JPS61176334A - 衝撃波管用フラツトコイルとその製作方法 - Google Patents
衝撃波管用フラツトコイルとその製作方法Info
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- JPS61176334A JPS61176334A JP61013570A JP1357086A JPS61176334A JP S61176334 A JPS61176334 A JP S61176334A JP 61013570 A JP61013570 A JP 61013570A JP 1357086 A JP1357086 A JP 1357086A JP S61176334 A JPS61176334 A JP S61176334A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Surgical Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、衝撃波管用の渦巻き形フラットコイルとその
製作方法に関する。本発明によるフラットコイルは特に
患者の結石たとえば腎石を破砕するだめの衝撃波管用に
使用される。
製作方法に関する。本発明によるフラットコイルは特に
患者の結石たとえば腎石を破砕するだめの衝撃波管用に
使用される。
この種の衝撃波管はかなり前から知られている(刊行物
「アクスティッシェ パイヘフテ 1Akustisc
he Be1hefte)J 1962年発行。
「アクスティッシェ パイヘフテ 1Akustisc
he Be1hefte)J 1962年発行。
第1号、第185頁〜第202頁参照)。この衝撃波管
は、たとえば西独特許出願公開第3312014号公報
に開示されているような新しい診察法に基づいて、患者
の身体内の結石を破砕するための医科技術において使用
される。西独特許出願公開第3312014号公報にお
いてはこのような目的に使用可能な衝撃波管が開示され
ている。
は、たとえば西独特許出願公開第3312014号公報
に開示されているような新しい診察法に基づいて、患者
の身体内の結石を破砕するための医科技術において使用
される。西独特許出願公開第3312014号公報にお
いてはこのような目的に使用可能な衝撃波管が開示され
ている。
約100パールというような高い圧力パルスのために、
衝撃波放出の都度かかる衝撃波管の材料は強く応力を受
ける。特に放電コイルとダイヤフラムとは高い機械力を
受ける。西独特許出願公開第3312014号公報にお
いては、球欠状コイルが設けられているが、その球欠形
状はたとえばフラットコイルをくり抜くような付加的な
加工にょつて作られる。
衝撃波放出の都度かかる衝撃波管の材料は強く応力を受
ける。特に放電コイルとダイヤフラムとは高い機械力を
受ける。西独特許出願公開第3312014号公報にお
いては、球欠状コイルが設けられているが、その球欠形
状はたとえばフラットコイルをくり抜くような付加的な
加工にょつて作られる。
しかしながら、そのような加工方法は当然材料費用がか
かり、しかもたとえば精度等に関して要求の高い加工工
具を必要とする。
かり、しかもたとえば精度等に関して要求の高い加工工
具を必要とする。
そこで本発明は、任意の渦巻き形状を有するフラットコ
イルを簡単な手段にて製作することができるような、冒
頭で述べた種類の製作方法およびフラットコイル全提供
することを目的とする。
イルを簡単な手段にて製作することができるような、冒
頭で述べた種類の製作方法およびフラットコイル全提供
することを目的とする。
この目的を達成するために、本発明は、渦巻き形のマス
クが支持膜とこの支持膜の上に位置する導電性膜と感光
性上部膜とを有するプリント板にホトグラフィック(写
真術)的に転写され、上部膜が現像され、転写されたマ
スクの渦巻き路の間が導電性膜からエツチング除去され
、導電性膜に残された渦巻き路が電気鍍金により増強さ
れ、最後にプリント板がフラットコイル支持体に貼着さ
れることを特徴とする。
クが支持膜とこの支持膜の上に位置する導電性膜と感光
性上部膜とを有するプリント板にホトグラフィック(写
真術)的に転写され、上部膜が現像され、転写されたマ
スクの渦巻き路の間が導電性膜からエツチング除去され
、導電性膜に残された渦巻き路が電気鍍金により増強さ
れ、最後にプリント板がフラットコイル支持体に貼着さ
れることを特徴とする。
本発明による製作方法比よって製作されたフラットコイ
ルは、支持膜と、銅から成り支持膜に固定された渦巻き
と、音響反射性を有する非導電性材料から成りフラット
コイル支持体として備えられる板状体とを備え、この板
状体には渦巻きおよび(または)支持膜が貼着されるこ
とを特徴とする。
ルは、支持膜と、銅から成り支持膜に固定された渦巻き
と、音響反射性を有する非導電性材料から成りフラット
コイル支持体として備えられる板状体とを備え、この板
状体には渦巻きおよび(または)支持膜が貼着されるこ
とを特徴とする。
本発明による製作方法の利点は、任意の渦巻き形状を有
するコイルを何ら問題なく製作することができる点であ
る。このために、たとえば旋盤またはフライス盤のよう
な費用のかかる機械的な加工工具l必要としない。
するコイルを何ら問題なく製作することができる点であ
る。このために、たとえば旋盤またはフライス盤のよう
な費用のかかる機械的な加工工具l必要としない。
本発明による製作方法の特に有利な実施態様によれば、
プリント板は渦巻きを支持する表面がフラットコイル支
持体に貼着される。このようにすることによって、衝撃
波管においてはプリント板の非導電性部分を、同時にコ
イルとこのコイルの前に支持されているダイヤフラムと
の間の絶縁膜として使用することができる。それにより
、衝撃波管の主要構成要素つまりフラットフィル、絶縁
膜およびダイヤフラムの取付けは著しく簡単化される。
プリント板は渦巻きを支持する表面がフラットコイル支
持体に貼着される。このようにすることによって、衝撃
波管においてはプリント板の非導電性部分を、同時にコ
イルとこのコイルの前に支持されているダイヤフラムと
の間の絶縁膜として使用することができる。それにより
、衝撃波管の主要構成要素つまりフラットフィル、絶縁
膜およびダイヤフラムの取付けは著しく簡単化される。
次に本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
簡略化のため図面には個々の膜厚は実際の寸去通りに示
されていない。このことは以下の説明から明らかである
。
されていない。このことは以下の説明から明らかである
。
第1図において1は、主要構成要素が渦巻き形コイル4
(第3図および第4図参照)7有するフラットコイル支
持体3と絶縁膜5とダイヤフラム7とから成る衝撃波管
全体を示す。コイル4と絶縁膜5とダイヤフラム7との
保持手段は示されていない。
(第3図および第4図参照)7有するフラットコイル支
持体3と絶縁膜5とダイヤフラム7とから成る衝撃波管
全体を示す。コイル4と絶縁膜5とダイヤフラム7との
保持手段は示されていない。
衝撃波を発生するために、フラットコイル4には高電圧
パルスが短期間与えられる。コイル4とダイヤフラム7
との電磁的相互作用に基づいて、ダイヤフラム7はコイ
ル4から突き離される。それによりダイヤフラム7が衝
撃波を発生する。衝撃波管1が良好な機能を発揮しかつ
所定の望ましい波形が作成されるようにするためには、
コイル4は規定された形状を持たなければならない。コ
イル4の表面は、たとえば平面状衝撃波を発生したい場
合には平面状に形成され、また発生された衝撃波が一点
に集束するように走行させたい場合には凹面状球欠形に
形成され得る。コイル4を規定された形状に形成するこ
とのほかに、渦巻き路(渦巻き形コイルを構成する導体
)間の絶縁がたとえば空気を包含することなく良好に形
成されることは非常に重要である。コイル4に印加され
る電圧パルスは10〜30 kV程度の大きさである。
パルスが短期間与えられる。コイル4とダイヤフラム7
との電磁的相互作用に基づいて、ダイヤフラム7はコイ
ル4から突き離される。それによりダイヤフラム7が衝
撃波を発生する。衝撃波管1が良好な機能を発揮しかつ
所定の望ましい波形が作成されるようにするためには、
コイル4は規定された形状を持たなければならない。コ
イル4の表面は、たとえば平面状衝撃波を発生したい場
合には平面状に形成され、また発生された衝撃波が一点
に集束するように走行させたい場合には凹面状球欠形に
形成され得る。コイル4を規定された形状に形成するこ
とのほかに、渦巻き路(渦巻き形コイルを構成する導体
)間の絶縁がたとえば空気を包含することなく良好に形
成されることは非常に重要である。コイル4に印加され
る電圧パルスは10〜30 kV程度の大きさである。
コイル4を備えたフラットコイル支持体3の製作は円形
状セラミック板から出発する。この円板はたとえば15
5uの直径の際には4〇四の厚さを有する。しかしなが
ら上述の方法を実施する場合、15wの厚さの際にはた
とえば60Wの直径の小さな円板も同様に製作される。
状セラミック板から出発する。この円板はたとえば15
5uの直径の際には4〇四の厚さを有する。しかしなが
ら上述の方法を実施する場合、15wの厚さの際にはた
とえば60Wの直径の小さな円板も同様に製作される。
セラミックから成りフラットコイル支持体3として使用
されるこの円板のほかに、プリント板9が他の出発材料
として用いられる。このプリント板9はコイル4を製作
するために備えられる。プリント板9は好適にはポリイ
ミドから成る非導電性支持膜11から構成されている。
されるこの円板のほかに、プリント板9が他の出発材料
として用いられる。このプリント板9はコイル4を製作
するために備えられる。プリント板9は好適にはポリイ
ミドから成る非導電性支持膜11から構成されている。
このポリイミド膜は約200μmの厚さを有することが
できる。支持膜11の一方の面には、導電性物質から成
る薄膜13、特に約7μmの厚さの網膜が備えられてい
る。この銅膜13上にはさらに感光性上部膜15が設け
られている。
できる。支持膜11の一方の面には、導電性物質から成
る薄膜13、特に約7μmの厚さの網膜が備えられてい
る。この銅膜13上にはさらに感光性上部膜15が設け
られている。
第2図(=はフラットコイル支持体3と第1および第2
の工程に基づいて加工されたプリント板9とが示されて
いる。感光性上部膜15の種類に応じて、ポジティブま
たはネガティブ製法による渦巻き形状を含むマスク(図
示されていない)を載置し、次に感光性膜15のそのマ
スクによって覆われていない部分に露光を行い、渦巻き
路13aの間の間隙の現像およびエツチング除去を行う
ことによって、第2図に示されたプリント板9が構成さ
れる。このプリント板9は支持膜11ともともとあった
銅膜13の部分とから構成されている。これにより渦巻
き路13aは渦巻き形のフラントコイル4を形成する。
の工程に基づいて加工されたプリント板9とが示されて
いる。感光性上部膜15の種類に応じて、ポジティブま
たはネガティブ製法による渦巻き形状を含むマスク(図
示されていない)を載置し、次に感光性膜15のそのマ
スクによって覆われていない部分に露光を行い、渦巻き
路13aの間の間隙の現像およびエツチング除去を行う
ことによって、第2図に示されたプリント板9が構成さ
れる。このプリント板9は支持膜11ともともとあった
銅膜13の部分とから構成されている。これにより渦巻
き路13aは渦巻き形のフラントコイル4を形成する。
第3図においては、フラットコイル支持体3のほかに、
上述の現像およびエツチング工程の後に電気鍍金工程に
よって約7μmからたとえば約150μmの全厚に増強
された渦巻き形銅膜13が示されている。このようにし
て作られた渦巻き路13aを有する渦巻きは、個々の渦
巻き路13aが充分な間隔を有する場合には、衝撃波発
生の際に高電圧衝撃および高電流衝撃に耐えることかで
きる。
上述の現像およびエツチング工程の後に電気鍍金工程に
よって約7μmからたとえば約150μmの全厚に増強
された渦巻き形銅膜13が示されている。このようにし
て作られた渦巻き路13aを有する渦巻きは、個々の渦
巻き路13aが充分な間隔を有する場合には、衝撃波発
生の際に高電圧衝撃および高電流衝撃に耐えることかで
きる。
第4図においては、フラットコイル支持体3と集積化コ
イル4との完成装置が示されている。渦巻き形銅膜13
の間の間隙には合成樹脂17が充填されている。コイル
4はフラットコイル支持体3の端面に接着されている。
イル4との完成装置が示されている。渦巻き形銅膜13
の間の間隙には合成樹脂17が充填されている。コイル
4はフラットコイル支持体3の端面に接着されている。
コイル4yptフ−yットコイル支持体3に良好に接着
し、かつ上記間隙に合成樹脂を充填するために、同様に
1つの作業工程において、フラットコイル支持体3の端
面全体に合成樹脂を塗布することができる。
し、かつ上記間隙に合成樹脂を充填するために、同様に
1つの作業工程において、フラットコイル支持体3の端
面全体に合成樹脂を塗布することができる。
プリント板9は原理的にはフラットコイル支持体3に対
して支持膜11でもっであるいは膜13でもって接着す
ることができる。この第2の実施例の利点は、コイル4
をダイヤフラム7から電気的に絶縁するために、支持膜
11を同時に絶縁膜5として使用することができること
である。
して支持膜11でもっであるいは膜13でもって接着す
ることができる。この第2の実施例の利点は、コイル4
をダイヤフラム7から電気的に絶縁するために、支持膜
11を同時に絶縁膜5として使用することができること
である。
フラットコイル支持体3用の材料としては特にに化フル
ミニラム・セラミックが適し、その場合にはエポキシ樹
脂を充填しても充填しなくても良好な結果が得られる。
ミニラム・セラミックが適し、その場合にはエポキシ樹
脂を充填しても充填しなくても良好な結果が得られる。
以上に説明したように、本発明によれば、任意の渦巻き
形状を有するフラットコイル?何ら問題なく製作するこ
とができる。しかもこのために、たとえば旋盤またはフ
ライス盤のような費用のかかる機械的な加工工具を必要
としない。
形状を有するフラットコイル?何ら問題なく製作するこ
とができる。しかもこのために、たとえば旋盤またはフ
ライス盤のような費用のかかる機械的な加工工具を必要
としない。
第1図はコイル支持体と絶縁膜に接合されるプリント板
とダイヤフラムとを有する衝撃波管を示す分解図、第2
図はコイル支持体と渦巻き路の間の間隙がエツチング除
去されているプリント板とを示す概略図、第3図はコイ
ル支持体と電気鍍金によって補強された渦巻き路とを示
す概略図、第4図はコイル支持体とプリント板から製作
されてそのコイル支持体に接着された渦巻き形コイルと
から成る完成されたフラットコイル装置を示す概略図で
ある。 1・・・衝撃波管、 3・・・フラットコイル支持体
、 4・・・コイル、 5・・・絶縁膜、 7・
・・ダイヤフラム、 9・・・プリント板、 1
1・・・支持膜、 13・・・銅膜、 13a・・
・渦巻き路、15・・・感光性上部膜、 17・・・
合成樹脂。
とダイヤフラムとを有する衝撃波管を示す分解図、第2
図はコイル支持体と渦巻き路の間の間隙がエツチング除
去されているプリント板とを示す概略図、第3図はコイ
ル支持体と電気鍍金によって補強された渦巻き路とを示
す概略図、第4図はコイル支持体とプリント板から製作
されてそのコイル支持体に接着された渦巻き形コイルと
から成る完成されたフラットコイル装置を示す概略図で
ある。 1・・・衝撃波管、 3・・・フラットコイル支持体
、 4・・・コイル、 5・・・絶縁膜、 7・
・・ダイヤフラム、 9・・・プリント板、 1
1・・・支持膜、 13・・・銅膜、 13a・・
・渦巻き路、15・・・感光性上部膜、 17・・・
合成樹脂。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)衝撃波管用の渦巻き形フットコイルを製作するため
の方法において、渦巻き形のマスクが支持膜(11)と
この支持膜の上に位置する導電性膜(13)と感光性上
部膜(15)とを有するプリント板(9)上にホトグラ
フィック的に転写され、上部膜(15)が現像され、転
写されたマスクの渦巻き路(13a)の間が導電性膜(
13)からエッチング除去され、導電性膜(13)に残
された渦巻き路(13a)が電気鍍金により増強され、
最後にプリント板(9)がフットコイル支持体(3)に
貼着されることを特徴とする衝撃波管用フラットコイル
の製作方法。 2)支持膜(11)としてポリイミド膜が備えられ、導
電性膜(13)として銅膜が備えられることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 3)ポリイミド膜(11)は約200μmの厚さであり
、銅膜(13)は約7μmの厚さであることを特徴とす
る特許請求の範囲第2項記載の方法。 4)渦巻き路(13a)は電気鍍金により約150μm
の厚さに増強されることを特徴とする特許請求の範囲第
1項ないし第3項のいずれか1項に記載の方法。 5)プリント板(9)は渦巻き路(13a)を支持する
表面がフラットコイル支持体(3)に貼着されることを
特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれ
か1項に記載の方法。 6)支持膜(11)と、銅から成り支持膜(11)に固
定された渦巻き路(13a)と、音響反射性を有する非
導電性材料から成りフラットコイル支持体(3)として
備えられる板状体とを備え、板状体には前記渦巻き路(
13a)および(または)支持膜(11)が貼着される
ことを特徴とする衝撃波管用フラットコイル。 7)フラットコイル支持体(3)はセラミックから成る
ことを特徴とする特許請求の範囲第6項記載のフラット
コイル。 8)フラットコイル支持体(3)はエポキシ樹脂から成
ることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載のフラッ
トコイル。 9)板状体(3)に渦巻き路(13a)および(または
)支持膜(11)を貼着するために樹脂(17)が備え
られていることを特徴とする特許請求の範囲第6項ない
し第8項のいずれか1項に記載のフラットコイル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853502770 DE3502770A1 (de) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | Verfahren zur herstellung einer flachspule sowie flachspule fuer ein stosswellenrohr |
DE3502770.3 | 1985-01-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61176334A true JPS61176334A (ja) | 1986-08-08 |
JPH0459897B2 JPH0459897B2 (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=6260970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61013570A Granted JPS61176334A (ja) | 1985-01-28 | 1986-01-24 | 衝撃波管用フラツトコイルとその製作方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0189781B1 (ja) |
JP (1) | JPS61176334A (ja) |
DE (2) | DE3502770A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05100223A (ja) * | 1991-04-03 | 1993-04-23 | Riyoosan:Kk | 光源装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5026470A (en) * | 1989-12-19 | 1991-06-25 | International Business Machines | Sputtering apparatus |
GB2290171B (en) * | 1994-06-03 | 1998-01-21 | Plessey Semiconductors Ltd | Inductor chip device |
DE10144422B4 (de) | 2001-09-10 | 2004-07-15 | Siemens Ag | Stosswellenquelle |
DE10144421B4 (de) | 2001-09-10 | 2004-07-15 | Siemens Ag | Stosswellenquelle |
DE102006040728A1 (de) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines elektronischen Moduls |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3189767A (en) * | 1963-01-28 | 1965-06-15 | Gen Electric | Ultrasonic transmitting means and method of producing same |
JPS4978159A (ja) * | 1972-12-05 | 1974-07-27 | ||
US4494100A (en) * | 1982-07-12 | 1985-01-15 | Motorola, Inc. | Planar inductors |
DE3312014C2 (de) * | 1983-04-02 | 1985-11-07 | Wolfgang Prof. Dr. 7140 Ludwigsburg Eisenmenger | Einrichtung zur berührungsfreien Zertrümmerung von Konkrementen im Körper von Lebewesen |
-
1985
- 1985-01-28 DE DE19853502770 patent/DE3502770A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-01-14 EP EP86100419A patent/EP0189781B1/de not_active Expired
- 1986-01-14 DE DE8686100419T patent/DE3663208D1/de not_active Expired
- 1986-01-24 JP JP61013570A patent/JPS61176334A/ja active Granted
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JPH05100223A (ja) * | 1991-04-03 | 1993-04-23 | Riyoosan:Kk | 光源装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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EP0189781A1 (de) | 1986-08-06 |
EP0189781B1 (de) | 1989-05-03 |
JPH0459897B2 (ja) | 1992-09-24 |
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