JPH01248105A - 偏光板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は染料が基材に塗布されてなる偏光板に関し、更
に詳しくは任意の方向に偏光性を与え、かつその偏光部
分が連、統帥にパターン化された偏光板に関する。 従来の技術 従来、偏光板を製造する代表的な方法としては、延伸ポ
リビニルアルコール膜をヨウ素で着色したのち透明基板
に貼着する方法がある。この種の偏光板は高い偏光度、
透過率の均一性、材質の安定性において優れている。し
かし、この偏光板は、ポリビニルアルコール膜の延伸方
向にのみ偏光性が得られるものであり、この延伸が通常
一方向にしか出来ないため、偏光方向も一方向に限定さ
れ、円状、放射状、波状等の偏光板を製造することが出
来ないという欠点がある。 従って、この種の偏光板を用いて例えば偏光軸が放射状
に伸びた偏光板を得るには、扇状形に切断された、半径
方向に偏光性を有する多数の偏光板を円状に貼着する等
の方法を採用しなければならな（・ため、製作も困難で
あり、高価なものとなり、且つ連続的な偏光軸をもった
偏光板が得られにくいという欠点がある。 −万、ガラス、有機膜等に偏光性を直接形成させる方法
としては、例えば米国特許第２．４００，８７７号等に
記載されている方法がある。 この方法は、ガラス、或いは有機膜を予め、布。 紙、パフ等でラビングしておき、その後、二色性色素を
コーティングしてラビングされた方向に二色性色素を配
向させる方法である。 この方法は、二色性色素をコーティングする前に、ガラ
ス、或いは有機膜にラビング処理を行い、このラビング
方向に二色性色素を配向させるものであり、ラビング方
向を任意に変えることにより、連続的にパターン化され
た、むらの少ない偏光板を形成することが出来る。しか
し該米国特許記載の二色性色素を用いてガラス、或いは
有機膜に偏光性を直接形成させた場合、偏光能が低く、
コントラストが優れないという欠点がある。 発明が解決しようとする課題 偏光能が高（、コントラストに優れ、任意の方向に偏光
性を与え、偏光部分が連続的にパターン化された、むら
の少ない偏光板が望まれている。 課題を解決するための手段 染料を用いた偏光板において、偏光軸が任意の方向であ
って、偏光能力が高く、コントラストの優れた偏光板を
得るべく鋭意研究を重ねた結果本発明に到った。 即ち、本発明は式（１） 〔式（１）において、Ａは低級アルキル基、低級アルコ
キシ基又はスルホン酸基で置換されていてもよいフェニ
ル基を、Ｒ１とＲ４は水素原子、水酸基又は低級アルコ
キシ基を、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ５，Ｒ＝はそれぞれ独立に水
素原子、水酸基又はスルホン酸基を、Ｒ７は水素原子、
メチル基、アセチル基、カルバモイル基、置換されてい
てもよいフェニル基又は置換されていてもよいベンゾイ
ル基をそれぞれ表す。但し、Ｒ１とＲ４は同時に水素原
子を表すことはない。〕で表される化合物が基材に塗布
されてなる偏光板を提供する。 本発明で用いる式（１）で表される化合物は、−般的に
は次の方法によって製造出来る。即ち、式（■） Ａ　−ＮＨ２（ＩＩ） 〔式（Ｉｔ）において、Ａは低級アルキル基、低級アル
コキシ基又はスルホン酸基で置換されていてもよいフェ
ニル基を表す。〕で表される化合物を常法によりジアゾ
化し、式（Ｉｌｌ）〔式（釦において、Ｒ１は水素原子
、水酸基又は低級フルコキシ基を、Ｒ２とＲ１はそれぞ
れ独立に水素原子、水酸基又はスルホン酸基を表す。〕
で表される化合物にカップリングし、式０■〔式ｍ中、
Ａ　、　Ｒｔ＋　Ｒ２及びＲ３は前記と同じ意味を表す
。〕で表される化合物を製造する。更に式ＧＶ）の化合
物を常法によりジアゾ化して弐Ｍｐ。 〔式Ｍにおいて、Ｒ４は水素原子、水酸基又は低級アル
コキシ基を、Ｒ３とＲ６はそれぞれ独立に水素原子、水
酸基又はスルホン酸基を表す。〕で表される化合物にカ
ップリングし、式（ＶＤ〔式（ＶＤ中、Ａ　、　ｎｌ、
　Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，１１５及びＲ６は前記と同じ意味
を表す。但し、Ｒ１とＲ１は同時に水素原子を表さない
。〕で表される化合物を製造する。 次いで、別途に、 Ａ　−Ｎｌ２　　　　　　（ＩＩ） 〔式（Ｉｔ）中、Ａは前記と同じ意味を表す。〕で表さ
れる化合物を常法によりジアゾ化し、式（Ｖｌｌ）〔式
（Ｖｌｌ）において、Ｒ７は水素原子、メチル基、アセ
チル基、カルバモイル基、置換されていてもよいフェニ
ル基又は置換されていてもよいベンゾイル基を表す。〕
で表される化合物と酸性下でカップリングし、式（至） Ｎ＝Ｎ−Ａ 〔穴部）中、ＡおよびＲ７は前記と同じ意味を表す。〕
で表される化合物を得る。 次いで、式（資）で表される化合物を常法によりジアゾ
化し、ピリジン水溶液中で式（Ｖｆｆりで表される化合
物とカップリングすることによって式（１）の化合物が
製造される。もちろん、これ以外の製造ルートによって
も式（１）で表される化合物を製造することが出来る。 式（１）で表される化合物は通常ナト１７ウム塩として
利用するが、それらは遊離酸として、或いは、カリウム
塩、リチウム塩、アンモニウム塩、アルキルアミン類、
エタノールアミン類の塩としても利用することが出来る
。 式（ｎ）で表される化合物の具体例としては、等を挙げ
ることが出来る。（式中「Ｓ」はｒｓＯ３ＨＪを意味す
る。以下同じ。） 式（ｌ及びＭで表される化合物の具体例とじ

【は、 等を挙げることが出来る。 式（ｋ’ｌｌ）で表される化合物の具体例としては、等
を挙げることが出来る。 式（］）で表される化合物は単独で使用されるほかそれ
ら同志あるいは他の染料と配合することにより種々の色
相を有する偏光板を製造することが出来る。 本発明の偏光板は、一般的には予めラビング処理を施し
た基材上に、式（１）で表される化合物を含有した溶液
を塗布することにより得られる。 本発明の偏光板に用いられる基材としては、ガラスの他
、トリアセチルセルローズフィルム（）ノ下ＴＡＣフィ
ルムという）、ジアセチルセルローズフィルム、セルロ
ーズアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、塩化
ビニールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピ
レンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィ
ルム、ホリエーテルスルホンフィルム、アクリル系フィ
ルム等が用いられるが、これらのうち好ましいものは、
ＴＡＣフィルム、ポリエステルフィルム等を挙げること
ができる。これらの基材は場合により、コロナ処理、ン
ランカノプリング処理等の表面処理を行ってから用いる
ことが出来る。 ラビング剤としては、布１紙、皮革、綿、フェルト、パ
フ等を、場合によりクレー、ジルコニア、アルミナ等の
研磨剤と共に用いることが出来る。また、ラビングの程
度はラビング剤によって異なるが、ラビングの回数は１
〜３０回が望ましい。 式（１）で表される化合物を溶かすための溶剤としては
水及び水と混合しうる有機溶剤類が適しその具体例とし
ては、水；メチルアルコール、エチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコー
ル類；メチルセロノルプ、エチルセロソルブ等のセロソ
ルブ類；アセドル：ジメチルホルムアミド等の単独又は
二種り上の混合溶剤を挙げることが出来る。 式（１）で表される化合物を溶解すべき濃度は溶媒によ
り異なるが、０５〜１０％（重量比）が望ましい。更に
、場合により界面活性剤等の添加剤を加えることが出来
る。 式（］）で表される化合物溶液を基材に塗布する塗布法
としては例えば、バーコーター、スプレー、ロール等の
コート法にて塗布出来る。コート時の温度は通常０〜８
０℃、好ましくは２５〜４０℃である。乾燥温度は２５
〜１２０℃、好ましくは５０〜８０℃である。 このようにして製造された偏光板はそのまま使用される
他、耐久性を要求される分野においてはポリエステル、
塩化ビニール、トリアセチルセルローズ、アクリル樹脂
、ポリエーテルスルホン等の支持フィルムを接着したり
、特殊アクリル樹脂等でコーティングして高耐久性の偏
光板として使用に供される。 本発明の偏光板は各種デイスプレィ、装飾材料、透過防
止、フィルター等に用いることができる。 り下実施例により本発明を更に詳しく説明する。尚、実
施例において部は重量部をあられしスルホン酸基は遊離
酸の形で表すものとする。 また、ＳはＳＯ，Ｈを表すものとする。なお波長３８〜
７００　ｎｍの範囲で求めた三刺激値のＹ値で表し、単
板の場合をＹｌ、二枚を平行位に配した場合をＹｏ、二
枚を直行位に配した場合をＹ土で表すと、平均偏光率ρ
はＹｌｏ、Ｙ土を用いて次式によって定義される。 特に有彩色の偏光板の場合、極大吸収波長λｍａｘでの
偏光率ρ（ｍａｘ）はその波長での平行位透過率Ｔ＋＋
　（ｍａｘ）、直行位透過率Ｔ±（ｍａｘ）を用いて次
式によって表すことも出来る。 実施例１゜ 水１００部に式 で表される染料を５部、非イオン性界面活性剤エマルゲ
ン９２０（化工アトラス社製）０．０５部を加え、加熱
溶解後冷却し、濾過して不溶解分を除去することにより
染料溶液を得た。 ＴＡＣフィルム（厚さ８０μ）の全面を縦方向にフェル
トで１０回ラビングし、その後一定間隔で横方向に２０
回ラビングした後、水洗、乾燥した。得られたフィルム
上に前記染料溶液をバーコーターで塗布した後、６０℃
で乾燥することによって偏光板を得た。得られた偏光板
の極大吸収波長λｍａｘは６３２部ｍ、単板透過率Ｔ。 （ｍａｘ）は３８．０％、この時のρ（ｍａｘ）は６８
．５％であった。 このものはデイスプレーとして有用であった。 なお上記式の化合物は次のようにして製造した。 水２００部にクレープ−７−酸２２．３部を１０％苛性
ソーダ水溶液を用いて溶解させ、更にこの中に、２０％
ソーダ灰水溶液で中和しながらメタニル酸１７．３部を
常法にてジアゾ化した液を加え、カップリングした。反
応が終了したら塩化ナトリウムで塩析し、濾過、乾燥す
ると、モノアゾ化合物（次式）３８．１部が得られた。 このモノアゾ化合物３８．１部を水１０００部に加え、
１０％苛性ソーダ水溶液で溶解せしめこの液に４０％亜
硝酸ソーダ水溶液１６．９部を加え、氷で１０℃以下に
冷却した後、濃塩酸２２部を加え、１０℃以下でジアゾ
化した。ジアゾ化が終了したらスルファミン酸を加えて
過剰の亜硝酸イオンを消去する。２−エトキシクレープ
−６−酸２４．９部を１０％苛性ソーダ水溶液を用いて
溶解せしめた液に、前記ジアゾニュウム塩を加え、１０
〜１５℃でカップリングした。−夜撹拌後生成した沈澱
を篩別し、乾燥すると、次式で表される化合物４７．５
部が得られた。 別途に、メタニル酸１７，３部を常法にてジアゾ化し、
Ｊ酸２３．９部とカップリングし、塩析後、沈澱を濾過
すると次式で表される化合物４０．６部を得た。 更に、 ｂ　　　　さ ４７．５部を前記と同様の方法でジアゾ化する。 別に、 ２９部をピリジン５００部、水５００部に溶解し、その
後に前記ジアゾ液を２５℃で加え力。 プリングした。−夜撹拌後、生成した沈澱を濾別し、乾
燥すると次式で表される化合物６１．２部が得られた。 実施例２゜ 水９５部、イソプロピルアルコール５部の混合溶媒に式 で表される染料を３部加え、加熱溶解後冷却し濾過して
不溶解分を除去することにより染料溶液を得た。 ＴＡＣフィルム（厚さ８０μ）の全面を縦方向に工業用
ワイピング材キムワイプ（十條キンバリー社製、ワイパ
ーＳ−２００）で１０回ラビングし、その後一定間隔で
横方向に２０回ラビングした後、水洗、乾燥した。得ら
れたフィルム上に前記染料溶液をバーコーターで塗布し
た後６０℃で乾燥することによって偏光板を得た。 得られた偏光板の極太吸収波長λｍａｘは６３５ｎｍ、
単板透過率Ｔ、　（ｍａｘ）は４０．０％、この時のρ
（ｍａｘ）は６９．５％であった。 実施例３゜ 水】００部に式 で表される染料を５部、非イオン性界面活性剤エマルゲ
ンＬ−７０（化工アトラス社製）０．０５部を加え、加
熱溶解後冷却し、濾過して不溶解分を除去することによ
り染料溶液を得た。 ＴＡＣフィルム（厚さ８０μ）を実施例２と同様にラビ
ングした後、水洗、乾燥した。得られたフィルム上に前
記染料溶液をバーコーターで塗布した後、熱風ドライヤ
ーで４０℃で乾燥することによって偏光板を得た。 得られた偏光板の極大吸収波長λｍａｘは６３０ｎｍ、
単板透過率Ｔ１（ｍａｘ）は３８．２％、この時のρ（
ｍａｘ）は６８．８％であった。 発明の効果 偏光軸が任意の方向に、かつ連続的にパターン化された
高い偏光率を有する偏光板が容易にかつ安価に製造出来
るようになった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） 〔式（１）において、Ａは低級アルキル基、低級アルコ
   キシ基又はスルホン酸基で置換されていてもよいフェニ
   ル基を、Ｒ＿１とＲ＿４は水素原子、水酸基又は低級ア
   ルコキシ基を、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿５、Ｒ＿６はそれ
   ぞれ独立に水素原子、水酸基又はスルホン酸基を、Ｒ＿
   ７は水素原子、メチル基、アセチル基、カルバモイル基
   、置換されていてもよいフェニル基又は置換さていても
   よいベンゾイル基をそれぞれ表す。但し、Ｒ＿１とＲ＿
   ４は同時に水素原子を表すことはない。〕で表される化
   合物が基材に塗布されてなる偏光板。