JPH01265068A - アクリロニトリルの製造方法 - Google Patents
アクリロニトリルの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は、流動床によるプロピレンの気相接触アンモ酸
化によりアクリロニトリルを製造する方法に関し、詳し
くはアクリロニトリル収率が高くかつ機械的強度のすぐ
れたモリブデン・ビスマス・鉄・アンチモン・ニッケル
・アルカリ金属系触媒を使用する流動床によるプロピレ
ンの気相接触アンモ酸化によりアクリロニトリルを製造
する方法を提供することに関する。
化によりアクリロニトリルを製造する方法に関し、詳し
くはアクリロニトリル収率が高くかつ機械的強度のすぐ
れたモリブデン・ビスマス・鉄・アンチモン・ニッケル
・アルカリ金属系触媒を使用する流動床によるプロピレ
ンの気相接触アンモ酸化によりアクリロニトリルを製造
する方法を提供することに関する。
従来、プロピレンのアンモ酸化により、アクリロニトリ
ルを製造する際に用いる触媒は種々提案されており、な
かでも特に、モリブデン−ビスマス系触媒は数々の多成
分系触媒の提案がなされている。例えば、特公昭36−
5870号、特公昭38−17967号、特公昭39−
8512号、特公昭45−35287号、特開昭48−
47476号、特公昭51−33888号、特公昭60
−36312号各公報記載の方法など、種々の角度から
改良が続けられている。
ルを製造する際に用いる触媒は種々提案されており、な
かでも特に、モリブデン−ビスマス系触媒は数々の多成
分系触媒の提案がなされている。例えば、特公昭36−
5870号、特公昭38−17967号、特公昭39−
8512号、特公昭45−35287号、特開昭48−
47476号、特公昭51−33888号、特公昭60
−36312号各公報記載の方法など、種々の角度から
改良が続けられている。
しかし、流動床反応でこれらの触媒を用いる場合は、ア
クリロニトリル収率が必ずしも十分に高くないこと、十
分に強度の大きい触媒を製造するのが難しいこと、コバ
ルト等高価なものを触媒成分として使用しなければなら
ないことなどの問題があり、工業的見地からの改良が望
まれていた。
クリロニトリル収率が必ずしも十分に高くないこと、十
分に強度の大きい触媒を製造するのが難しいこと、コバ
ルト等高価なものを触媒成分として使用しなければなら
ないことなどの問題があり、工業的見地からの改良が望
まれていた。
モリブデン・ビス゛マス系流動床触媒の製法に関しては
、いくつかの方法が提案されている。例えば、特公昭3
7−8568号公報には硝酸アンモニウムを含有するモ
リブデン、ビスマス、シリカよりなるスラリーを噴霧乾
燥する方法、特公昭54−12913号公報にはモリブ
デン・ビスマス・鉄・ナトリウム・リン系の狭く限定さ
れた組成範囲で触媒を調製子る方法、特公昭57−49
253号公報には66°Cより低い温度でヘブクモリブ
デン酸塩を含有する水性懸濁液にシリカゾルを段階的に
添加したのち、リン酸、サラにビスマス・鉄・コバルト
・ニッケルなどの成分を加える方法、特開昭55−56
839号公報、特開昭55−139839号公報、特開
昭57−65329号公報、特開昭57−75147号
公報等にはpH値が1以下、スラリー温度が60°C以
下である各種のモリブデン・ビスマス系耐摩耗性流動触
媒の製法、また特開昭57−12827号公報にはモリ
ブデン・ビスマス・アンチモンを含むスラリーを40〜
150°Cの温度で少な(とも30分間熱処理する方法
などが報告されている。
、いくつかの方法が提案されている。例えば、特公昭3
7−8568号公報には硝酸アンモニウムを含有するモ
リブデン、ビスマス、シリカよりなるスラリーを噴霧乾
燥する方法、特公昭54−12913号公報にはモリブ
デン・ビスマス・鉄・ナトリウム・リン系の狭く限定さ
れた組成範囲で触媒を調製子る方法、特公昭57−49
253号公報には66°Cより低い温度でヘブクモリブ
デン酸塩を含有する水性懸濁液にシリカゾルを段階的に
添加したのち、リン酸、サラにビスマス・鉄・コバルト
・ニッケルなどの成分を加える方法、特開昭55−56
839号公報、特開昭55−139839号公報、特開
昭57−65329号公報、特開昭57−75147号
公報等にはpH値が1以下、スラリー温度が60°C以
下である各種のモリブデン・ビスマス系耐摩耗性流動触
媒の製法、また特開昭57−12827号公報にはモリ
ブデン・ビスマス・アンチモンを含むスラリーを40〜
150°Cの温度で少な(とも30分間熱処理する方法
などが報告されている。
しかし、コバルトを含有しないモリブデン・ビスマス系
触媒においては、特公昭48−43096号公報に記述
されているようにアクリロニトリル収率は低く、また流
動床反応に適する強度を持つ流動床触媒を得ることは困
難であった。
触媒においては、特公昭48−43096号公報に記述
されているようにアクリロニトリル収率は低く、また流
動床反応に適する強度を持つ流動床触媒を得ることは困
難であった。
本発明の目的は、流動床反応器でプロピレンを気相接触
アンモ酸化して得られるアクリロニトリルを製造する際
に、すぐれた触媒活性を有し、かつ触媒の耐摩耗性も大
きく、しかも高価なコバルトを触媒成分として用いるこ
となくモリブデン・ビスマス・鉄・アンチモン・ニッケ
ル・アルカリ全屈を主成分とする多元系流動床触媒を用
いることによって、アクリロニトリルを高収率で取得す
る方法を提供することにある。
アンモ酸化して得られるアクリロニトリルを製造する際
に、すぐれた触媒活性を有し、かつ触媒の耐摩耗性も大
きく、しかも高価なコバルトを触媒成分として用いるこ
となくモリブデン・ビスマス・鉄・アンチモン・ニッケ
ル・アルカリ全屈を主成分とする多元系流動床触媒を用
いることによって、アクリロニトリルを高収率で取得す
る方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段]
本発明によるアクリロニトリルの製造方法は、流動床に
よるプロピレンの気相接触アンモ酸化に際して、 (i)触媒組成が、実験式 %式%) (式中、QはPおよび/またはBであり、RはLi、
Na、 K、 RhおよびCsからなる群から選ばれた
少なくとも1種のアルカリ金属元素であり、添字q、r
、a、b、c、eおよびfは原子比を示し、q=0〜3
、r =O,01−1,5、a=0.1〜3、b =
0.1〜2.5、Cはsb原料が、5bzOsの時0よ
り大きり15以下、Sb、04の時Oより太きく30以
下、5bzOsの時Oより大きく8以下、d=4〜8、
e=上記各成分が結合して生成する酸化物に対応する酸
素の数およびf−20〜150である。) で表わされる範囲になるように、 (11)上記触媒成分を含むスラリーを調合かつこのス
ラリーのpHを5以下に調整し、 (iii )次いで、このようにして得られた触媒成分
を含むスラリーを噴霧乾燥して球状粒子をつくり、この
粒子を焼成すること、 によって得られた流動床触媒を用いることを特徴とする
ものである。
よるプロピレンの気相接触アンモ酸化に際して、 (i)触媒組成が、実験式 %式%) (式中、QはPおよび/またはBであり、RはLi、
Na、 K、 RhおよびCsからなる群から選ばれた
少なくとも1種のアルカリ金属元素であり、添字q、r
、a、b、c、eおよびfは原子比を示し、q=0〜3
、r =O,01−1,5、a=0.1〜3、b =
0.1〜2.5、Cはsb原料が、5bzOsの時0よ
り大きり15以下、Sb、04の時Oより太きく30以
下、5bzOsの時Oより大きく8以下、d=4〜8、
e=上記各成分が結合して生成する酸化物に対応する酸
素の数およびf−20〜150である。) で表わされる範囲になるように、 (11)上記触媒成分を含むスラリーを調合かつこのス
ラリーのpHを5以下に調整し、 (iii )次いで、このようにして得られた触媒成分
を含むスラリーを噴霧乾燥して球状粒子をつくり、この
粒子を焼成すること、 によって得られた流動床触媒を用いることを特徴とする
ものである。
また、本発明の第2の発明は、前記第1の発明における
触媒成分を゛含むスラリーの調製として、(ii )上
記触媒成分のうち、少なくともMoおよびFe成分を含
む溶液もしくはスラリーを調合かつこの溶液もしくはス
ラリーのpHを5以下に調整し、 (iii )得られた溶液もしくはスラリーを50°C
ないし150°Cの温度範囲でスラリーの形態を保ちつ
つ、少なくとも10分間加熱処理し、 (1v)残りの触媒成分は、上記(iii )の工程の
前、工程中または工程後の任意の段階のスラリーに添加
する、 ことを特徴とするものである。
触媒成分を゛含むスラリーの調製として、(ii )上
記触媒成分のうち、少なくともMoおよびFe成分を含
む溶液もしくはスラリーを調合かつこの溶液もしくはス
ラリーのpHを5以下に調整し、 (iii )得られた溶液もしくはスラリーを50°C
ないし150°Cの温度範囲でスラリーの形態を保ちつ
つ、少なくとも10分間加熱処理し、 (1v)残りの触媒成分は、上記(iii )の工程の
前、工程中または工程後の任意の段階のスラリーに添加
する、 ことを特徴とするものである。
以下、本発明を具体的に説明する。
流動床によるプロピレンの気相接触アンモ酸化は公知の
技術であって、本発明と矛盾しない限り公知の技術を利
用することができる。
技術であって、本発明と矛盾しない限り公知の技術を利
用することができる。
本発明は、この反応をシリカにモリブデン、ビスマス、
鉄、アンチモン、ニンケJしおよびアルカリ金属の各成
分を担持させてなる酸化物組成物、あるいはこれら成分
の外に、更に他の成分たとえばリン、ホウ等を担持せし
めた酸化物組成物の存在下に実施するものである。
鉄、アンチモン、ニンケJしおよびアルカリ金属の各成
分を担持させてなる酸化物組成物、あるいはこれら成分
の外に、更に他の成分たとえばリン、ホウ等を担持せし
めた酸化物組成物の存在下に実施するものである。
本発明の重要な点は、使用する触媒にあり、この触媒は
前記実験式で示した触媒組成を有するいかなる触媒でも
よい。この触媒組成において、アクリロニトリル収率を
向上させるために、特に好ましい各成分の原子比はMo
成分=lOの時、r=0.05〜1.0、a = 0.
5〜2.5、b = 0.5〜2、C=4゜5〜7.5
、dはsb原料が、5b2o2 の時2〜12.5bz
Oaの時1〜25、sb、o、の時0.5〜7およびf
=40〜100である。
前記実験式で示した触媒組成を有するいかなる触媒でも
よい。この触媒組成において、アクリロニトリル収率を
向上させるために、特に好ましい各成分の原子比はMo
成分=lOの時、r=0.05〜1.0、a = 0.
5〜2.5、b = 0.5〜2、C=4゜5〜7.5
、dはsb原料が、5b2o2 の時2〜12.5bz
Oaの時1〜25、sb、o、の時0.5〜7およびf
=40〜100である。
本発明の触媒を構成するモリブデン・ビスマス・鉄・ア
ンチモン・ニッケル・アルカリ金属・ケイ素あるいはさ
らにリン・ホウ素などの・各成分が触媒中でどのような
化合物となって活性、物性への効果発現に寄与している
かは十分に明らかではない、しかし、前記触媒の組成が
実験式の範囲からはずれたり、また触媒の調製条件を変
えると目的達成が困難になることから各触媒構成元素お
よび触媒調製条件が効果発現のために相互に密接に関連
していることは明らかである。
ンチモン・ニッケル・アルカリ金属・ケイ素あるいはさ
らにリン・ホウ素などの・各成分が触媒中でどのような
化合物となって活性、物性への効果発現に寄与している
かは十分に明らかではない、しかし、前記触媒の組成が
実験式の範囲からはずれたり、また触媒の調製条件を変
えると目的達成が困難になることから各触媒構成元素お
よび触媒調製条件が効果発現のために相互に密接に関連
していることは明らかである。
たとえば、触媒構成成分の原子比がMo成分=10の時
、q>3、r <0.01あるいはr > 1.5、a
く0.1あるいはa>3、b<0.1、あるいはb>2
.5、c;Sb原料がsb、o、の場合c〉15.5b
zo、の場合c〉30、sb、o、の場合c>8、d<
4あるいはd〉8ではアクリロニトリルの選択率が低下
するか、または触媒の物性が悪くなる。rは20より少
ないと触媒の強度が弱くなり、150を越えると触媒活
性が低下する。また、ニッケル成分を周期律表同族のコ
バルト成分で置き変えるとアクリロニトリルの選択率が
低下する。
、q>3、r <0.01あるいはr > 1.5、a
く0.1あるいはa>3、b<0.1、あるいはb>2
.5、c;Sb原料がsb、o、の場合c〉15.5b
zo、の場合c〉30、sb、o、の場合c>8、d<
4あるいはd〉8ではアクリロニトリルの選択率が低下
するか、または触媒の物性が悪くなる。rは20より少
ないと触媒の強度が弱くなり、150を越えると触媒活
性が低下する。また、ニッケル成分を周期律表同族のコ
バルト成分で置き変えるとアクリロニトリルの選択率が
低下する。
本発明のもう一つの重要な点は、触媒の調製法にあり、
本発明で使用される触媒は、以下に述べるようにスラリ
ーを調製することによって、製造されなければならない
。
本発明で使用される触媒は、以下に述べるようにスラリ
ーを調製することによって、製造されなければならない
。
触媒原料
本触媒を構成している各成分の出発原料としては、それ
ぞれの酸化物、水酸化物、塩化物、硝酸塩などの多くの
種類のものの中から選ぶことができる。
ぞれの酸化物、水酸化物、塩化物、硝酸塩などの多くの
種類のものの中から選ぶことができる。
モリブデン成分の原料としては、たとえば三酸化モリブ
デンのようなモリブデン酸化物、モリブデン酸、パラモ
リブデン酸アンモニウム、メタモリブデン酸アンモニウ
ム、およびリンモリブデン酸、ケイモリブデン酸のよう
なモリブデンを含むヘテロポリ酸またはその塩などが用
いられる。
デンのようなモリブデン酸化物、モリブデン酸、パラモ
リブデン酸アンモニウム、メタモリブデン酸アンモニウ
ム、およびリンモリブデン酸、ケイモリブデン酸のよう
なモリブデンを含むヘテロポリ酸またはその塩などが用
いられる。
ビスマス成分の原料としては、たとえば硝酸ビスマス、
iA 酸ヒスマスなどのビスマス塩、三酸化ビスマス、
金属ビスマスの硝酸酸化物などが用いられる。
iA 酸ヒスマスなどのビスマス塩、三酸化ビスマス、
金属ビスマスの硝酸酸化物などが用いられる。
鉄成分の原料としては、たとえば酸化第一鉄、酸化第二
鉄、四三酸化鉄や硝酸鉄、塩化鉄、水酸化鉄を用いるこ
とができるほか、金属鉄を加熱した硝酸に溶解して用い
てもよい。
鉄、四三酸化鉄や硝酸鉄、塩化鉄、水酸化鉄を用いるこ
とができるほか、金属鉄を加熱した硝酸に溶解して用い
てもよい。
アンチモン成分の原料としては、二酸化アンチモン、四
酸化アンチモン、または五酸化アンチモンが用いられる
。
酸化アンチモン、または五酸化アンチモンが用いられる
。
ニンケル成分の原料としては、たとえばニッケルの酸化
物、水酸化物、金属ニッケルの硝酸酸化物を用いること
ができる。
物、水酸化物、金属ニッケルの硝酸酸化物を用いること
ができる。
R成分中、リン成分の原料としてはリン酸またはその塩
を、ホウ素成分の原料としては、ホウ酸またはその塩が
用いられる。
を、ホウ素成分の原料としては、ホウ酸またはその塩が
用いられる。
Q成分すなわち、アルカリ金属であるリチウム、ナトリ
ウム、カリウム、ルビジウムおよびセシウム成分の原料
としては、各成分の硝酸塩、炭酸塩、水酸化物、酸化物
、塩化物などを用いるのがよい。
ウム、カリウム、ルビジウムおよびセシウム成分の原料
としては、各成分の硝酸塩、炭酸塩、水酸化物、酸化物
、塩化物などを用いるのがよい。
本発明で使用される触媒においては、担体成分としてシ
リカが用いられる。その理由は、シリカが流動床触媒の
強度に関し、他の担体成分よりすぐれていること。触媒
活性成分とほとんど反応しないこと、触媒活性に悪影響
を与えないことなどのためである。シリカの使用によっ
て、流動床触媒として使用に耐える強度が与えられ、且
つ良好な流動化状態を達成するための適度な粒子密度が
与えられる。
リカが用いられる。その理由は、シリカが流動床触媒の
強度に関し、他の担体成分よりすぐれていること。触媒
活性成分とほとんど反応しないこと、触媒活性に悪影響
を与えないことなどのためである。シリカの使用によっ
て、流動床触媒として使用に耐える強度が与えられ、且
つ良好な流動化状態を達成するための適度な粒子密度が
与えられる。
担体成分であるシリカの原料としては、シリカゾルまた
は微粉末シリカが用いられる。好ましいシリカゾルとし
ては、シリカ濃度が約5ないし約90重量%の範囲内の
ものである。
は微粉末シリカが用いられる。好ましいシリカゾルとし
ては、シリカ濃度が約5ないし約90重量%の範囲内の
ものである。
スラリー8周製
触媒成分を含むスラリーの調製に当っては、Q。
R,Mo、 Bi、 Fe、 Ni、 sbおよびシリ
カ各成分の原料を混合し、水性スラリーをつくる。調合
したスラリーは高度に均一化されていることが望ましい
6次にこのスラリーのpl+が5以下になるように撹拌
しなからpH調整をおこなう。pnが5より大きいとス
ラリーは粘度が高くなり、またはゲル状となるため、ス
ラリーの撹拌が困難となり均一なスラリーが得られない
。また、−時的にスラリー状態を保持し得ても、短時間
の間に大巾に粘度が上昇し、そのまま噴霧乾燥に供し得
ない、このスラリーを希釈するなどして、噴霧乾燥して
も得られる触媒は、物性の劣ったものである。
カ各成分の原料を混合し、水性スラリーをつくる。調合
したスラリーは高度に均一化されていることが望ましい
6次にこのスラリーのpl+が5以下になるように撹拌
しなからpH調整をおこなう。pnが5より大きいとス
ラリーは粘度が高くなり、またはゲル状となるため、ス
ラリーの撹拌が困難となり均一なスラリーが得られない
。また、−時的にスラリー状態を保持し得ても、短時間
の間に大巾に粘度が上昇し、そのまま噴霧乾燥に供し得
ない、このスラリーを希釈するなどして、噴霧乾燥して
も得られる触媒は、物性の劣ったものである。
このように調製されたスラリーを約50ないし約120
’C(好ましくは約60ないし約110’C)の範囲内
の温度でスラリーの形態を保持しつつ、少なくとも約1
0分(好ましくは約0.5時間ないし約8時間)加熱処
理するという方法を用いるのは好ましい。
’C(好ましくは約60ないし約110’C)の範囲内
の温度でスラリーの形態を保持しつつ、少なくとも約1
0分(好ましくは約0.5時間ないし約8時間)加熱処
理するという方法を用いるのは好ましい。
このようなスラリー処理を行う場合には、pH調整前の
スラリー中には少なくともMoおよびFe両成分の原料
が存在していることが必要である。すなわち、スラリー
の調製に際しては、先ず、前記触媒原料のうち、Mo成
分原料とFe成分原料とを混合して、両成分を含有する
溶液もしくはスラリー(以下、単にスラリーと略す)を
つくる8次いで、スラリーをよく撹拌しながら、そのρ
11が5以下になるように調節する。Ω、 R,Bi、
Ni、 Sbおよびシリカ各成分原料は、はじめから
混合してもよいし、またpl+調整後、または加熱処理
後にスラリーに添加混合してもよい。
スラリー中には少なくともMoおよびFe両成分の原料
が存在していることが必要である。すなわち、スラリー
の調製に際しては、先ず、前記触媒原料のうち、Mo成
分原料とFe成分原料とを混合して、両成分を含有する
溶液もしくはスラリー(以下、単にスラリーと略す)を
つくる8次いで、スラリーをよく撹拌しながら、そのρ
11が5以下になるように調節する。Ω、 R,Bi、
Ni、 Sbおよびシリカ各成分原料は、はじめから
混合してもよいし、またpl+調整後、または加熱処理
後にスラリーに添加混合してもよい。
このスラリーの加熱処理において、スラリー中でどのよ
うな反応がおこっているか十分明確になっていない。し
かし、スラリーの加熱処理をした触媒としない触媒では
、X線回折図に相違がみられることから加熱処理中に何
らかの反応が進行している様子がうかがわれる。このよ
うな反応が進行することによって良好な触媒活性が得ら
れると共に、原料スラリーの粒子が緻密化し、製品触媒
の強度が向上するものと思われる。また、加熱処理後の
スラリーは安定なものである。
うな反応がおこっているか十分明確になっていない。し
かし、スラリーの加熱処理をした触媒としない触媒では
、X線回折図に相違がみられることから加熱処理中に何
らかの反応が進行している様子がうかがわれる。このよ
うな反応が進行することによって良好な触媒活性が得ら
れると共に、原料スラリーの粒子が緻密化し、製品触媒
の強度が向上するものと思われる。また、加熱処理後の
スラリーは安定なものである。
上記のpH調整および加熱処理は、Mo成分原料および
Fe成分原料の両者が存在するスラリーに対して効果的
に作用し、スラリー中にMo成分またはFe成分の良好
な活性、物性の触媒が得られない。
Fe成分原料の両者が存在するスラリーに対して効果的
に作用し、スラリー中にMo成分またはFe成分の良好
な活性、物性の触媒が得られない。
噴霧乾燥
このようにして調整されたスラリーは、次いで噴霧乾燥
により微細な球状粒子に成型される。噴霧乾燥には、公
知の任意の方法をそのまま適用することができる。すな
わち、加圧ノズル式、回転円盤式などの噴霧乾燥装置が
使用できる。噴霧乾燥にかけるスラリーの濃度は本触媒
を構成している元素の酸化物に換算して約IOないし約
40重量%の範囲のものが好ましい、この範囲は、臨界
的でなく、その下限濃度以下では経済的に不利であり、
その上限濃度以上では取扱い上不便である。スラリーの
濃度、噴霧乾燥条件を適宜調節して所望の粒径分布の粒
子が得られるように噴霧乾燥する。
により微細な球状粒子に成型される。噴霧乾燥には、公
知の任意の方法をそのまま適用することができる。すな
わち、加圧ノズル式、回転円盤式などの噴霧乾燥装置が
使用できる。噴霧乾燥にかけるスラリーの濃度は本触媒
を構成している元素の酸化物に換算して約IOないし約
40重量%の範囲のものが好ましい、この範囲は、臨界
的でなく、その下限濃度以下では経済的に不利であり、
その上限濃度以上では取扱い上不便である。スラリーの
濃度、噴霧乾燥条件を適宜調節して所望の粒径分布の粒
子が得られるように噴霧乾燥する。
焼 成
噴霧乾燥により得られた微細な球状粒子は、所望により
乾燥処理をおこなった後に最終的に約500ないし約7
50℃の温度で焼成する。これにより、高度な活性、物
性が付与される。焼成は仮焼成と最終焼成に分けておこ
なってもよく、また分けないで単一の温度でおこなって
もよい、噴霧乾燥により得られた球状粒子を約200な
いし約500″Cの温度で約1ないし約50時間仮焼成
し、次いで最終的に約500ないし約750°Cの温度
で約1ないし約50時間焼成することが好ましい、焼成
時の雰囲気は、非還元的であることが好ましく、経済上
の理由から空気気流中でおこなうのが好ましい。
乾燥処理をおこなった後に最終的に約500ないし約7
50℃の温度で焼成する。これにより、高度な活性、物
性が付与される。焼成は仮焼成と最終焼成に分けておこ
なってもよく、また分けないで単一の温度でおこなって
もよい、噴霧乾燥により得られた球状粒子を約200な
いし約500″Cの温度で約1ないし約50時間仮焼成
し、次いで最終的に約500ないし約750°Cの温度
で約1ないし約50時間焼成することが好ましい、焼成
時の雰囲気は、非還元的であることが好ましく、経済上
の理由から空気気流中でおこなうのが好ましい。
焼成装置としては、多くの形式のものから選択できる。
トンネル炉、回転炉、流動炉などを用いることができる
。
。
本発明の方法は、流動床接触反応器にて実施される。す
なわち、本発明における流動床触媒が充填されている反
応器へ、プロピレン、アンモニアおよび酸素を供給する
ことによって行う、酸素源としては、経済上の理由から
空気が好んで用いられる。空気を適当に酸素で富化して
もよい。
なわち、本発明における流動床触媒が充填されている反
応器へ、プロピレン、アンモニアおよび酸素を供給する
ことによって行う、酸素源としては、経済上の理由から
空気が好んで用いられる。空気を適当に酸素で富化して
もよい。
反応器へ供給する原料中の酸素/プロ、ピレンのモル比
は、約1ないし約4の範囲でおこなわれるが、本発明に
おける触媒はアクリロニトリル選択率が高いので、比較
的低いモル比約1.5ないし約2.5の範囲でよい。ま
た、反応器へ供給する原料中のアンモニア/プロピレン
のモル比は、約0.8ないし約3の範囲で増減すること
ができるが、約0.9ないし約1.5の範囲が好ましい
、また、必要に応じて不活性ガス、たとえば窒素、水蒸
気などを供給してもよい。
は、約1ないし約4の範囲でおこなわれるが、本発明に
おける触媒はアクリロニトリル選択率が高いので、比較
的低いモル比約1.5ないし約2.5の範囲でよい。ま
た、反応器へ供給する原料中のアンモニア/プロピレン
のモル比は、約0.8ないし約3の範囲で増減すること
ができるが、約0.9ないし約1.5の範囲が好ましい
、また、必要に応じて不活性ガス、たとえば窒素、水蒸
気などを供給してもよい。
反応温度は、約380ないし約500°Cの範囲、特に
約400ないし約480’Cの範囲が好ましい。反応圧
力は、常圧附近から約3 kg / ca −Gの範囲
が適当である。見かけの接触時間は、約1ないし約30
秒の範囲が適当で、特に約2ないし約20秒の範囲が好
ましい。
約400ないし約480’Cの範囲が好ましい。反応圧
力は、常圧附近から約3 kg / ca −Gの範囲
が適当である。見かけの接触時間は、約1ないし約30
秒の範囲が適当で、特に約2ないし約20秒の範囲が好
ましい。
第1の発明によるモリブデン・ビスマス・鉄・アンチモ
ン・ニッケル・アルカリ金属含有触嬬は、プロピレンか
らアクリロニトリルを製造する反応に対して活性が高く
、かつ流動化性にすぐれ、機械的強度も大きく流動床触
媒として好士しい性能を有するものであるが、第2の発
明によって前記触媒の性能は、さらに向上する。したが
って、本発明の方法によれば、流動床によるプロピレン
の気相接触アンモ酸化によりアクリロニトリルを高収率
で得ることができ、従来法に比ベニ集的に有利に実施す
ることができる。
ン・ニッケル・アルカリ金属含有触嬬は、プロピレンか
らアクリロニトリルを製造する反応に対して活性が高く
、かつ流動化性にすぐれ、機械的強度も大きく流動床触
媒として好士しい性能を有するものであるが、第2の発
明によって前記触媒の性能は、さらに向上する。したが
って、本発明の方法によれば、流動床によるプロピレン
の気相接触アンモ酸化によりアクリロニトリルを高収率
で得ることができ、従来法に比ベニ集的に有利に実施す
ることができる。
以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明はこの実施例にのみ限定されるものではない。
、本発明はこの実施例にのみ限定されるものではない。
触媒の活性試験は次のとおりである。
触媒流動部の内径が2.5 cm、高さ40cmの流動
床反応器に触媒を充填し、次の組成のガスを送入した0
反応圧力は常圧である。
床反応器に触媒を充填し、次の組成のガスを送入した0
反応圧力は常圧である。
酸素(空気として供給)/プロピレン−2,0(モル1
モル)、アンモニア/プロピレン= 1.3(モル1モ
ル) なお、本明細書において、アクリロニトリル収率および
プロピレン転化率は下記の式により定義される。
モル)、アンモニア/プロピレン= 1.3(モル1モ
ル) なお、本明細書において、アクリロニトリル収率および
プロピレン転化率は下記の式により定義される。
触媒の強度試験は次の方法により行った。
耐摩耗性試験
流動接触分解触媒の試験法として知られているテスト・
メソッド・フォア・シンセテイツク・クラッキング・キ
ャタリスツ、(Test Method forSyn
thetic Crocking Catalysts
)、アメリカン・シアナミド・カンパニー刊行6/31
−4 m −1157記載の方法に準じて行った。摩耗
損失(%)は次式により求めたものである。
メソッド・フォア・シンセテイツク・クラッキング・キ
ャタリスツ、(Test Method forSyn
thetic Crocking Catalysts
)、アメリカン・シアナミド・カンパニー刊行6/31
−4 m −1157記載の方法に準じて行った。摩耗
損失(%)は次式により求めたものである。
摩耗損失(χ) : R= B xlOO/(C−A
)但し、A=O〜5時間に摩耗損失した触媒の重量B=
5〜20時間に摩耗損失した触媒の重量C=試験に供し
た触媒の重量 なお、この試験はC=50(g)で行った。耐摩耗性の
大きい触媒はどこの摩耗損失(χ)R値は小となる。
)但し、A=O〜5時間に摩耗損失した触媒の重量B=
5〜20時間に摩耗損失した触媒の重量C=試験に供し
た触媒の重量 なお、この試験はC=50(g)で行った。耐摩耗性の
大きい触媒はどこの摩耗損失(χ)R値は小となる。
実施例1
実験式がKo、 tMol。Bil、 5Fe+、 5
sbaNLOas、 6(SiOz)s。
sbaNLOas、 6(SiOz)s。
である触媒を次のようにして製造した。
硝酸カリウム2.70 gを水27 、0 mlに溶解
し、2008gの20%シリカゾルに加えた。この液に
撹拌下、パラモリブデン酸アンモニウム236gを80
°Cの水590rrrQに溶解し加えた。続いて二酸化
アンチモン粉末78.7 gを硝酸ニッケル238gを
水240dに溶解した溶液、硝酸鉄81gを水80mf
fに溶解した溶液、硝酸ビスマス99.2 g’t 1
0%硝酸99mNに溶解した溶液を順次加えた。その後
、15%アンモニア水でpn2.。
し、2008gの20%シリカゾルに加えた。この液に
撹拌下、パラモリブデン酸アンモニウム236gを80
°Cの水590rrrQに溶解し加えた。続いて二酸化
アンチモン粉末78.7 gを硝酸ニッケル238gを
水240dに溶解した溶液、硝酸鉄81gを水80mf
fに溶解した溶液、硝酸ビスマス99.2 g’t 1
0%硝酸99mNに溶解した溶液を順次加えた。その後
、15%アンモニア水でpn2.。
調整した。
前記スラリーを回転円盤型噴霧乾燥機で人口温度320
°C1出ロ温度160°Cにコントロールし噴霧乾燥し
た。乾燥した触媒を250°Cで加熱処理し、更に40
0°Cで2.5時間焼成し、最終的580°Cで3時間
焼成した。
°C1出ロ温度160°Cにコントロールし噴霧乾燥し
た。乾燥した触媒を250°Cで加熱処理し、更に40
0°Cで2.5時間焼成し、最終的580°Cで3時間
焼成した。
実施例2〜3
実施例1と同様の方法で表1の実施例2〜3に示した組
成の触媒を製造した。
成の触媒を製造した。
実施例4
空気中で三酸化アンチモンを焼成した。この焼成品は、
X線回折により四酸化アンチモンのみであることを確認
した。この四酸化アンチモン82.9gを粉砕し、二酸
化アンチモンのかわりに加えたこと以外は、実施例1と
同様の方法で同し組成の触媒を製造した。
X線回折により四酸化アンチモンのみであることを確認
した。この四酸化アンチモン82.9gを粉砕し、二酸
化アンチモンのかわりに加えたこと以外は、実施例1と
同様の方法で同し組成の触媒を製造した。
実施例5〜6
実施例4と同様の方法で表1の実施例5〜6に示した組
成の触媒を製造した。
成の触媒を製造した。
実施例7
五塩化アンチモンの加水分解により水和五酸化アンチモ
ンの沈澱を作り、塩素イオンが検出されなくなるまで十
分口過洗浄した。この水和五酸化アンチモンの口過ケー
クを水に懸濁させ、五酸化アンチモンとして10重重貴
となるような五酸化アンチモンスラリーを調製した。こ
の五酸化アンチモンスラリー864.7gを二酸化アン
チモンのかわりに加えたこと以外は実施例1と同様の方
法で実験式がにo、 zMO+oBi+、 sFe+、
5sbtNihOaa1(SiOz) s。である触
媒を製造した。
ンの沈澱を作り、塩素イオンが検出されなくなるまで十
分口過洗浄した。この水和五酸化アンチモンの口過ケー
クを水に懸濁させ、五酸化アンチモンとして10重重貴
となるような五酸化アンチモンスラリーを調製した。こ
の五酸化アンチモンスラリー864.7gを二酸化アン
チモンのかわりに加えたこと以外は実施例1と同様の方
法で実験式がにo、 zMO+oBi+、 sFe+、
5sbtNihOaa1(SiOz) s。である触
媒を製造した。
実施例日
実施例7と同様の方法で実施例1と同じ組成の触媒を製
造した。
造した。
実施例9〜18
実施例4と同様の方法で表1の実施例9〜18に示した
組成の触媒を製造した。
組成の触媒を製造した。
実施例19
85%オルトリン酸13.22gを硝酸ビスマスのあと
に加えたこと以外は実施例4と同様の方法により実験式
がP+、 oKo、 zMo+oBi+、 sFe+、
ssb+oNiii+、 +(SiOz) s。であ
る触媒を製造した。
に加えたこと以外は実施例4と同様の方法により実験式
がP+、 oKo、 zMo+oBi+、 sFe+、
ssb+oNiii+、 +(SiOz) s。であ
る触媒を製造した。
実施例20
オルトリン酸のかわりにオルトホウ酸1.65 gを加
えたこと以外は実施例19と同様の方法により実験式が
Be、 ZK6. zMo+eBi+、 5Fel、
ssb++N1aoh+、 + (SiOz)s。
えたこと以外は実施例19と同様の方法により実験式が
Be、 ZK6. zMo+eBi+、 5Fel、
ssb++N1aoh+、 + (SiOz)s。
である触媒を製造した。
実施例21
硝酸カリウムのかわりに硝酸セシウム1.30gを入れ
た以外は実施例4と同様の方法により実験式%式%) ある触媒を製造した。
た以外は実施例4と同様の方法により実験式%式%) ある触媒を製造した。
実施例22
硝酸カリウムのかわりに硝酸ルビジウム1.97gを入
れた以外は実施例4と同様の方法により実験式がRba
、 +MO+oBi+、sFe+、 ssb+oNi*
0aa1(SiOz)s。
れた以外は実施例4と同様の方法により実験式がRba
、 +MO+oBi+、sFe+、 ssb+oNi*
0aa1(SiOz)s。
である触媒を製造した。
実施例23〜24
スラリーのpHを1または5に調整した以外は実施例4
と同様の方法により、実験式かに6.zMol。
と同様の方法により、実験式かに6.zMol。
Bil、 5Fe1.5Sb+aNibOha、 5(
SiOz) soである触媒を製造した。
SiOz) soである触媒を製造した。
比較例1
三酸化アンチモンを添加しなかったこと以外は実施例1
と同様の方法により実験式がK(,0gMo@Bi、、
5Fe+、sNi&Oa*、1(SiOt′)soであ
る触媒を製造した。
と同様の方法により実験式がK(,0gMo@Bi、、
5Fe+、sNi&Oa*、1(SiOt′)soであ
る触媒を製造した。
比較例2
実施例1と同様の方法で表2の比較例2に示した組成の
触媒を製造した。
触媒を製造した。
比較例3
実施例4と同様な方法で表2の比較例3に示した組成の
触媒を製造した。
触媒を製造した。
比較例4
実施例7と同様の方法で表2の比較例4に示した組成の
触媒を製造した。
触媒を製造した。
比較例5〜14
実施例4と同様の方法で表2の比較例5〜14に示した
組成の触媒を製造した。
組成の触媒を製造した。
比較例15
実施例5と同一組成の触媒のスラリーをpH5,5に調
整したところスラリー粘度が非常に高くなり、噴霧乾燥
できなかった。
整したところスラリー粘度が非常に高くなり、噴霧乾燥
できなかった。
比較例16
硝酸ニッケルの代りに硝酸コバルトを加えた以外は実施
例4と同様の方法により実験式がKe、tMo+oBi
+、sFe+、sSt++oCoaOio、5(SiO
t)ioである触媒を製造した。
例4と同様の方法により実験式がKe、tMo+oBi
+、sFe+、sSt++oCoaOio、5(SiO
t)ioである触媒を製造した。
上記の実施例1〜24および比較例1〜16のそれぞれ
の触媒について、活性試験および触媒強度試験を行った
結果を表1(実施例)ならびに表2(比較例)に示した
。
の触媒について、活性試験および触媒強度試験を行った
結果を表1(実施例)ならびに表2(比較例)に示した
。
実施例25
実験式がにo、 zMO+ Ji l+ sFe+、
5Sb4NiaOns、 a (Sift) s。
5Sb4NiaOns、 a (Sift) s。
である触媒を次のようにして製造した。
硝酸カリウム2.70 gを水21.0mlに溶解し、
2008gの20%シリカゾルに加えた。この液に撹拌
下、パラモリブデン酸アンモニウム236gを80℃の
水590dに溶解し加えた。続いて二酸化アンチモン粉
末78.7g、硝酸ニッケル238gを240a+ 1
.にン容解した2容液、硝酸鉄81gを水80戚に溶解
した溶液、硝酸ビスマス99.2gを10%硝酸9!l
idに溶解した溶液を順次加えた。その後、15%アン
モニア水でpH2,0に調整した。
2008gの20%シリカゾルに加えた。この液に撹拌
下、パラモリブデン酸アンモニウム236gを80℃の
水590dに溶解し加えた。続いて二酸化アンチモン粉
末78.7g、硝酸ニッケル238gを240a+ 1
.にン容解した2容液、硝酸鉄81gを水80戚に溶解
した溶液、硝酸ビスマス99.2gを10%硝酸9!l
idに溶解した溶液を順次加えた。その後、15%アン
モニア水でpH2,0に調整した。
かくして得られた均質なスラリーを三ツロフラスコに入
れ撹拌しながら、1時間還流下100’Cで加熱処理し
た。
れ撹拌しながら、1時間還流下100’Cで加熱処理し
た。
前記加熱処理したスラリーを回転円盤型噴霧乾燥気でム
ロ温度320″C1出ロ温度160°Cにコントロール
し、噴霧乾燥した。乾燥した触媒を250°Cで加熱処
理し、更に400°Cで2.5時間焼成し、最終的に5
80°Cで3時間焼成した。
ロ温度320″C1出ロ温度160°Cにコントロール
し、噴霧乾燥した。乾燥した触媒を250°Cで加熱処
理し、更に400°Cで2.5時間焼成し、最終的に5
80°Cで3時間焼成した。
実施例26〜27
実施例25と同様の方法で表3の実施例26〜27に示
した組成の触媒を製造した。
した組成の触媒を製造した。
実施例28
空気中で三酸化アンチモンを焼成して四酸化アンチモン
を得た。この焼成品は、X線回折により四酸化アンチモ
ンのみであることを確認した。この四酸化アンチモン8
2.9gを粉砕し、二酸化アンチモンのかわりに加えた
こと以外は、実施例25と同様の方法で同じ組成の触媒
を製造した。
を得た。この焼成品は、X線回折により四酸化アンチモ
ンのみであることを確認した。この四酸化アンチモン8
2.9gを粉砕し、二酸化アンチモンのかわりに加えた
こと以外は、実施例25と同様の方法で同じ組成の触媒
を製造した。
実施例29〜30
実施例28と同様の方法で表3の実施例29〜30に示
した組成の触媒を製造した。
した組成の触媒を製造した。
実施例31
五塩化アンチモンの加水分解により水和五酸化アンチモ
ンの沈澱を作り、塩素イオンが検出されなくなるまで十
分口過洗浄した。この水和五酸化アンチモンの口過ケー
クを水に懸ン蜀させ、五酸化アンチモンとして10重量
%となるような五酸化アンチモンスラリーを調製した。
ンの沈澱を作り、塩素イオンが検出されなくなるまで十
分口過洗浄した。この水和五酸化アンチモンの口過ケー
クを水に懸ン蜀させ、五酸化アンチモンとして10重量
%となるような五酸化アンチモンスラリーを調製した。
この五酸化アンチモンスラリー864.7gを二酸化ア
ンチモンのかわりに加えたこと以外は実施例24と同様
の方法で実験式がにo、zMo+oBi+、sFe+、
5Ni6SbzOa、、、(SiJ)soである触媒を
製造した。
ンチモンのかわりに加えたこと以外は実施例24と同様
の方法で実験式がにo、zMo+oBi+、sFe+、
5Ni6SbzOa、、、(SiJ)soである触媒を
製造した。
実施例32
実施例31と同様の方法で実施例25と同し組成の触媒
を製造した。
を製造した。
実施例33〜42
実施例28と同様の方法で表3の実施例33〜=12’
二示した組成の触媒を製造した。
二示した組成の触媒を製造した。
実施例43
85%オルトリン酸13.22gを硝酸ビスマスのあと
に加えたこと以外は実施例28と同様の方法により実験
式がP +、 oKo、 zMo+oBi+、 sFe
+、 sN:6sbIoob+、 +(SiO□)、。
に加えたこと以外は実施例28と同様の方法により実験
式がP +、 oKo、 zMo+oBi+、 sFe
+、 sN:6sbIoob+、 +(SiO□)、。
である触媒を製造した。
実施例44
オルトリン酸のかわりにオルトホウ酸1.65 gを加
えたこと以外は実施例43と同様の方法により実験式が
B6. zKo、 tMoloBi+、 sFe+、5
NibSb1o0&+、 +(SiO2)soである触
媒を製造した。
えたこと以外は実施例43と同様の方法により実験式が
B6. zKo、 tMoloBi+、 sFe+、5
NibSb1o0&+、 +(SiO2)soである触
媒を製造した。
実施例45
硝酸カリウムのかわりに硝酸セシウム1.30gを入れ
た以外は実施例28と同様の方法により実験式%式% ある触媒を製造した。
た以外は実施例28と同様の方法により実験式%式% ある触媒を製造した。
実施例46
硝酸カリウムのかわりに硝酸ルビジウム1.97 gを
入れた以外は実施例28と同様の方法により実験式がR
bo、 1M016Bi+、sFe+、sNiiSbl
oOiol(SiOg)s。
入れた以外は実施例28と同様の方法により実験式がR
bo、 1M016Bi+、sFe+、sNiiSbl
oOiol(SiOg)s。
である触媒を□製造した。
実施例47〜48
加熱処理前のスラリーのpnを1または5に調整した以
外は実施例29と同様の方法で、同じ組成の触媒を製造
した。
外は実施例29と同様の方法で、同じ組成の触媒を製造
した。
実施例49〜50
スラリーの加熱処理の時間、温度をかえたこと以外は実
施例29と同様の方法により、同じ組成の触媒を製造し
た。
施例29と同様の方法により、同じ組成の触媒を製造し
た。
実施例51〜55
硝酸カリウム水溶液、硝酸ビスマスの10%硝酸酸性水
溶液、四酸化アンチモン粉末または硝酸ニッケル水溶液
、あるいはPH2,0に調整したシリカゾルをそれぞれ
加熱処理後のスラリーに添加したこと以外は実施例29
と同様の方法により同じ組成の触媒を製造した。
溶液、四酸化アンチモン粉末または硝酸ニッケル水溶液
、あるいはPH2,0に調整したシリカゾルをそれぞれ
加熱処理後のスラリーに添加したこと以外は実施例29
と同様の方法により同じ組成の触媒を製造した。
比較例17
実施例25と同様の方法により実験式かに6.2M01
゜Bi t、 sFe+、 5sbl JjaOti、
h (Sing) soである触媒を製造した。
゜Bi t、 sFe+、 5sbl JjaOti、
h (Sing) soである触媒を製造した。
比較例18
実施例25と同様の方法により実験式かに6.zF+o
l。
l。
Bi+、 sFe+、 ssb+JihO1i1(Si
Oz)soである触媒を製造した。
Oz)soである触媒を製造した。
比較例19
実施例31と同様の方法で実験式かに6.gMo+oB
i+、sFe+、 ssb+eNiiO*e、 a(S
iOt)soである触媒を製造した。
i+、sFe+、 ssb+eNiiO*e、 a(S
iOt)soである触媒を製造した。
比較例20〜29
実施例28と同様な方法で表4の比較例20〜29に示
した組成の触媒を製造した。
した組成の触媒を製造した。
比較例30
実施例29と同様な方法において、加熱処理前のスラリ
ーをpH5,5に調整したところ、スラリー佑度が非常
に高くなり、噴霧乾燥ができなかった。
ーをpH5,5に調整したところ、スラリー佑度が非常
に高くなり、噴霧乾燥ができなかった。
比較例31
硝酸鉄水溶液を加熱処理後加えたこと以外は実施例29
と同様の方法により同し組成の触媒を製造した。
と同様の方法により同し組成の触媒を製造した。
比較例32
モリブデン酸アンチモン水溶液を加熱処理後加えたこと
以外は実施例29と同様の方法により同じ組成の触媒を
製造した。
以外は実施例29と同様の方法により同じ組成の触媒を
製造した。
比較例33
硝酸ニッケルのかわりに硝酸コバルトを加えた以外は実
施例29と同一方法により実験式かに0.2MO+oB
i+、 sFe+、 ssb+ocoiOaa、 1(
SiOz)soである触を製造した。
施例29と同一方法により実験式かに0.2MO+oB
i+、 sFe+、 ssb+ocoiOaa、 1(
SiOz)soである触を製造した。
上記の実施例25〜55および比較例17〜33のそれ
ぞれの触媒について、活性試験および強度試験を行った
結果を表3(実施例)ならびに表4(比較例)に示した
。
ぞれの触媒について、活性試験および強度試験を行った
結果を表3(実施例)ならびに表4(比較例)に示した
。
第1図は、本発明における実施例1の触媒粒子の構造を
示す走査型電子顕微鏡写真であり、第2図は比較例1の
触媒粒子の構造を示す走査型電子顕微鏡写真である。
示す走査型電子顕微鏡写真であり、第2図は比較例1の
触媒粒子の構造を示す走査型電子顕微鏡写真である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (イ) 流動床によるプロピレンの気相接触アンモ酸化
によりアクリロニトリルを製造する方法において、 (i)触媒組成が、実験式 Q_qR_rMo_1_0Bi_aFe_bSb_cN
i_dO_e(SiO_2)_f(式中、QはPおよび
/またはBであり、RはLi、Na、K、RbおよびC
sからなる群から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金
属元素であり、添字q、r、a、b、c、d、eおよび
fは原子比を示し、q=0〜3、r=0.01〜1.5
、a=0.1〜3、b=0.1〜2.5、cはSb原料
が、Sb_2O_3の時0より大きく15以下、Sb_
2O_4の時0より大きく30以下、Sb_2O_5の
時0より大きく8以下、d=4〜8、e=上記各成分が
結合して生成する酸化物に対応する酸素の数およびf=
20〜150である。) で表わされる範囲になるように、 (ii)上記触媒成分を含む触媒スラリーを調合かつこ
のスラリーのpHを5以下に調整し、 (iii)次いで、このようにして得られた触媒成分を
含むスラリーを噴霧乾燥して球状粒子をつくり、この粒
子を焼成すること、 によって、得られた流動床触媒を用いることを特徴とす
るアクリロニトリルの製造方法。(2)流動床によるプ
ロピレンの気相接触アンモ酸化によりアクリロニトリル
を製造する方法において、 (i)触媒組成が、実験式 Q_qR_rMo_1_0Bi_aFe_bSb_cN
i_dO_e(SiO_2)_f(式中、QはPおよび
/またはBであり、RはLi、Na、K、RbおよびC
sからなる群から選ばれた少なくとも1種のアルカリ金
属元素であり、添字q、r、a、b、c、d、eおよび
fは原子比を示し、q=0〜3、r=0.01〜1.5
、a=0.1〜3、b=0.1〜2.5、cはSb原料
が、Sb_2O_3の時0より大きく15以下、Sb_
2O_4の時0より大きく30以下、Sb_2O_5の
時0より大きく8以下、d=4〜8、e=上記各成分が
結合して生成する酸化物に対応する酸素の数およびf=
20〜150である。) で表わされる範囲になるように、 (ii)上記触媒成分のうち、少なくともMoおよびF
e成分を含む溶液もしくはスラリー調合かつこの溶液も
しくはスラリーのpHを5以下に調整し、 (iii)得られた溶液もしくはスラリーを50℃ない
し、120℃の温度範囲で溶液もしくはスラリーの形態
を保ちつつ、少なくとも10分間加熱処理し、 (iv)MoおよびFe以外の触媒成分は上記(iii
)の工程の前、工程中、または工程後の任意の段階のス
ラリーに添加し、 (v)次いで、このようにして得られた触媒成分を含む
スラリーを噴霧乾燥して、球状粒子をつくり、この粒子
を焼成すること、 によって得られた流動床触媒を用いることを特徴とする
アクリロニトリルの製造方法。
Priority Applications (6)
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---|---|---|---|
JP63091698A JP2520282B2 (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | アクリロニトリルの製造方法 |
ES89303662T ES2059735T3 (es) | 1988-04-15 | 1989-04-13 | Un procedimiento para la produccion de acrilonitrilo. |
DE89303662T DE68909287T2 (de) | 1988-04-15 | 1989-04-13 | Verfahren zur Herstellung von Acrylonitril. |
EP89303662A EP0337779B1 (en) | 1988-04-15 | 1989-04-13 | Process for the production of acrylonitrile |
US07/337,803 US4978765A (en) | 1988-04-15 | 1989-04-14 | Process for the production of acrylonitrile |
KR1019890004981A KR0133672B1 (ko) | 1988-04-15 | 1989-04-15 | 아크릴로니트릴의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP63091698A JP2520282B2 (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | アクリロニトリルの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01265068A true JPH01265068A (ja) | 1989-10-23 |
JP2520282B2 JP2520282B2 (ja) | 1996-07-31 |
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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---|---|
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KR (1) | KR0133672B1 (ja) |
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ES (1) | ES2059735T3 (ja) |
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1988
- 1988-04-15 JP JP63091698A patent/JP2520282B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-04-13 DE DE89303662T patent/DE68909287T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-13 ES ES89303662T patent/ES2059735T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-13 EP EP89303662A patent/EP0337779B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-14 US US07/337,803 patent/US4978765A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-15 KR KR1019890004981A patent/KR0133672B1/ko not_active IP Right Cessation
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---|---|
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EP0337779B1 (en) | 1993-09-22 |
EP0337779A3 (en) | 1990-07-04 |
ES2059735T3 (es) | 1994-11-16 |
KR0133672B1 (ko) | 1998-04-21 |
JP2520282B2 (ja) | 1996-07-31 |
KR900016117A (ko) | 1990-11-12 |
DE68909287D1 (de) | 1993-10-28 |
US4978765A (en) | 1990-12-18 |
DE68909287T2 (de) | 1994-01-13 |
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