JPH01205005A - 高純度銅の製造方法 - Google Patents
高純度銅の製造方法Info
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- JPH01205005A JPH01205005A JP63029931A JP2993188A JPH01205005A JP H01205005 A JPH01205005 A JP H01205005A JP 63029931 A JP63029931 A JP 63029931A JP 2993188 A JP2993188 A JP 2993188A JP H01205005 A JPH01205005 A JP H01205005A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は高純度銅の製造方法に関するものである。
（従来技術とその問題点）
従来、高純度銅の製造方法としては硫酸銅水溶液を電解
し、金属銅を析出させる方法が用いられてきた。ところ
が、この方法ではどうしても取り除けない不純物があっ
たり、デンドライト状析出物の間に液が残存してあまり
純度が上がらないとという欠点を有していた。
し、金属銅を析出させる方法が用いられてきた。ところ
が、この方法ではどうしても取り除けない不純物があっ
たり、デンドライト状析出物の間に液が残存してあまり
純度が上がらないとという欠点を有していた。
（発明の目的）
本発明は、上記の欠点を解消せんがためになされたもの
であり、高純度銅の製造方法を提供せんとするものであ
る。
であり、高純度銅の製造方法を提供せんとするものであ
る。
（問題点を解決するための手段）
本発明は１５０’Ｃ以上の高温において金属銅とｐＨ−
１以下の硫酸銅水溶液を不活性ガス雰囲気中で接触反応
させて得られた硫酸第１銅水溶液を１００℃以下に冷却
することによって高純度の銅粒子を得ることを特徴とし
、また上記の方法において硫酸第１銅の生成を促進、増
加させるために不活性ガスに加えて還元性ガスを併用す
ることを特徴とするものである。
１以下の硫酸銅水溶液を不活性ガス雰囲気中で接触反応
させて得られた硫酸第１銅水溶液を１００℃以下に冷却
することによって高純度の銅粒子を得ることを特徴とし
、また上記の方法において硫酸第１銅の生成を促進、増
加させるために不活性ガスに加えて還元性ガスを併用す
ることを特徴とするものである。
（作用）
而して、本発明の製造方法において１５０℃以上の高温
において金属銅とｐＨ＝１以下の硫酸銅水溶液を接触反
応させる理由は、 Ｃｕ” ＋ Ｃｕ’ −＋ ２Ｃｕ”の反応を
起こし硫酸第１銅水溶液を作るためであり、この反応は
１５０℃以上で２、激に速く進み、平衡時のＣｕ”の濃
度も高くなってくるためである。
において金属銅とｐＨ＝１以下の硫酸銅水溶液を接触反
応させる理由は、 Ｃｕ” ＋ Ｃｕ’ −＋ ２Ｃｕ”の反応を
起こし硫酸第１銅水溶液を作るためであり、この反応は
１５０℃以上で２、激に速く進み、平衡時のＣｕ”の濃
度も高くなってくるためである。
また上記の反応で得られた硫酸第１銅水溶液を１００℃
以下に冷却する理由は、 ２Ｃｕ”−＋ Ｃｕ’ （粒子）＋ Ｃｕ”の反
応を起こし硫酸第１銅水溶液を冷却することによってＣ
ｕ”を不安定にし銅粒子を析出させるためである。
以下に冷却する理由は、 ２Ｃｕ”−＋ Ｃｕ’ （粒子）＋ Ｃｕ”の反
応を起こし硫酸第１銅水溶液を冷却することによってＣ
ｕ”を不安定にし銅粒子を析出させるためである。
この不均化反応を利用すると高純度化出来る理由は、他
の不純物にはこの反応が起きず、金属として析出して来
ないためである。
の不純物にはこの反応が起きず、金属として析出して来
ないためである。
また不活性ガスに加えて還元性ガスを併用する理由は、
Ｃｕ” ÷ ＋ Ｎ２ → Ｃｕ
”の反応を起こし、硫酸第１銅の生成を促進、増加させ
るためである。
”の反応を起こし、硫酸第１銅の生成を促進、増加させ
るためである。
本発明において用いる不活性ガスとしては窒素、アルゴ
ン、ヘリウムなどであり、還元性ガスとしては水素、−
酸化炭素、二酸化イオウなどである。
ン、ヘリウムなどであり、還元性ガスとしては水素、−
酸化炭素、二酸化イオウなどである。
また反応速度を高める硫酸銅水溶液のｐ Ｈを調整する
ために加える酸は、塩酸、硫酸、りん酸などでもよいが
、好ましく硫酸であり、それは反応が安定していること
と反応容器の材質を選択しやすいためでもある。
ために加える酸は、塩酸、硫酸、りん酸などでもよいが
、好ましく硫酸であり、それは反応が安定していること
と反応容器の材質を選択しやすいためでもある。
以下本発明に係わる高純度銅の製造方法の実施例を記載
するが、該実施例は本発明を限定するものではない。
するが、該実施例は本発明を限定するものではない。
（実施例１）
塔状オートクレーブ（内径３６ｍｍＸ高さ１００１００
Ｏ内に銅細線３０ｇと１００ｇ／ｊ２の遊離硫酸を含有
する硫酸銅水溶液（Ｃｕ ：４８ｇ／ｆ） ５００ｍ
ｆｆ１を装入し、Ｎ２ガス雰囲気に置換してから２００
℃に昇温し、３０分間保持した。
Ｏ内に銅細線３０ｇと１００ｇ／ｊ２の遊離硫酸を含有
する硫酸銅水溶液（Ｃｕ ：４８ｇ／ｆ） ５００ｍ
ｆｆ１を装入し、Ｎ２ガス雰囲気に置換してから２００
℃に昇温し、３０分間保持した。
その後、オートクレーブの下に配置した槽内に移送し冷
却した。
却した。
溶液の温度が２０℃以下になったところで、銅粒子を濾
過、洗浄したところ約５ｇが回収された。
過、洗浄したところ約５ｇが回収された。
得られた銅粒子を化学分析したところ不純物含有量の合
計が２０ｐｐｍで銅の純度９９．９９８％と高純度なも
のであった。
計が２０ｐｐｍで銅の純度９９．９９８％と高純度なも
のであった。
（実施例２）
実施例１と同様の条件で、加熱保持温度を１６０℃にし
たところ約３ｇの銅粒子が回収された。得られた銅粒子
を化学分析したところ不純物含有量の合計が１６ｐｐｍ
で銅の純度９９．９９８４％と高純度なものであった。
たところ約３ｇの銅粒子が回収された。得られた銅粒子
を化学分析したところ不純物含有量の合計が１６ｐｐｍ
で銅の純度９９．９９８４％と高純度なものであった。
（従来例）
電解槽内に硫酸銅水溶液（Ｃｕ ：４８ｇ／ｆ） ２１
を入れ直流電源よりＤＣＩＯＶ、２０Ａを１時間流した
ところ陰極上にデンドライト状の銅が析出して来た。
を入れ直流電源よりＤＣＩＯＶ、２０Ａを１時間流した
ところ陰極上にデンドライト状の銅が析出して来た。
この銅を回収し、洗浄したところ約２０ｇが得られた。
得られた銅を化学分析したところ不純物の含有量の合計
が１１０ｐｐｍＴ：銅の純度の９９．９８９％とそれほ
ど高純度なものではなかった。
が１１０ｐｐｍＴ：銅の純度の９９．９８９％とそれほ
ど高純度なものではなかった。
（発明の効果）
上記の説明で明らかなように本発明の製造方法は１５０
’Ｃ以上の高温において金属銅とｐＨ＝１以下の硫酸銅
水溶液を不活性ガス雰囲気中で接触反応させて、得られ
た硫酸第１銅水溶液を１００℃以下に冷却することによ
って、また不活性ガスに加えて還元性ガスを併用するこ
とにより、従来法では得られなかった高純度の銅を得る
ことが出来るので、従来の製造方法にとって代わること
のできる画期的なものと言える。
’Ｃ以上の高温において金属銅とｐＨ＝１以下の硫酸銅
水溶液を不活性ガス雰囲気中で接触反応させて、得られ
た硫酸第１銅水溶液を１００℃以下に冷却することによ
って、また不活性ガスに加えて還元性ガスを併用するこ
とにより、従来法では得られなかった高純度の銅を得る
ことが出来るので、従来の製造方法にとって代わること
のできる画期的なものと言える。
出願人 田中貴金属工業株式会社
永井忠雄
Claims (2)
- （１）１５０℃以上の高温において金属銅とｐＨ＝１以
下の硫酸銅水溶液を不活性ガス雰囲気中で接触反応させ
て得られた硫酸第１銅水溶液を１００℃以下に冷却する
ことを特徴とする高純度銅の製造方法。 - （２）硫酸第１銅の生成を促進、増加させるために不活
性ガスに加えて還元性ガスを併用することを特徴とする
特許請求の範囲第１項に記載の高純度銅の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63029931A JPH01205005A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 高純度銅の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63029931A JPH01205005A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 高純度銅の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01205005A true JPH01205005A (ja) | 1989-08-17 |
Family
ID=12289733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63029931A Pending JPH01205005A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 高純度銅の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01205005A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104741622A (zh) * | 2015-04-15 | 2015-07-01 | 大冶有色金属有限责任公司 | 一种高纯铜粉的制备方法 |
-
1988
- 1988-02-10 JP JP63029931A patent/JPH01205005A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104741622A (zh) * | 2015-04-15 | 2015-07-01 | 大冶有色金属有限责任公司 | 一种高纯铜粉的制备方法 |
| CN104741622B (zh) * | 2015-04-15 | 2016-06-01 | 大冶有色金属有限责任公司 | 一种高纯铜粉的制备方法 |
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