮＳ０２−Ａ
ｒ（ここでＡｒは前記と同じ意味である）であり、Ｒ６
およびＲ７は各々独立して水素原子、前記のとおシのア
ルキル基、アリール基、アルクアリール基またはアラル
キル基；−ＯＨ基；あるいはＲ６とＲ７とは一緒になっ
て炭素環好ましくは環原子５個もしくは６個のものまた
は前記のとおシの複素環を形成するのに必要な原子構成
員である式（１）で表される化合物からなる。

好ましい群のキノンは構造式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は前記と同
じ意味である） で表される。

有用な前記式（１１）の具体的キノンとしては以下の化
合物が含まれる。

以下余白 （式中、Ｒ１は前記と同じ意味であり、ＺｌはＲ１につ
いて前記した複素環を完成するのに必要な原子構成員で
ある） で表される。

本発明で有用な式（ト）の具体的なキノンとしては以下
の化合物が含まれる。

更に別の好ましい群のキノンは構造式 ％式％ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＡｒは前
記と同じ意味である） で表される。

本発明において有用な式□□□の具体的なキノンとして
は以下の化合物が含まれる。

ＮＳＯ２Ｃ６Ｈ５ ＮＳＯ２Ｃ６Ｈ５ Ｐｒ Ｎ５Ｏ７Ｃ６Ｈ５ 更に別の好ましい群のキノンは構造式 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６およびＲ７は前記と同
じ意味である） で表される。

本発明において有用な式（■の具体的なキノンは以下の
化合物を含む。

以下余白 本発明のキノン増感剤は公知の化合物であり、当業者に
おいて公知の方法によって調製することができる。式（
１）において２がＮＨ３Ｏ２−Ａ　ｒであるキノンを合
成する一般的反応経絡を以下に示す。

以下余白 工ａｌ：ｐ−ベンゾキノンーモノベンゼンスルホンアミ
ド（りの調製 Ｈ２Ｏ：アセトン（５０：５０）２００ゴ中のｐ−ベン
ゼンスルホンアミドフェノール２５ｇの溶液中に、ＨＯ
７５ｍ／中のＨＩＯ３１８Ｆの溶液を滴加した。反応の
進行と共に溶液は暖かくなり、深赤色に変化し、そして
黄色固体を析出し始めた。合計１時間攪拌し、濾過し、
Ｈ２Ｏで洗浄し、空気乾燥した。収量は２０ｇであり、
融点は１２５〜１３５℃であった。この材料は、更に精
製を必要としないで工程２に使用した。

工程２：２，５−＆ベンジルアミノーｐ−ペンツキノン
モノベンゼンスルホンイミド（幻の調製 無水メタノール３０（１／中に酢酸第二銅４．Ｏｇを溶
解し、続いてジベンジルアミン１５．０ｇを加えた。溶
液は深青色に変化した。ｐ−ベンゾキノンモノベンゼン
スルホンイミド５ｇｔｌ−１度に加えた。反応を光から
守り、４時間攪拌した。沈殿物を戸去し、メタノール続
いて水で洗浄した。メタノールからの１回の結晶化で暗
紫色結晶８ｇを得た。融点１０４〜６℃。

理論値：Ｃ，７５，３：Ｈ，５，５；Ｎ、６．６：Ｓ、
５．０実測値：Ｃ，７５，３：）１，５．３；Ｎ、６．
６；Ｓ、５．０本発明に２いてＭ用な式（Ｈ）のキノン
の合成は、一般に、以下のように進行させることができ
る。

更に詳しくは、２−ジベンジルアミノ−３−クロロ−１
，４−ナフトキノン（ＮＱ−２）を以下のとおり合成し
た。

エタノール（４００，ｄ）中の２，３−フクロロー１，
４−ナフトキノン（４５，４，Ｆ　；　０．２０ｍ　）
およびジベンジルアミノ（７９，８，９：０．４０ｍ）
の溶液を５時間スチーム浴中で還流した。この間に、キ
ノンが溶解し、混合物は深赤色になった。

冷却後、混合物をエーテル（５００ｍ１）で処′理し、
更に５℃に冷却した。濾過によって、沈殿したジベンジ
ルアミノ塩酸塩を除去した。Ｆ液を回転蒸発すると赤色
油が残９、これを熱メタノール（１３００ｄ）中に溶解
し、濾過し、そして放置して徐々に５℃に冷却した。結
晶化した生成物を濾過で集め、乾かした。こうして、融
点７７〜７９℃の２−クロロ−３−Ｓ）ベンジルアミノ
−１，４−ナフトキノンの赤色針状結晶３９ｇ（５０％
）が得られた。本発明において有用な池のキノンは同様
にまたは他の公知の方法によって調製することができる
。

本発明のホゾ形しジスト組成物は、高分子バインダーと
前記のキノン増感剤とからなる。本発明の組成物中には
、場合により、他の添加剤例えば安定剤、界面活性剤お
よび／または現像促進剤（米国特許第４，３６５，０１
９号明細書参照）を加えることができる。像形成用組成
物は、光活性化形のキノンに応答して重合または架橋す
る化合物乞実質的に含有してはいけない。

レジスト組成物の成分の量は、意図する用途および露光
源に応じて変化する。キノン増感剤は・ぐイングーの重
量を基準として、代表的には５〜５０重ｆｔｔ％好まし
くは１０〜３０重量％の範囲で存在する。

有用な可溶性バインダーとしては、フェノールホルムア
ルデヒド樹脂および他のフェノール系ヒリマーが含まれ
る。バインダーの！に好ましい例および好ましい群には
、周知のノブラック樹脂、すなわち、構造式 の樹脂が含まれる。本発明において有用であるものと考
えられる他のフェノール系ポリマーとしては、ポリビニ
ルフェノール、？す（ｐ−ヒドロキシメチレン）おヨヒ
ポリ（ヒドロキシフェニルマレイミド）が含まれる。バ
インダーがフェノール−ホルムアルデヒド樹脂または他
のフェノール系とが必要であり、Ｎに結合するＲ４ｉた
はＲ５の最初の原子は、それに結合する脱離可能水素原
子をもっていることが必要である。この脱離可能水素原
子は、ノゲラック存在下で、アルカリ不溶性キノンカラ
アルカリ可溶性ヒドロキノンへの光変換に対して必要で
あるものと考えられる。

本発明において有用な他の好ましい群のバインダーはポ
リスルホンアミド、特には式 ％式％ （式中、Ｒは水素原子、アルキル基またはアリール基で
ある） の繰返し単位を含有するものである。

式 ％式％ のスルホンアミドも本発明において有用であるものと考
えられる。前記のスルホンアミドはホモポリマーとして
有用であり、あるいはポリスチレン、ポリ（メチルメタ
クリレート）等と共重合することができる。

本発明において有用なバインダーの他の例としては、ポ
リ（ジメチルグルタルイミド）、ビニル付加ポリマー例
えばアクリル酸またはメタクリル酸で共重合したアクリ
レートまたはメタクリレートが含まれる。他のビニル付
加ポリマー（その例は米国特許第４，１４１，７３３号
明？洲書く記載されている）も本発明において有用であ
るものと考えられる。

以下余白 本発明のレジスト組成物は、好ましくは適当な支持体上
に塗布し、そして活性化輻射線例えば元または電子ビー
ム輻射線に像様に接触または投影露光する。有用な「像
」としては、通常の微小像例えば集積回路を形成するの
に有用な像が含まれる。有用な支持体としては、金属例
えばアルミニウム、銅、マグネシウム、亜鉛等のシート
およびホイル；ガラス、および金属例えばクロム、クロ
ム合金、スチール、銀、金、プラチナ等で被覆したガラ
ス；合成ポリマー材料例えばポリ（アルキルメタクリレ
ート）例えばポリ（メチルメタクリレート）、ポリエス
テルフィルムペース例えばポリ（エチレンテレフタレー
ト）、ポリ（ビニルアセタール）、ポリアミド等、ナイ
ロン、セルロースエステルフィルムベース例えば硝酸セ
ルロース、酢酸セルロース、セルロースアセテートグロ
ピオネートおよびセルロースアセテートブチレートが含
まれる。集積回路装置の薬造には、ケイ素または二酸化
ケイ素ウェーハおよび窒化ケイ素およびクロム被覆ガラ
ス板支持体が特に有用である。選択する支持体に応じて
、場合によシ、接着助剤を下塗被覆として最初に塗布す
る。

任意の通常の方法を使用して、組成物を支持体上に塗布
することができる。好ましい方法は適当な溶媒を使用す
るコーチングである。有用なコーテング技術としては、
スピンコーテング、フェーラー（ｗｈｉｒｌｅｒ）コー
チング、スプレーコーチング、カーテンコーチングおよ
びロールコーチングが含まれる。コーチング用のレジス
ト組成物を調製するのに使用する溶媒は、任意の通常の
コーチング溶媒から選択することができる。有用な溶媒
としては、アルコール、エステル、エーテルおよびケト
ンが含まれ、そして特にはエタノール、２−エトキシエ
タノールアセテート、ｎ−ブチルアセテート、４−ブチ
ロラクトンおよびそれらの混合物が含まれる。

皮膜の好ましい最終厚さは、最終用途および使用するエ
ツチング剤（使用する場合）に応じて変化する。好まし
い厚さは例えば約０．５μｍ〜約２０μｍの範囲である
。

米国特許第４，１４１，７３３号明細書に記載の前ベー
キングおよび後ベーキング技術は本発明にとって好まし
い。

レジストの露光に使用する装置は通常のものである。露
光時間は、望ましい時間および使用する装置によって変
化する。好ましい時間は、約５秒〜約９０秒の範囲であ
る。本発明の組成物による活性化輻射線への感反すなわ
ち感光度は、通常のレジスト組成物と比較して顕著に改
良されている。

露光の後で、像形成用組成物を適当なアルカリ現像剤で
現像する。有用な現像剤としては、通常のポジ形現像剤
が含まれる。例えば、水酸化まだはリン酸ナトリウムを
含有するもの、並びに米国特許第４，１４１，７３３号
および欧州特許第２３，７５８号各明細書に記載のもの
、例えばスルフイツト安定剤を含有する４級アルカノー
ルアンモニウム水酸化物は特に好ましい。

現像の後で、通常の湿式または乾式のエツチング法を使
用して、現像工程で保護されずに残留した領域において
支持体をエツチングで除く。

〔発明の効果〕

前記のキノン増感剤は、これを適当な高分子バインダー
内に含有させた場合、輻射線への像様露光の際に、光還
元によって像様の可溶化を提供する。その可溶化は水性
アルカリ性現像剤中での現像を可能にする。

本発明は、ノアゾケトン／ノゼラック系と比較して、よ
り高い感度、よシ高いコントラスト、およびよυ良好な
分光感光度を可能にするホゾ形しノスト系を提供する。

前記のレジストが深ＵＶおよび電子に感受性である点が
本発明の別の利点である。

差のある溶解度を提供する同じ輻射線感受性化合物が、
前記のレジストに対して退色（プリーチアウド）色を提
供することもできる点が本発明の更に別の利点である。

米国特許第４．５　ｓ　２，８３０号明細書には、光開
始剤を含有するネガ形フォトレソスト組成物が記載され
ている。有用なものとして記載されている光開始剤とし
ては、キノンを含めて、有機カルｄ＝”ニル化合物が含
まれる。しかしながら、光開始剤はモノマーの架橋を開
始し、ネガ形組成物を生成する作用をする。米国特許第
３，４６２，２６７号明細書には、増感剤を含むネガ形
印刷板が記載されている。有用なものとして記載されて
いる増感剤としては、プレポリマーの重合を活性化して
ネガ形系を形成するキノンが含まれる。従って、これら
の文献は、露光の際にアルカリ溶解度を増加する機能を
もつホゾ形像形成用組成物中のキノン増感剤の使用を教
示も示唆もするものではない。

〔実施例〕

以下、実施例によって本発明を具体的に説明する。

例１：　本発明のキノン−ノボラック系とノアジケトン
−ノボラック系との比較 以下のコーチング用溶液を調製した。

ノボラック樹脂（リ　　　　　　　　６Ｉアセトンニメ
チルエチルケトン（１：１）　　　１４　９光増感剤（
キノンまたはノアジケトン）　　　　１．２４Ｍ光増感
剤（ｐｈｏｔｏａｅｎｓｉｔｉｚｅｒ　）としては対照
としてのＮＤＳ並びにＮＱ−１６、ＮＱ−２、ＩＱ−１
およびＩＱ−２の各キノンが含まれる。

ＮＤＳ 前記のコーチング溶液をポリ（エチレンテレフタレート
）支持体上に３μｍの厚さで２６〜２７℃で塗布し、３
０分間６０℃で乾かした。各コーテングサンプルを、階
段平板（ｓｔｅｐ　　ｔａｂｌｅｔ）および解像テスト
ターゲットを通してＩＢＭ■ｃｒｏｃｏｐｌｅｒＩＩＤ
蕗元装置に１０秒秒間光した。露光したＮＤＳ対照サン
プルはブリーチオフ（ｂｌｅａｃｈ　ｏｆｆ）　して黄
色地上にポジ透明像を与え、これは黄色光下では見えな
かった。これとは対照的に、本発明のオレンノー赤色キ
ノンサンプルはプリーチアウド（ｂｌｅａｃｈ　ｏｕｔ
）像を生成し、これは黄色光下で容易に見ることができ
た。露光後のサンプルを、１％ＮａＯＨ現像剤溶液中で
３０〜９０秒間処理した。

ＮＤＳ対照サンプルは、キノンと比較して、よシ低いコ
ントラストおよびよ）低い感度のポルシスト像を与えた
。その分光応答は３３０〜４８０ｎｍに限定され、最大
４２０　ｎｍであった。ＮＱ　−１およびＮＱ−２の分
光感光度は２５０　ｎｍ〜６３０　ｎｍへ広がシ、最大
４９０〜５００ｎｍであった。ＩＱ−１の分光感光度は
２５０　ｎｍ〜５８０　ｎｍへ広がり、最大は４００　
ｎｍであった。ＩＱ−２はλｍａｚ４２０ｎｍを示し、
カットオフ４８０　ｎｍを示した。各波長におけるＮＤ
ＳｌＮＱ−１６およびＩＱ−２の絶対センシトメトリー
（ｒＱｊ／ｃｒｎ”）を表Ｉにまとめた。ｍ　ｊ　７ｃ
ｍ”の数値は、レジスト層の半分の厚みを除くのに必要
な光エネルギーを示す。

ＮＱ−１６およびＩＱ−２のサンプルはクロムクラッド
ガラス上に２００Ｏｒｐｍおよび３５００　ｒｐｍでス
ピンコーチングして各々２．２μｍおよび１．８μｍの
厚さのフィルムを形成した。それらを、高解像テストタ
ーゲットを通して水銀光源に露光しく１５秒）、そして
１１ＮａＯＨ中で現像して優れたＩジレジスト像を生成
した。解像された線の対は１μｍの線の幅であった。

例２：　ノ？ラック樹脂中の有効な増感剤でおる他のキ
ノン 例１に記載の方法で、以下に示すキノンを試験したとこ
ろ、ノゼラック樹脂中で有効な増感剤であることが見出
された。それらのλ。８Ｘを表■に示す。

以下全白 表　　　　■ ＮＱ−１４９３ＮＱ−１５５０Ｏ ＮＱ−３４６３ＮＱ−１７４８Ｏ ＮＱ−４４９３ＮＱ−１８４９１ ＮＱ−５５０２ＮＱ−１９４９Ｏ ＮＱ−６５０８ＮＱ−２０４６Ｏ ＮＱ−７４３２ＩＱ−３４００，５０ＯＮＱ−８５１０
ＩＱ−４４２Ｏ ＮＱ−９４５３ＩＱ−５４２Ｏ ＮＱ−１０４９２ＩＱ−６４２Ｏ ＮＱ−１１４３２ＩＱ−７４３Ｏ ＮＱ−１２４９５ＡＱ−２４１２，４８３ＮＱ−１３４
８８ＢＱ−１３６８，５１ＯＮＱ−１４４９０ キノンＮＱ−２１、ＮＱ−２２、ＮＱ−２３、ＮＱ−２
４、ＡＱ−４、ＡＱ−５およびＡＱ　−６について同じ
方法で試験をしたが、レジスト像が得られないことが分
かりはＲ５の最初の原子上に脱離可能水素原子を含有し
ない他のキノンについてもノ？ラック内で試験したが、
レジスト像を与えなかった。これらのキノンはノボラッ
クのフェノール性部分と強い電荷移動錯体を形成し、そ
の結果、光化学変化を受ける能力が遮断されるものと考
えられる。

例３：　ノボラック中でのＮＱ−１６およびＮＱ−２の
電子ビーム感光度 例１と同様の方法で調製したＮＱ−１６およびＮＱ−２
のコーチング用溶液のサンプルをクロムクラッドガラス
上にスピン速度５０００　ｒｐｍでスピンコーテングし
て１μｍのフィルム皮膜を形成した。次に、これらの皮
膜を３０分間９０℃でベーキングし、１０ｋＶ電子ビー
ムに露光した。露光サンプルを９０秒間１％ＮａＯＨ現
像剤で処理し、ポルシスト像を形成した。電子に対する
感光度はＮＱ−１６およびＮＱ　−２に関して約４　Ｘ
　１０−６クーロン／ｃ１ｎ２であるものと推定された
。

例４：　キノン／ノｄ？ラック系の親油性ぶ・よびイン
キ受理性 ＮＱ−１４を増感剤として使用すること以外は例１と同
様の方法でコーチング用溶液を調製した。この溶液をリ
トグラフィー紙支持体上に塗布して？ジレノスト像を形
成した。次に、これらの像に水と共に黒色印刷インキを
与えた。未露光ｉｉ域だけがインキを受は取り、地の部
分は水だけを受は取り透明のまま残ることが観察された
。

例５：　ポリスルホンアミド含有レジスト組成物中のキ
ノンの光還元 以下のコーチング用溶液を需要した。

以下余白 溶液Ａ溶液Ｂ溶液Ｃ 溶　　　媒　１４　７　　アセトン　アセトン　アセト
ンバインダー　　６　Ｉ　ノボラック　Ａ２Ｃｙ”　　
　Ａ２Ｃｙ増感剤　１．２ｇＮＱ−２２ＮＱ−２２ＮＤ
Ｓ”Ａ２Ｃｙ　４リスルホンアミドーポリ（エチレン−
ｃｏ−１，４−シクロヘキシレンツメチレン−１−、メ
チル−２，４−ベンゼンノスルホンアミド）前記のコー
チング溶液をポリ（エチレンテレフタレート）支持体上
に３μｍの厚さで２６〜２７°Ｃで塗布し、３０分間６
０°Ｃで乾かした。各コーチングサンプルを、階段平板
（ｓｔｅｐ　　ｔａｂｌｅｔ）および解像テストターゲ
ットを通してＩＢｈｉ■ｃｒｏｃｏｐｉｅｒＩＩＤ露元
装置に１０秒間１４元した。露露光たサンプルを３０秒
間１　％　ＮａＯＨ現像剤溶液中で処理した。

皮膜Ａは観察できる変化を与えなかった。これは光化学
的変化が起きなかったことを示すものである。皮膜Ｂは
焼出しく　ｐｒｉｎｔ−ｏｕｔ）像を生成し。

これは現像の際に、黄色地上にポジ透明像を与えた。皮
膜Ｃもブリーチアウド像を生成したが、水性ＮａＯＨ中
で像を現像すると赤色色素が形成され。

これは激しく攪拌しても現像剤溶液中へ洗い落とすこと
ができなかった。本例は、ＮＱ−２２がＡ２Ｃ）ｒ中で
有効な増感剤であり（）叶ンラック中では有効ではない
が）、Ａ２Ｃｙバインダーとの組合せで、Ａ２ＣｙとＮ
ＤＳ　（ジアゾケトン）とよりも良好なポジ形像系を形
成することを示している。

例６：Ａ２Ｃｙバインダー併用下のＮＱ−２、アミノキ
ノンの光還元 ＮＱ−２２の代りにＮＱ−２を使用すること以外は、例
５のＡと同様のコーチングを調製した。このコーチング
は露光によってブリーチアウド像を形成し、これを３０
秒間１　Ｚ　ＮａＯＨ中で現像してポジオレンジ−赤色
レジスト像を形成することができた。

増感剤としてＮＱ−２を含むコーチング用溶液のサンプ
ルをクロムクラッドガラス上にスピン速度５０００ｒｐ
ｍでスピンコーチングして１．８μｍの乾燥層を形成し
た。次に、これらの皮膜を３０分間９０℃でベーキング
し、高解像試験体（水銀蒸気光源１５．０秒）を通して
露光した。１５秒間１％ＮａＯＨ溶液で現像すると、１
μｍ未満の良好に解像された線を示す優れたレノスト像
が生成した・本例は、ＮＱ−２も、バインダーとしての
Ａ２Ｃｙと併用して増感剤として有効に使用することが
できることを示している。

例７二Ａ２Ｃ７パインダー併用下の他の感光性キノンの
増感剤としての効果 以下に示すキノンについて、増感剤対バインダー比１：
５でＡ２Ｃｙポリスルホンアミド中で試験した（例５Ｂ
）。露光後のフィルムを３０秒間１％ＮａＯＨ中で処理
し、続いて水洗した。これらコーチングのすべてが、各
種の速度で焼出（ｐｒｉｎｔ−ｏｕｔ）またはブリーチ
アウド像を形成することによシ、露光に対して肯定的に
応答した。しかしながら、それらの現像特性は大幅に異
なった。成るものは優れた像の差異を与え、従って優れ
た像品質を与えた。他の成るものは、恐らく溶解を阻害
する能力が低いために、望ましさの程度が劣る像の差異
を与えた。しかしながら、これらのキノンをノゼラノク
中で試験すると、すべてのもの（ト）Ｑ−１６およびＮ
Ｑ−２ニアミノ置換キノン）が否定的な結果を与エタ。

Ａ２Ｃ７ポリスルホンアミドの試験シリーズの結果を表
■にまとめる。

以下余白 表　　　　■ ＮＱ−２４９０優秀 ＮＱ−１６４７７優秀 ＮＱ’−２１３３５良好 ＮＱ−２２３３５良好 ＮＱ−２３３２７可 ＮＱ−２４３３２良好 ＡＱ−４４００良好 ＡＱ−５４０７優秀 ＡＱ−６４０６優秀 例８：　キノンに対する有効なバインダーとしての他の
ポリスルホンアミドの有用性 Ａ２Ｃ７ポリマーの代りに次の２種の別の；？リスルホ
ンアミドＡ５およびＪＷｌｏｏを使用して、以下のコー
チング用だ液によシ、例５と同様にして皮膜を調製した
。

以下余白 溶　　　媒　　１４　　＆　　アセトン　　１４　　＆
　　アセトンバイングー　　　６９に５　　　　　３．
９ＡＶ１００増感剤　１．２，９　ＮＱ−２１０，６Ｊ
　ＮＱ−２１これらを例５と同様に露光し、処理したと
ころ良好なポジレノスト像が生成した。

例９：　バインダーとしてのポリ（メチルメタクリレ−
）　−ｃｏ−メタクリル酸）と併用下の有効な増感剤と
してのキノンの使用 ポリスルホンアミドの代りに月ソリ（メチルメタクリレ
−）−ＣＯ−メタクリル酸）コ月？リマ−（ＭｍＥ−７
５）”）を使用して同様の試験を実施した。

表■に、使用したキノンとＭｍＥ−７５中での増感剤の
有効性を示す。

表　　　■ ＮＱ−２２３３５ ＮＱ−２３３２７ ＮＱ−２４３３５ ＢＱ−２３１０ ＡＱ−４４００

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、高分子バインダーと、活性化輻射線に露光した際に
   組成物にアルカリ溶解性を提供するのに有効な増感剤と
   を含んでなるポジ形像形成用組成物において、前記の増
   感剤が構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｑは基▲数式、化学式、表等があります▼また
   は基▲数式、化学式、表等があります▼であり、Ｒ＾１
   は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基アルコキシ基、
   アリール基、アラルキル基、アルクアリール基、シアノ
   基または複素環式基でありＲ＾２およびＲ＾３は各々独
   立に水素原子、アリール基アルクアリール基または基▲
   数式、化学式、表等があります▼（ここでＡｒは各々独
   立にアリール基、アラルキル基またはアルクアリール基
   である）であるか、あるいはＲ＾２とＲ＾３とは１個ま
   たは２個の縮合炭素環を形成するのに必要な炭素原子構
   成員であり、Ｒ＾４およびＲ＾５は各々独立してアルキ
   ル基、アルクアリール基、アラルキル基またはアリール
   基であるか、あるいはＲ＾４とＲ＾５とは複素環を形成
   するのに必要な原子構成員であり、Ｚは＝Ｏまたは＝Ｎ
   ＳＯ＿２−Ａｒ（ここでＡｒは前記と同じ意味である）
   であり、Ｒ＾６およびＲ＾７は各々独立して水素原子、
   アルキル基、アリール基、アルクアリール基、アラルキ
   ル基または−ＯＨ基であるか、あるいはＲ＾６とＲ＾７
   とは炭素環または複素環を形成するのに必要な原子構成
   員である〕 で表されるキノンからなることを特徴とする、前記のポ
   ジ形像形成用組成物。