JPH01280451A - 電磁式衝撃波発生装置 - Google Patents
電磁式衝撃波発生装置Info
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- JPH01280451A JPH01280451A JP63325698A JP32569888A JPH01280451A JP H01280451 A JPH01280451 A JP H01280451A JP 63325698 A JP63325698 A JP 63325698A JP 32569888 A JP32569888 A JP 32569888A JP H01280451 A JPH01280451 A JP H01280451A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10K—SOUND-PRODUCING DEVICES; METHODS OR DEVICES FOR PROTECTING AGAINST, OR FOR DAMPING, NOISE OR OTHER ACOUSTIC WAVES IN GENERAL; ACOUSTICS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G10K9/00—Devices in which sound is produced by vibrating a diaphragm or analogous element, e.g. fog horns, vehicle hooters or buzzers
- G10K9/12—Devices in which sound is produced by vibrating a diaphragm or analogous element, e.g. fog horns, vehicle hooters or buzzers electrically operated
Landscapes
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- Acoustics & Sound (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Surgical Instruments (AREA)
- Building Environments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、本体、少なくとも一つの線コイル、絶縁薄膜
および金属ダイアフラムを持った電磁式衝撃波発生装置
に関する。
および金属ダイアフラムを持った電磁式衝撃波発生装置
に関する。
電磁式衝撃波発生装置（ＥＭＳＯ）は特に体内結石の破
砕に採用され（ドイツ連邦共和国特許第３３２８０６６
号公報参照）、また衝撃波が利用される別の治療法に採
用される。
砕に採用され（ドイツ連邦共和国特許第３３２８０６６
号公報参照）、また衝撃波が利用される別の治療法に採
用される。
雑誌ｒＡｋｕｓｔｉｓｃｈｅ ＤｅｉｈｅｆＬｅ Ｊ
、１９６２年、第１号の第１５８頁〜第２０２頁に、い
わゆる衝撃波管の構造が記載されている。偏平コイルの
前に銅ダイアフラムが絶縁薄膜で分離されて存在してい
る。水が詰められた管がこの銅ダイアフラムに続いてい
る。偏平コイルに２〜２０ＫＶの電圧を印加することに
よって、銅ダイアフラムには磁界が誘起され、この磁界
はダイアフラムをコイルから引き離すような衝撃力を生
ずる。これによって−様な圧力パルスが生じ、これは水
が詰められた管において急傾斜の衝撃波を生じ、管端に
おいて実験に利用される。かかる衝撃波管は例えば化学
的な材料試験に採用される。
、１９６２年、第１号の第１５８頁〜第２０２頁に、い
わゆる衝撃波管の構造が記載されている。偏平コイルの
前に銅ダイアフラムが絶縁薄膜で分離されて存在してい
る。水が詰められた管がこの銅ダイアフラムに続いてい
る。偏平コイルに２〜２０ＫＶの電圧を印加することに
よって、銅ダイアフラムには磁界が誘起され、この磁界
はダイアフラムをコイルから引き離すような衝撃力を生
ずる。これによって−様な圧力パルスが生じ、これは水
が詰められた管において急傾斜の衝撃波を生じ、管端に
おいて実験に利用される。かかる衝撃波管は例えば化学
的な材料試験に採用される。
本発明は、かかる衝撃波発生装置を、その効率および寿
命が向上されるように改良する電磁式衝撃波発生装置を
提供することを目的とする。
命が向上されるように改良する電磁式衝撃波発生装置を
提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明によればこの目的は、冒頭に述べた形式の衝撃波
発生装置において、良伝導性の少なくとももう一つの金
属ダイアフラムが、第１のダイアフラムから少なくとも
一つの絶縁薄膜によって分離されて設けられていること
によって達成される。
発生装置において、良伝導性の少なくとももう一つの金
属ダイアフラムが、第１のダイアフラムから少なくとも
一つの絶縁薄膜によって分離されて設けられていること
によって達成される。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図はその上側半部に、本発明に基づく衝撃波発生装
置の有利な実施例の構造を示し、下側半部に、コイルに
高電圧を印加した場合の電位経過を示している。本発明
に基づく衝撃波発生装置はここでは本体１、線コイル２
、絶縁薄膜３、銅ダイアフラム４、絶縁薄膜５、第２の
銅ダイアフラム６、絶縁薄膜７、および接地されている
特殊鋼ダイアフラム８から成っている。図示していない
が二つ以上の良伝導性の金属薄膜４，６をもって作るこ
ともできる。個々の層は一般的な方法で例えば貼着によ
って互いに接続されている。
置の有利な実施例の構造を示し、下側半部に、コイルに
高電圧を印加した場合の電位経過を示している。本発明
に基づく衝撃波発生装置はここでは本体１、線コイル２
、絶縁薄膜３、銅ダイアフラム４、絶縁薄膜５、第２の
銅ダイアフラム６、絶縁薄膜７、および接地されている
特殊鋼ダイアフラム８から成っている。図示していない
が二つ以上の良伝導性の金属薄膜４，６をもって作るこ
ともできる。個々の層は一般的な方法で例えば貼着によ
って互いに接続されている。
図面は衝撃波発生装置を拡大して示している。
実際には総厚さは１．０ｍｍまでに過ぎない。図面の下
側半部には、高電圧を印加しているときの電位経過Ｕが
示されている。コイル２は高電圧Ｕ０にある。特殊鋼ダ
イアフラム８は接地電位にある。
側半部には、高電圧を印加しているときの電位経過Ｕが
示されている。コイル２は高電圧Ｕ０にある。特殊鋼ダ
イアフラム８は接地電位にある。
銅ダイアフラム４．６はそれぞれ電位ＵＯと零電位との
間の中間電位にある。絶縁薄膜３，５゜７の内部におい
て電位Ｕはそれぞれ高電位から低電位に降下する。
間の中間電位にある。絶縁薄膜３，５゜７の内部におい
て電位Ｕはそれぞれ高電位から低電位に降下する。
第２図は上側に、厚さ０．２止の銅ダイアフラムにおけ
る電流密度分布を示し、下側に、絶縁薄膜で分離された
厚さ０．１龍の二つの銅ダイアフラムにおける電流密度
分布を示している。表皮効果に基づいて電流密度は高周
波の場合には導体断面にわたって一様に分布していない
。使用される周波数において最大浸透深さは約０．２ｍ
ｍである。
る電流密度分布を示し、下側に、絶縁薄膜で分離された
厚さ０．１龍の二つの銅ダイアフラムにおける電流密度
分布を示している。表皮効果に基づいて電流密度は高周
波の場合には導体断面にわたって一様に分布していない
。使用される周波数において最大浸透深さは約０．２ｍ
ｍである。
電流密度の分布は第２図に概略的に示されている。
その図面から明らかなように、電流密度に関する積分値
は二枚のダイアフラムを使用する場合に大きくなる。こ
れによって衝撃力および発生する圧力パルスの振幅も大
きくなる。
は二枚のダイアフラムを使用する場合に大きくなる。こ
れによって衝撃力および発生する圧力パルスの振幅も大
きくなる。
厚さが０．４ｍｍ以上の良導電性ダイアフラムの場合、
内側範囲における電流密度は零である。これは積層ダイ
アフラムの場合には当てはまられない。電流密度の分布
は各ダイアフラムにおいて類似している。
内側範囲における電流密度は零である。これは積層ダイ
アフラムの場合には当てはまられない。電流密度の分布
は各ダイアフラムにおいて類似している。
本発明によれば次のような利点が得られる。
１、 接地された銅ダイアフラムによる効率損失が避け
られる。効率が改善されることにより系統全体の加熱は
低減される。
られる。効率が改善されることにより系統全体の加熱は
低減される。
２、 第２図を参照して後述するように、良伝導性のダ
イアフラムの総厚さに条件づけられた表皮効果が現れる
ことはない。それにも拘わらず総厚さが個々のダイアフ
ラムの厚さよりも大きい複数のダイアフラムを相前後し
て設けることができる。
イアフラムの総厚さに条件づけられた表皮効果が現れる
ことはない。それにも拘わらず総厚さが個々のダイアフ
ラムの厚さよりも大きい複数のダイアフラムを相前後し
て設けることができる。
３、 コイルとこれに続く接地された金属ダイアフラム
との間における電位分布はより良好となる。
との間における電位分布はより良好となる。
というのは中間位置のダイアフラムが続く金属ダイアフ
ラムに対して絶縁され、従って高電圧を印加した場合に
所定の低い電位となるからである。
ラムに対して絶縁され、従って高電圧を印加した場合に
所定の低い電位となるからである。
このことは、系統の寿命が線コイルとダイアフラムとの
間の絶縁層の破壊強度によって決まるので、寿命を長く
する効果を生ずる。電位分布が良好であるので、絶縁層
は電気的な負荷が軽減され、即ちその寿命は長くなる。
間の絶縁層の破壊強度によって決まるので、寿命を長く
する効果を生ずる。電位分布が良好であるので、絶縁層
は電気的な負荷が軽減され、即ちその寿命は長くなる。
４、 コイルとそれと続くダイアフラムとの間の絶縁
層が相応して設置されている限りにおいて、良伝導性の
ダイアフラムはコイルに直に設置できる。これにより拡
散磁界が最小となるので、ダイアフラムと線コイルとの
連結が一層良くなる。
層が相応して設置されている限りにおいて、良伝導性の
ダイアフラムはコイルに直に設置できる。これにより拡
散磁界が最小となるので、ダイアフラムと線コイルとの
連結が一層良くなる。
５、 うず流損失が低減する。
好適な金属として高張力ダイアフラムに対しては特殊鋼
が利用され、良導電性のダイアフラムに対しては銅ある
いは銀が利用される。
が利用され、良導電性のダイアフラムに対しては銅ある
いは銀が利用される。
有利な寸法は次の通りである。
特殊鋼ダイアフラム：０．１〜０．２ｍｍ銅ダイアフラ
ム ：０．０５〜０．２ｍｍ絶縁薄膜 二〇、０
２５〜０． １２５ｍｍ絶縁薄膜の数および厚さについ
ては任意に組み合わせできる。もっとも総厚さは１＋ｎ
＋ｓを越えてはならない。
ム ：０．０５〜０．２ｍｍ絶縁薄膜 二〇、０
２５〜０． １２５ｍｍ絶縁薄膜の数および厚さについ
ては任意に組み合わせできる。もっとも総厚さは１＋ｎ
＋ｓを越えてはならない。
第１図は本発明に基づく衝撃波発生装置の概略構造と電
位経過を示した図、第２図は異なったダイアフラムにお
ける電流密度経過を示した図である。 １・・・本体、２・・・線コイル、３・・・絶縁薄膜、
４・・・銅ダイアフラム、５・・・絶縁薄膜、６・・・
銅ダイアフラム、８・・・特殊鋼ダイアフラム。 出願人代理人 佐 藤 −雄 図面の浄π（内容に変更なし） Ｆ Ｉ Ｇ、 １ Ｆ Ｉ Ｇ、 ２ 手 続 補 正 占 （方式）平成 １年
４月才日 昭和６３年特許願第３２５６９８号 ２ 発明の名称 電磁式衝撃波発生装置 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 発送口 平成 １年 ３月 ２８ 日６ 補正の対象 図面
位経過を示した図、第２図は異なったダイアフラムにお
ける電流密度経過を示した図である。 １・・・本体、２・・・線コイル、３・・・絶縁薄膜、
４・・・銅ダイアフラム、５・・・絶縁薄膜、６・・・
銅ダイアフラム、８・・・特殊鋼ダイアフラム。 出願人代理人 佐 藤 −雄 図面の浄π（内容に変更なし） Ｆ Ｉ Ｇ、 １ Ｆ Ｉ Ｇ、 ２ 手 続 補 正 占 （方式）平成 １年
４月才日 昭和６３年特許願第３２５６９８号 ２ 発明の名称 電磁式衝撃波発生装置 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 発送口 平成 １年 ３月 ２８ 日６ 補正の対象 図面
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、本体（１）、少なくとも一つの線コイル（２）、絶
縁薄膜（３）および金属ダイアフラム（８）を持った衝
撃波発生装置において、良伝導性の少なくとももう一つ
の金属ダイアフラム（４、６）が、第１のダイアフラム
（８）から少なくとも一つの絶縁薄膜（５、７）によっ
て分離されて設けられていることを特徴とする電磁式衝
撃波発生装置。 ２、高張力ダイアフラム（８）が絶縁薄膜 （５、７）によって別の金属ダイアフラム（４、６）か
ら分離されていることを特徴とする請求項１記載の衝撃
波発生装置。 ３、良伝導性のダイアフラム（４、６）が銅あるいは銀
から成っていることを特徴とする請求項１又は２記載の
衝撃波発生装置。 ４、高張力ダイアフラム（８）が特殊鋼から成っている
ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１つに記
載の衝撃波発生装置。 ５、特殊鋼ダイアフラムが０．１〜０．２ｍｍ、絶縁薄
膜が０．０２５〜０．１２５ｍｍおよび銅ダイアフラム
が０．０５〜０．２ｍｍの厚さをそれぞれ有しているこ
とを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１つに記載
の衝撃波発生装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3743822.0 | 1987-12-23 | ||
| DE19873743822 DE3743822A1 (de) | 1987-12-23 | 1987-12-23 | Elektromagnetische stosswellenquelle |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01280451A true JPH01280451A (ja) | 1989-11-10 |
| JPH0741043B2 JPH0741043B2 (ja) | 1995-05-10 |
Family
ID=6343441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63325698A Expired - Lifetime JPH0741043B2 (ja) | 1987-12-23 | 1988-12-23 | 電磁式衝撃波発生装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4924858A (ja) |
| EP (1) | EP0321759B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0741043B2 (ja) |
| DE (1) | DE3743822A1 (ja) |
| ES (1) | ES2056880T3 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3907605C2 (de) * | 1989-03-09 | 1996-04-04 | Dornier Medizintechnik | Stosswellenquelle |
| DE4130796A1 (de) * | 1990-09-27 | 1992-04-02 | Siemens Ag | Elektrisch antreibbare stosswellenquelle |
| US5233972A (en) * | 1990-09-27 | 1993-08-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Shockwave source for acoustic shockwaves |
| DE4041063A1 (de) * | 1990-12-20 | 1992-06-25 | Siemens Ag | Vorrichtung zum entfernen von implantierten gelenkprothesen |
| DE4125088C1 (ja) * | 1991-07-29 | 1992-06-11 | Siemens Ag, 8000 Muenchen, De | |
| DE4201139A1 (de) * | 1992-01-17 | 1993-07-22 | Siemens Ag | Elektromagnetische akustische druckimpulsquelle mit elektrisch leitfaehigen membranmitteln |
| DE4228963C2 (de) * | 1992-08-31 | 1998-10-22 | Siemens Ag | Druckimpulsquelle mit kavitationsfest beschichteter Membran |
| US7189209B1 (en) | 1996-03-29 | 2007-03-13 | Sanuwave, Inc. | Method for using acoustic shock waves in the treatment of a diabetic foot ulcer or a pressure sore |
| US6390995B1 (en) | 1997-02-12 | 2002-05-21 | Healthtronics Surgical Services, Inc. | Method for using acoustic shock waves in the treatment of medical conditions |
| DE10160595A1 (de) * | 2001-12-10 | 2003-06-26 | Dornier Medtech Holding Int Gmbh | Elektromagnetische Stoss- bzw. Druckwellenquelle |
| DE102004013573B3 (de) * | 2004-03-19 | 2005-09-01 | Dornier Medtech Systems Gmbh | Elektromagnetischer Wandler zur Erzeugung von Zugimpulsen |
| DE102004036526B4 (de) * | 2004-07-28 | 2008-06-05 | Dornier Medtech Systems Gmbh | Stoßwellenquelle und Stoßwellenbehandlungsgerät |
| US7925040B2 (en) * | 2005-06-07 | 2011-04-12 | Nidec Pigeon Corporation | Speaker |
| CN1878427A (zh) * | 2005-06-07 | 2006-12-13 | 日本电产鸽株式会社 | 扬声器 |
| US9997189B2 (en) * | 2016-11-07 | 2018-06-12 | Seagate Technology Llc | Three dimensional electric field data storage device utilizing shockwaves and a light source |
| US10056146B2 (en) | 2016-11-07 | 2018-08-21 | Seagate Technology Llc | Electric field storage device |
| US20220072326A1 (en) * | 2020-09-10 | 2022-03-10 | Moshe Ein-Gal | Combined pulsed electromagnetic field and low intensity shockwave system and method |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3447440A1 (de) * | 1984-12-27 | 1986-07-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stosswellenrohr fuer die zertruemmerung von konkrementen |
| DE3505894A1 (de) * | 1985-02-20 | 1986-08-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stosswellenrohr mit spule und membran |
| US4718421A (en) * | 1985-08-09 | 1988-01-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Ultrasound generator |
| EP0256203A1 (de) * | 1986-06-05 | 1988-02-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Stosswellengenerator zum berührungslosen Zertrümmern von Konkrementen im Körper eines Lebewesens |
| US4796608A (en) * | 1986-06-16 | 1989-01-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Shock wave generator for an apparatus for non-contacting disintegration of calculi in the body of a life form |
| DE8627238U1 (de) * | 1986-10-06 | 1988-02-04 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stoßwellenquelle |
| EP0278304A1 (de) * | 1987-02-04 | 1988-08-17 | Siemens Aktiengesellschaft | Lithotripter mit integrierter Ortungseinrichtung |
-
1987
- 1987-12-23 DE DE19873743822 patent/DE3743822A1/de active Granted
-
1988
- 1988-12-03 ES ES88120217T patent/ES2056880T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-03 EP EP88120217A patent/EP0321759B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-19 US US07/286,965 patent/US4924858A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-23 JP JP63325698A patent/JPH0741043B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0741043B2 (ja) | 1995-05-10 |
| EP0321759B1 (de) | 1994-06-01 |
| EP0321759A3 (en) | 1989-10-04 |
| DE3743822C2 (ja) | 1989-10-12 |
| DE3743822A1 (de) | 1989-07-13 |
| EP0321759A2 (de) | 1989-06-28 |
| US4924858A (en) | 1990-05-15 |
| ES2056880T3 (es) | 1994-10-16 |
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