EP0321759B1 - Elektromagnetische Stosswellenquelle - Google Patents
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- EP0321759B1 EP0321759B1 EP88120217A EP88120217A EP0321759B1 EP 0321759 B1 EP0321759 B1 EP 0321759B1 EP 88120217 A EP88120217 A EP 88120217A EP 88120217 A EP88120217 A EP 88120217A EP 0321759 B1 EP0321759 B1 EP 0321759B1
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- shock
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- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10K—SOUND-PRODUCING DEVICES; METHODS OR DEVICES FOR PROTECTING AGAINST, OR FOR DAMPING, NOISE OR OTHER ACOUSTIC WAVES IN GENERAL; ACOUSTICS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G10K9/00—Devices in which sound is produced by vibrating a diaphragm or analogous element, e.g. fog horns, vehicle hooters or buzzers
- G10K9/12—Devices in which sound is produced by vibrating a diaphragm or analogous element, e.g. fog horns, vehicle hooters or buzzers electrically operated
Definitions
- the invention relates to an electromagnetic shock wave source as is known from DE-A-35 05 894.
- Electromagnetic shock wave generation is used, among other things, in extracorporeal stone crushing (DE 33 28 066 A) and is also suitable for other therapeutic methods in which shock waves are used.
- shock tube In the magazine "Akustician Beihefte", 1962, Issue 1, pages 158 to 202, the structure of a so-called shock tube is described.
- a copper membrane is located in front of a flat coil, separated by an insulating film.
- a tube filled with water connects to this copper membrane.
- a voltage in the range of 2 - 20 kV to the flat coil, a magnetic field is induced in the copper membrane, which causes repulsive forces that push the membrane away from the coil.
- Such a shock tube is used, for example, for chemical substance testing.
- EP 212 352 A1 discloses an ultrasound generator which contains a piezoelectric transducer which is constructed from a plurality of active layers and contains two lead plates for electrical contacting and for acoustic coupling.
- a lithotripter with a generic electromagnetic shock wave source is known from EP 278 304 A1.
- the shock wave source contains a base body, a wire coil, an insulation film and a copper membrane. This latter document can only be used to assess novelty, in accordance with Article 54 (3) EPC.
- DE-A-35 05 894 describes a shock tube which comprises a coil. There is an insulating film on both sides of the coil. A membrane made of electrically conductive material connects to the insulating film.
- the object of the invention is to improve such a shock wave source in such a way that efficiency and service life are increased.
- the preferred metals used are stainless steel for the high-strength membrane and copper or silver for the highly conductive membranes.
- Preferred dimensions are: Noble jet membrane: 0.1 - 0.2 mm Copper membrane: 0.05 - 0.2 mm Insulation film: 0.025 - 0.125 mm
- any number of combinations are possible in the number and thickness of the insulating foils or metal membranes. However, a total thickness of up to 1 mm should not be exceeded.
- the shock wave source according to the invention here consists of a basic body 1, a wire coil 2, an insulation film 3, a copper membrane 4, a further insulation film 5, a second copper membrane 6, a further insulation film 7 and a stainless steel membrane 8, which is grounded. Designs with more than two highly conductive metal foils 4, 6 are possible, but not shown.
- the individual layers are connected to one another in a conventional manner, for example by gluing.
- the figure shows the shock wave source on a greatly enlarged scale. A total thickness of up to 1.0 mm is realistic.
- the potential curve U is shown during the application of a high voltage.
- the coil 2 is at the high potential U0.
- the stainless steel membrane 8 is at earth potential.
- the copper membranes 4 and 6 are each at potentials that lie between the value U0 and 0. Within the insulation foils 3, 5 and 7, the potential U falls from the higher value to a lower one.
- FIG. 2 shows the current density distribution in a 0.2 mm thick copper membrane and the current density distribution in two 0.1 mm thick copper membranes, which are separated by an insulation film. Due to the skin effect, the current density at high frequencies is not evenly distributed over the conductor cross-section. The maximum depth of penetration at the frequency used is approx. 0.2 mm.
- the distribution of the current density is shown schematically in FIG. 2. As can be seen from this, the integral over the current density is larger when using two membranes. This increases the repulsive forces and the amplitude of the pressure pulse generated. In the case of well-conductive membranes whose thicknesses are greater than 0.4 mm, the current density is zero in the inner region. This is not the case with a layered membrane. The distribution of the current density is similar in each membrane.
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Description
- Die Erfindung betrifft eine elektromagnetische Stosswellenquelle wie sie aus DE-A-35 05 894 bekannt ist.
- Die elektromagnetische Stosswellenerzeugung (EMSE) wird unter anderem bei der extrakorporalen Steinzerkleinerung eingesetzt (DE 33 28 066 A) und ist auch für andere therapeutische Verfahren geeignet, bei denen Stosswellen verwendet werden.
- In der Zeitschrift "Akustische Beihefte", 1962, Heft 1, Seiten 158 bis 202, ist der Aufbau eines sogenannten Stosswellenrohres beschrieben. Vor einer Flachspule, durch eine Isolierfolie getrennt, befindet sich eine Kupfermembran. An dieser Kupfermembran schliesst ein mit Wasser gefülltes Rohr an. Durch Anlegen einer Spannung im Bereich von 2 - 20 kV an die Flachspule wird in der Kupfermembran ein Magnetfeld induziert, welches Abstosskräfte bewirkt, die die Membran von der Spule wegdrücken. Hierdurch entsteht ein ebener Druckpuls, der im wassergefüllten Rohr zu einer steilen Stosswelle wird und am Rohrende für Experimente zur Verfügung steht. Eingesetzt wird ein solches Stosswellenrohr zum Beispiel zu Stoffuntersuchungen in der Chemie.
- Aus der EP 212 352 A1 ist ein Ultraschallgenerator bekannt, der einen piezoelektrischen Wandler enthält, der aus mehreren aktiven Schichten aufgebaut ist und zwei Bleiplatten zur elektrischen Kontaktierung und zur akustischen Ankoppelung enthält.
- Aus der EP 278 304 A1 ist ein Lithotripter mit einer gattungsgemäßen elektromagnetischen Stosswellenquelle bekannt. Die Stosswellenquelle enthält einen Grundkörper, eine Drahtspule, eine Isolationsfolie und eine Kupfermembran. Diese letzgenannte Schrift ist nur zur Beurteilung der Neuheit heranzuziehen, gemäß Artikel 54(3) EPÜ.
- In der DE-A-35 05 894 ist ein Stosswellenrohr beschrieben, das eine Spule umfaßt. Auf beiden Selten der Spule befindet sich je eine Isolierfolie. An die Isolierfolie schließt sich jeweils eine Membran aus elektrisch leitfähigem Material an.
- Aufgabe der Erfindung ist es, eine solche Stosswellenquelle dahingehend zu verbessern, dass Wirkungsgrad und Lebensdauer erhöht werden.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst von einer Stosswellenquelle mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Ausführungen der Erfindung sind Gegenstände von Unteransprüchen.
- Die Erfindung hat folgende Vorteile:
- Wirkungsgradverluste durch eine geerdete Kupfermembran werden vermieden. Die Erwärmung des Gesamtsystems wird wegen des verbesserten Wirkungsgrades verringert.
- Der Skineffekt wirkt sich nicht mehr begrenzend auf die gesamte Dicke der gut leitfähigen Membran aus, wie anhand von Figur 2 gezeigt ist. Dennoch können nun mehrere Membranen hintereinander gesetzt werden, deren Gesamtdicke größer ist als die einer einzelnen Membran.
- Die Potentialaufteilung zwischen Spule und der geerdeten abschliessenden Metallmembran wird günstiger, da die zwischenliegenden Membranen gegen die abschliessende Metallmembran isoliert sind und deshalb beim Anlegen einer hohen Spannung ein bestimmtes, niedrigeres Potential annehmen. Dies erhöht die Lebensdauer, denn die Lebensdauer des Systems ist bestimmt durch die Durchschlagfestigkeit der Isolationsschicht zwischen Drahtspule und Membran. Aufgrund der günstigeren Potentialaufteilung wird die Isolationsschicht elektrisch weniger stark beansprucht, das heisst die Lebensdauer erhöht sich.
- Die gut leitfähigen Membrane können direkt auf die Spule aufgelegt werden, sofern die Isolationsschicht zwischen ihren und der abschliessenden Membran entsprechend ausgelegt ist. Hieraus folgt eine weitere Verbesserung der Ankopplung der Membran an die Drahtspule, da das Streufeld minimiert wird.
- Verringerung der Wirbelstromverluste.
- Als bevorzugte Metalle werden für die hochfeste Membran Edelstahl und für die gut leitfähigen Membranen Kupfer oder Silber verwendet.
- Bevorzugte Dimensionen sind:
Edelstrahlmembran: 0,1 - 0,2 mm Kupfermembran: 0,05 - 0,2 mm Isolationsfolie: 0,025 - 0,125 mm - In der Anzahl und Dicke der Isolationsfolien oder der Metallmembranen sind beliebige Kombinationen möglich. Allerdings sollte eine Gesamtdicke von bis zu 1 mm nicht überschritten werden.
- Die Erfindung wird anhand zweier Figuren näher erläutert.
- Figur 1
- zeigt eine erfindungsgemässe Stosswellenquelle,
- Figur 2
- zeigt den Stromdichteverlauf in verschiedenen Membranen.
- Die Figur 1 zeigt in ihrer oberen Hälfte den Aufbau einer bevorzugten Ausführungsform einer erfindungsgemässen Stosswellenquelle und in ihrer unteren Hälfte den Potentialverlauf beim Anlegen einer hohen Spannung an die Spule.
Die erfindungsgemässe Stosswellenquelle besteht hier aus einem Grundköprer 1, einer Drahtspule 2, einer Isolationsfolie 3, einer Kupfermembran 4, einer weiteren Isolationsfolie 5, einer zweiten Kupfermembran 6, einer weiteren Isolationsfolie 7 und eine Edelstahlmembran 8, die geerdet ist. Möglich, aber nicht gezeigt, sind Ausführungen mit mehr als zwei gut leitenden Metallfolien 4, 6. Die einzelnen Schichten sind auf konventionelle Weise, zum Beispiel durch Kleben, miteinander verbunden.
Die Figur zeigt die Stosswellenquelle in stark vergrössertem Maßstab. Realistisch ist eine Gesamtdicke bis zu 1,0 mm.
Im unteren Teil der Figur ist der Potentialverlauf U während des Anlegens einer hohen Spannung gezeigt. Die Spule 2 liegt auf dem hohen Potential U₀. Die Edelstahlmembran 8 liegt auf Erdpotential.
Die Kupfermembranen 4 und 6 liegen jeweils auf Potentialen, die zwischen dem Wert U₀ und 0 liegen. Innerhalb der Isolationsfolien 3, 5 und 7 fällt das Potential U jeweils vom höheren Wert auf einen niedrigeren. - Figur 2 zeigt oben die Stromdichteverteilung in einer 0,2 mm dicken Kupfermembran und unten die Stromdichteverteilung in zwei 0,1 mm dicken Kupfermembranen, die von einer Isolationsfolie getrennt sind. Aufgrund des Skineffektes verteilt sich die Stromdichte bei hohen Frequenzen nicht gleichmässig über den Leiterquerschnitt. Die maximale Eindringtiefe bei der verwendeten Frequenz beträgt ca. 0,2 mm. Die Verteilung der Stromdichte ist schematisch in der Figur 2 gezeigt.
Wie daraus ersichtlich wird, ist das Integral über die Stromdichte bei Verwendung zweier Membranen grösser. Damit erhöhen sich die Abstossungskräfte und die Amplitude des erzeugten Druckimpules.
Bei gut leitfähigen Membranen, deren Dicken grösser als 0,4 mm sind, ist im inneren Bereich die Stromdichte Null. Bei einer geschichteten Membran ist dies nicht der Fall. Die Verteilung der Stromdichte ist in jeder Membran ähnlich.
Claims (4)
- Stosswellenquelle mit einem Grundkörper (1), mindestens einer Drahtspule (2), einer Isolationsfolie (3) und einer ersten Metallmembran (8), sowie mit mindestens einer gut leitfähigen weiteren Metallmembran (4,6), die durch mindestens eine Isolationsfolie (7) von der ersten Metallmembran (8) getrennt ist, die hochfest ist, und daß die mindestens eine weitere gut leitfähige Metallmembran (4,6) zwischen der Spule (2) und der ersten Metallmembran (8) vorgesehen ist, und daß ferner eine Isolationsfolie (5) zwischen jeder weiteren Metallmembran (4,6) vorgesehen ist.
- Stosswellen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die gut leitfähigen Metallmembranen (4,6) aus Kupfer oder Silber bestehen.
- Stosswellenquelle nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die hochfeste Membran (8) aus Edelstahl besteht.
- Stosswellenquelle nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch folgende Materialien und Dicken:
- Edelstahlmembran: 0,1 bis 0,2 mm - Isolationsfolie: 0,025 bis 0,125 mm - Kupfermembran: 0,05 bis 0,2 mm
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| DE10160595A1 (de) * | 2001-12-10 | 2003-06-26 | Dornier Medtech Holding Int Gmbh | Elektromagnetische Stoss- bzw. Druckwellenquelle |
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| US20220072326A1 (en) * | 2020-09-10 | 2022-03-10 | Moshe Ein-Gal | Combined pulsed electromagnetic field and low intensity shockwave system and method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3505894A1 (de) * | 1985-02-20 | 1986-08-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stosswellenrohr mit spule und membran |
Family Cites Families (6)
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|---|---|---|---|---|
| DE3447440A1 (de) * | 1984-12-27 | 1986-07-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stosswellenrohr fuer die zertruemmerung von konkrementen |
| US4718421A (en) * | 1985-08-09 | 1988-01-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Ultrasound generator |
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| US4796608A (en) * | 1986-06-16 | 1989-01-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Shock wave generator for an apparatus for non-contacting disintegration of calculi in the body of a life form |
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| EP0278304A1 (de) * | 1987-02-04 | 1988-08-17 | Siemens Aktiengesellschaft | Lithotripter mit integrierter Ortungseinrichtung |
-
1987
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1988
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Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3505894A1 (de) * | 1985-02-20 | 1986-08-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Stosswellenrohr mit spule und membran |
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