JP2001051407A - 感光性平版印刷版 - Google Patents

感光性平版印刷版

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JP2001051407A
JP2001051407A JP11229889A JP22988999A JP2001051407A JP 2001051407 A JP2001051407 A JP 2001051407A JP 11229889 A JP11229889 A JP 11229889A JP 22988999 A JP22988999 A JP 22988999A JP 2001051407 A JP2001051407 A JP 2001051407A
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JP
Japan
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acid
group
printing plate
photosensitive
compound
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JP11229889A
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English (en)
Inventor
Kazuo Fujita
和男 藤田
Shiro Tan
史郎 丹
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 水性アルカリ現像液で現像ができ、耐摩耗性
が優れ、かつ耐刷力の大きい感光性平版印刷版であり、
耐薬品性に優れ、バーニング処理を行う事なくUVイン
ク(紫外線硬化インク)を用いた印刷を行っても耐刷力
の大きく、更に現像条件の範囲が広く、印刷時に汚れを
生じない感光性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビ
ニル重合系高分子化合物とo−ナフトキノンジアジドと
を含有する感光層を有する感光性平版印刷版であって、
該ビニル重合系高分子化合物がフェノール性水酸基を有
する単量体成分(A)及びアルコール性水酸基を有する
単量体成分(B)を含有する共重合体であることを特徴
とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版に
関するものである。更に詳しくは、ポジ型に作用する感
光性化合物と、耐摩耗性、耐薬品性に優れた高分子化合
物からなる感光層を有し、現像条件の範囲が広く、印刷
時に汚れを生じない感光性平版印刷版に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】o−ナフトキノンジアジド化合物とノボ
ラック型フェノール樹脂からなる感光性組成物は、非常
に優れた感光性組成物として平版印刷版の製造やフォト
レジストとして工業的に用いられてきた。しかし主体と
して用いられるノボラック型フェノール樹脂は、その性
質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろいこ
と、塗布性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印刷版に
用いた時の耐刷が十分でないこと、さらに耐薬品性に乏
しく、特にUVインキを使用すると耐刷力が極めて不十
分である等の改良すべき点がある。
【0003】これらの諸性能を向上させる方法としては
バーニング処理(露光、現像後、加熱処理する事)が一
般的に用いられている。しかし、バーニング処理を行う
と、画像部の感光層から低分子化合物が昇華して非画像
部に付着し、印刷時に汚れが生じやすくなるという問題
がある。また、かかる問題を解決するため種々の高分子
化合物が、バインダーとして検討されてきた。たとえば
特公昭52−41050号公報に記載されているポリヒ
ドロキシスチレンまたはヒドロキシスチレン共重合体は
確かに被膜性が改良されたが、耐摩耗性、耐薬品性が劣
るという欠点を有していた。また、特開昭51−347
11号公報中にはアクリル酸誘導体の構造単位を分子構
造中に有する高分子化合物をバインダーとして用いるこ
とが提案されているが、かかる高分子化合物は適正な現
像条件の範囲が狭く、また耐摩耗性も十分でないなどの
問題があった。また、特開昭63−89864号公報、
特開平1−35436号公報及び特開平1−52139
号公報、特開平8−339082等に、フェノール性水
酸基構造を有するアクリル酸誘導体を分子構造中に有す
る高分子化合物をバインダーとして用いることが提案さ
れているが、かかる高分子化合物は、まだ耐摩耗性が十
分でなく、また、印刷時に汚れが生じやすくなるという
問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、水性アルカリ現像液で現像ができ、耐摩耗性が優
れ、かつ耐刷力の大きい感光性平版印刷版を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、耐薬品性に優れ、バー
ニング処理を行う事なくUVインク(紫外線硬化イン
ク)を用いた印刷を行っても耐刷力の大きい平版印刷版
を与える感光性平版印刷版を提供することにある。さら
に本発明の目的は、現像条件の範囲が広く、印刷時に汚
れを生じない平版印刷版を与える感光性平版印刷版を提
供することである。さらに本発明の目的は基板に対する
密着性が良く、柔軟な皮膜を与え、有機溶剤溶解性の優
れた感光層を有する感光性平版印刷版を提供することで
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ビニル重
合体の共重合組成を種々検討した結果、複数の特定官能
基を有するビニル重合系高分子化合物を、感光性化合物
に添加した感光性組成物を感光層に用いた感光性平版印
刷版により、上記目的を達成できることを見出し、本発
明に到達した。すなわち、本発明は、水不溶かつアルカ
リ性水溶液に可溶なビニル重合系高分子化合物とo−ナ
フトキノンジアジドとを含有する感光層を有する感光性
平版印刷版において、該ビニル重合系高分子化合物が、
少なくとも下記(A)および(B)で示される単量体成
分を含有する共重合体であることを特徴とする感光性平
版印刷版である。 (A)1分子中に1つ以上のフェノール性水酸基と1つ
以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物 (B)1分子中に1つ以上のアルコール性水酸基と1つ
以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物
【0006】本発明の感光性平版印刷版は、少なくとも
上記(A)及び(B)で示される単量体成分からなる共
重合体を含有する感光性組成物を感光層に用いることに
よって、該感光層の基板に対する密着性が良く、柔軟な
皮膜を与え、有機溶剤溶解性が優れるため、支持体上に
塗布する際の塗布性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光
後、露光部を水性アルカリ現像液で使用する際の現像性
に優れる。また、得られたレリーフ像は耐摩耗性、支持
体への密着性が良く、印刷版として使用した場合、良好
な印刷物が多数枚得られる。さらに、耐薬品性に優れ、
バーニング処理を行う事なくUVインクを使用した印刷
を行った場合においても良好な印刷物が多数枚得られ、
耐刷性に優れ、印刷時に汚れが生じない平版印刷版が得
られる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の感光性平版印刷版
の感光層に用いる感光性組成物の各成分について詳細に
説明する。本発明で使用される、水不溶かつアルカリ性
水溶液に可溶なビニル重合系高分子化合物とは、少なく
とも(A)1分子中に1つ以上のフェノール性水酸基と
1つ以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物と、
(B)1分子中に1つ以上のアルコール性水酸基と1つ
以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物を公知の重
合開始剤を用いて適当な溶媒中で重合することにより得
られる高分子化合物である。本発明で使用される、水不
溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビニル重合系高分子化
合物として、例えば、ポリアクリレート類、ポリスチレ
ン類、ポリビニルエーテル類を好適に使用することがで
きる。本発明において、1分子中に1つ以上のフェノー
ル性水酸基と1つ以上の重合可能な不飽和結合を有する
化合物(A)としては、下記一般式(I)で示される化
合物が挙げられる。
【0008】
【化1】
【0009】(式中、Xは−O−または−NR3 −を示
す。R1 は−HまたはCH3 を示す。R2 は置換基を有
してもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロア
ルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を示
す。R3 は水素原子、または置換基を有してもよい炭素
数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基もしくはアラルキル基を示す。Yは−NHCOOR
4 −、−OCONHR4 −、−NHCONHR4 −を示
す。R4 は単結合、置換基を有してもよい炭素数1〜1
2の、アルキレン基、シクロアルキレン基を示す。Zは
置換基を有してもよいアリーレン基を表す。nは1〜3
の自然数を表す。)
【0010】一般式(I)で示される低分子化合物の
内、本発明において特に好適に使用されるものは、R2
がC1 〜C6 のアルキレン基、シクロアルキレン基、ま
たは置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレ
ン基であり、R3 が水素原子、R4 が単結合またはC1
〜C6 のアルキレン基である化合物である。このような
低分子化合物としては、例えば下記化合物(M1)〜
(M10)が挙げられる。
【0011】
【化2】
【0012】
【化3】
【0013】水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビニ
ル重合系高分子化合物として好適に使用でき、1分子中
に1つ以上のフェノール性水酸基と1つ以上の重合可能
な不飽和結合を有する化合物(A)の含有量としては、
1〜40モル%であり、好ましくは10〜35モル%で
ある。1モル%未満では、現像不良或いは汚れの原因と
なり、40モル%を超えて多くなると、現像流れ或いは
耐刷劣化の原因となり、不適である。
【0014】1分子中に1つ以上のアルコール性水酸基
と1つ以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物
(B)のアルコール性水酸基は、1級、2級、3級アル
コール性の水酸基何れのアルコール性水酸基でもよい
が、1級、2級アルコール性水酸基が好ましい。アルコ
ール性水酸基は、1つ以上含まれればいくつでもよい
が、1〜3個有することが好ましい。重合可能な不飽和
結合としては、(メタ)アクリル基、スチリル基、ビニ
ル基等が挙げられ、これらを1つ有することが好まし
い。例えば、下記一般式(II)、(III) で示される化合物
が挙げられる。
【0015】
【化4】
【0016】(式中、X2 、X3 はそれぞれ−O−また
は−NR9 −を示す。R4 、R6 はそれぞれ−Hまたは
CH3 を示す。R5 、R8 はそれぞれ置換基を有しても
よい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレ
ン基またはアラルキレン基を示す。R7 はヘテロ原子を
含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残基を示す。R9
は水素原子、または置換基を有してもよい炭素数1〜1
2の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もし
くはアラルキル基を示す。l、mはそれぞれ1〜20の
整数を示す。)
【0017】一般式(II)または(III) で示される低分子
化合物の内、本発明において特に好適に使用されるもの
は、R5 、R8 がそれぞれC1 〜C6 のアルキレン基ま
たはシクロアルキレン基であり、R7 がC2 〜C6 のア
ルキレン基、シクロアルキレン基、または置換基を有し
ていてもよいフェニレン基、ナフチレン基であり、R 9
が水素原子であり、lが1〜10、mが1〜3の化合物
である。このような低分子化合物としては、例えば、ヒ
ドロキシメチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、4
−ヒドロキシブチルアクリレート、5−ヒドロキシペン
チルアクリレート、3−ヒドロキシペンチルアクリレー
ト、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ジエチ
レングリコールモノアクリレート、テトラエチレングリ
コールモノアクリレート、ジプロピレングリコールモノ
アクリレート等のアクリル酸エステル類、ヒドロキシメ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、3−ヒドロキシペンチルメタクリレ
ート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ジ
エチレングリコールモノメタクリレート、テトラエチレ
ングリコールモノメタクリレート、ジプロピレングリコ
ールモノアクリレート等のメタクリル酸エステル類、N
−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−(2−ヒドロ
キシエチル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシプ
ロピル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシブチ
ル)アクリルアミド、N−(5−ヒドロキシペンチル)
アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシペンチル)アク
リルアミド、N−(2,2−ジメチルヒドロキシプロピ
ル)アクリルアミド等のアクリルアミド類、N−ヒドロ
キシメチルメタクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエ
チル)メタクリルアミド、N−(3−ヒドロキシプロピ
ル)メタクリルアミド、N−(4−ヒドロキシブチル)
メタクリルアミド、N−(5−ヒドロキシペンチル)メ
タクリルアミド、N−(3−ヒドロキシペンチル)メタ
クリルアミド、N−(2,2−ジメチルヒドロキシプロ
ピル)メタクリルアミド等のメタクリルアミド類などが
挙げられる。
【0018】好適に使用できる1分子中に1つ以上のア
ルコール性水酸基と1つ以上の重合可能な不飽和結合を
有する化合物(B)の含有量は、1〜50モル%であ
り、好ましくは5〜30モル%である。1モル%未満で
は、現像不良或いは汚れの原因となり、50モル%を超
えて多くなると、現像流れの原因となり、不適である。
【0019】本発明に使用される高分子化合物は、
(A)1分子中に1つ以上のフェノール性水酸基と1つ
以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物と、(B)
1分子中に1つ以上のアルコール性水酸基と1つ以上の
重合可能な不飽和結合を有する化合物それぞれ1種以上
の共重合体であってもよいが、好ましくは1つ以上の重
合可能な不飽和結合を含有し、かつフェノール性水酸基
及びアルコール性水酸基を含まない化合物の一種以上と
の共重合体である。このような重合可能な不飽和結合を
含有し、かつフェノール性水酸基及びアルコール性水酸
基を含まない化合物としては、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、
メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル
化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレ
ン類、クロトン酸エステル類などから選ばれる重合性不
飽和結合を有する化合物である。
【0020】具体的には、例えばアクリル酸エステル
類、例えばアルキルアクリレート(該アルキル基の炭素
原子数は1〜10のものが好ましい)(例えば、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、
アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチ
ルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オ
クチル、クロルエチルアクリレート、ペンタエリスリト
ールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベン
ジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フ
ルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、など)、アリールアクリレート(例えばフェニ
ルアクリレートなど):メタクリル酸エステル類、例え
ば、アルキルメタクリレート(該アルキル基の炭素原子
数は1〜10のものが好ましい)(例えば、メチルメタ
クリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリ
レート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジル
メタクリレート、オクチルメタクリレート、グリシジル
メタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレートなど)、アリールメタク
リレート(例えば、フェニルメタクリレート、クレジル
メタクリレート、ナフチルメタクリレートなど):アク
リルアミド類、例えばアクリルアミド、N−アルキルア
クリルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1〜
10のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、t−ブチル基、ヘブチル基、オクチル基、シ
クロヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基など
がある。)、N−アリールアクリルアミド(該アリール
基としては、例えばフェニル基、トリル基、ニトロフェ
ニル基、ナフチル基、ヒドロキシフェニル基などがあ
る。)、N,N−ジアルキルアクリルアミド(該アルキ
ル基としては、炭素原子数1〜10のもの、例えばメチ
ル基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキ
シル基、シクロヘキシル基などがある。)、N,N−ア
リールアクリルアミド(該アリール基としては、例えば
フェニル基などがある。)、N−メチル−N−フェニル
アクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−ア
セチルアクリルアミドなど:メタクリルアミド類、例え
ばメタクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド
(該アルキル基としては、炭素原子数1〜10のもの、
例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、エチルヘキ
シル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などが
ある。)、N−アリールメタクリルアミド(該アリール
基としては、フェニル基などがある。)、N,N−ジア
ルキルメタクリルアミド(該アルキル基としては、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などがある。)、N,N−
ジアリールメタクリルアミド(該アリール基としては、
フェニル基などがある。)、N−メチル−N−フェニル
メタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタクリ
ルアミドなど:
【0021】アリル化合物、例えばアリルエステル類
(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸ア
リル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステア
リン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳
酸アリルなど)、アリルオキシエタノールなど:ビニル
エーテル類、例えばアルキルビニルエーテル(例えばヘ
キシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシ
ルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メ
トキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエ
ーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−
2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチル
ブチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエ
ーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチル
アミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテ
ル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど)、ビ
ニルアリールエーテル(例えばビニルフェニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエー
テル、ビニル−2,4−ジクロルフェニルエーテル、ビ
ニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテルな
ど):ビニルエステル類、例えばビニルブチレート、ビ
ニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビ
ニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプ
ロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルア
セテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシ
アセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセト
アセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニル
ブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、
安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビ
ニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル
など:スチレン類、例えばスチレン、アルキルスチレン
(例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチ
ルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソ
プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレ
ン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジ
ルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えばメトキ
シスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメ
トキシスチレンなど)、ハロゲンスチレン(例えばクロ
ルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、
テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロム
スチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオ
ルスチレン、トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−
トリフルオルメチルスチレン、4−フルオル−3−トリ
フルオルメチルスチレンなど):クロトン酸エステル
類、例えば、クロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブ
チル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネー
トなど):イタコン酸ジアルキル類(例えばイタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルな
ど):マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類
(例えばジメチルマレエート、ジブチルフマレートな
ど):アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げ
られる。
【0022】これらの重合性不飽和結合を有する化合物
のうち、好適に使用されるのはメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、メタクリルアミド酸、アク
リルアミド類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、メタクリル酸、アクリル酸であり、特に好適に使用
されるのはアクリロニトリル、メタクリロニトリルであ
る。これらの重合性不飽和結合を有する化合物の1種以
上と、1分子中に1つ以上のフェノール性水酸基を有す
る化合物(A)と,1分子中に1つ以上のアルコール性
水酸基を有する化合物(B)のそれぞれ1種以上の共重
合体は、ブロック体、ランダム体、グラフト体等いずれ
も用いる事ができる。
【0023】このような高分子化合物を合成する際に用
いられる溶媒としては、例えばエチレンジクロリド、シ
クロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタ
ノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−
メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパ
ノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、
乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶
媒は単独あるいは2種以上混合して用いてもよい。
【0024】本発明の高分子化合物の分子量は、好まし
くは重量平均で2,000以上であり、数平均で1,0
00以上である。更に好ましくは重量平均で5,000
〜30万の範囲であり、数平均で2,000〜25万の
範囲である。また多分散度(重量平均分子量/数平均分
子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1〜1
0の範囲である。また、本発明の高分子化合物中には、
未反応の単量体を含んでいてもよい。この場合、単量体
の高分子化合物中に占める割合は15重量%以下が望ま
しい。本発明の高分子化合物は単独で用いても、二種以
上を混合して用いてもよい。感光性組成物中に含まれ
る、これらの高分子化合物の含有量は約5〜95重量%
であり、好ましくは約10〜85重量%である。
【0025】本発明に使用されるo−ナフトキノンジア
ジド化合物としては、特公昭43−28403号公報に
記載されている1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸
クロライトとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル
であるものが好ましい。その他の好適なオルトキノンジ
アジド化合物としては、米国特許第3,046,120
号および同第3,188,210号明細書中に記載され
ている1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライ
ドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルが
ある。その他の有用なo−ナフトキノンジアジド化合物
としては、数多くの特許に報告され、知られている。た
とえば、特開昭47−5303号、同昭48−6380
2号、同昭48−63803号、同昭48−96575
号、同昭49−38701号、同昭48−13354
号、特公昭37−18015号、同昭41−11222
号、同昭45−9610号、同昭49−17481号公
報、米国特許第2,797,213号、同第3,45
4,400号、同第3,544,323号、同第3,5
73,917号、同第3,674,495号、同第3,
785,825号、英国特許第1,227,602号、
同第1,251,345号、同第1,267,005
号、同第1,329,888号、同第1,330,93
2号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中
に記載されているものをあげることができる。
【0026】本発明において特に好ましいo−ナフトキ
ノンジアジド化合物は、分子量1,000以下のポリヒ
ドロキシ化合物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン
酸クロリドとの反応により得られる化合物である。この
ような化合物の具体例は、特開昭51−139402
号、同58−150948号、同58−203434
号、同59−165053号、同60−121445
号、同60−134235号、同60−163043
号、同61−118744号、同62−10645号、
同62−10646号、同62−153950号、同6
2−178562号、特願昭72−233292号、米
国特許第3,102,809号、同第3,126,28
1号、同第3,130,047号、同第3,148,9
83号、同第3,184,310号、同第3,188,
210号、同第4,639,406号などの各公報また
は明細書に記載されているものを挙げることができる。
【0027】これらのo−ナフトキノンシアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.2〜1.2当量反応させる事が好ましく、さ
らに0.3〜1.0当量反応させる事が好ましい。また
得られるo−ナフトキノンジアジド化合物は、1,2−
ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及び導
入量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキシル
基がすべて1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テルで転換された化合物がこの混合物中に占める割合
(完全にエステル化された化合物の含有量)は5モル%
以上である事が好ましく、さらに好ましくは20〜99
モル%である。本発明の感光性平版印刷版の感光層中に
占めるo−ナフトキノンジアジド化合物の量は5〜50
重量%で、より好ましくは15〜40重量%である。
【0028】本発明の感光性平版印刷版の感光層中に
は、前記高分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾ
ールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール
(m−、p−、またはm−/p−混合のいずれでもよ
い)混合ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルム
アルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒ
ドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン
等、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させる
ことができる。これらのアルカリ可溶性高分子化合物
は、重量平均分子量が500〜20,000で数平均分
子量が200〜60,000のものが好ましい。かかる
アルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の70重量%
以下の添加量で用いられる。
【0029】更に、米国特許第4,123,279号明
細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物
を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好まし
い。本発明における感光性平版印刷版の感光層に用いる
感光性組成物中には、感度を高めるために環状酸無水物
類、フェノール類、有機酸類を添加することが好まし
い。環状酸無水物としては米国特許第4,115,12
8号明細書に記載されているように無水フタル酸、テト
ラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3,6−エンドオキシ−△4 −テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、無水ピロメリット酸等がある。フェノール類
としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、
p−エトキシフェノール、2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、2,
4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、4,4,
4”−トリヒドロキシ−トリフェニルメタン、4,
4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,
5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。
【0030】有機酸類としては、特開昭60−8894
2号公報、特開平2−96755号公報などに記載され
ている。スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル
類、カルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トル
エンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェ
ニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トル
イル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アス
コルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、
フェノール類、有機酸類の感光性組成物中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましく
は、0.1〜5重量%である。
【0031】また、本発明の感光性平版印刷版における
感光層中には、現像のラチチュードを広げるために、特
開昭62−251740号公報や、特願平2−1812
48号明細書に記載されているような非イオン性界面活
性剤、特開昭59−121044号公報、特願平2−1
15992号明細書に記載されているような両性界面活
性剤を添加することができる。非イオン性界面活性剤の
具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビ
タンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステ
アリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテルなどが挙げられ、両性界面活性剤の具体例として
は、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポ
リアミノエチルグリシン塩酸塩、アモーゲンK(商品
名、第一工業(株)製、N−テトラデシル−N,N−ベ
タイン型)、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N
−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、レボン
15(商品名、三洋化成(株)製、アルキルイミダゾリ
ン系)などが挙げられる。上記非イオン性界面活性剤、
両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合は0.0
5〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5
重量%である。
【0032】本発明の感光性平版印刷版における感光層
中には、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画
像着色剤としての染料やその他のフィラーなどを加える
ことができる。本発明に用いることのできる染料として
は、特開平5−313359号公報に記載の塩基性染料
骨格を有するカチオンと、スルホン酸基を唯一の交換基
として有し、1〜3個の水酸基を有する炭素数10以上
の有機アニオンとの塩からなる塩基性染料をあげること
ができる。添加量は、全感光性組成物の0.2〜5重量
%である。また、上記特開平5−313359号公報に
記載の染料と相互作用して色調を変えさせる光分解物を
発生させる化合物、例えば特開昭50−36209号
(米国特許3,969,118号)に記載のo−ナフト
キノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭5
3−36223号(米国特許4,160,671号)に
記載のトリハロメチル−2−ピロンやトリハロメチルト
リアジン、特開昭55−62444号(米国特許2,0
38,801号)に記載の種々のo−ナフトキノンジア
ジド化合物、特開昭55−77742号(米国特許4,
279,982号)に記載の2−トリハロメチル−5−
アリール1,3,4−オキサジアゾール化合物などを添
加することができる。これらの化合物は単独または混合
し使用することができる。
【0033】画像の着色剤として前記上記特開平5−3
13359号公報に記載の染料以外に他の染料を用いる
ことができる。塩形成性有機染料を含めて好適な染料と
して油溶性染料および塩基染料をあげることができる。
具体的には、オイルグリーンBG、オイルブルーBO
S、オイルブルー#603、(以上、オリエント化学工
業株式会社製)、ビクトリアピュアブルーBOH〔保土
谷化学(株)製〕、ローダミンB(C145170
B)、マラカイトグリーン(C142000)、メチレ
ンブルー(C152015)等をあげることができる。
【0034】本発明の感光性平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウム
板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸化
アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリケ
ート電着したアルミニウム板があり、その他の亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。これらの
中でも、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板に
は純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれ
る。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、
例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、
亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウ
ムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの
鉄およびチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不
純物をも含むものである。
【0035】アルミニウム板は、必要に応じて表面処理
される。例えば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコ
ニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あ
るいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていること
が好ましい。また、米国特許第2,714,066号明
細書に記載されているように、砂目立てしたのち珪酸ナ
トリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特
許第3,181,461号明細書に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、
硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸
等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単
独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム
板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【0036】また、米国特許第3,658,662号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とす
る為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上
させる為に施されるものである。アルミニウム板を砂目
立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去
すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるために
その表面の前処理を施しても良い。前者のためには、ト
リクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又
後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
アルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われてい
る。
【0037】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭54−31187号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開
昭55−137993号公報に記載されているような機
械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μと
なるような範囲で施されることが好ましい。このように
して砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗
および化学的にエッチングされる。
【0038】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、ク
ロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面
に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これ等の
エッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用
するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間1
分あたり0.3グラムから40g/m2になる様に行なわ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。
【0039】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が0.5
〜10g/m2の範囲となるように処理されることが好ま
しい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度
が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望
ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デス
マット処理される。デスマット処理に使用される酸は、
硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうふつ化水
素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミニウ
ム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化
は、この分野で従来より行なわれている方法で行なうこ
とができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそ
れらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中で
アルミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミ
ニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることがで
きる。
【0040】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70
℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜10
0V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で陽極酸化する方法および米国特許第3,511,
661号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽
極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化され、
さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて
親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特
許第2,714,066号及び同第3,181,461
号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例
えば珪酸ナトリウム水溶液または特公昭36−2206
3号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム
および米国特許第4,153,461号明細書に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法が
ある。
【0041】また、上述のように粗面化され、陽極酸化
され、更に必要に応じて親水化処理されたアルミニウム
板上には、水溶性化合物からなる下塗層を設けることが
できる。このような水溶性化合物の例としては特公昭5
7−16349号公報に開示されている。水溶性金属塩
と親水性セルロースの組合せ(例えば、塩化亜鉛とカル
ボキシメチルセルロース、塩化マグネシウムとヒドロキ
シルエチルセルロースなど)、米国特許第3,511,
661号明細書に開示されているポリアクリルアミド、
特公昭46−35685号公報に開示されているポリビ
ニルホスホン酸、特開昭60−149491公報に開示
されているアミノ酸およびその塩類(Na塩、K塩等の
アルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、しゅう酸
塩、酢酸塩、りん酸塩等)、特開昭60−232998
公報に開示されている水酸基を有するアミン類およびそ
の塩、水酸基をもつアミンおよびその塩は特に好まし
い。このような水溶性化合物の下塗り層は固型分で1m
g/m2 〜80mg/m2 の範囲で設けるのが好まし
い。
【0042】本発明において、前記の各感光性組成物の
成分を溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布すること
によって感光性平版印刷版を得ることができる。ここで
使用する溶媒としては、γ−ブチロラクトン、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルア
セテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メト
キシ−2−プロピルアセテート、トルエン、酢酸エチ
ル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、水、N
−メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアルコー
ル、アセトン、ジアセトンアルコール、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用する。そして上記成分中の濃度(固形
分)は、2〜50重量%が適当である。また、塗布量は
用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版について
いえば一般的に固形分として0.5〜3.0g/m2
好ましい。塗布量が少なくなるにつれ感光性は大になる
が、感光膜の物性は低下する。
【0043】本発明の感光性平版印刷版の感光層中に
は、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭
62−170950号公報に記載されているようなフッ
素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加
量は、全感光性組成物の0.01〜1重量%、更に好ま
しくは0.05〜0.5重量%である。上記のようにし
て設けられた感光層の表面は、真空焼枠を用いた密着露
光の際の真空引きの時間を短縮し、かつ焼きボケを防ぐ
ため、マット化することが好ましい。具体的には、特開
昭50−125805号、特公昭57−6582号、同
61−28986号の各公報に記載されているようなマ
ット層を設ける方法、特公昭62−62337号公報に
記載されているような固体粉末を熱融着させる方法など
が挙げられる。
【0044】本発明の感光性平版印刷版に対する現像液
は、実質的に有機溶剤を含まないアルカリ性の水溶液が
好ましく、具体的には珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、
第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リ
ン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、重炭酸カリウム、アンモニア水などのような
水溶液が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量
%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加され
る。これらの中でもケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、
ケイ酸ナトリウム等のケイ酸アルカリを含有する現像液
は、印刷時の汚れが生じにくいため好ましく、ケイ酸ア
ルカリの組成がモル比で〔SiO2 〕/〔M〕=0.5
〜2.5(ここに〔SiO2 〕、〔M〕はそれぞれ、S
iO2 のモル濃度と総アルカリ金属のモル濃度を示
す。)であり、かっSiO2 を0.8〜8重量%含有す
る現像液が好ましく用いられる。また該現像液中には、
例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸マグ
ネシウムなどの水溶性亜硫酸塩や、レゾルシン、メチル
レゾルシン、ハイドロキノン、チオサリチル酸などを添
加することができる。これらの化合物の現像液中におけ
る好ましい含有量は0.002〜4重量%で、好ましく
は0.01〜1重量%である。
【0045】また該現像液中に、特開昭50−5132
4号公報、同59−84241号公報に記載されている
ようなアニオン性界面活性剤、及び両性界面活性剤、特
開昭59−75255号公報、同60−111246号
公報及び同60−213943号公報等に記載されてい
るような非イオン性界面活性剤のうち少なくとも一種を
含有させることにより、または特開昭55−95946
号公報、同56−142528号公報に記載されている
ように高分子電解質を含有させることにより、感光性組
成物への濡れ性を高めたり、現像の安定性(現像ラチチ
ュード)を高めたりすることができ、好ましく用いられ
る。かかる界面活性剤の添加量は、0.001〜2重量
%が好ましく、特に0.003〜0.5重量%が好まし
い。更に該ケイ酸アルカリのアルカリ金属として、全ア
ルカリ金属中、カリウムを20モル%以上含むことが現
像液中で不溶物発生が少ないため好ましく、より好まし
くは90モル%以上、最も好ましくはカリウムが100
モル%の場合である。
【0046】更に本発明に使用される現像液には、若干
のアルコール等の有機溶媒や特開昭58−190952
号公報に記載されているキレート剤、特公平1−301
39号公報に記載されているような金属塩、有機シラン
化合物などの消泡剤を添加することができる。露光に使
用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀灯、キセ
ノンランプ、タングステンランプ、メタルハライドラン
プなどがある。
【0047】上述した感光性平版印刷版は、特開昭54
−8002号、同55−115045号、同59−58
431号の各公報に記載されている方法で製版処理して
もよいことは言うまでもない。即ち、現像処理後、水洗
してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処理、
または酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水溶液
で処理後不感脂化処理を施してもよい。更に、この種の
感光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じてアル
カリ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少したり、ある
いは、自動現像液の長時間運転により空気によってアル
カリ濃度が減少するため処理能力が低下するが、その
際、特開昭54−62004号の記載のように補充液を
用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特
許第4,882,246号に記載されている方法で補充
することが好ましい。また、上記のような製版処理は、
特開平2−7054号、同2−32357号に記載され
ているような自動現像機で行うことが好ましい。
【0048】また、本発明の感光性平版印刷版を画像露
光し、現像し、水洗またはリンスしたのちに、不必要な
画像部の消去を行う場合には、特公平2−13293号
公報に記載されているような消去液を用いることが好ま
しい。更に製版工程の最終工程で所望により塗布される
不感脂化ガムとしては、特公昭62−16834号、同
62−25118号、同63−52600号、特開昭6
2−7595号、同62−11693号、同62−83
194号の各公報に記載されているものが好ましい。更
にまた、本発明の感光性平版印刷版を画像露光し、現像
し、水洗またはリンスし、所望により消去作業をし、水
洗したのちにバーニングする場合には、バーニング前に
特公昭61−2518号、同55−28062号、特開
昭62−31859号、同61−159655号の各公
報に記載されているような整面液で処理することが好ま
しい。
【0049】
【実施例】以下、本発明を合成例、実施例により更に詳
細に説明するが、本発明の内容がこれにより限定される
ものではない。
【0050】〔合成例1〕撹拌機、冷却管を備えた1リ
ットル容三ツ口フラスコに4−ヒドロキシベンジルアル
コール62.1g(0.5mole)及びメタクリロイロキ
シエチルイソシアネート77.6g(0.5mole)、p
−メトキシフェノール0.04g(0.3mmole )、ジ
ラウリン酸ジ−n−ブチルすず0.2g(0.3mmole
)、アセトン700mlを加え、撹拌溶解後、オイル
バスを用いて50℃に加熱しながら8時間撹拌した。反
応終了後、この反応混合物を水3リットルに撹拌下投入
し、30分間撹拌した後、濾過することにより、化合物
M1が得られた(収量55.9g)。このように得られ
た化合物M1 4.19g(0.015mole)、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート1.30g(0.01mo
le)、メタクリル酸メチル1.50g(0.015mol
e)、アクリロニトリル3.18g(0.06mole)及
びN,N−ジメチルアセトアミド20gを撹拌機を備え
た200ml三ツ口フラスコに入れ、湯水浴により65
℃に加熱しながら撹拌した。この混合物にV−65(和
光純薬(株)製)0.25gを加え65℃に保ちながら
窒素気流下2時間撹拌した。この反応混合物にさらに化
合物M1 4.19g、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート1.30g、メタクリル酸メチル1.50g、ア
クリロニトリル3.18g及びN,N−ジメチルアセト
アミド20g及びV−65 0.25gの混合物を2時
間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後さらに
65℃で2時間撹拌した。反応終了後メタノール40g
を加え冷却し、水2リットル容に撹拌下投入し、30分
間撹拌した後濾過乾燥することにより18gの白色固体
を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
り高分子化合物の重量平均分子量(ポリスチレン標準)
を測定したところ52000であった(本発明の高分子
化合物(a))。
【0051】〔合成例2〕合成例1と同様にして第1表
に示される高分子化合物(b)〜(h)を合成した。
【0052】
【表1】
【0053】以下、本発明を実施例を用いて、より具体
的に説明する。なお、実施例中の「%」は、特に指定の
ない限り「重量%」を示すものとする。 〔実施例1〜9および比較例1〜3〕厚さ0.30mm
のアルミニウム板をナイロンブラシと400メッシュの
パミストンの水懸濁液を用いてその表面を砂目立てした
後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウム溶液中
に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で
水洗し、20%HNO3 で中和洗浄、水洗した。これを
A =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用
いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm 2 の陽極
時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測
定したところ、0.6μ(Ra表示)であった。ひきつ
づいて30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し55℃で2
分間デスマットした後、20%H2 SO4 水溶液中、電
流密度2A/dm2 において厚さが2.7g/m2 にな
るように陽極酸化し、基板を調製した。このように処理
された基板の表面に下記組成の下塗り液(A)を塗布
し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は30
mg/m2 であった。
【0054】下塗り液(A) アミノエチルホスホン酸 0.10g フェニルホスホン酸 0.15g トリエタノールアミン 0.05g β−アラニン 0.10g メタノール 40g 純水 60g このようにして基板(I)を作製した。
【0055】次にこの基板(I)上に次の感光液(B)
をロッドコーティングで25ml/m2 塗設し、100
℃で1分間乾燥してポジ型感光性平版印刷版〔B〕−1
〜〔B〕−8を得た。さらに下記感光液(C)を調製
し、〔B〕−1〜〔B〕−8と同様にして塗布、乾燥し
てポジ型感光性平版印刷版〔C〕−1〜〔C〕−4を作
製した。乾燥後の塗布量は約1.7g/m2 であった。
なお感光性平版印刷版〔B〕−1〜〔B〕−8および
〔C〕−1〜〔C〕−4に用いた本発明または比較の高
分子化合物は表1に示されたものを用いた。
【0056】 〔感光液(B)〕 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンとナフト キノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリドとの エステル化物(エステル化率:90mol%) 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ、パ ラ比;6対4、重量平均分子量3,000、数平均分子量 1,100、未反応のクレゾールを0.7%含有) 0.2g m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量 平均分子量1,700、数平均分子量600、未反応のクレ ゾールを1%含有) 0.3g ピロガロールとアセトンの縮合生成物(重量平均分子量 2,200、数平均分子量700) 0.1g 本発明の高分子化合物(または比較高分子化合物) 1.1g p−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279号明細書に記載されている もの) 0.02g ナフトキノンジアジド−1,2−ジアジド−4−スルホン 酸クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g 4−〔p−N−(p−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェ ニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン 0.02g N−(1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ ニルオキシ)−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミド 0.01g ビクトリアピュアーブルーBOH〔保土谷化学(株)製〕 の対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料 クルクミン 0.005g 1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ ヒドロキシメチルフェニル)エチル〕−4−〔α,α−ビス (4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル) エチル〕ベンゼン 0.04g (特開平6−282067号明細書の化合物(X)) メガファックF−176(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.01g メチルエチルケトン 10g γ−ブチロラクトン 5g 1−メトキシ−2−プロパノ−ル 5g
【0057】 〔感光液(C)〕 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンとナフト キノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリドとの エステル化物(エステル化率:90mol%) 0.45g 本発明の高分子化合物(または比較高分子化合物) 1.7g p−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279号明細書に記載されている もの) 0.02g ナフトキノンジアジド−1,2−ジアジド−4−スルホン 酸クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g 4−〔p−N−(p−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェ ニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン 0.02g N−(1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ ニルオキシ)−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミド 0.01g ビクトリアピュアーブルーBOH〔保土谷化学(株)製〕 の対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料 クルクミン 0.005g 1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ ヒドロキシメチルフェニル)エチル〕−4−〔α,α−ビス (4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル) エチル〕ベンゼン 0.04g (特開平6−282067号明細書の化合物(X)) メガファックF−176(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.01g メチルエチルケトン 10g γ−ブチロラクトン 5g 1−メトキシ−2−プロパノ−ル 5g
【0058】感光性平版印刷版〔B〕−1〜8および
〔C〕−1〜4の感光層上に線画及び網点画像のポジ透
明原画を密着させ、30アンペアのカーボンアーク灯で
70cmの距離から露光を行なった。露光された感光性
平版印刷版〔B〕−1〜8および〔C〕−1〜4をDP
−4(商品名:富士写真フイルム(株)製)の8倍希釈
水溶液で25℃において60秒間浸漬現像した。得られ
た平版印刷版〔B〕−1〜8および〔C〕−1〜4を用
いてハイデルベルグ社製KOR型印刷機で市販の通常イ
ンキ及びUVインキを用いて上質紙に印刷した。平版印
刷版〔B〕−1〜8および〔C〕−1〜4の最終印刷枚
数及び印刷物の汚れを調べたところ、表2に示すとおり
であった。表2からわかる様に、本発明の高分子化合物
を用いた平版印刷版〔B〕−1〜6(実施例1〜6)お
よび〔C〕−1〜3(実施例7〜9)は、〔B〕−7、
8(比較例1、2)および〔C〕−4(比較例3)と比
べて通常インキ、UVインキのどちらを用いた場合にお
いても印刷枚数が多く、耐刷性において非常に優れ、ま
た汚れ性能においても優れたものであった。
【0059】
【表2】
【0060】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の感光性平
版印刷版は感光層中に、少なくとも上記(A)及び
(B)で示される単量体成分を有する共重合体を含有す
ることによって、該感光層は基板に対する密着性が良
く、柔軟な皮膜を与え、有機溶剤溶解性の優れるため、
支持体上に塗布する際の塗布性に優れ、また塗布、乾
燥、画像露光後、露光部を水性アルカリ現像液で使用す
る際の現像性に優れる。また、得られたレリーフ像は耐
摩耗性、支持体への密着性が良く、印刷版として使用し
た場合、良好な印刷物が多数枚得られる。さらに、耐薬
品性に優れ、バーニング処理を行う事なくUVインクを
使用した印刷を行った場合においても良好な印刷物が多
数枚得られ、耐刷性に優れ、印刷時に汚れが生じない平
版印刷版を提供するという効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08K 5/28 C08K 5/28 C08L 101/00 C08L 101/00 G03F 7/022 G03F 7/022 7/033 7/033 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA04 AA12 AA14 AB03 AC01 AD03 BE01 CB14 CB15 CB45 CB52 FA03 FA17 2H096 AA07 AA08 BA10 BA20 EA02 GA08 4J002 BC001 BE041 BG021 EH077 EJ067 EQ036 FD206 FD207 GP03 4J011 PA25 PA30 PA33 PA37 PA65 PA67 PA69 PB40 PC08 QA03 QA06 QA34 QB16 RA03 RA08 RA10 SA62 SA80 WA01 4J026 AA17 AA31 AA44 BA27 BA38 DB06 DB36 GA07

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビ
    ニル重合系高分子化合物とo−ナフトキノンジアジドと
    を含有する感光層を有する感光性平版印刷版において、
    該ビニル重合系高分子化合物が、少なくとも下記(A)
    及び(B)で示される単量体成分を含有する共重合体で
    あることを特徴とする感光性平版印刷版。 (A)1分子中に1つ以上のフェノール性水酸基と1つ
    以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物 (B)1分子中に1つ以上のアルコール性水酸基と1つ
    以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190007389A (ko) * 2017-07-12 2019-01-22 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및 고분자 화합물

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JP2019020487A (ja) * 2017-07-12 2019-02-07 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
KR102545338B1 (ko) * 2017-07-12 2023-06-19 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및 고분자 화합물

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