JP2002122984A - 感光性平版印刷版の作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プレートクリーナーを頻繁に使用する印
刷条件下や、ＵＶインキを使用した場合にも十分な耐刷
力を有し、現像ラチチュードにも優れる感光性平版印刷
版の製造方法を提供すること。 【解決手段】 側鎖にウレタン結合または尿素結合
を有する、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子
化合物（Ａ）、アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ｂ）、
及びｏ-ナフトキノンジアジド（Ｃ）を含有する感光性
組成物を、下記一般式（Ｉ）で示される溶剤を含む塗布
溶剤に溶解し、アルミニウム支持体上に塗布、乾燥する
ことを特徴とする感光性平版印刷版の作成方法。 【化１】 （式中、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ水素原子、置換基を有し
てもよい炭素数１〜４のアルキル基、アセチル基を表
す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版の作成方
法に関するものである。更に詳しくは、耐刷性、現像ラ
チチュードに優れた感光性平版印刷版の作成方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】ｏ−ナフトキノンジアジド化合物とノボ
ラック型フェノール樹脂からなる感光性組成物は、非常
に優れた感光性組成物として平版印刷版の製造やフォト
レジストとして工業的に用いられてきた。しかし主体と
して用いられるノボラック型フェノール樹脂は、その性
質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろいこ
と、塗布性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印刷版に
用いた時の耐刷が十分でないこと、さらに耐薬品性に乏
しく、特にＵＶインキを使用すると耐刷力が極めて不十
分である等の改良すべき点がある。かかる問題を解決す
るため種々の高分子化合物が、バインダーとして検討さ
れてきた。たとえば特公昭５２−４１０５０号公報に
は、ポリヒドロキシスチレンまたはヒドロキシスチレン
共重合体が、特開昭５１−３４７１１号公報中にはアク
リル酸誘導体の構造単位を分子構造中に有する高分子化
合物が、特開平２−８６６号公報中にはスルホンアミド
基を有する高分子化合物が、特開平８−３３９０８２号
公報には側鎖に尿素結合を有する高分子化合物が提案さ
れている。しかしながら、上記のバインダーはポジ型に
作用する感光性化合物であるｏ−ナフトキノンジアジド
化合物との相互作用が不十分なため、現像時の時間およ
び温度の変動や、現像液の濃度の変動に対する許容性
（いわゆる現像ラチチュード）が狭い。したがって、こ
れらのバインダーを添加すると耐刷力および耐薬品性は
向上するものの現像ラチチュードが劣化するという問題
がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐刷
力および現像ラチチュードともに優れるポジ型感光性平
版印刷版およびその製造方法を提供することであり、特
に、プレートクリーナーを頻繁に使用する印刷条件下
や、ＵＶインキを使用した場合にも十分な耐刷力を有
し、現像ラチチュードにも優れるポジ型感光性平版印刷
版およびその製造方法を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成するため鋭意検討を重ねた結果、側鎖にウレタン結合
または尿素結合を有する、水不溶かつアルカリ性水溶液
に可溶な高分子化合物（Ａ）、アルカリ可溶性ノボラッ
ク樹脂（Ｂ）、及びｏ-ナフトキノンジアジド（Ｃ）を
含有する感光性組成物を、下記一般式（Ｉ）で示される
溶剤を含む塗布溶剤に溶解し、アルミニウム支持体上に
塗布、乾燥することを特徴とする感光性平版印刷版の作
成方法により解決される事を見出し、本発明に至ったも
のである。

【０００５】すなわち、本発明は、後述する側鎖にウレ
タン結合または尿素結合を有する、水不溶かつアルカリ
性水溶液に可溶な高分子化合物（Ａ）、アルカリ可溶性
ノボラック樹脂（Ｂ）、及びｏ-ナフトキノンジアジド
（Ｃ）を含有する感光性組成物を用いて感光性平版印刷
版を作成すると現像ラチチュードが劣化するという問題
点を、下記一般式（Ｉ）で示される溶剤を含む塗布溶剤
に溶解し、アルミニウム支持体上に塗布、乾燥すること
により解決した発明である。

【０００６】

【化２】

【０００７】（式中、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ水素原子、
置換基を有してもよい炭素数１〜４のアルキル基、アセ
チル基を表す。）

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明の感光性平版印刷版の製造方
法は、後述する側鎖にウレタン結合または尿素結合を有
する、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合
物（Ａ）、アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ｂ）、及び
ｏ-ナフトキノンジアジド（Ｃ）を含有する感光性組成
物を、下記一般式（Ｉ）で示される溶剤を含む塗布溶剤
に溶解し、アルミニウム支持体上に塗布、乾燥すること
を特徴とする。 〔溶剤〕本発明における下記一般式（Ｉ）で示される塗
布溶剤について説明する。

【０００９】

【化３】

【００１０】（式中、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ水素原子、
置換基を有してもよい炭素数１〜４のアルキル基、アセ
チル基を表す。）

【００１１】式（Ｉ）の定義において、置換基は好まし
くはハロゲン、炭素数１〜４のアルコキシ基及びアリー
ル基から選択される一種または複数の基を意味する。

【００１２】一般式（Ｉ）で表される溶剤の内、本発明
において特に好適に使用される溶剤としては、１−メト
キシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノ
ール、１−プロポキシ−２−プロパノール、１−ブトキ
シ−２−プロパノール、２−メトキシプロパノール、２
−エトキシプロパノール、プロピレングリコールジメチ
ルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、
プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコ
ール−１−モノアセテート、プロピレングリコール−１
−モノメチルエーテル−２−アセテート、プロピレング
リコールが挙げられる。

【００１３】本発明における塗布溶剤には式（Ｉ）の溶
剤の方かに、種々の溶剤を混合することができる。具体
例としては、１,２−ジクロルエタン、１,１−ジクロル
エタン、１,１,１−トリクロルエタン、cis-１,２ジク
ロルエタン、１,２−ジクロルプロパン、塩化ブチル、
クロルブロムメタンなどのハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノー
ル、第２ブチルアルコール、第３ブチルアルコールなど
の脂肪族アルコール、テトラヒドロフラン、テトラヒド
ロピラン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチ
ルエチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン等の
エーテルまたはケトン化合物、ギ酸エチル、ギ酸プロピ
ル、ギ酸イソブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イ
ソプロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル
などのエステル化合物があげられる。

【００１４】本発明における塗布溶剤には更に、バイン
ダーの溶解性を増大させる目的やノボラック樹脂との相
溶性を改善する目的で高沸点溶剤を添加することができ
る。この様な高沸点溶剤の具体例はジメチルスルホキシ
ド、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコール、エチレングリコールモノフェニルエーテル、
リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、炭酸エチレン、
トリオキサン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクト
ン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、テトラ
ヒドロフルフリルアルコール、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセチ
ルアセトン、シクロヘキサノン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢
酸エチレングリコールモノメチルエーテル、２−メチル
−２−メトキシ−４−ペンタノンなどがある。

【００１５】本発明において、一般式（Ｉ）で表される
溶剤は全塗布溶剤に対して１０〜１００質量％の割合で
用いることができる。乾燥条件及びバインダーの種類、
さらに他の溶剤の種類及び量により最適量は異なるが、
好ましくは１５〜８０質量％の範囲である。更に好まし
くは２０〜７０質量％の範囲である。１０質量％より少
ない場合は、現像ラチチュードの改良効果が小さい。

【００１６】〔側鎖にウレタン結合、または尿素結合を
有し、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合
物（Ａ）〕本発明で使用される、側鎖にウレタン結合、
または尿素結合を有し、水不溶かつアルカリ性水溶液に
可溶な高分子化合物（Ａ）は、例えば、ポリアクリレー
ト類、ポリスチレン類、ポリビニルエーテル類、ポリウ
レタン類、ポリエステル類、ポリアミド類が好適に使用
することができる。

【００１７】また、アルカリ性可溶として作用する基と
して、例えば、フェノール性水酸基、カルボキシル基、
スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、Ｎ-スル
ホニルアミド基、Ｎ-スルホニルウレイド基、Ｎ-アミノ
スルホニルアミド基、Ｎ-スルホニルスルホンアミド
基、活性メチレン基を樹脂骨格中に有していることが好
ましく、フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホ
ンアミド基がより好ましい。

【００１８】本発明で使用される、側鎖にウレタン結
合、または尿素結合を有し、水不溶かつアルカリ性水溶
液に可溶な高分子化合物（Ａ）は、１分子中に１つ以上
のウレタン結合または尿素結合と１つ以上のアルカリ可
溶性基と１つ以上の重合可能な不飽和結合を有する低分
子化合物を公知の重合開始剤を用いて適当な溶媒中で重
合することにより得られる。本発明において、さらに好
適に使用されるこのような低分子化合物としては、一般
式（II）、（III）または（IV）で示される化合物があ
る。

【００１９】

【化４】

【００２０】（式中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³はそれぞれ−Ｏ−
または−ＮＲ¹⁰−を示す。Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁷はそれぞれ−
Ｈまたは−ＣＨ₃を示す。Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁸はそれぞれ置換
基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シク
ロアルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を
示す。Ｒ³、Ｒ⁶、Ｒ⁹はそれぞれ置換基を有してもよい
炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、
アリーレン基、アラルキレン基を示す。Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³
はそれぞれ−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ₂ＮＨＲ¹¹、−
ＮＨＳＯ₂Ｒ¹²、−ＣＯＮＨＳＯ₂Ｒ¹³、−ＳＯ₂ＮＨＣ
ＯＲ¹⁴、−ＮＨＣＯＮＨＳＯ₂Ｒ¹⁵、−ＳＯ₂ＮＨＣＯＮ
ＨＲ¹⁶、−ＣＯＮＨＳＯ₂ＮＨＲ¹⁷、−ＮＨＳＯ₂ＮＨＣ
ＯＲ¹⁸、−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂Ｒ¹⁹、−ＣＯＣＨ₂ＣＯＲ²⁰
を示す。Ｒ¹⁰は水素原子または置換基を有してもよい炭
素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基もしくはアラルキル基を示す。Ｒ¹¹、Ｒ¹⁶、 Ｒ¹⁷
は水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜１２
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくは
アラルキル基を示す。Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁸、
Ｒ¹⁹は置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル
基を示す。）

【００２１】一般式（II）、（III）または（IV）で示
される低分子化合物の内、本発明において特に好適に使
用されるものは、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁸がそれぞれ炭素数２〜
６のアルキレン基、シクロアルキレン基、または置換基
を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基であり、Ｒ
³、Ｒ⁶、Ｒ⁹がそれぞれフェニレン基、アラルキレンで
あり、Ｒ¹⁰が水素原子であり、が水素原子または炭素数
１〜６のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基
である化合物である。このような低分子化合物として
は、例えば以下の化合物が挙げられる。

【００２２】

【化５】

【００２３】

【化６】

【００２４】

【化７】

【００２５】本発明の方法において使用される高分子化
合物（Ａ）は、一般式（II）、（III）、（IV）で示さ
れる低分子化合物の単独重合体または二種以上の共重合
体であってもよいが、好ましくは１つ以上の重合可能な
不飽和結合を含有し、かつウレタン結合または尿素結合
を含まない化合物の一種以上との共重合体である。

【００２６】このような重合可能な不飽和結合を含有
し、かつウレタン結合または尿素結合を含まない化合物
としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル
酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステ
ル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエー
テル類、ビニルエステル類、スチレン類、クロトン類エ
ステル類などから選ばれる重合性不飽和結合を有する化
合物である。

【００２７】具体的には、例えばアクリル酸エステル
類、例えばアルキル（該アルキル基の炭素原子数は１〜
１０のものが好ましい）アクリレート（例えばアクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、ア
クリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチル
ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−ｔ−オク
チル、クロルエチルアクリレート、２,２−ジメチルヒ
ドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレ
ート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシ
ジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベ
ンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、など）、アリールアク
リレート（例えばフェニルアクリレートなど）：

【００２８】メタクリル酸エステル類、例えば、アルキ
ル（該アルキル基の炭素原子数は１〜１０のものが好ま
しい）メタクリレート（例えばメチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソ
プロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキ
シルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレー
ト、オクチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメ
タクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレー
ト、２,２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレートなど）、アリールメ
タクリレート（例えば、フェニルメタクリレート、クレ
ジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど）：

【００２９】アクリルアミド類、例えばアクリルアミ
ド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（該アルキル基として
は、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘプチル
基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエチル
基、ベンジル基などがある。）、Ｎ−アリールアクリル
アミド（該アリール基としては、例えばフェニル基、ト
リル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシフ
ェニル基などがある。）、Ｎ,Ｎ−ジアルキルアクリル
アミド（該アルキル基としては、炭素原子数１〜１０の
もの、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、イソブチ
ル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基などがあ
る。）、Ｎ,Ｎ−アリールアクリルアミド（該アリール
基としては、例えばフェニル基などがある。）、Ｎ−メ
チル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエ
チル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミ
ドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなど：

【００３０】メタクリルアミド類、例えばメタクリルア
ミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（該アルキル基と
しては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチル基、
エチル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキシル基、ヒドロキ
シエチル基、シクロヘキシル基などがある。）、Ｎ−ア
リールメタクリルアミド（該アリール基としては、フェ
ニル基などがある。）、Ｎ,Ｎ−ジアルキルメタクリル
アミド（該アルキル基としては、エチル基、プロピル
基、ブチル基などがある。）、Ｎ,Ｎ−ジアリールメタ
クリルアミド（該アリール基としては、フェニル基など
がある。）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタク
リルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミ
ド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなど：

【００３１】アリル化合物、例えばアリルエステル類
（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸ア
リル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステア
リン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳
酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど：

【００３２】ビニルエーテル類、例えばアルキルビニル
エーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシル
ビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エト
キシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテ
ル、１−メチル−２,２−ジメチルプロピルビニルエー
テル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエ
チルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエー
テル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチル
アミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニ
ルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフ
ルフリルビニルエーテルなど）、ビニルアリールエーテ
ル（例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエー
テル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−２,４
−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテ
ル、ビニルアントラニルエーテルなど）：

【００３３】ビニルエステル類、例えばビニルブチレー
ト、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテー
ト、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニ
ルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジク
ロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブ
トキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニル
アセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フ
ェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレ
ート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息
香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸
ビニルなど：

【００３４】スチレン類、例えばスチレン、アルキルス
チレン（例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、ト
リメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレ
ン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシル
スチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、
ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオ
ルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキ
シメチルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えば
メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレ
ン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン（例
えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルス
チレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレ
ン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレ
ン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブ
ロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル
−３−トリフルオルメチルスチレンなど）：

【００３５】クロトン酸エステル類、例えば、クロトン
酸アルキル（例えばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキ
シル、グリセリンモノクロトネートなど）：イタコン酸
ジアルキル類（例えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸
ジエチル、イタコン酸ジブチルなど）：マレイン酸ある
いはフマール酸のジアルキル類（例えばジメチルマレエ
ート、ジブチルフマレートなど）：アクリロニトリル、
メタクリロニトリル等がある。

【００３６】これらの重合性不飽和結合を有する化合物
のうち、好適に使用されるのはメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アク
リルアミド類、アクリロトリル、メタクリロニトリル、
メタクリル酸、アクリル酸である。

【００３７】これらを１種或いは１種以上用いることが
でき、これら共重合成分の好適に使用される含有量は、
０〜８０モル％であり、特に好ましくは３０から８０モ
ル％である。これらの重合性不飽和結合を有する化合物
の１種以上と、一般式（II）、（III）または（IV）で
示される低分子化合物の１種以上の共重合体は、ブロッ
ク体、ランダム体、グラフト体等いずれも用いる事がで
きる。

【００３８】これらの共重合体中で、ウレタン結合また
は尿素結合を含有する構成単位は共重合体を構成するす
べての構成単位に対して５モル％以上含有する事が好ま
しく、１０〜９０モル％含有する事がさらに好ましい。

【００３９】このような高分子化合物を合成する際に用
いられる溶媒としては、例えばエチレンジクロリド、シ
クロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタ
ノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−
メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロパ
ノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ,
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、
乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶
媒は単独あるいは２種以上混合して用いられる。

【００４０】本発明における高分子化合物（Ａ）の分子
量は、好ましくは重量平均で２,０００以上であり、数
平均で１,０００以上である。更に好ましくは重量平均
で５,０００〜３０万の範囲であり、数平均で２,０００
〜２５万の範囲である。また多分散度（重量平均分子量
／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ましくは
１.１〜１０の範囲である。

【００４１】また、高分子化合物（Ａ）中には、未反応
の単量体を含んでいてもよい。この場合、単量体の高分
子化合物中に占める割合は１５質量％以下が望ましい。
本発明において高分子化合物（Ａ）は単独で用いても混
合して用いてもよい。感光性組成物中に含まれる、これ
らの高分子化合物の含有量は約５〜９５％であり、好ま
しくは約１０〜８５％である。

【００４２】〔ｏ−ナフトキノンジアジド化合物
（Ｃ）〕本発明において使用されるｏ−ナフトキノンジ
アジド化合物（Ｃ）としては、特公昭４３-２８４０３
号公報に記載されている１,２−ジアゾナフトキノンス
ルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂との
エステルであるものが好ましい。その他の好適なオルト
キノンジアジド化合物としては、米国特許第３,０４６,
１２０号および同第３,１８８,２１０号明細書中に記載
されている１,２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
ライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステ
ルがある。その他の有用なｏ−ナフトキノンジアジド化
合物としては、数多くの特許に報告され、知られてい
る。たとえば、特開昭４７-５３０３号、同昭４８-６３
８０２号、同昭４８-６３８０３号、同昭４８-９６５７
５号、同昭４９-３８７０１号、同昭４８-１３３５４
号、特公昭３７-１８０１５号、同昭４１-１１２２２
号、同昭４５-９６１０号、同昭４９-１７４８１号公
報、米国特許第２,７９７,２１３号、同第３,４５４,４
００号、同第３,５４４,３２３号、同第３,５７３,９１
７号、同第３,６７４,４９５号、同第３,７８５,８２５
号、英国特許第１,２２７,６０２号、同第１,２５１,３
４５号、同第１,２６７,００５号、同第１,３２９,８８
８号、同第１,３３０,９３２号、ドイツ特許第８５４,
８９０号などの各明細書中に記載されているものをあげ
ることができる。

【００４３】本発明において特に好ましいｏ−ナフトキ
ノンジアジド化合物は、分子量１,０００以下のポリヒ
ドロキシ化合物と１,２−ジアゾナフトキノンスルホン
酸クロリドとの反応により得られる化合物である。この
ような化合物の具体例は、特開昭５１-１３９４０２
号、同５８-１５０９４８号、同５８-２０３４３４号、
同５９-１６５０５３号、同６０-１２１４４５号、同６
０-１３４２３５号、同６０-１６３０４３号、同６１-
１１８７４４号、同６２-１０６４５号、同６２-１０６
４６号、同６２-１５３９５０号、同６２-１７８５６２
号、特願昭６２-２３３２９２号、米国特許第３,１０
２,８０９号、同第３,１２６,２８１号、同第３,１３
０,０４７号、同第３,１４８,９８３号、同第３,１８
４,３１０号、同第３,１８８,２１０号、同第４,６３
９,４０６号などの各公報または明細書に記載されてい
るものを挙げることができる。

【００４４】これらのｏ−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して１,２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを０.２〜１.２当量反応させる事が好ましく、さら
に０.３〜１.０当量反応させる事が好ましい。

【００４５】また得られるｏ−ナフトキノンジアジド化
合物は、１,２−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステ
ル基の位置及び導入量の種々異なるものの混合物となる
が、ヒドロキシル基がすべて１,２−ジアゾナフトキノ
ンスルホン酸エステルで転換された化合物がこの混合物
中に占める割合（完全にエステル化された化合物の含有
量）は５モル％以上である事が好ましく、さらに好まし
くは２０〜９９モル％である。本発明において感光性組
成物中に占めるｏ−ナフトキノンジアジド化合物の量は
１０〜５０質量％で、より好ましくは１５〜４０質量％
である。

【００４６】〔アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ｂ）〕
本発明におけるアルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ｂ）と
しては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾ
ールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、ｍ−/ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−、ｐ−、又はｍ
−/ｐ−混合のいずれでもよい）混合ホルムアルデヒド
樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノー
ル変性キシレン樹脂が挙げられる。これらのアルカリ可
溶性ノボラック樹脂は、重量平均分子量が５００〜２
０,０００で数平均分子量が２００〜６０,０００のもの
が好ましい。かかるアルカ可溶性ノボラック樹脂は全組
成物の１〜７０質量％以下の添加量で用いられる。特に
好ましくは、５〜３０質量％の添加量で用いられる。

【００４７】更に、米国特許第４,１２３,２７９号明細
書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基と
して有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を
併用することは画像の感脂性を向上させる上で好まし
い。

【００４８】本発明における感光性組成物中には、感度
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許第４,１１５,１２８号明細書に記載されているよ
うに無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、３,６−エンドオキシ−Δ４−テ
トラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル
無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸等
がある。

【００４９】フェノール類としては、ビスフェノール
Ａ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、
２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロ
キシベンゾフェノン、２,４,４′−トリヒドロキシベン
ゾフェノン、４,４,４″−トリヒドロキシ−トリフェニ
ルメタン、４,４′,３″,４″−テトラヒドロキシ−３,
５,３′,５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが
挙げられる。

【００５０】有機酸類としては、特開昭６０−８８９４
２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記載され
ている。スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル
類、カルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トル
エンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェ
ニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トル
イル酸、３,４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、１,４−シクロヘキセン−２,２−ジカルボン
酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコ
ルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、フ
ェノール類、有機酸類の感光性組成物中に占める割合
は、０.０５〜１５質量％が好ましく、より好ましく
は、０.１〜５質量％である。

【００５１】また、本発明における感光性組成物中に
は、現像のラチチュードを広げるために、特開昭６２−
２５１７４０号公報や、特願平２−１８１２４８号明細
書に記載されているような非イオン性界面活性剤、特開
昭５９−１２１０４４号公報、特願平２−１１５９９２
号明細書に記載されているような両性界面活性剤を添加
することができる。

【００５２】非イオン性界面活性剤の具体例としては、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリ
マー、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパ
ルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モ
ノグリセリド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレ
ート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなど
が挙げられ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、アモーゲンＫ（商品名、第一工業
（株）製、Ｎ−テトラデシル−Ｎ,Ｎ−ベタイン型）、
２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシ
エチルイミダゾリニウムベタイン、レボン１５（商品
名、三洋化成（株）製、アルキルイミダゾリン系）など
が挙げられる。この中でも特にポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンブロックポリマーを添加することが好
ましい。

【００５３】上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性
剤の感光性組成物中に占める割合は０.０５％〜１５質
量％が好ましく、より好ましくは、 ０.１〜５質量％で
ある。本発明における感光性組成物中には、露光後直ち
に可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染
料やその他のフィラーなどを加えることができる。露光
後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光によ
って酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表としてあげることができる。具体的に
は特開昭５０−３６２０９号公報、特開昭５３−８１２
８号公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せ
や特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、
同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１
−１５１６４４号、同６３−５８４４０号公報に記載さ
れているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組
合せをあげることができる。

【００５４】かかるトリハロメチル化合物は、オキサジ
アゾール系化合物とトリアジン系化合物があり、どちら
も、経時安定性に優れ、明瞭な焼出し画像を与えるが、
酸化皮膜量が １.０ｇ／ｍ²以上のアルミニウム支持体
を用いた感光性平版印刷版では現像後の残色が特に劣化
する。かかる化合物を含有した感光性組成物を用いた場
合に特に本発明は有効で、残色がほとんどない平版印刷
版を得ることができる。

【００５５】画像の着色剤として前記の塩形成性有機染
料以外に他の染料も用いることができる。塩形成性有機
染料を含めて好適な染料として油溶性染料および塩基性
染料をあげることができる。具体的には、オイルイエロ
ー＃１０１、オイルイエロー＃１３０、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オ
イルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラ
ックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上、オリエン
ト化学工業株式会社製）ビクトリアピュアブルー、クリ
スタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、エチルバイオ
レット（ＣＩ４２６００）、メチルバイオレット（ＣＩ
４２５３５）、ローダミンＢ（ＣＩ４５１７０Ｂ）、マ
ラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー
（ＣＩ５２０１５）などをあげることができる。また、
特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料
は特に好ましい。

【００５６】本発明における感光性組成物中には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１
７０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全
感光性組成物の０.０１〜１質量％さらに好ましくは０.
０５〜０.５ 質量％である。

【００５７】本発明において平版印刷版の支持体として
は、アルミニウム板を用いる。アルミニウム板には純ア
ルミニウム及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミ
ニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばけい
素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、
ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が
用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄およびチ
タンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含
むものである。

【００５８】アルミニウム板は、必要に応じて表面処理
される。例えば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコ
ニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あ
るいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていること
が好ましい。また、米国特許第２,７１４,０６６号明細
書に記載されているように、砂目立てしたのち珪酸ナト
リウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許
第３,１８１,４６１号明細書に記載されているようにア
ルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属
珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用され
る。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独
又は二種以上を組み合わせた電界液中でアルミニウム板
を陽極として電流を流すことにより実施される。

【００５９】また、米国特許第３,６５８,６６２号明細
書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とす
る為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上
させる為に施されるものである。

【００６０】アルミニウム板を砂目立てするに先立っ
て、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄
なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理
を施しても良い。前者のためには、トリクレン等の溶
剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッ
チング剤を用いる方法が広く行われている。

【００６１】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開
昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機
械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線表面粗さ（Ｈａ）が０.３〜１.０μとな
るような範囲で施されることが好ましい。

【００６２】このようにして砂目立てされたアルミニウ
ム板は必要に応じて水洗および化学的にエッチングされ
る。エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する
塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッ
チングされた表面に、エッチング液成分から誘導される
アルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなけれ
ばならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基
性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リ
ン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリ
ウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過
硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウ
ムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コ
バルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要
な被膜を形成するから好ましくない。

【００６３】これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度
の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の
溶解速度が浸漬時間１分あたり０.３ ｇから４０ ｇ／
ｍ²になる様に行なわれるのが最も好ましいが、これを
上回るあるいは下回るものであっても差支えない。エッ
チングは上記エッチング液にアルミニウム板を浸漬した
り、該アルミニウム板にエッチング液を塗布すること等
により行われ、エッチング量が０.５〜１０ｇ／ｍ²の範
囲となるように処理されることが好ましい。

【００６４】上記エッチング剤としては、そのエッチン
グ速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用するこ
とが好ましい。この場合、スマットが生成するので、通
常デスマット処理される。デスマット処理に使用される
酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうふ
っ化水素酸等が用いられる。

【００６５】エッチング処理されたアルミニウム板は、
必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この
分野で従来より行なわれている方法で行なうことができ
る。具体的には、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スル
ファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二
種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニ
ウムに直流または交流の電流を流すと、アルミニウム支
持体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。

【００６６】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一概には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が１〜８０質量％、液温５〜７０
℃、電流密度 ０.５〜６０アンペア／ｄｍ²、電圧１〜
１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当であ
る。これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第
１,４１２,７６８号明細書に記載されている硫酸中で高
電流密度で陽極酸化する方法、米国特許第４,２１１,６
１９号明細書に記載されているような低濃度の硫酸中で
陽極酸化する方法および米国特許第３,５１１,６６１号
明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極酸化す
る方法が好ましい。

【００６７】上記のように粗面化され、さらに陽極酸化
されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理して
も良く、その好ましい例としては米国特許第２,７１４,
０６６号及び同第３,１８１,４６１号に開示されている
ようなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム
水溶液または特公昭３６-２２０６３号公報に開示され
ている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第
４,１５３,４６１号明細書に開示されているようなポリ
ビニルスルホン酸で処理する方法がある。

【００６８】また、上述のように粗面化され、陽極酸化
され、更に必要に応じて親水化処理されたアルミニウム
板上には水溶性化合物からなる下塗層を設けることがで
きる。このような水溶性化合物の例としては特公昭５７
-１６３４９号公報に開示されている水溶性金属塩と親
水性セルロースの組合せ（例えば、塩化亜鉛とカルボキ
シメチルセルロース、塩化マグネシウムとヒドロキシエ
チルセルロースなど）、米国特許３,５１１,６６１号明
細書に開示されているポリアクリルアミド、特公昭４６
-３５６８５号公報に開示されているポリビニルホスホ
ン酸、特開昭６０-１４９４９１号公報に開示されてい
るアミノ酸およびその塩類（Ｎａ塩、Ｋ塩等のアルカリ
金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、り
ん酸塩等）、特開昭６０-２３２９９８号公報に開示さ
れている水酸基を有するアミン類およびその塩類（塩酸
塩、蓚酸塩、りん酸塩等）、更に特開昭６３-１６５１
８３号公報に開示されているアミノ基及びホスホン酸基
を有する化合物又はその塩、特願平２-５９５９２号公
報に開示されている(a)アミノ基および(b)ホスホン酸
基、ホスフィン酸基、又はリン酸基を１つずつ有する化
合物又はその塩、特願平３-１０６０４号公報に開示さ
れている脂肪族又は芳香族のホスホン酸又はホスフィン
酸類又はその塩などが挙げられる。中でも特願平２-５
９５９２号公報、特願平３-１０６０４号公報に開示さ
れている化合物が特に好ましい。このような水溶性化合
物の下塗り層は固型分で１ｍｇ／ｍ²〜８０ｍｇ／ｍ²の
範囲で設けるのが好ましい。

【００６９】上記のようにして設けられた感光層の表面
は、真空焼枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を
短縮し、かつ焼きボケを防ぐ為、マット化することが好
ましい。具体的には、特開昭５０-１２５８０５号、特
公昭５７-６５８２号、同６１-２８９８６号の各公報に
記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭６
２-６２３３７号公報に記載されているような固体粉末
を熱融着させる方法などがあげられる。

【００７０】本発明の方法により作成された感光性平版
印刷版に対する現像液は、実質的に有機溶剤を含まない
アルカリ性の水溶液が好ましく、具体的には珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン
酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸ア
ンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、重
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、アン
モニア水などのような水溶液が適当であり、それらの濃
度が０.１〜１０質量％、好ましくは０.５〜５質量％に
なるように添加される。

【００７１】これらの中でもケイ酸カリウム、ケイ酸リ
チウム、ケイ酸ナトリウム等のケイ酸アルカリを含有す
る現像液は、印刷時の汚れが生じにくいため好ましく、
ケイ酸アルカリの組成がモル比で〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕
＝０.５〜２.５（ここに〔ＳｉＯ₂〕、〔Ｍ〕はそれぞ
れ、ＳｉＯ₂のモル濃度と総アルカリ金属のモル濃度を
示す。）であり、かつＳｉＯ₂を０.８〜８質量％含有す
る現像液が好ましく用いられる。また該現像液中には、
例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸マグ
ネシウムなどの水溶性亜硫酸塩や、レゾルシン、メチル
レゾルシン、ハイドロキノン、チオサリチル酸などを添
加することができる。これらの化合物の現像液中におけ
る好ましい含有量は０.００２〜４質量％で、好ましく
は、０.０１〜１質量％である。

【００７２】また該現像液中に、特開昭５０-５１３２
４号公報、同５９-８４２４１号公報に記載されている
ようなアニオン性界面活性剤、及び両性界面活性剤、特
開昭５９-７５２５５号公報、同６０-１１１２４６号公
報及び同６０-２１３９４３号公報等に記載されている
ような非イオン性界面活性剤のうち少なくとも一種を含
有させることにより、または特開昭５５-９５９４６号
公報、同５０-１４２５２８号公報に記載されているよ
うに高分子電解質を含有させることにより、感光性組成
物への濡れ性を高めたり、現像の安定性（現像ラチチュ
ード）を高めたりすることができ、好ましく用いられ
る。かかる界面活性剤の添加量は０.００１〜２質量％
が好ましく、特に０.００３〜０.５質量％が好ましい。

【００７３】さらに該ケイ酸アルカリのアルカリ金属と
して、全アルカリ金属中、カリウムを２０モル％以上含
むことが現像液中で不溶物発生が少ないため好ましく、
より好ましくは９０モル％以上、最も好ましくは１００
モル％の場合である。

【００７４】更に本発明に使用される現像液には、若干
のアルコール等の有機溶媒や特開昭５８-１９０９５２
号公報に記載されているキレート剤、特公平１-３０１
３９号公報に記載されているような金属塩、有機シラン
化合物などの消泡剤を添加することができる。

【００７５】露光に使用される光源としてはカーボンア
ーク灯、水銀灯、キセノンランプ、タングステンラン
プ、メタルハライドランプなどがある。

【００７６】本発明の作成方法により作成された感光性
平版印刷版は、特開昭５４-８００２号、同５５-１１５
０４５号、特開昭５９-５８４３１号の各公報に記載さ
れている方法で製版処理してもよいことは言うまでもな
い。即ち、現像処理後、水洗してから不感脂化処理、ま
たはそのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液での
処理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を施
してもよい。さらに、この種の感光性平版印刷版の現像
工程では、処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されア
ルカリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時
間運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため
処理能力が低下するが、その際、特開昭５４-６２００
４号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させ
てもよい。この場合、米国特許第４,８８２,２４６号に
記載されている方法で補充することが好ましい。また、
上記のような製版処理は、特開平２-７０５４号、同２-
３２３５７号に記載されているような自動現像機で行う
ことが好ましい。

【００７７】また、本発明の作成方法により作成された
感光性平版印刷版を画像露光し、現像し、水洗又はリン
スしたのちに、不必要な画像部の消去を行なう場合に
は、特公平２-１３２９３号公報に記載されているよう
な消去液を用いることが好ましい。更に製版工程の最終
工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては、特
公昭６２-１６８３４号、同６２-２５１１８号、同６３
-５２６００号、特開昭６２-７５９５号、同６２-１１
６９３号、同６２-８３１９４号の各公報に記載されて
いるものが好ましい。

【００７８】更にまた、本発明の作成方法により作成さ
れた感光性平版印刷版を画像露光し、現像し、水洗又は
リンスし、所望により消去作業をし、水洗したのちにバ
ーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１-２
５１８号、同５５-２８０６２号、特開昭６２-３１８５
９号、同６１-１５９６５５号の各公報に記載されてい
るような整面液で処理することが好ましい。

【００７９】

【実施例】以下、本発明を合成例、実施例等により更に
詳細に説明するが、本発明の内容がこれにより限定され
るものではない。 ［合成例１］撹拌機、冷却管を備えた１Ｌ三ツ口フラス
コに４−ヒドロキシベンジルアルコール６２.１ｇ（０.
５mole）及びメタクリロイロキシエチルイソシアネート
７７.６ｇ（０.５mole）、ｐ-メトキシフェノール０.０
４ｇ（０.３mmole）、ジラウリン酸ジ-n-ブチルすず０.
２ｇ（０.３mmole）、アセトン７００ｍｌを加え、撹拌
溶解後、オイルバスを用いて５０℃に加熱しながら８時
間撹拌した。反応終了後、この反応混合物を水３Ｌに撹
拌下投入し、３０分間撹拌した後、濾過することによ
り、化合物Ｍ４が得られた（収量５５.９ｇ）。

【００８０】このように得られた化合物Ｍ４ ９.５ｇ
（０.０３４mole）及びアクリロニトリル５.９ｇ（０.
１１２mole）、メタクリル酸メチル５.４ｇ（０.０５４
mole）、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミド４０ｍｌを撹拌機
を備えた２００ｍｌ三ツ口フラスコに入れ湯水浴により
６５℃に加熱しながら撹拌した。この混合物にα,α’
−アゾビスイソブチロニトリル０.３３ｇを加え６５℃
に保ちながら窒素気流下５時間撹拌した。反応終了後、
この反応混合物を水２Ｌに撹拌下投入し、３０分間撹拌
した後濾過乾燥することにより１６ｇの白色固体を得
た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによりこ
の高分子化合物の重量平均分子量（ポリスチレン標準）
を測定したところ６２０００であった（高分子化合物
(a)）。

【００８１】合成例２ 撹拌機、冷却管を備えた１Ｌ三ツ口フラスコに４−ヒド
ロキシベンゼンスルホンアミド８６.６ｇ（０.５mole）
及びメタクリロイロキシエチルイソシアネート７７.６
ｇ（０.５mole）、ｐ-メトキシフェノール０.０４ｇ
（０.３mmole）、ジラウリン酸ジ-n-ブチルすず０.２ｇ
（０.３mmole）、アセトン７００ｍｌを加え、撹拌溶解
後、オイルバスを用いて５０℃に加熱しながら８時間撹
拌した。反応終了後、この反応混合物を水３Ｌに撹拌下
投入し、３０分間撹拌した後、濾過することにより、化
合物Ｍ３が得られた（収量９０.３ｇ）。

【００８２】このように得られた化合物Ｍ３ １０.８ｇ
（０.０３３mole）及びアクリロニトリル１.６ｇ（０.
０３０mole）、メタクリル酸メチル３.７ｇ（０.０３７
mole）、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミド３０ｍｌを撹拌機
を備えた２００ｍｌ三ツ口フラスコに入れ湯水浴により
６５℃に加熱しながら撹拌した。この混合物にＶ−６５
（和光純薬（株）製）０.２５ｇを加え６５℃に保ちな
がら窒素気流下１時間撹拌した。この反応混合物にさら
に化合物Ｍ３ １０.８ｇ及びアクリロニトリル１.６
ｇ、メタクリル酸メチル３.７ｇ、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセ
トアミド３０ｍｌ及びＶ−６５ ０.２５ｇの混合物を２
時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後更に
６５℃に保ちながら窒素気流下３時間撹拌した。反応終
了後、メタノール４０ｍｌを加え冷却し、水２Ｌに撹拌
下投入し、３０分間撹拌した後濾過乾燥することにより
２６ｇの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの高分子化合物の重量平均分子量
（ポリスチレン標準）を測定したところ４８０００であ
った（高分子化合物(b)）。

【００８３】合成例３ 撹拌機、冷却管を備えた１Ｌ三ツ口フラスコに４−アミ
ノフェノール５４.６ｇ（０.５mole）、ｐ-メトキシフ
ェノール０.０４ｇ（０.３mmole）、ジメチルアセトア
ミド２００ｍｌ、メタノール２００ｍｌを加え、氷水浴
下撹拌溶解した。この混合物にメタクリロイロキシエチ
ルイソシアネート７７.６ｇ（０.５mole）を約１時間か
けて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴を
取り去り、１時間室温下で撹拌した。反応終了後、この
反応混合物を水２Ｌに撹拌下投入し、３０分間撹拌した
後、濾過することにより、化合物Ｍ５１が得られた（収
量１１０.３ｇ）。

【００８４】このように得られた化合物Ｍ５１ ５.３ｇ
（０.０２０mole）及びアクリロニトリル３.２ｇ（０.
０６０mole）、メタクリル酸メチル２.０ｇ（０.０２０
mole）、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミド３０ｍｌを撹拌機
を備えた２００ｍｌ三ツ口フラスコに入れ湯水浴により
６５℃に加熱しながら撹拌した。この混合物にＶ−６５
（和光純薬（株）製）０.２５ｇを加え６５℃に保ちな
がら窒素気流下１時間撹拌した。この反応混合物にさら
に化合物Ｍ３ ５.３ｇ及びアクリロニトリル３.２ｇ、
メタクリル酸メチル２.０ｇ、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトア
ミド３０ｍｌ及びＶ−６５ ０.２５ｇの混合物を２時間
かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後更に６５
℃に保ちながら窒素気流下３時間撹拌した。反応終了
後、メタノール４０ｍｌを加え冷却し、水２Ｌに撹拌下
投入し、３０分間撹拌した後濾過乾燥することにより１
９ｇの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマト
グラフィーによりこの高分子化合物の重量平均分子量
（ポリスチレン標準）を測定したところ５６０００であ
った（高分子化合物(C)）。

【００８５】合成例４〜６ 合成例１、２又は３と同様にして表１に示される高分子
化合物（ｄ）〜（ｇ）を合成した。これらの化合物
（ｄ）〜（ｇ）の重量平均分子量（ポリスチレン標準）
はそれぞれ、３８０００、７００００、２８０００、２
１０００、及び２６０００であった。

【００８６】

【表１】

【００８７】［実施例１〜７および比較例１〜４］厚さ
０.３０ｍｍのアルミニウム板をナイロンブラシと４０
０メッシュのパミストンの水懸濁液を用いてその表面を
砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナト
リウム溶液中に７０℃で６０秒間浸漬してエッチングし
た後、流水で水洗し、２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水洗
した。これをＶA＝１２.７Ｖの条件下で正弦波の交番波
形電流を用いて１％硝酸水溶液中で１６０クーロン／ｄ
ｍ²の陽極自電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ、０.６μ（Ｒａ表示）であっ
た。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中に浸漬し５
５℃で２分間デスマットした後、２０％Ｈ₂ＳＯ₄水溶液
中、電流密度２Ａ／ｄｍ²において厚さが２.７ｇ／ｍ²
になるように陽極酸化し、基板を調整した。

【００８８】このように処理された基板の表面に下記組
成の下塗り液（Ａ）を塗布し、８０℃で３０秒間乾燥し
た。乾燥後の被覆量は３０ｍｇ／ｍ²であった。 下塗り液（Ａ）

【００８９】このようにして基板（Ｉ）を作成した。次
にこの基板（Ｉ）上に次の感光液（Ｂ）をロッドコーテ
ィングで、２５ｍｌ／ｍ²塗設し、１００℃で１分間乾
燥してポジ型感光性平版印刷版［Ｂ］−１〜［Ｂ］−１
１を得た。乾燥後の塗布量は約１.３ｇ／ｍ²であった。

【００９０】感光液（Ｂ）

【００９１】

【表２】

【００９２】

【表３】

【００９３】感光性平版印刷版［Ｂ］−１〜１１の感光
層上に線画及び網点画像のポジ透明原画を密着させ、３
０アンペアのカーボンアーク灯で７０ｃｍの距離から露
光を行った。露光された感光性平版印刷版［Ｂ］−１〜
１１をＤＰ−４（商品名：富士写真フィルム（株）製）
の８倍希釈水溶液で２５℃において４０秒間自動現像
（８００Ｕ：富士写真フィルム（株）製自動現像機によ
る）を行った。この時の適性露光時間は濃度差０.１５
のグレースケール（富士写真フィルム（株）製）で５段
が完全にクリヤーになる点とし、これにより感光性平版
印刷版の感度とした。またＤＰ−４の８倍希釈液で２５
℃のバット現像にて４０秒現像時におけるグレースケー
ルのベタ段数から二段変化する時間（以下「現像ラチチ
ュード」と称す。）を求めた。これらのポジ型感光性平
版印刷版の感度（露光時間）と現像ラチチュードの結果
を表４に示す。

【００９４】次に、これらの感光性平版印刷版サンプル
を、真空焼枠中で、ハイドライドランプを光源として、
透明ベース上で、ポジ原稿フィルムを通して、６０秒間
露光し、次いで、富士写真フィルム（株）製現像液ＤＰ
−４（１：８）、リンス液ＦＲ−３（１：７）を仕込ん
だ自動現像液を通して処理した。

【００９５】得られた平版印刷版のそれぞれを用いて、
ハイデルベルグ社製ＫＯＲ−Ｄ型印刷機でＵＶインキ
（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ ＵＶ ＢＦ）を用いて印
刷し、良好な印刷物が得られた枚数を調べた。さらに同
様の印刷を行い、今度は油性インキを用いて約５０００
枚印刷する毎に機械を停止、プレートクリーナーＣＬ−
２（富士写真フィルム（株）製）で版面をふき、印刷を
続けた。このときに良好な印刷物が得られた枚数を調べ
た。結果を表４に示す。

【００９６】

【表４】

【００９７】

【発明の効果】側鎖にウレタン結合、または尿素結合を
有し、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合
物（Ａ）、アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ｂ）、及び
ｏ-ナフトキノンジアジド（Ｃ）を含有する感光性組成
物を、一般式（Ｉ）で示される特定の溶剤を含む塗布溶
剤に溶解し、アルミニウム支持体上に塗布、乾燥するこ
とを特徴とする本発明の感光性平版印刷版の作成方法に
より、耐刷力および現像ラチチュードともに優れ、特
に、プレートクリーナーを頻繁に使用する印刷条件下
や、ＵＶインキを使用した場合にも十分な耐刷力を有
し、現像ラチチュードにも優れるポジ型感光性平版印刷
版を製造することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/032 Ｇ０３Ｆ 7/032 Ｆターム(参考） 2H025 AA04 AA12 AB03 AC01 AD03 BE01 BE02 CB29 CB41 CB52 CC03 DA18 FA03 FA17 2H096 AA00 BA10 BA20 CA20 EA02 GA08

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 側鎖にウレタン結合または尿素結合を
   有する、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化
   合物（Ａ）、アルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ｂ）、及
   びｏ-ナフトキノンジアジド（Ｃ）を含有する感光性組
   成物を、下記一般式（Ｉ）で示される溶剤を含む塗布溶
   剤に溶解し、アルミニウム支持体上に塗布、乾燥するこ
   とを特徴とする感光性平版印刷版の作成方法。 【化１】 （式中、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ水素原子、置換基を有し
   てもよい炭素数１〜４のアルキル基、アセチル基を表
   す。）