JPH01242569A - イミド（メタ）アクリレート、これを用いた樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規なイミド（メタ）アクリレート及びプリ
ント配線基板の永久保護膜として使用される耐熱性、耐
薬品性及び電気絶縁性に優れたソルダーレジストインキ
に適する紫外線硬化型樹脂組成物に関する。

（従来の技術） 近年、省資源、省エネルギー、作業性向上、生産性向上
などの理由により紫外線硬化型組成物が多用されて来て
いる。プリント配線基板加工分野においても同様の理由
によりソルダーレジストインキ、マーキングインクなど
種々のインキが従来の熱硬化型組成物から紫外線硬化型
組成物へと移行してきている。ソルダーレジストインキ
はいち早（紫外線硬化型組成物へと移行した。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、現在この紫外線硬化型組成物の ）適用されている用途としては、ラジオ、ビデオ、テレ
ビ等に使用されている民生用基板と称せられる分野に限
られ、コンピー−ター、制御機器等の産業用基板といわ
れる分野への適用は未だ行われていないのが実情である
。これは産業用基板に使用されるソルダーレジストイン
キには、民生基板用ソルダーレジストインキに要求され
ていない高電気絶縁性、加湿下におけるハンダ耐熱性、
耐メツキ性など高い性能が要求されており、現在の民生
基板用ソルダーレジストインキでは、要求性能レベルに
達していないためである。最近のエレクトロニクス機器
類の／Ｊ％型化、高機能化により、産業用基板に於いて
も回路のパターン密度の精度向上の要求が高くなり、従
来の紫外線硬化型ソルダーレジストインキを用いたスク
リーン印刷法では、印刷精度の限界から、満足すべき結
果は得られていない。

又従来の紫外線硬化型ソルダーレジストインキは、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート等の１〜３官能モノマー及び各種
アクリレートオリゴマーなどを含んでおり、スクリーン
印刷時にこれらの物質かにじみ出し、ハンダがつかない
などのトラブルの発生がみられる。上記した問題点の改
善のこころみもなされており、例えば特開昭６０−２０
８３７７では、光重合可能なエポキシビニルエステル樹
脂と光重合開始剤とアミン系エポキシ硬化剤からなる樹
脂組成物が提案されており、耐熱性、密着性、耐化学薬
品性、電気絶縁特性に優れているが、アミン系エポキシ
硬化剤を使用するため貯蔵安定性がなく、溶剤で現像し
なげればならない事等の欠点を有している。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは、上記の問題を解決するため鋭意研究の結
果、アルカリ水溶液で現像が可能な耐熱性、密着性、耐
化学薬品性、および電気絶縁性に優れたソルダーレジス
トインキに適する紫外線硬化型樹脂組成物を提供するこ
とに成功した。

すなわち、本発明は、 １）一般式〔Ｉ）で表わされるイミド（メタ）アクリレ
ート。

（但し、Ｒ１は を示し、Ｒ２は＋ＣｎＨ２ｎ＋を示し、Ｒ３はＨ又はＣ
Ｈ３を示し、ｎは２〜６好ましくは２〜４の整数である
。） ２）前記一般式〔工〕で表わされるイミド（メタ）アク
リレートを含むことを特徴とする紫外線硬化型樹脂組成
物。

３）前記一般式〔Ｉ〕で表わされるイミド（メタ）アク
リレートを含有することを特徴とする紫外線硬化型ソル
ダーレジスト樹脂組成物に関する。

本発明に於いては、イミド（メタ）アクリレートを使用
する。イミド（メタ）アクリレである。）と（メタ）ア
クリル酸を反応することによって得ることができる。更
に詳しく説明するならば、一般式〔■〕は、無水フタル
酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルへキサヒドロ無
水７タル酸等のジカルボン酸無水物トビドロキシアルキ
ルアミン類（例えば、２−アミノ−１−エタノール、２
−アミノ−１−グロバノール、３−アミノ−１−ブタノ
ール、３−アミノ−２−ジメチル−１−グロバノール等
）とを反応させて得られたものである。

一般式〔■〕の製造 前記のジカルボン酸無水物とヒドロキシアルキルアミン
類の反応は、溶媒の存在下、５０〜２００℃、好ましく
は８０〜１５０℃の温度において脱水して行なわれる。

本反応に使用しうる溶媒ハ、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、シクロヘキサン、（ｏ−ｍ−ｐ）−クレゾール等
が挙げられる。反応に仕込むヒドロキシアルキルアミン
類の量は、ジカルボン酸無水物の仕込み量１モルあたり
、約０．９８〜１．１０モル、好ましくは１．００〜１
．０５モルである。反応の終了にあたって、ジカルボン
酸無水物とヒドロキシアルキルアミン類の反応物を含む
反応混合物をそのまま次の反応原料として使用すること
もできるが、未反応原料を水洗等によって除去して使用
することもできる。

イミド（メタ）アクリレート（一般式〔Ｉ〕）の製造 イミド（メタ）アクリレート（一般式〔Ｉ〕）は、一般
式〔「〕の化合物とアクリル酸もしくはメタクリル酸ま
たはそれらの混合物との反応により製造される。アクリ
ル酸またはメタクリル酸の使用量は、仕込んだ一般式（
ｎ）の化合物１モル当り、好ましくはそれらの約１〜２
モルである。化学量論的量である１モルを一般式（ｎ）
の化合物の水酸基の反応性水素と反応させることが望ま
しいけれど実際上は、反応を完全に行うことができる様
にそれらのわずかに過剰量を仕込むことが特に好ましい
。

該反応は、アクリル二重結合の重合を最小化または遅延
させるために重合防止剤の存在下に行なうのが好ましく
、使用する重合防止剤は当業者に周知であり、それらは
該混合物の０．０１〜５重量係の濃度で使用するのが好
ましい。それら重合防止剤の例として、ノ・イドロキノ
ン、Ｐ−メトキシフェノール、２，４−ジメチル−６−
ｔ−ブチルフェノール、Ｐ−ベンゾキノン、フェノチア
ジン、Ｎ−ニトロンジフェニルアミン、銅塩等が挙げら
れる。該反応は、一般的に約５０〜１５０℃、好ましく
は８０〜１３０℃の温度においてイミド（メタ）アクリ
レート（一般式〔工〕）を生成するための、アクリル酸
または、メタクリル酸による一般式〔■〕の化合物のエ
ステ゛ル化を確実に完結させるのに十分な時間にわたっ
て行う。又、エステル化触媒を、使用されるアクリル酸
またはメタクリル酸に対して０．１〜１５モルチ、好ま
しくは１〜６モルチの濃度で存在させる。

任意の公知のエステル化触媒を使用することができる。

これらの例として、硫酸Ｐ−）ルエンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸、リン酸等を挙げることができる。ベンゼ
ン、トルエン、シクロヘキサン等の不活性溶剤を存在さ
せて、このエステル化反応中に生成した水分の除去を助
けることが望ましい。

本発明の新規なイミド（メタ）アクリレートの使用量は
、本発明の紫外線硬化型樹脂組成物中、又は、ンルダー
レジスト樹脂組成物中ＩＯ〜８０Ｍ量係とするのが好ま
しく、特に好ましくは、２０〜７０重量係である。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物中、又は、ソルダーレ
ジスト樹脂組成物中には、この新規なイミド（メタ）ア
クリレート以外の成分として公知の種々のエチレン性不
飽和化合物が使用できる。エチレン性不飽和化合物の具
体例としては、エポキシ樹脂（例えば、シェル化学■製
、エピコート１００１．１００４等のビスフェノール型
エポキシ樹脂、シェル化学■裏、エピコー）　１５２，
１５４及び日本化薬■設、ＥＰＰＮ−２０１，ＥＯＣＮ
−１０４等のノボラック型エポキシ樹脂、ダイセル化学
工業■製、ＥＨＰＢ−３１５０等の脂環式エポキシ樹脂
）のエポキシ基１化学当量とアクリル酸の０．１〜１．
０化学当量を反応させてなるエポキシアクリレート、前
記エポキシアクリレートと多塩基性カルボン酸無水物（
例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸
、無水テトラヒドロフタル酸、無水メチルψエンドメチ
レンテトラヒドロフタル酸等）を反応させた化合物、２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、カルピト
ール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）
アクリレート、アクリロイルモルホリン、ヒドロキシビ
バリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート（日
本化薬■、ＫＡＹＡＲＡＤＲ−６０４）、）リス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレートリ（メタ）アクリレー
ト、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレートのリン酸エステル等を挙げることができる。特
に好ましいエチレン性不飽和化合物としては、例えばノ
ボラック型エポキシ樹脂のエポキシアクリレート、ビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂のエポキシアクリレートの
無水フタル酸反応物、ノボラック型エポキシ樹脂のエポ
キシアクリレートの無水テトラヒドロフタル酸反応物、
アクリロイルモルホリン、カルピトールアクリレート、
トリス（ヒドロキシエチル）インシアヌレートジアクリ
レート等が挙げられる。上記エチレン性不飽和化合物は
、必要に応じて１種又は２種以上の化合物を任意の割合
で混合使用することができる。エチレン性不飽和化合物
の使用量は、紫外線硬化型樹脂組成物中又はソルダーレ
ジスト樹脂組成物中２０〜９０重量係の範囲で使用する
のが好ましく、特に３０〜８００〜８０重量％使用する
のが好ましい。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物又はソルダーレジスト
樹脂組成物を紫外線で硬化する場合、光重合開始剤を添
加することが好ましく、この様な光重合開始剤としては
、公知のどのような光重合開始剤であっても良いが、配
合後の貯蔵安定性の良い事が要求される。

この様な光重合開始剤としては、例えは、ベンゾフェノ
ン、２．２−ジェトキシアセトフェノン、４′−フェノ
キシ−２，２−ジクロロアセトフェノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロピオフェノン、４′−イソプロピル
−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４′
−ドデシル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェ
ノン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシク
ロへキシルフェニルケトン、２−エチルアントラキノン
、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピル
チオキサントン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン、Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエス
テル、Ｎ−Ｎ−ジメチルアミン安息香酸エチルエステル
等を挙げることができる。これら光重合開始剤は、一種
又は二種以上を任意の割合で混合して使用することが出
来る。好ましい光重合開始剤としては、２，４−ジェト
キシチオキサントン、　４．４’−ジエチルアミノベン
ゾフェノン、２，４−ジェトキシチオキサントンとＮ、
Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステルスはＮ
−Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルの組合せ
等が挙げられる。その使用量は通常、樹脂組成物の１〜
２０重量％が好ましく、特に３〜１０重量％が好ましい
。

本発明の紫外線硬化型樹脂組成物又はソルダーレジスト
樹脂組成物には、必要に応じて加熱硬化促進剤、例えば
、トリス（Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール
、ベンジルアミン、２−エチル−４−メチルイミダゾー
ル等するいは、光カチオン重合触媒、例えば、トリフェ
ニルスルホニウムへキサフルオロアンチモネート、ジ（
アルキルフェニル）フェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネ−４，（２，４−シクロペンタジェン−１
−イル）［（１−メチルエチル）−ベンゼン〕−アイロ
ンーヘキサフルオロホスフェート（チノく・ガイギー■
裂、イルガキュアー２６１）等を使用することもできる
。更に変性用樹脂や各種重合物等を挙げることができる
。又、上記添Ｃ゛；−，＋“加削としては、タルク、シ
リカ、アルミナ、硫酸、バリウム、酸化マグネシウムな
どの体質顔料、アエロジルなどのチキソトロピー剤、モ
ダフロー（モンサント■裂）などのレベリング剤、消泡
剤および着色剤などを挙げることができる。本発明の紫
外線硬化型樹脂組成物は、特に紫外線硬化型ソルダーレ
ジスト樹脂組成物として有用であるが、その他にも、ド
ライフィルム、光フアイバ用コーティング剤等としても
使用できる。本発明の樹脂組成物は、常法により紫外線
を照射し、更に、必要に応じて、１００〜２００℃に加
熱することによって硬化する。

（実施例） 以下、本発明を実施例により、具体的に説明する。なお
実施例中の部は、重量部である。

〔イミド（メタ）アクリレートの合成実施例〕実施例１
゜ ヘキサヒドロ無水フタル酸１５４部、２−アミノ−１−
エタノール８８．７部、トルエン３００部を仕込み、加
熱し、生成水は溶剤と共に蒸留、凝縮させ、分離器で水
のみ系外に取り除き、溶剤は反応器に戻す。水が１８部
生成した時点で冷却した。次いで、アクリル酸８６部、
硫酸２．８部、ハイドロキノン１．０部を仕込み、加熱
し、生成水は、溶剤と共に蒸留、凝縮させ、分離器で水
のみ系外に取り除き、溶剤は反応器に戻す。水が１８部
生成した時点で冷却した。反応混合物をトルエン１００
０部に溶解し、２０俤苛性ソーダ水溶液で中和した後２
０チ食塩水５００部で３回洗浄する。溶剤を減圧留去し
て淡黄色の液体２２０部を得た。

このものは、下記の性質を有する。

粘度（２５℃、ＣＰＳ）　　４００ 得られた生成物の高分解能核磁気共鳴（ＮＭＲ，）によ
る測定を行なった結果を下記に示す。

黒　　　　吸収周波数（Ｈｚ） １　　　　　２６９７、２６５ ２　　　　　２４９０．２３４ ３　　　　　１９７２．６５６ ４　　　　　　　　　１９２３．８２８５　　　　　　
　　　１１９１．４０６６　　　　　１１５８．２０３ ７　　　　　　　　１１２６．９５３−８　　　　　　
　　　９１６．０１５ ９　　　　　　　　　　５９７．６５６１０　　　　　
　　　　　５６２．５００１１　　　　　　　　　　３
５５．４６８１２　　　　　　　　　３２４．２１８１
３　　　’　　　　　　　３００．７８１メチルシラン
を用い溶媒は、重クロロホルムを用いてプロトンデカッ
プリング法で行なった。

実施例２゜ ３−メチルへキサヒドロ無水フタル酸１６８部、２−ア
ミノ−１−エタノール８７部、トルエン３００部を仕込
み、実施例１と同様にして、生成水が１８部になった時
点で冷却した。°次いで、アクリル酸８６部、Ｐ−トル
エンスルホン酸５部、ハイドロキノン１部を仕込み、実
施例１と同様にして、生成水が１８部になりた時点で冷
却した。反応混合物をトルエン１０００部に溶解し、２
０チ苛性ソーダ水溶液で中和した後、２０チ食塩水５０
０部で′３回洗浄する。溶剤を減圧留去して、淡黄色の
液体３４２部を得た。このものは、下記の性質を有する
。

粘度（２５℃、ＣＰＳ）　　６３Ｏ ＮＭＲめ測定結果 應　　　　吸収周波数（Ｈｚ　） １　　　　　２７０１．１７１ ２　　　　　２４９０．２３４ “　３　　　　　　１９７２．６５６ ４　　　　　１９２３．８２８ ５　　　　　１１８９．４５３ ６　’　　　　　１１５８．２０３ ７　　　　　１１２６．９５３ ８゛９１６，０１５ ９　　　　　　６０７．４２１ １０　　　　　　６０１．５６２ １１　　　　　　５９１．７９６ １２　　　　　　　　　　５６２．５００１３　　　　
　　　　　　５２５．３９０１４　　　　　　　　　　
５０３．９０６１５　　　　　　　　　　４８２．４２
１１６　　　　　　　　　　４６０、９３７１７　　　
　　　　　　　４４７．２６５１８　　　　　　　　　
　４３７、５００１９　　　　　　　　　　４１９．９
２１２０　　　　　　　　　　３８８、６７１２１　　
　　　　　　　　３３３．９８４２２　　　　　　　　
　　３２２、２６５２３　　　　　　　　　　　　０、
０００実施例３゜ 無水フタル酸１４８部、３−アミノ−１−ブタノール８
９部、トルエン４００部を仕込み、実施例１と同様にし
て生成水が１８部になった時点で冷却した。次いで、ア
クリル酸８６部、Ｐ−トルエンスルホン酸５部、ハイド
ロキノン１部を仕込み、実施例１と同様にして、生成水
が１８部になった時点で冷却した。反応混合物をトルエ
ン１０００部に溶解し、２０％苛性ソーダ水溶液で中和
した後、２０チ食塩水５００部で３回洗浄する。溶剤を
減圧留去して、淡黄色の液体２３４部を得た。このもの
は、下記の性質を有する。

粘度（２５°Ｃ，ＣＰＳ）　　　５４５部ＭＲの測定結
果 應　　　　　吸収周波数（Ｈｚ　） １　　　　　　２５３１．２５０ ２　　　　　　２４８８．２８１ ３　　　　　　２０３７、１０９ ４　　　　　　２０１３．６７１ ５　　　　　　１９９２．１８７ ５　　　　　　１９８０．４６８ ７　　　　　　１９７０．７０３ ８　　　　　　．１９２３．８２８ ９　　　　　　１８７５．０００ １０　　　　　　１８５３．５１５ １１　　　　　　１１９１．４０６ １２　　　　　　１１５８．２０３ １３　　　　　　　　　　１１２６．９５３１４　　　
　　　　　　　　９５７、０３１１５　　　　　　　　
　　　　７８７、１０９１６　　　　　　　　　　　３
３０．０７８１７　　　　　　　　　　　１６０．１５
６１８　　　　　　　　　　　　　　０．０００実施例
４゜ ヘキサヒドロ無水フタル酸１５４部、２−アミノ−１−
エタノール８７部、トルエン３００部を仕込み、実施例
１と同様にして生成水が１８部になった時点で冷却した
。次いでメタノ！Ｊ　”　酸１０３部、Ｐ　−）ルエン
スルホン酸５部、ハイドロキノン１部を仕込み、実施例
１と同様にして、生成水が１８部になった時点で冷却し
た。反応混合物をトルエン１０００部に溶解し、２０％
苛性ソーダ水溶液で中和した後、２０チ食塩水５００部
で３回洗浄する。溶剤を減圧留去して、淡黄色の液体２
４２部を得た。

このものは、下記の性質を有する。

粘度（２５℃、ＣＰＳ）　　　５１Ｏ ＮＭＲ，の測定結果 應　　　　　吸収周波数（Ｈｚ） １　　　　　　　　　　　２６９７、２６５２　　　　
　　　２４９０．２３４ ３　　　　　　　２０４６．８００ ４　　　　　　　１９７２．６５６ ５　　　　　　　１９２３．８２８ ６　　　　　　　１１９１．４０６ ７　　　　　　　１１５８．２０３ ８　　　　　　　１１２６．９５３ ９　　　　　　　９１６．０１５ １０　　　　　　　　　　　　５９７、６５６１１　　
　　　　　　５６２．５００ １２　　　　　　　　３５５．４６８ １３　　　　　　　　３２４．２１８ １４　　　　　　　　３００．７８１ １５　　　　　　　　２７７．３６８ １６　　　　　　　　　　ｏ、ｏｏ。

〔エポキシアクリレートの合成例〕

合成例１゜ エポキシ当量１８７のフェノールノボラック型エポキシ
樹脂「ＥＰＰＮ−２０１、軟化点６５℃」（日本化薬■
裂、エポキシ樹脂）１８７０部、アクリル酸４３２部、
ハイドロキノン１．１５部、トリフェニルスチビン１６
．５部及びカルピトールアクリレート５７９．９部を加
え９０℃まで昇温させ、１３時間反応を続けることによ
り酸価１、エポキシ当量５７９のカルピトールアクリレ
ート２０％含有のエポキシアクリレートを得た。

〔エポキシアクリレートと多塩基性カルボン酸無水物の反応生成物の合成例〕

合成例２゜ エポキシ当量１８０のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
［エビコー）８２８Ｊ（シェル化学■裂、エポキシ樹脂
）１８００部、アクリル酸７２０部、カルピトールアク
リレ−）　１４１６部、メチルハイドロキノン１．２６
部、及びトリフェニルスチビン２５．９部を加工、９５
℃まで昇温させ２００時間反応せた後、更に、無水テト
ラヒドロフタル酸７６０．６部を加えて、２００時間反
応せた。

実施例５〜８ 実施例１〜４で得られたイミド（メタ）アクリレート、
合成例１．２で得られた化合物、エポキシ樹脂、スチレ
ンと無水マレイン酸の共重合物、不飽和基含有単量体、
光重合開始剤、タルク、シアニングリーン等をそれぞれ
第１表に示す配合比率に従って、ソルダーレジスト樹脂
組成物を配合し、銅スルホールプリント配線板にスクリ
ーン印刷法にて２０〜５０μｍの膜厚で塗布した後、５
部ｗ超高圧水銀灯を使用し、紫外線をネガフィルムを通
して照射して、次いで２　＠　Ｎａ２ＣＯ１水溶液など
のアルカリ水溶液で塗膜の未照射部を溶解除去した。そ
の後、熱風乾燥器で１５０℃、３０分間加熱硬化を行な
う。得られたそれぞれの供試体について、各種の性能試
験を行なった。それらの結果は、第１表に示す。なお同
表中、に示される各種の性能試験は、次の様に行った。

−（溶解性） ５　ｋｗ超高圧水銀灯を使用し、紫外線を照射し、つい
で３０℃の２１　Ｎａ２Ｃｏ３水溶液で未照射部分を溶
解、除去し、溶解性について判定した。

０・・・・・・・・・溶解速度が速い。

×・・・・・・・・・溶解しないか、又は、極めて遅い
。

（耐ハンダ性） ２６０℃の溶融ハンダに１分間浸漬した後の塗膜の状態
について判定した。

０・・・・・・・・・塗膜の外観、異状なし。

×・・・・・・・・・ふくれ、溶融、剥離。

（密着性） 供試体の塗膜に１×１龍の大きさのゴバン目を１００個
刻み、セロハンテープで剥離した後の密着性を評価した
。

（絶縁抵抗） ８０℃、９５４ＲＨの雰囲気中に２４０時間放置し、そ
の塗膜の絶縁抵抗を測定した。

（発明の効果） 本発明の新規なイミド（メタ）アクリレートを含む紫外
線硬化型樹脂組成物は、アルカリ水溶液で現像が可能で
、耐熱性、密着性、耐溶剤性及び電気絶縁性に優れたソ
ルダーレジストに適する。

特許出願人　　日本化薬株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式で表わされるイミド（メタ）アクリレー
   ト。 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＿１は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります
   ▼ を示し、Ｒ＿２は▲数式、化学式、表等があります▼を
   示し、Ｒ＿３はＨ又はＣＨ＿３を示し、ｎは２〜６の整
   数である。） ２、第１項記載のイミド（メタ）アクリレートを含むこ
   とを特徴とする紫外線硬化型樹脂組成物。 ３、第１項記載のイミド（メタ）アクリレートを含むこ
   とを特徴とする紫外線硬化型ソルダーレジスト樹脂組成
   物。