JPH01234157A - 積層セラミック体の製造方法 - Google Patents
積層セラミック体の製造方法Info
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- JPH01234157A JPH01234157A JP6237388A JP6237388A JPH01234157A JP H01234157 A JPH01234157 A JP H01234157A JP 6237388 A JP6237388 A JP 6237388A JP 6237388 A JP6237388 A JP 6237388A JP H01234157 A JPH01234157 A JP H01234157A
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
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Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は積層セラミックコンデンサやセラミック多層基
板等の積層セラミック体の製造方法に関するものである
。
板等の積層セラミック体の製造方法に関するものである
。
従来の技術
近年、電極層とセラミック層とを層状に積層−体化した
積層セラミック体が積層セラミックコンデンサやセラミ
ック多層基板等の電子部品として急速に需要が増大して
いる。
積層セラミック体が積層セラミックコンデンサやセラミ
ック多層基板等の電子部品として急速に需要が増大して
いる。
ところで、積層セラミック体においては第1図の断面図
に示す如く内部電極2は積層セラミック体の側面に引き
出され端子電極1に接続され、さらにこの端子電極1の
上下面は引き出し面の一辺の稜を越えて電気的に接続さ
れた構造をとっている。この電気的接続の信頼性を高め
るため角部及び稜部に丸みを付与するとともに端面を若
干剤シとる必要がある。
に示す如く内部電極2は積層セラミック体の側面に引き
出され端子電極1に接続され、さらにこの端子電極1の
上下面は引き出し面の一辺の稜を越えて電気的に接続さ
れた構造をとっている。この電気的接続の信頼性を高め
るため角部及び稜部に丸みを付与するとともに端面を若
干剤シとる必要がある。
これに対し従来、内面に研磨紙を貼り付けた円筒状の回
転容器の中に積層セラミック体を投入し湿式または乾式
にてバレル研磨する方法や特公昭62−37525号公
報に記載されているように積層セラミック体と1W以下
の粒径をもつ研磨剤を投入し湿式にてバレル研磨する方
法がとられてきた。
転容器の中に積層セラミック体を投入し湿式または乾式
にてバレル研磨する方法や特公昭62−37525号公
報に記載されているように積層セラミック体と1W以下
の粒径をもつ研磨剤を投入し湿式にてバレル研磨する方
法がとられてきた。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、こうした従来の方法では研磨効率が低か
ったり、角部のみが研磨され稜部や端面の研磨が不十分
であったシ、積層セラミック体にチッピングやカケが発
生したり、面積の広い面の中央部の研磨量がその周辺部
に比べ大きいためこの面の平面性が低下する等の問題が
あった。
ったり、角部のみが研磨され稜部や端面の研磨が不十分
であったシ、積層セラミック体にチッピングやカケが発
生したり、面積の広い面の中央部の研磨量がその周辺部
に比べ大きいためこの面の平面性が低下する等の問題が
あった。
本発明はこのような問題点を解決するもので、チッピン
グやカケ等の構造欠陥の発生がなく平滑性に優れ、効率
的に角部や稜部への丸みの付与及び端面の研磨が行われ
るような量産性に優れた積層セラミック体の製造方法を
提供することを目的とするものである。
グやカケ等の構造欠陥の発生がなく平滑性に優れ、効率
的に角部や稜部への丸みの付与及び端面の研磨が行われ
るような量産性に優れた積層セラミック体の製造方法を
提供することを目的とするものである。
課題を解決するだめの手段
上記の課題を解決するために、本発明の積層セラミック
体の製造方法は、積層セラミック体の最小辺の長さの2
.0〜20倍の直径または最小辺の長さを有する研磨メ
ディア及び0.5111以下の粒径を有する無機粉体を
研磨剤として用いるとともに、研磨剤を分散含有する樹
脂でできた研磨メディアまだは樹脂製の研磨メディアの
表面を研磨剤でコーティングした研磨メディアを用いる
ようにしたものである。
体の製造方法は、積層セラミック体の最小辺の長さの2
.0〜20倍の直径または最小辺の長さを有する研磨メ
ディア及び0.5111以下の粒径を有する無機粉体を
研磨剤として用いるとともに、研磨剤を分散含有する樹
脂でできた研磨メディアまだは樹脂製の研磨メディアの
表面を研磨剤でコーティングした研磨メディアを用いる
ようにしたものである。
作用
この方法により、比較的大きな研磨メディアが素子どう
しの衝突を抑え、これによる素子のチッピングやカケ等
の発生が防止できるとともに、素子のクツツキを防止し
研磨量のばらつきを低減することとなる。なお、この目
的に用いる研磨メディアの大きさは積層セラミック体の
最小辺の長さの2.0〜20倍の直径または最小辺の長
さを有するものが好ましい。即ち、2倍以下の大きさの
ものでは素子同志の衝突を十分抑えることができず素子
のチッピングやカケの発生が生じ好ましくない。一方、
20倍を越える大きな研磨メディアではメディアどうし
の衝突が多く生じることとなシ研磨効率が低下したシ、
研磨メディアの磨耗が多くなったシ、研磨メディアと素
子の衝突によシ素子にカケが生じたシして好ましくない
。
しの衝突を抑え、これによる素子のチッピングやカケ等
の発生が防止できるとともに、素子のクツツキを防止し
研磨量のばらつきを低減することとなる。なお、この目
的に用いる研磨メディアの大きさは積層セラミック体の
最小辺の長さの2.0〜20倍の直径または最小辺の長
さを有するものが好ましい。即ち、2倍以下の大きさの
ものでは素子同志の衝突を十分抑えることができず素子
のチッピングやカケの発生が生じ好ましくない。一方、
20倍を越える大きな研磨メディアではメディアどうし
の衝突が多く生じることとなシ研磨効率が低下したシ、
研磨メディアの磨耗が多くなったシ、研磨メディアと素
子の衝突によシ素子にカケが生じたシして好ましくない
。
また、0.51111以下の粒径を有する無機粉体を研
磨剤として添加することにより、特に、端面及び稜部の
研磨効率が向上するとともに、良好な平滑性や平面性が
得られる。このことは、比較的大きな研磨メディアでは
面積の広い面や角部の研磨は行われるが面積の狭い端面
や稜部は研磨されにくいが、小さな粒径を有する研磨剤
を用いた際には研磨剤の粒子が端面や稜部に達し衝突や
摺動することKよシ研磨が進むことによると思われる。
磨剤として添加することにより、特に、端面及び稜部の
研磨効率が向上するとともに、良好な平滑性や平面性が
得られる。このことは、比較的大きな研磨メディアでは
面積の広い面や角部の研磨は行われるが面積の狭い端面
や稜部は研磨されにくいが、小さな粒径を有する研磨剤
を用いた際には研磨剤の粒子が端面や稜部に達し衝突や
摺動することKよシ研磨が進むことによると思われる。
ここで、0.5ff以上の粒径を有する無機粉体を研磨
剤として用いた場合には、素子表面が粗され平滑性が低
下する。更に、研磨剤を分散含有する樹脂でできた研磨
メディアまだは樹脂製の研磨メディアの表面を研磨剤で
コーティングした研磨メディアを用いることによシ、研
磨メディアと積層セラミック体との衝突による衝撃を緩
和することができ、チッピングやカケの発生を防止する
ことができる。また、研磨メディアの中もしくは表面に
研磨剤を有しているため十分な研磨効果が得られること
となる。
剤として用いた場合には、素子表面が粗され平滑性が低
下する。更に、研磨剤を分散含有する樹脂でできた研磨
メディアまだは樹脂製の研磨メディアの表面を研磨剤で
コーティングした研磨メディアを用いることによシ、研
磨メディアと積層セラミック体との衝突による衝撃を緩
和することができ、チッピングやカケの発生を防止する
ことができる。また、研磨メディアの中もしくは表面に
研磨剤を有しているため十分な研磨効果が得られること
となる。
実施例
以下に本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する″。
説明する″。
積層セラミック体として1ffX7alX111111
の形状の積層セラミックコンデンサの焼結体(素子1)
及び焼成前の成形体(素子2)、5 ff X 7 f
f ×5Uの形状の焼結体(素子3)、5ffX7fl
X0.5Uの形状の焼結体(素子4)を用いた。また、
研磨剤として平均粒径1M11及び0.3jfljlの
SiCの粉末、研磨メディアとして直径1s+g、10
Jflff及び301HのAe20S 質の球及び6
ナイロン中に粒径o、1mmのAd20. 粉末を1
0wt%分散含有させた直径10m1の樹脂製の球をそ
れぞれ用い次の条件にて乾式または純水中にてバレル研
磨を行った。
の形状の積層セラミックコンデンサの焼結体(素子1)
及び焼成前の成形体(素子2)、5 ff X 7 f
f ×5Uの形状の焼結体(素子3)、5ffX7fl
X0.5Uの形状の焼結体(素子4)を用いた。また、
研磨剤として平均粒径1M11及び0.3jfljlの
SiCの粉末、研磨メディアとして直径1s+g、10
Jflff及び301HのAe20S 質の球及び6
ナイロン中に粒径o、1mmのAd20. 粉末を1
0wt%分散含有させた直径10m1の樹脂製の球をそ
れぞれ用い次の条件にて乾式または純水中にてバレル研
磨を行った。
即ち、研磨メディア量として20マ01%、研磨剤量と
して3マロ1%、積層セラミックコンデンサ量として1
ovo1%の条件にて3〜10時間行った。(但し、純
水量については研磨メディア、研磨剤、積層セラミック
コンデンサ及び純水の総量が容器のg □ vo1%に
成るように調整した。)その結果について以下にのべる
。研磨後の積層セラミックコンデンサについては、チッ
ピングやカケ等の構造欠陥の有無、研磨量、平面性及び
平滑性、さらにバレル研磨工程中に発生した問題点の各
項目にわたって評価した。
して3マロ1%、積層セラミックコンデンサ量として1
ovo1%の条件にて3〜10時間行った。(但し、純
水量については研磨メディア、研磨剤、積層セラミック
コンデンサ及び純水の総量が容器のg □ vo1%に
成るように調整した。)その結果について以下にのべる
。研磨後の積層セラミックコンデンサについては、チッ
ピングやカケ等の構造欠陥の有無、研磨量、平面性及び
平滑性、さらにバレル研磨工程中に発生した問題点の各
項目にわたって評価した。
ここで研磨量については、稜部、角部及び端面でそれぞ
れ確認した。稜部については最小辺の長さの見〜殉の曲
率半径が得られているものを良品とした。角部について
は稜部の研磨量の6倍以下を良品とした。平面性につい
ては積層セラミックコンデンサの最大面積を有する面の
周辺部及び中心部の厚み差を算出しこれが60μm以下
のものを良品とした。また平滑性については表面粗さの
最大値が10μm以下のものを良品とした。なお、これ
らの基準値については積層セラミックコンデンサ等の各
種積層セラミック体の実状を考慮して設定した。
れ確認した。稜部については最小辺の長さの見〜殉の曲
率半径が得られているものを良品とした。角部について
は稜部の研磨量の6倍以下を良品とした。平面性につい
ては積層セラミックコンデンサの最大面積を有する面の
周辺部及び中心部の厚み差を算出しこれが60μm以下
のものを良品とした。また平滑性については表面粗さの
最大値が10μm以下のものを良品とした。なお、これ
らの基準値については積層セラミックコンデンサ等の各
種積層セラミック体の実状を考慮して設定した。
素子3のような比較的厚さのある角柱状のものについて
は研磨剤をとくに加えなくても十分研磨できた。また、
研磨メディアについては材質効果は少ないが、最小辺の
長さの2.0倍以下の直径である1ffの研磨メディア
を用いた場合には素子にチッピングやカケが発生した。
は研磨剤をとくに加えなくても十分研磨できた。また、
研磨メディアについては材質効果は少ないが、最小辺の
長さの2.0倍以下の直径である1ffの研磨メディア
を用いた場合には素子にチッピングやカケが発生した。
また、素子1のような角板状のものについては研磨剤を
加えない場合には十分研磨できなかった。
加えない場合には十分研磨できなかった。
この研磨剤については0.6ff以上の粒径のものを用
いた場合には、素子表面が粗され平滑性が低下した。研
磨メディアについては素子3と同様に材質効果は少なか
ったが、研磨メディアの大きさについては積層セラミッ
ク体の最小辺の長さの2.0〜20倍の直径に相当する
直径100のものが良好であった。即ち、2倍以下の大
きさのものでは素子どうしの衝突を十分抑えることがで
きず素子のチッピングやカケの発生が生じ好ましくなか
った。また、20倍を越える大きな研磨メディアではメ
ディアどうしの衝突が多く生じ研磨効率が低下したり、
研磨メディアの磨耗が多くなったり、研磨メディアと素
子の衝突によシ素子にカケが生じたりして好ましくなか
った。
いた場合には、素子表面が粗され平滑性が低下した。研
磨メディアについては素子3と同様に材質効果は少なか
ったが、研磨メディアの大きさについては積層セラミッ
ク体の最小辺の長さの2.0〜20倍の直径に相当する
直径100のものが良好であった。即ち、2倍以下の大
きさのものでは素子どうしの衝突を十分抑えることがで
きず素子のチッピングやカケの発生が生じ好ましくなか
った。また、20倍を越える大きな研磨メディアではメ
ディアどうしの衝突が多く生じ研磨効率が低下したり、
研磨メディアの磨耗が多くなったり、研磨メディアと素
子の衝突によシ素子にカケが生じたりして好ましくなか
った。
素子2のような強度が小さく柔らかい焼成前の成形体で
はム(120s 質のような重い研磨メディアに用い
た場合には素子が反り好ましくなかった。
はム(120s 質のような重い研磨メディアに用い
た場合には素子が反り好ましくなかった。
一方、樹脂製の研磨メディアを用いた場合には反シが見
られず良好であった。また、研磨剤については加えない
場合には十分研磨できなかった。
られず良好であった。また、研磨剤については加えない
場合には十分研磨できなかった。
最後に、素子1のような薄板状のものについては焼結体
であっても強度が低く樹脂製の研磨メディアを用いない
場合には研磨メディアと素子の衝突によシ素子にカケや
ワレが生じた。
であっても強度が低く樹脂製の研磨メディアを用いない
場合には研磨メディアと素子の衝突によシ素子にカケや
ワレが生じた。
以上のように本実施例によれば、積層セラミック体の最
小辺の長さの2.0〜20倍の直径または最小辺の長さ
を有する研磨メディア及び0.6ff以下の粒径を有す
る無機粉体を研磨剤として用いる−とともに、研磨剤を
分散含有する樹脂でできた研磨メディアまたは樹脂製の
研磨メディアの表面を研磨剤でコーティングした研磨メ
ディアを用いることにより、構造欠陥の発生を伴うこと
なく、効率的に角部や稜部への丸みの付与及び端面の研
磨を行うことができる。
小辺の長さの2.0〜20倍の直径または最小辺の長さ
を有する研磨メディア及び0.6ff以下の粒径を有す
る無機粉体を研磨剤として用いる−とともに、研磨剤を
分散含有する樹脂でできた研磨メディアまたは樹脂製の
研磨メディアの表面を研磨剤でコーティングした研磨メ
ディアを用いることにより、構造欠陥の発生を伴うこと
なく、効率的に角部や稜部への丸みの付与及び端面の研
磨を行うことができる。
なお、本実施例では積層セラミック体として積層セラミ
ックコンデンサに限って説明したが、セラミック多層基
板やセラミック積層アクチュエータ等の他の積層セラミ
ック体において本発明の製造方法を適用することによシ
同様の効果が得られることは言うまでもない。更に、研
磨メディアの形状についても球以外の形状のものでも同
様の効果が得られるとともに、その材質についてもSi
C。
ックコンデンサに限って説明したが、セラミック多層基
板やセラミック積層アクチュエータ等の他の積層セラミ
ック体において本発明の製造方法を適用することによシ
同様の効果が得られることは言うまでもない。更に、研
磨メディアの形状についても球以外の形状のものでも同
様の効果が得られるとともに、その材質についてもSi
C。
ムe203 以外の一般に研磨剤として用いられるZ
r02等及び積層セラミック体を構成するセラミック材
料を用いてもよい。また、樹脂に本実施例で用いた6ナ
イロン以外のポリエチレン等のその他の樹脂を用いても
よい。同様に研磨剤の材質についても、SiC、ムe2
03以外の一般に研磨剤として用いられるZrO2等及
び積層セラミック体を構成するセラミック材料を用いて
もよい。
r02等及び積層セラミック体を構成するセラミック材
料を用いてもよい。また、樹脂に本実施例で用いた6ナ
イロン以外のポリエチレン等のその他の樹脂を用いても
よい。同様に研磨剤の材質についても、SiC、ムe2
03以外の一般に研磨剤として用いられるZrO2等及
び積層セラミック体を構成するセラミック材料を用いて
もよい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、積層セラミック体の最小
辺の長さの2.0〜20倍の直径または最小辺の長さを
有する研磨メディア及び0.5ff以下の粒径を有する
無機粉体を研磨剤として用いるとともに、研磨剤を分散
含有する樹脂でできた研磨メディアまたは樹脂製の研磨
メディアの表面を研磨剤でコーティングした研磨メディ
アを用いることによシ、構造欠陥の発生を伴うことなく
、効率的に角部や稜部への丸みの付与及び端面の研磨を
行うことができるという効果が得られる。
辺の長さの2.0〜20倍の直径または最小辺の長さを
有する研磨メディア及び0.5ff以下の粒径を有する
無機粉体を研磨剤として用いるとともに、研磨剤を分散
含有する樹脂でできた研磨メディアまたは樹脂製の研磨
メディアの表面を研磨剤でコーティングした研磨メディ
アを用いることによシ、構造欠陥の発生を伴うことなく
、効率的に角部や稜部への丸みの付与及び端面の研磨を
行うことができるという効果が得られる。
第1図は積層セラミック体の断面図である。
1・・・・・・端子電極、2・・・・・・内部電極、3
・・・・・・セラミック。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 2Pq留鶴
・・・・・・セラミック。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 2Pq留鶴
Claims (3)
- (1)角柱状または角板状の積層セラミック体の角部及
び稜部への丸みの付与及び端面の研磨に際し、積層セラ
ミック体の最小辺の長さの2.0〜20倍の直径または
最小辺の長さを有する球、円柱、円錐、角錐、角柱等の
形状を有する研磨メディアを用いバレル研磨することを
特徴とする積層セラミック体の製造方法。 - (2)角柱状または角板状の積層セラミック体の角部及
び稜部への丸みの付与及び端面の研磨に際し、積層セラ
ミック体の最小辺の長さの2.0〜20倍の直径または
最小辺の長さを有する球。 円柱、円錐、角錐、角柱等の形状を有する研磨メディア
及び0.5mm以下の粒径を有する無機粉体を研磨剤と
して用いバレル研磨することを特徴とする積層セラミッ
ク体の製造方法。 - (3)研磨剤を分散含有する樹脂でできた研磨メディア
または樹脂製の研磨メディアの表面を研磨剤でコーティ
ングした研磨メディアを用いバレル研磨することを特徴
とする請求項1又は2項記載の積層セラミック体の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63062373A JP2623657B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 積層セラミック体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63062373A JP2623657B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 積層セラミック体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01234157A true JPH01234157A (ja) | 1989-09-19 |
JP2623657B2 JP2623657B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=13198251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63062373A Expired - Fee Related JP2623657B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 積層セラミック体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2623657B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5455555A (en) * | 1992-11-24 | 1995-10-03 | Tdk Corporation | Chip varistor |
JP2013521144A (ja) * | 2010-03-03 | 2013-06-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 結合した研磨ホイール |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6099555A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-06-03 | Toshiba Corp | バレル仕上げ方法 |
JPS6099554A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-06-03 | Toshiba Corp | バレル仕上げ方法 |
JPS60143620A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | 松下電器産業株式会社 | 積層セラミツク電子部品の製造法 |
JPS6237525A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-18 | Fuji Tool & Die Co Ltd | 液圧クラツチ装置のピストン機構 |
-
1988
- 1988-03-16 JP JP63062373A patent/JP2623657B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6099555A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-06-03 | Toshiba Corp | バレル仕上げ方法 |
JPS6099554A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-06-03 | Toshiba Corp | バレル仕上げ方法 |
JPS60143620A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | 松下電器産業株式会社 | 積層セラミツク電子部品の製造法 |
JPS6237525A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-18 | Fuji Tool & Die Co Ltd | 液圧クラツチ装置のピストン機構 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5455555A (en) * | 1992-11-24 | 1995-10-03 | Tdk Corporation | Chip varistor |
JP2013521144A (ja) * | 2010-03-03 | 2013-06-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 結合した研磨ホイール |
US9180573B2 (en) | 2010-03-03 | 2015-11-10 | 3M Innovative Properties Company | Bonded abrasive wheel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2623657B2 (ja) | 1997-06-25 |
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