JPS59184209A - 光感受性重合体 - Google Patents

Abstract

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め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な光感受性化合物に関する。更に詳しくは
本発明は重合体状ベンゾインエステルのポジとして働く
光感受性化合物である新規な光感受性化合物および前記
化合物を含有するエレメントに関する。

石版印桐およびその他のタイプの印刷プレートおよびホ
トレジストの製造に使用するためのポジとして働く化合
物は既知である。像様露光された場合にはこれら化合物
は露光１画像部分で溶媒可溶性となる。未露光部分は使
用される特定の溶媒中では不溶性に留まる。Ｊ．Ｋｏｓ
ａｒ氏著「Ｌｉｇｈｔ　Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ｓｙｓｔ
ｅｍｓ」（１９６７年版）は多数のポジとして働く化合
物を列記している。

ポジとして働く化合物のいくつかの例はジアゾニウム塩
、ｏ−キノンジアジド化合物などである。

前記のポジとして働く化合物はそれらが劣った保存安定
性および熱安定性を示すという不利点を有している。ジ
アゾニウムおよびジアジド基は例えば昇温においてかま
たは室温に長期間保存した後では容易に分解する。

熱によって実質的に影響を受けずそして従って保存安定
性であるポジとして働く重合体状光感受性化合物に対す
る需要が存在している。

本発明によれば、ｍＡ、ｎＢおよびｐＣ（式中ｍ、ｎお
よびｐはそれぞれの単量体成分の平均の累加頻度であり
そしてそれぞれ１〜８００、０〜８００および０〜８０
０の範囲の値を有しているがただしｍ、ｎおよびｐの合
計は２〜１６００の範囲である）の割合における反復単
位Ａ、ＢおよびＣすなわち より本質的になる光感受性重合体が与えられるものであ
り、而してここに Ｒ１は３′−メトキシ、３′，４′−ジメトキシまたは
３′，５′−ジメトキシであり、 Ｒ２は３−メトキシ、３，４−ジメトキシ、３，４−ベ
ンゾまたは水素であり、 Ｒ３は水素またはメチルであり、 Ｒ４はＣＯＯＨ，ＳＯ３Ｈ，１〜４個の炭素原子を含有
するω−カルボキシアルキルまたはカルボエトキシモノ
フタレート、β−スルホカルボエトキシであり、 Ｒ５は水素またはメチルであり、 Ｒ６は水素、メチルまたはＣＯＯＨであり、Ｒ７はＣＮ
、−ＯＯＯＲ１０（そのＲ１０は１〜１０個の炭素原子
を含有するアルキルである）、β−ヒドロキシアルキル
（そのアルキルが１〜４個の炭素原子を含有する）であ
り、 Ｒ８は水素またはメチルであり、そしてＲ９は水素また
はメチルである。

この光感受性重合体状化合物は、本質的に少くとも１種
の前記定義の前記重合体状化合物および場合により下記
のその他の添加剤よりなる光感受性層を有する支持体を
包含するポジとして働く光感受性エレメントの製造に使
用することができる。ポジとして働く光感受性エレメン
トおよびそれらの製造法および使用は以下により詳細に
記載されている。

本発明の光感受性重合体状化合物は実施例に記載の方法
により製造される。実施例中に説明されている重合体状
化合物に対する分子量は重量平均分子量（Ｍｗ）および
数平均分子量（Ｍｎ）の表現で表わされている。重量平
均分子量および数平均分子量は当業者には既知の重合体
標準を使用したゲル透過クロマトグラフイー法により測
定される。使用される標準は測定される化合物の構造に
可及的近い重合体である。

本発明の重合体状化合物の特別の特性は重合体のメトキ
シベンゾイン（３′−、３′，４′−または３′，５′
−）基である。この化合物はその他の光感受性基の存在
しない場合でもそれ自体で光感受性である。重合体状化
合物の前駆体例えばポリ（３′，５′）メトキシベンゾ
インアクリレート）は以下の例１に記載されている。例
えば２−フエニル−１，３−ジチアンは「Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．」第３１巻第４３０３頁（１９６６）記載の
ようにして製造される。次いで「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ
．」第４０巻第２３１頁（１９７５）記載の一般法によ
ってこの化合物を使用して２−〔１−ヒドロキシ−１−
（３，５−ジメトキシフエニル）〕メチル−２−フエニ
ル−１，３ジチアンを製造する。次いで「Ｂｕｌｌ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ（Ｔｏｋｙｏ）」第４５巻
第３７２４頁（１９７２）に記載の一般法に従うチオケ
タール加水分解によって３′，５′−ジメトキシベンゾ
インが製造される。この化合物を既知のエステル化法に
よってアクリロイルクロリドと使用してエステル化して
３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリレートとし、
そして次いで既知の方法で重合させて本発明の重合体を
生成せしめる。例３に説明されている置換ベンゾインア
クリレート単量体の製造のためのそれに代る方法は次の
ものである。アルデヒド例えばβ−ナフタルデヒドおよ
びジチオール例えば１，３−プロパンジチオールをＨＣ
ｌで飽和させた溶媒例えばクロロホルム中で反応させて
２−β−ナフチル−１，３−ジチアンを生成せしめる。

無水テトラヒドロフラン中の単離された生成物にドライ
アイス／アセトン温度でｎ−ブチルリチウム／ヘキサン
を加える。次いで同一溶媒中の３，５−ジメトキシベン
ズアルデヒドを加え、そして撹拌し、次いで６０分後に
溶媒中のアクリロイルクロリドを加えて３，４−ベンゾ
−３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリレートチオ
ケタールを生成させる。前記したチオケタールの加水分
解は３，４−ベンゾ−３′，５′−ジメトキシベンゾイ
ンアクリレートを生成させる。前記の方法によって前記
化合物の同族体を製造しうるということが確認された。

最終重合体中の種々の反復単位の比率は共重合の間に存
在せしめられる反応成分の量の制御によって調節できる
。

前記に説明されているものを含めて本発明に使用されて
いる単量体は前記定義の方法によってホモ重合させるこ
とができるしまたは１種または２種の単量体と共に共重
合させることができる。この共重合に適当な単量体とし
てはアクリル酸、２−アクリルオキシエチルフタレート
、−アクリロニトリル、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ヒニルアセテート、ヒニルメチルエーテル、スチレ
ン、マレイン酸無水物、スルホン酸例えばβ−スルホエ
チルアクリレート、ＡＭＰＳ■（ルブリゾール社製造の
スルホン酸）その他があげられる。単量体の選択は重合
体に対する最終用途例えば印刷プレート、ホトレジスト
または石版（リス）フイルムにより変動する。写真速度
はアルカリ可溶性基金含有する単量体例えばアクリル酸
、２−アクリルオキシエチルフタレートを使用して重合
体の溶解度を変化させることにより大きく強化される。

その結果露光画像部分をアルカリ性現像液に可溶性すな
わち除去可能とするには非常に少量の光化学解裂しか要
求されない。共重合体は出発単量体のモル比により特性
づけされる。すなわち以下の表２においてはモル比ｍ：
ｎ：ｐは出発単量体のモル比を意味している。ｐが０の
場合にはｍ：ｎの比はｎ／ｍとして表１に、またはｎ／
ｍとして特許請求範囲に表わされうる。

本発明の光感受性化合物はポジとして働くコーテイング
組成物中に使用することができる。

所望により染料または顔料、可塑剤、増感剤、共結合剤
およびその他の添加剤を光感受性化合物と共に存在させ
ることができる。適当な可溶性染料としてはＣＩ１０９
赤色染料、トリアリールメタン染料例えばビクトリアブ
ルーＢベース、アントラキノン染料例えばセブロンブル
ー２Ｇ、チアジン染料例えばメチレンブルーＡ、ＣＩア
シツドイエローＮｏ．９９とＣＩベーシツクバイオレツ
トＮｏ．１０とのアゾ染料コンプレツクス、アニリンブ
ルーブラツクその他があげられる。

有用な任意の可塑剤をその全重量の０〜２５重量％量で
光感受性組成物中に存在させることができる。有用な可
塑剤としてはトリエチレングリコールジアセテート、ト
リクレジルホスフエートおよびその他の既知のトリアリ
ールおよびトリアルキルホスフエート、ジブチルおよび
ジオクチルフタレート、ジブチルアジペート、２−ブト
キシエタノール、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールシフチレート、０４〜Ｃ１０脂
肪酸の多価アルコール例えばジエチレンおよびトリエチ
レングリコール、グリセロールおよびポリエチレンオキ
シドおよびそれらのアルキルエーテルとのエステル、ノ
ニルフエノキシポリ（エチレンオキシ）エタノール、Ｎ
−エチル−ｐ−トルエンスルポンアミドその他があげら
れる。

この組成物の光感受性特にある波長領域の感度を改善さ
せる任意の増感剤はその０〜２０重量％量でその中に存
在させることができる。キサントンおよび置換キサント
ン化合物が好ましい。

場合により光感受性組成物は組成物の０〜８０重量％量
の重合体状結合剤を含有しうる。一つのそのような結合
剤は光感受性組成物の全重量基準で約１０重量％までの
量のポリエポキシド樹脂である。その他の任意の結合剤
としてはポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ
ビニルアルキルエーテル、フエノール／ホルムアルデヒ
ド樹脂その他があげられる。

印刷プレートおよび密着石版フイルムを製造するために
は、１種またはそれ以上の本発明の光感受性化合物を適
当な添加剤および適当な有機溶媒と共に通常の方法例え
ばキャステイング、浸漬、スプレーおよび渦動（ｗｈｉ
ｒｌｉｎｇ）によって寸法的に安定な有利には親水性表
面を有する剛性または可撓性支持体に適用する。適当な
溶媒としてはジオキサン、テトラヒドロフラン、アセト
ン、トルエン、メチレンクロリド、Ｎ−メチルピロリド
ンその他があげられる。形成される層の乾燥厚さは０．
０００１〜０．１００インチ（０，００２５〜２．５４
ｍｍ）、好ましくは０．０００１〜０．０１０インチ（
０．００２５〜０．２５ｍｍ）、そして最も好ましくは
０．０００１〜０．０００５インチ（０．００２５〜０
．０１３ｍｍ）である。適当な支持体としては例えばア
ノード処理したアルミニウムシート亜鉛、銅、クロム、
ガラス、重合体フイルム例えばポリエチレンテレフタレ
ート、再生セルロース、セルロースアセテート、ビニル
重合体および共重合体例えばポリアルキルアクリレート
、板紙、布、パーチメント紙、ポリエチレンおよびポリ
プロピレンコーテイングした紙、およびポリアミド例え
ばナイロンがあげられる。特に石版印刷のための印刷プ
レート製造に特に有用な支持体としては、アノード処理
アルミニウム、グレイン化アルミニウム、銅および亜鉛
からつくられた支持体があげられる。支持体は放射感受
性コーテイングの適用の前に前処理例えば、既知の下塗
り層例えばゼラチン、ポリアクリルアミドおよびビニリ
デンクロリドとアクリル単量体の共重合体で例えば予め
コーテイングすることができる。支持体は壕だ支持体か
らの不要の反射を除去するためのフイルター層またはハ
レークヨン防止層を有していることができる。

次いで乾燥エレメントを画像含有透明体を通して通常の
露光装置中で約０．５〜６０分好ましくは０．５〜１０
分露光させる。露光時間は活性放射源の出力、光源から
エレメントまでの距離および光感受性層の組成に依存す
る。活性放射源は２０００〜６０００Åの波長を示すべ
きである。キセノンレンプ、高圧水銀蒸気ランプ、カー
ボンアーク灯、ブラツクライトブルーホトポリマーラン
プその他が有用である。

像様露光の後で路光画像部分をアルカリ性現像液で洗去
することができる。現像液のｐＨは一般には７．５より
高い。適正なｐＨは実験により容易に決定することがで
きる。有用な現像液および現像液混合物としてはＮａ２
ＣＯ３／ＮＨ４Ｃｌ例えばそれぞれ８％／０．３％、１
０％／１％、ＮａＨＰＯ４（ＰＨ７．５）、Ｎａ２ＣＯ
３／ＮａＨＣＯ３（９／１）（例えば３％水性溶液）、
０．２ｇのＮａＯＨ，３０ｍｌの２−プロパノール、１
０ｍｌトリエタノールアミンおよび６０ｍの水からなる
混合物、以下の例３Ｃおよび４Ｃに記載の水／ブチルカ
ルビトール／グリコール／トリエタノールアミン／Ｎａ
ＯＨ溶液、水／アルコール／トリエタノールアミン／Ｎ
ａＯＨ溶液〔例えばそれぞれ６０ｍｌ、３０ｍｌ（２−
プロパノール）、１０ｍｌおよび０．２ｇのもの〕、５
％またはそれ以上の水性炭酸ナトリウム、０．５％また
はそれ以上の水酸化ナトリウム、１０％ジエチレングリ
コールモノブチルエーテルおよび水その他があげられる
。

ホトレジストの製造のためには前記の乾燥層または前記
の適当な溶媒中の本発明の光感受性化合物を通常の方法
によってエツチングさせるべき基材例えば清浄化し脱脂
した銅被覆印刷回路板に適用する。レジスト層の乾燥厚
さは約０．０００３〜約０．０１インチ（約０．００Ｂ
ｍｍ〜約０．２５ｍｍ）またはそれ以上である。例えば
印刷回路の画像を通して露光させそして水性アルカリま
たはその他の適当な現像液で洗去した後、被覆を除去さ
れた銅層部分を例えばＦｅＣｌ３、硝酸その他でエツチ
ングすることができる。銅層のエツチングされなかった
部分は次いで溶媒による処理によって被覆を除去するこ
とができる。

好ましい様式は例４に説明されているが、ここにその重
合体状化合物はコポリ（３′，４′−ジメトキシベンゾ
インアクリレート／２−アクリルオキシエチルフタレー
ト）である。

アルコキシベンゾインの重合体状エステルは活性線放射
に像様露光させるとアルカリ可溶性となり、現像後に陽
画像を与える。適当な支持体上の乾燥層の形態において
は、重合体状化合物は密着石版印刷フイルムおよび印刷
プレート、レリーフ印刷プレートおよびホトレジストと
して使用することができる。この光感受性エレメントは
良好な熱安定性および保存性を有している。

本発明は以下の実施例により説明されるが、ここに部お
よび％は特記されていない限りは重量基準である。

例１ 本例は本発明の重合体のベンゾインエステルの前駆体た
る３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリレートの合
成およびそのホモ重合および共重合生成物および光画像
形成性エレメント中における本発明の重合体状化合物の
使用を説明する。

Ａ　３′，５′−メトキシベンゾインアクリレートの合
成 （１）２−フエニル−１，３−ジチアン〔「Ｊ．Ｏｒｇ
．Ｃｈｅｍ．第３１巻第４３０３頁（１９６６）参照〕
３００ｍｌの水冷クロロホルム中の１，３−プロパンチ
オール（４０．０ｍｌ、０．３９５モル）およびベンズ
アルデヒド（４０．０ｍｌ、０．３９３モル）の溶液に
飽和に達するまで乾ＨＣｌを泡として通した（５分）。

この混合物を室温で３０分撹拌し、そしてクロロホルム
溶液を１００ｍｌの水で２回、１００ｍｌの１０％水性
ＫＯＨで３回そして１００７！の水で２回洗い、そして
無水Ｎａ２８（５４上で乾燥させた。

この混合物をろ過し、そしてクロロホルムを蒸発により
除去すると白色結晶性固体が生成した。

この固体を２００ｍｌのメタノールから再結晶すると６
１ｇ（７７％）の白色結晶（ｍ．ｐ．７２〜７３℃）が
得られた。

（２）２−〔１−ヒドロキシ−１−（３，５−ジメトキ
シフエニル）〕メチルー２−フエニル−１，３−ジチア
ン １８ｍｌの２．０３５モルｎ−ブチルリチウム／ヘキサ
ン（３６．４ミリモル）をドライアイス／アセトン浴中
で冷却された７３ｍｌの乾燥テトラヒドロフラン（ナト
リウムベンゾフエノンケチルより蒸留）中の７．１ｇの
２−フエニル−１，３−ジチアン（３６．２ミリモル）
の撹拌溶液に窒素下で加え、そして１時間冷却撹拌した
。６．Ｏｇの３，５−ジメトキシフベンズアルデヒド（
３６．２ミリモル）の１０ｍｌの乾燥テトラヒドロフラ
ン中の溶液を次いで加えた。得られた溶液を室温まで加
温しそして３００ｍｌの水に注いだ。メチレンクロリド
を加えそして水性溶液をそれぞれ１００ｍｌの３区分量
のメチレンクロリドで抽出し、そして合した抽出液を１
００ｍｌの水、１００ｍｌの７％水性ＮａＯＨそして１
００ｍｌのＨ２Ｏで洗い、そして無水に２００３上で乾
燥させた。ろ過しそして溶媒を蒸発させると油状物が得
られた。その赤外線およびＮＭＲスはクトルは前記チオ
ケタールがこの粗製油状物の主成分であることを示した
。

（３）３′，５′−ジメトキシベンゾイン９９％水性ア
セトン３００ｍｌ中で８．５ｇの塩化第２銅および４．
０ｇの酸化第２銅と混合された前記（２）で製造された
粗製の化合物９．４ｇを７５力間還流させそして次いで
一晩室温で撹拌した。

アセトンを加え、この混合物をろ過し、固体分をアセト
ンで洗い、そして合したアセトン溶液を真空蒸発させた
。残渣をベンゼンにとり、水を加え、不溶物をろ別しそ
してベンゼン溶液を１００ｍｌの水で３回、１００ｍｌ
の飽和水性Ｎａ２ＳＯ４で１回洗いそして無水Ｎａ２Ｓ
Ｏ４上で乾燥させた。

溶媒をろ過し、そしてストリツピングすると油状物が得
られた。これはヘキサンで洗った後、結晶化した。約１
．５ｇ（＞２１％）の３′，５′−ジメトキシベンゾイ
ンが得られた。ｍ．ｐ．９８〜１０４℃。

（４）３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリレート
１０ｍｌのメチレンクロリド中の前記（３）で製造され
た３′，５′−ジメトキシベンゾイン０．８ｇ（２，９
４ミリモル）および１．３ｍｌのジメチルアニリンの氷
冷溶液に１０ｍｌのメチレンクロリド中の１．５ｍｌ（
１８ミリモル）のアクリロオイルクロリドの溶液を徐々
に窒素下に加えた。添加完了後、この混合物を一晩室温
で撹拌し、メチレンクロリドで希釈し、７５ｍｌの５％
水性ＨＣｌで２回洗い、１００ｍｌのＨ２Ｏで１回、１
００ｍｌの５％水性ＮａＨＣＯ３で１回、１００ｍｌの
Ｈ２Ｏで１回、１００ｍｌの飽和Ｎａ２ＳＯ４で１回洗
いそして無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させた。

溶媒をろ過しそしてストリツピングすると油状物が得ら
れた。これは結晶化して０．６ｇ（６３％）の化合物を
与えた。ベンゼン／ヘキサン（１／１）から再結晶させ
ると無色の結晶（ｍ．ｐ．８８〜８９℃）を与えた。赤
外線、ＮＭＲおよびマススペクトル分析は前記化合物が
得られていることを示した。

Ｂ　ポリ（３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリレ
ート）の合成 ２００■（０，６ミリモル）の前記Ａ（４）で製造され
た３′，　５′−ジメトキシベンゾインアクリレートお
よび０．５■のアゾビスイソブチロニトリルの窒素置換
ジオキサン２．５−中の混合物を６５℃に９５時間窒素
下に加熱した。室温に一晩放置した後、この混合物を約
５０ｍｌの石油エーテル中に注ぎそして白色重合体を集
めた。収量は１５０ｍｇ（〜７５％）であった。赤外線
スはクトルは前記重合体が得られたことを示した。

Ｃ　コポリ（３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリ
レート／アクリル酸）の合成 ３２０ｍｇのアクリル酸、１．６ｇの前記Ａ（４）で製
造された３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリレー
トおよび２０．０ｍｇアゾビスイソブチロニトリルの窒
素置換ジオキサン２０ｍｌ中の混合物を６５℃に６時間
窒素下に加熱し、室温で一晩撹拌しそして４００ｍｌの
石油エーテル中に注いだ。前記共重合体の赤外線スペク
トルを有する共重合体１．８５ｇが得られた。ｎ／ｍ比
は０．９である。以下に表１に記載のｎ／ｍに対するそ
の他の値は単量体比の変更により得られる。

Ｄ　コポリ（３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリ
レート／２−アクリルオキシエチルフタレート）の合成 ３′，５′−ジメトキシベンゾインアクリレート（５．
０ｇ、１５ミリモル）および２−アクリルオキシエチル
フタレート（１．６ｇ、６ミリモル）の窒素置換ジオキ
サン６０ｍｌ中の混合物に６６■のアゾビスイソブチロ
ニトリルを加えた。この混合物を８０℃に６時間加熱し
、室温まで冷却させ、そして５００ｍｌの石油エーテル
中に注いだ。

共重合体を集め、石油エーテルで洗いそして乾燥させる
と６．６ｇの標記共重合体を与えた。ｎ／ｍ比は０．４
である。以下の表１に記載のｎ／ｍに対するその他の値
は単量体比を変えることにより得られる。

Ｅ　陽画像の形成 （１）例１Ｂ記載のようにして製造された１１．０％の
重合体、１％のトリエチレングリコールジアセテートお
よび８８％のアセトンを含有するコーテイング溶液を０
．００１インチ（０，００２５ｃｍ）のポリエチレンテ
レフタレート支持体上にナイフコーテイングして乾燥光
感受性フイルムを生成させた。得られたエレメントを２
分間画像含有透明体を通して加圧保持フレームから２イ
ンチ（５．０８ｃｍ）のＢＬＢ（ブラツクライトブルー
）蛍光灯（シルパニア１８Ｔ８−ＢＬＢ−４０−１８０
°）のバンクに露光させ、そして２分間水性Ｎａ２ＣＯ
３（８％）／ＮＨ４Ｃｌ（０．３％）中で現像させると
陽画洗去（ウォツシユアウト）画像を与えた。

（２）例１Ｃ記載のようにして製造された共重合体を使
用するがただし５０ｍｇの共重合体を０．１ｍｌの６％
トリクレジルホスフエート／アセトンに溶解させそして
０．００５インチ（０，１２７ｍｍ）ドクターナイフを
使用してコーテイングさせて例１Ｅ（１）をくりかえし
た。このエレメントを２分間例１Ｅ（１）記載のブラツ
クライトブルー露光源中で露光させた。そして６％ＮＨ
４Ｃｌを含有する３％水性（９：１）Ｎａ２Ｃ０３／Ｎ
ａＨＣＯ３中で１０分間現像させた。このエレメントは
良好な陽画洗去画像を与えた。

Ｆ　単一露光陽画密着石版（リス）フイルム顔料添加コ
ーテイング 次の成分を一晩ローラーミル混合することによって次の
組成のコーテイング溶液を製造した。

成分　　　　　　　　　　　　　　量 メチレンクロリド　　　　　　　　１３．０ｍｌエチル
セロンルプ　　　　　　　　　２．０ｍｌトリクレジル
ホスフエート　　　　　０．４ｇカーボンブラツク（５
０）／エチ　　２．５ｇルアクリレート（５６）／メチ
ル メタクリレート（３７）／アクリ ル酸（７）ターポリマー（酸価６０ 〜６５、Ｍｗ７０００、２０％水性） このコーテイング溶液を０．００４インチ（０．０１ｃ
ｍ）ポリエチレンテレフタレートフイルムの樹脂下引き
側に０．００３インチ（０．０７６ｍｍ）ドクターナイ
フを使用して適用した。３．８〜４．０の光学濃度の厚
さ０．０００２インチ（５．１μｍ）の風乾コーテイン
グが得られた。

光感受性コーテイング 例１Ｄ記載のようにするがただし等モル比率の２種の共
重合体から製造されそして３０ｍｇのトリクレジルホス
フエートを含有する１ｍｌのメチレンクロリド中に溶解
された共重合体０．２ｇのコーテイング溶液を０．００
２インチ（０．００５ｃｍ）ドクターナイフを使用して
顔料添加表面に適用しそして熱風ガンで乾燥させた。

霧光および処理 フイルムエレメントを１分間高圧水銀アークに１５０ラ
インスクリーンターゲツトを通して露光せしめた。これ
は３％水性Ｎａ２ＣＯ３／ＮａＨＣＯ３（９／１）中で
３０秒間現像された際１０〜９５％ドツトに対して良好
なドツト保持を与えた。

単一露光陽画密着石版（リス）フイルムの製造露光およ
び処理のための別法 その前記コーテイング中にカーボンブラツクを含有する
フイルムの表面に、０．００１インチ（０．０２５ｍｍ
）厚さのポリエチレンテレフタレートフイルムの表面を
前記光感受性コーテイングで被覆することによって光感
受性層を積層させる。この積層体は２本のローラーの間
に２枚のコーテイングしたフイルムを通過させそしてポ
リエチレンテレフタレートフイルムを光感受性層から剥
離させることにより製造される。この光感受性コーテイ
ングは例１Ｅ（１）に記載のようにしてＢＬＢ放射源を
使用して３分間露光させそして５％ＮａＣＯ３および１
％ＮＨ４Ｃｌを含有する溶液で９０秒間現像される。優
れた陽画像が得られる。

Ｇ　印刷回路用陽画ホトレジスト ５０ｍｇの例１Ｃ記載のようにして製造された共重合体
、および５■のトリエチレングリコールジアセテートの
０．１ｍｌアセトン中の溶液を０．００５インチ（０，
０１２ｃｍ）ドクターナイフを使用して銅被覆回路板に
適用しそして乾燥させた。

マスクを通して例１Ｅ（１）記載のブラツクライトブル
ー露光源に４分間露光させそして３％水性Ｎａ２ＣＯ３
／ＮａＨＣ０３（９／１）で現像した後、陽画レジスト
画像が得られた。露光部分の銅を２０％ＦａＣｌ３溶液
で９０°Ｆ（２６℃）でエツチングした。

１００ｍｌの水そして次いで１００ｍｌのアセトンで洗
った後、回路板上に陽画調画像が残った。

Ｈ　オフセツト石版（リス）プレート 例１Ｄ記載のようにして製造された１．６ｇの共重合体
、２４ｍｇのＣＩ１０９赤色染料のＮ−メチルピロリド
ン８ｍｌ中溶液を渦動（ｗｈｉｒｌ）コーテイングによ
ってシリケート下引きアルミニウムプレート表面に適用
した。３８インチ（９６．５ｃｍ）の距離でパーキー「
アスコル」１６０１−４０光源を有する「アスコル」ラ
イトインテグレータープレートマーカー型式１４１５−
１２を使用して２０００ワツト水銀灯に５００ユニツト
露光させそして次の現像液中で１０秒間現像させた後、
９８％および２％の１５０ラインスクリーン、ドツト保
持の良好な陽画像が得られた。

現像液成分　　　　　　　　　　　　　　　量（容量％
）２−プロパツール　　　　　　　　　　　　　４プロ
ピレングリコール　　　　　　　　　　１５トリエタノ
ールアミン　　　　　　　　　　　２ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテル　１６ＮａＯＨ　　　　　　　
　　　　　　　　　　１（重量％）水　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　６２印刷プレートをアドレソグ
ラフ（Ａｄｄｒｅｓｓｏｇｒａｐｈ）オフセツト印刷プ
レスで試験した。これは非摩擦性インクで４０００枚（
プリント）、次いで摩擦性インクで５０００枚（合計９
０００枚）印刷した後でも良好な印刷を与えた。

例　２ 本例は単一露光陽画密着石版（リス）フイルムにおける
種々の３′，５′−ジメトキシベンゾイン共重合体の使
用を説明する。以下の表１は例１Ｃまたは１Ｄ記載のよ
うにして製造された種々の共重合体を列記している。露
光は真空フレームから２１インチ（５３．３４ｃｍ）の
マーキユリー・ヌアーク■プリンター（ＭＮＡ）上での
１０００ワツトインスタントまたは例１Ｅ（１）に記載
のブラツクライトブルー（ＢＬＢ）露光源を使用しそし
て液体現像は所定の現像液中で記載の時間実施された。

３０■／ｍｌ濃度のトリクレジルホスフエート（ＴＯＰ
）／メチレンクロリド（ＭｅＯＡ２）０．２ｍｌ中５０
ｍｇの共重合体が例１Ｆ記載のカーボンブラツクコーテ
イング上で０．００２インチ（０．０５ｍ）ドクターナ
イフで使用された。

表　１ （注）１　ＭｅＣｌ２１ｍｌ当り２０ｍｇＴＯＰの溶液
０．２ｍｌ中に５０ｍｇの共重合体、この溶液は０．０
０２インチ（０．０５１ｍｍ）のドクターナイフを使用
してコーテイングされた。

２　ＭｅＣｌ２１ｍｌ当り３０ｍｇＴＯＰの溶液１ｍｌ
中に２００ｍｇの共重合体、この溶液は０．００３イン
チ（０．０７６ｍｍ）のドクターナイフを使用してコー
テイングされた。

３　ＴＯＰ（１５％）／ＭｅＣｌ２（８５％）の溶液０
．４ｍｌ中１００ｍｇの共重合体、この溶液は０．００
３インチ（０．０７６ｍｍ）のドクターナイフを使用し
てコーテイングされた。

例　３ 本例はジチアン合成用の出発材料としての置換ベンゾイ
ンアクリレート単量体および別のアルデヒドであるβ−
ナフタルデヒドの別の合成法を説明する。

Ａ　３，４−ベンゾ−３′，５′−ジメトキシベンゾイ
ンアクリレート単量体の合成 １００−のクロロホルム中２３．４ｇ（０．１５モル）
のβ−ナフタルデヒド、１５ｍｌ（１６．２ｇ、０．１
５モル）の１，３−プロパンジチオールの溶液を０℃に
おいてＨＣｌで飽和させ、２５℃まで加温させ、２０分
撹拌し、２００ｍｌのメチレンクロリドで希釈し、２０
ｍｌの水で２回、２０ｍｌの水性１０％ＫＯＨで２回、
２０ｍｌの飽和Ｎａ２ＳＯ４で１回洗い、そしてＭｇＳ
Ｏ４上で乾燥させた。溶媒を真空下に除去すると１１．
３ｇの粗製の固体分が得られた。

これはベンゼン／ヘキサン（１／１）から再結晶させる
と１０９〜１１０℃で溶融する生成物６．５７ｇを与え
た。赤外線スペクトルは前記ナフチルジチアンが得られ
たことを示した。

（２）　３，４−ベンゾ−３′，５′−ジメトキシベン
ゾインアクリレートの合成 ３５ｍｌの無水テトラヒドロフラン中の前記例３Ａ（１
）で製造された生成物６．５ｇ（２６．４ミリモル）に
ドライアイス／トリクロロエチレン温度で窒素下に注射
筒を通して１６．４ｍｌの（１．６モル濃度）のｎ−ブ
チルリチウム／ヘキサンを加えた。この混合物を５分間
撹拌し、１５ｍｌの無水テトラヒドロフラン中４．５ｇ
（２７ミリモル）の３，５−ジメトキシベンズアルデヒ
ドを加え、そして得られた混合物を３０分間冷時撹拌し
た。

５ｍｌの無水テトラヒドロフラン中のアクリロイルクロ
リド２．４ｍｌ（２．６７ｇ、２９．５ミリモル）を次
いで徐々にこの混合物に加え、そしてこれを徐々に室温
まで加温させ、溶媒を真空下に除去しメチレンクロリド
（５０ｍｌ）および水（５０ｍｌ）を加え、水層を３回
５０ｍｌのメチレンクロリドで抽出した。合した抽出液
を２５ｍｌの５％水性ＮａＨＣＯ３で１回、２５ｍｌの
水で１回そして２５ｍｌの飽和Ｎａ２ＳＯ４で１回洗い
、そしてＭｇＳＯ４上で乾燥させた。この物質をろ過し
そして溶媒を真空下に除去して粘稠な油状物を生成させ
た。赤外線およびＮＭＲスペクトルは予想されたチオケ
タールアクリレートを示した。１４０ｍｌの９８％水性
アセトンに溶解させたこの物質６．０ｇと３．１８ｇの
ＣｕＯおよび６．７８ｇのＣｕＣｌ２との混合物を９０
分還流させ、冷却させそして室温に一晩放置し、ろ過し
そしてその固体をアセトンで洗った。合したアセトンろ
液を真空下に蒸発させた後、ベンゼン（１５０ｍｌ）お
よび水（１５０ｍｌ）をその残渣に加え、固体を炉別し
そして水層を３回５０ｍｌのベンゼンで抽出した。合し
たベンゼン抽出液を５０ｍｌの水で４回、５０ｍｌの飽
和水性Ｎａ２ＳＯ４で１回洗い、そしてＭｇＳＯ４上で
乾燥させた溶液をろ過し、溶媒を真空下にストリツピン
グし、そして生成した油状物をヘキサンで磨砕すると固
体生成物（ｍ．ｐ．１１３〜１１６℃）が得られた。こ
れは前記単量体に対して期待される赤外およびＮＭＲス
ペクトル特性を有していた。

Ｂ　コポリ（３，４−ベンゾ−３′，５′−ジメトキシ
ベンゾインアクリレート／２−アクリルオキシエチルフ
タレート）の合成 この重合体は例１Ｄの方法によって製造された。この場
合例３Ａ（２）記載のようにして製造された１．０ｇの
置換ベンゾインアクリレート、０．３５ｇの２−アクリ
ルオキシエチルフタレートおよび１４ｍｇのアゾビスイ
ソブチロニトリルは赤外質量分光分析により測定して１
．２ｇの所望の共重合体を生成した。

Ｃ　陽画（ポジ）洗去画像形成 例３Ｂで製造された共重合体５０ｍｇ、ＣＩ１０９赤色
染料０．５ｍｇおよびトリクレジルホスフエート／メチ
レンクロリド（２０ｍｇ／ｍｌ）０．３ｍｌのコーテイ
ング溶液を０．００２インチ（０．００５ｃｍ）ドクタ
ーナイフを使用してアノード処理アルミニウムシートに
適用しそして風乾させた。乾燥させた層を２分間透明画
を通して例１ＥＫ（１）記載のＢＬＢ光源に露光させ、
そして１１秒間次の現像液溶液中で現像させると、陽画
像が生成した。

成分　　　　　　　　　　量（ｇ） 水　　　　　　　　　　　８８５．０ ブチルカルピトール　　　１５０．０ プロピレングリコール　　　２０．０ ＮａＯＨ　　　　　　　　　　６．０ トリエタノールアミン　　　２０．０ 例　４ 本例は光感受性単量体としてその他のジメトキシベンゾ
インアクリレートとコーテイング溶液中の任意成分とし
ての増感剤たるキサントンの使用を説明する。

Ａ　３′，４′−ジメトキシベンゾインアクリレートの
合成 窒素導入および排出口、磁気撹拌機、滴下ろ斗および血
清キャツプを付した５００ｍｌの三頭フラスコに１２５
ｍｌの無水１，２−ジメトキシエタンおよび１９．６ｇ
（０．１モル）の２−フエニル−１，３−ジチアンを仕
込み、この混合物を−２０℃に冷却しそして６４ｍｌ（
４３．６ｇ、１．６モル濃度）のｎ−ブチルリチウムを
加えた。２５ｍｌの無水１，２−ジメトキシエタン中１
６．６ｇの３，４−ジメトキシベンズアルデヒド（０．
１モル）溶液に、２５ｍｌの１，２−ジメトキシエタン
中８．１ｍｌ（９．０５ｇ）のアクリロイルクロリドを
滴加した。この混合物を室温に達せしめ、そして１５分
間撹拌し、１００ｍｌの５％水性ＮａＨＣＯ３、１００
ｍｌのベンゼンを加え次いで１００ｍｌの水を加え、そ
して２相を分離させた。有機相を１００ｍｌの水で１回
洗った。

溶媒を真空蒸発させ、残渣を６００ｍｌの９８％水性ア
セトンに溶解させ、そして１９．５ｇのＣｕＯおよび４
１．８ｇのＣｕＣｌ２を加えた。この混合物を１．５時
間還流させ、室温まで冷却させ、固体をろ別し、アセト
ンで洗いそして合したアセトン洗液を真空蒸発させた。

残渣を３００ｍｌベンゼン／２００ｍｌ水にとり、層を
分離させ、水層を１００ｍｌのベンゼンで３回抽出し、
そして合したベンゼン抽出液を１００ｍｌの水で４回、
５％水性ＨＣｌで１回、５％水性ＮａＨＣＯ３で１回、
１００ｍｌの飽和水性Ｎａ２ＳＯ４で１回洗い、１０ｇ
の無水ＭｇＳＯ４を使用して乾燥させ、ろ過し、真空下
に蒸発させ、そしてヘキサン／ベンゼン（１／１）で磨
砕すると９．４３ｇ（約３３％）の３′，４′−ジメト
キシベンゾインアクリレートが得られた。

Ｂ　コポリ（３′，４′−ジメトキシベンゾインアクリ
レート／２−アクリルオキシエチルフタレート）の合成 窒素導入口および還流冷却器を付した二頭丸底フラスコ
中で数分間６０ｍｌのジオキサンを窒素置換させ、６．
５２ｇの３，４−ジメトキシベンゾインアクリレート、
２．１２ｇの２−アクリルオキンエチルフタレートおよ
び０．０７６ｇのアゾビスインブチロニトリルを加えた
。この混合物を６５℃の溶液温度に６時間加熱し、室温
に冷却しそして一晩撹拌した。次いでこの混合物を５０
０ｍｌの石油エーテルに注いだ。液体を傾瀉し、残渣を
石油エーテルで洗いそして真空乾燥させると前記共重合
体を与えた。

Ｃ　石版（リス）プレートの製造 次の成分のコーテイング溶液を１２０ｒｐｍでアノード
処理アルミニウムシート上に渦動コーテイングしそして
１００°Ｆで２０分乾燥させた。

成分　　　　　　　　　量（ｇ） 例４Ｂの共重合体　　　１．０ キサントン　　　　　　０．１ ＣＩ１０９赤色染料　　０．０３ Ｎ−メチルピロリドン　７．０ｍｌ 得られたエレメントを２分間、３０階段■グレイスケー
ル透明体を通して例１Ｅ（１）記載のブラツクライトブ
ルー（ＢＬＢ）光源の放射に露光させそして１０秒間水
で１／２に希釈した次の組成の溶液中で現像させた。

成分　　　　　　　　　量（％） 水　　　　　　　　　　６７．５ ブチルカルピトール　　１６．０ プロピレングリコール　１５．０ トリエタノールアミン　　１．０ ＮａＯＨ　　　　　　　　Ｏ．５ 優れた陽画像が得られた。同様の結果は例２記載の水銀
ヌアークプリンター露光源への２５ユニツト露光および
前記と同一の溶液中での３０秒現像によっても得られた
。減光および現像範囲は共に良好でありそして解像は１
５０ラインスクリーン画像では２〜９８％ドツトであっ
た。

例　５〜１２ 表２記載の構造を有する種々の重合体状化合物が重合条
件下に所定モル比の記載の単量体から製造された。この
組成物をアノード処理アルミニウムシート（アノコイル
■）上に特に記載されない限りは例４Ｃの記載と同一の
処方で約０．０００２インチ（０．００５ｍｍ）厚さに
コーテイングした。このフイルムを例１Ｅ（１）記載の
ＢＬＢ光源を使用して像様露光させ、そして記載の時間
現像させた。現像液は特記されていない限りは例４Ｃの
ものと同一であった。有用な陽画像エレメントが得られ
た。

例　　　露光時間（秒）　　　　　現像（秒）５　　　
　１２０　　　　　　　　　１０６　　　　１２０　　
　　　　　　　２０１７　　　　３６０　　　　　　　
　　１５８　　　　２４０　　　　　　　　１２０２９
　　　　　６０　　　　　　　　　１０３１０　　　１
２０　　　　　　　　　３０３１１　　　１２０　　　
　　　　　　３０３１２　　　　２２ユニツトＭＮＡ＊
　　４′（注）１　４Ｃ現像液、２％トリエタノールア
ミンおよび６６．５％添加。

２　４Ｃ現像液、希釈なし。

３　現像液処方は０．３７５％ＮａＯＨ、７．５％エチ
レングリコールモノブチルエーテルおよび９２．１２５
％水である。

４　現像液処方は６０ｍｌ水、３０ｍｌ２−プロパノー
ル、１０ｍｌトリエタノールアミンおよび０．２ｇＮａ
ＯＨである。

＊　２２ユニツトＭＮＡは例２記載のマーキユリーヌア
ーク■プリンター上での露光ユニツト数である。

例　１３ Ａ　３′−メトキシベンゾインアクリレートの合成 この方法は例４Ａと同様であるがただし３−メトキシベ
ンズアルデヒドが３，４−ジメトキシベンズアルデヒド
の代りに使用された。６．６ｇ（２２％）の３′−メト
キシベンゾインアクリレート単量体に対する正しい赤外
およびＮＭＲスペクトルを示す重合体が得られた。

Ｂ　コポリ（６′−メトキシベンゾインアクリレ−ト／
２−アクリルオキシエチルフタレート）の合成 例４Ｂ記載の方法を使用したがただし次の成分を混合し
、次いで反応させそして例４Ｂに記載のようにして重合
体を単離しそして試験した。

成分　　　　　　　　　　　　量（ｇ）単量体（例１３
Ａ）　　　　　２．９６（１０ミリモル）２−アクリル
オキシエチル　　１．０７（４ミリモル）フタレート アゾビスイソブチロニトリ　　０．０４３０ジオキサン
　　　　　　　　４０．０ｍｇＣ　陽画像の形成 次の組成のコーテイング処方を０．００２インチ（０，
００５ｃｍ）ドクターナイフを使用してアノード処理ア
ルミニウムシートに適用し、そして風乾させた。

成分　　　　　　　　　　　　　　　　　量（ｍｇ）共
重合体（例１３Ｂ）　　　　　　　　　５０．０ＣＩ１
０９赤色染料　　　　　　　　　　　０．５トリクレジ
ルホスフエート／メチレン クロリド（２０ｍｇ／ｍｌ）　　　　　　　０．３ｍｌ
このエレメントを２分間画像含有透明体を通して例１Ｅ
（１）記載のブラーツクライトブルー放射源に露光させ
、そして１５秒間、例４Ｃ記載の現像液中で現像した。

良好な陽画洗去画像が得られた。

例　１４ ３，３′−ジメトキシベンゾインアクリレートの合成こ
の単量体は２の方法により製造された。

一つの方法はベンゼン中の３，３′−ジメトキシベンゾ
インの４３％溶液を使用した（デユポン社製品）。第２
のものは同一のベンゾインを使用したがただしベンゼン
を蒸発させそして化合物をメチレンクロリド中に再溶解
させた。この操作および処理は例１Ａ（４）と同様であ
ったがただし成分にはわずかな変動があった。この組成
は以下のものであった。

成分　　　　　　　　　　　　　　　量（ｇ）３，３′
−ジメトキシベンゾイン　　５０（ベンゼン中４７．２
％固体分） ジメチルアニリン　　　　　　　　　１７ｍｌアクリロ
イルクロリド　　　　　　　１０ｍｌ得られた生成物は
記載の単量体に合致する赤外線およびＮＭＲスペクトル
を有している。

Ｂ　コポリ（３，３′−ジメトキシベンゾインアクリレ
ート／２−アクリルオキシエチルフタレート）の合成 例４Ｂ記載のようにして次の成分を混合しそして処理し
た。

成分　　　　　　　　　　　　　　　　量（ｇ）単量体
（例１４Ａ）　　　　　　　　　３．０２−アクリルオ
キシエチルフタレート　０．９６アゾビスイソブチロニ
トリル　　　　　０．０３５ジオキサン　　　　　　　
　　　　　　４０．０ｍｌＣ　陽画像の製造 次の組成のコーテイング溶液を１２０ｒｐｍでアノード
処理アルミニウムシート（アノコイル■）上に渦動コー
テイングさせそして１００下で２０分乾燥した。

成分　　　　　　　　　　　　量（ｇ）前記例１４Ｂ記
載の共重合体　１０００．０キサントン　　　　　　　
　　　１００．０ＣＩ１０９赤色染料　　　　　　　３
０．ＯＮ−メチルピロリドン　　　　　　　７．０ｍｌ
このエレメントを３分間透明画を通して例１Ｅ（１）記
載のブラツクライトブルー（ＢＬＢ）光源の放射に露光
させ、そして１０秒間１／２に水で希釈させた例４Ｃ記
載の現像溶液中で現像した。優れた陽画洗去画像が得ら
れた。

例　１５ 本例は光感受性層中での共結合剤の使用を説明する。次
の成分のコーテイング溶液を製造した。

成分　　　　　　　　　　量（ｍｇ） 例６記載の共重合体　　　５０．０ ＣＩ１０９赤色染料　　　　１．５ キサントン　　　　　　　　５．０ ポリビニルエチルエーテル　６．０ メチレンクロリド　　　　　０．３ｍｌ前記溶液を０．
００１インチ（０．０２５ｍｍ）ドクターナイフを使用
してアルミニウムシートに適用し、そして４７℃で２０
分乾燥させた。光感受性層を■ステツプウエツジを通し
て例１Ｅ（１）記載のＢＬＢ露光源に露光させ、そして
０．５％ＮａＯＨ、１０％エチレングリコールモノブチ
ルエーテル、８９．５％水から製造された溶液中で３０
秒間現像した。良好な陽画洗去画像が得られた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）ｍＡ、ｎＢおよびｐＣ（式中ｍ、ｎおよびｐはそれ
   ぞれの単量体成分の平均の累加頻度でありそしてそれぞ
   れ１〜８００、０〜８００および０〜８００の範囲の値
   を有しているがただしｍ、ｎおよびｐの合計は２〜１６
   ００の範囲である）の割合における反復単位Ａ、Ｂおよ
   びＣすなわち 〔式中Ｒ１は３′−メトキシ、３′，４′−ジメトキシ
   または３′，５′−ジメトキシであり、Ｒ２は６−メト
   キシ、３，４−ジメトキシ、３，４−ベンゾまたは水素
   であり、 Ｒ３は水素またはメチルであり、 Ｒ４はＣＯＯＨ，ＳＯ３Ｈ、１〜４個の炭素原子を含有
   するω−カルボキシアルキルまたはカルボエトキシモノ
   フタレート、β−スルホカルボエトキシであり、 Ｒ５は水素またはメチルであり、 Ｒ６は水素、メチルまたはＣＯＯＨであり、Ｒ７は−Ｃ
   Ｎ、−ＣＯＯＯＲ１０（そのＲ１０は１〜１０個の炭素
   原子を含有するアルキルである）、β−ヒドロキシアル
   キル（そのアルキルが１〜４個の炭素原子を含有する）
   であり、 Ｒ８は水素またはメチルであり、そしてＲ９は水素また
   はメチルである〕より本質的になる光感受性重合体。 ２）Ｒ１が３′，５′−ジメトキシであり、Ｒ２、Ｒ３
   、Ｒ５およびＲ６が水素であり、Ｒ４がカルボエトキシ
   モノフタレートであり、ｍ／ｎが１０〜０．３であり、
   そしてｐが０である前記特許請求の範囲第１項記載の重
   合体状化合物。 ３）Ｒ１が３′，４′−ジメトキシであり、Ｒ２、Ｒ３
   、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ水素であり、Ｒ４がカルボ
   エトキシモノフタレートであり、ｍ／ｎが１０〜０．３
   であるが、ｍおよびｎはそれぞれ３〜２００および１〜
   ６０の間の範囲でありそしてｐが０である、前記特許請
   求の範囲第１項記載の重合体状化合物。 ４）Ｒ１が３′，５′−ジメトキシであり、Ｒ２、Ｒ３
   およびＲ５がそれぞれ水素であり、Ｒ４がＣＯＯＨであ
   り、Ｒ６がＣＨ３であり、ｍ／ｎが１０〜０．３であり
   そしてｐが０である前記特許請求の範囲第１項記載の重
   合体状化合物。 ５）前記重合体がコポリ（３′，５′−ジメトキシベン
   ゾインアクリレート／２−アクリルオキシエチルフタレ
   ート／アクリロニトリル）である前記特許請求の範囲第
   １項記載の化合物。 ６）前記重合体がポリ（３′，５′−ジメトキシベンゾ
   インアクリレート）である前記特許請求の範囲第１項記
   載の化合物。 ７）前記重合体がコポリ（３′，５′−ジメトキシベン
   ゾインアクリレート／アクリル酸）である、前記特許請
   求の範囲第１項記載の化合物。 ８）前記重合体がコポリ（３，４−ベンゾ−３′，５′
   −ジメトキシベンゾインアクリレート／２−アクリルオ
   キシエチルフタレート）である前記特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。 ９）前記重合体がコポリ（３′，４′−ジメトキシベン
   ゾインアクリレート／２−アクリルオキシエチルフタレ
   ート）である前記特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １０）前記重合体がコポリ（３′−メトキシベンゾイン
   アクリレート／２−アクリルオキシエチルフタレート）
   である前記特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １１）前記重合体がコポリ（３，３’−ジメトキシベン
   ゾインアクリレート／２−アクリルオキシエチルフタレ
   ート）である前記特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １２）少くとも１種の前記特許請求の範囲第１項記載の
   重合体状化合物および場合により重合体状結合剤および
   ／または可塑剤よりなる光感受性層を有する支持体を本
   質的には包含する、ポジとして働く光感受性エレメント
   。 １３）光感受性層がキサントン化合物を含有している前
   記特許請求の範囲第１項記載のポジとして働く光感受性
   エレメント。 １４）光感受性層が０〜２５重量％の可塑剤を含有して
   いる前記特許請求の範囲第１２項記載のポジとして働く
   光感受性エレメント。 １５）光感受性層が０〜８０重量修重量台体結合剤を含
   有している前記特許請求の範囲第１２項記載のポジとし
   て働く光感受性エレメント。 １６）重合体結合剤がポリエポキシド樹脂、ポリアクリ
   レート、ポリメタクリレート、フエノール／ホルムアル
   デヒド樹脂、ポリビニルエーテルおよびそれらの混合物
   の群より選ばれる前記特許請求の範囲第１５項記載のポ
   ジとして働く光感受性エレメント。 １７）光感受性層を含有する支持体がその上に塩基可溶
   性のカーボンブラツク層を存在させている前記特許請求
   の範囲第１２項記載のポジとして働く光感受性エレメン
   ト。