JPH01203378A - 2―オキソ―1―[[(置換スルホニル)アミノ]カルボニル]アゼチジン類 - Google Patents
2―オキソ―1―[[(置換スルホニル)アミノ]カルボニル]アゼチジン類Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing three or more hetero rings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
Landscapes
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は2−オキソ−1−([(置換スルホニル)アミ
ン〕カルボニル]アゼチジン類、更に詳°シ(は、後述
の如く、3−アシルアミノ置換基および1位に、式: である)の活性基を有し、抗菌活性を示す新規な2−ア
ゼチジノン化合物(β−ラクタム化合物)に関する。
ン〕カルボニル]アゼチジン類、更に詳°シ(は、後述
の如く、3−アシルアミノ置換基および1位に、式: である)の活性基を有し、抗菌活性を示す新規な2−ア
ゼチジノン化合物(β−ラクタム化合物)に関する。
本発明に係る新規化合物は、下記式〔I〕で示され、そ
の医薬的に許容しうる塩をも包含する。
の医薬的に許容しうる塩をも包含する。
上記式(Ilにおいて、および本明細書を通じて各種記
号の定義はLUI’の通りである。
号の定義はLUI’の通りである。
Rは
R1はカルボン酸から誘導されるアシル基、RおよびR
3は同一もしくは異なって、それぞれ水素、アルキル、
アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、フェニル、
置換フェニルまたは4゜5.6もしくは7員複素環基(
91下、Rxと称す)、またはR2とR3の一方が水素
で、他方がアジド、ハロメチル、ジハロメチル、トリハ
ロメチル、アルコキシカルボニル、2−フェニルエチニ
ル、2−フェニルエチニル、カルボキシル、−CH2X
1、もしくは−A−C−NX6X7、 Xlはアジド、アミノ(−NH2)、ヒドロキシ、カル
ボキシル、アルコキシカルボニル、アルカノイルアミノ
、フェニルカルボニルアミノフェニル)カルボニルアミ
ノ、アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオ
キシ、(it換フェニル)スルホニルオキシ、フェニル
、置換7エニル、’/TハA C−NX6X7、−S
− X 2、またはーo−X2、 X2はアルキル、置換アルキル、フェニル、置換フェニ
ル、フェニルアルキル、l換フェニル)アルキル、アル
カノイル、フェニルアルカノイル、(置換フェニル)ア
ルカノイル、フェニルカルボニル、(1換フエニル)カ
ルボニル、laはへテロアリールカルボニル、 X3とX4の一方は水素で、他方は水素またはアルキル
、またはX3とX4はそれらが結合する炭素原子と合し
てシクロアルキル、 x5 はホルミル、アルカノイル、フェニルカルボニル アルキルカルボニル、(M換フエニlし)アルキルカル
ボニル ル ル、アミノカルボニル(NH2−C−)、(置換アミノ
)カルボニル、またはシアノ(−CEN)、X6および
x7は同一もしくは異なって、それぞれ水素、アルキル
、フェニルまたitft換フェニル、またはX6が水素
で,x7がアミハ置換アミノ、アルカノイルアミノまた
はアルコキシ、また11X6とx7はそれらが結合する
窒素原子と合して4。
3は同一もしくは異なって、それぞれ水素、アルキル、
アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、フェニル、
置換フェニルまたは4゜5.6もしくは7員複素環基(
91下、Rxと称す)、またはR2とR3の一方が水素
で、他方がアジド、ハロメチル、ジハロメチル、トリハ
ロメチル、アルコキシカルボニル、2−フェニルエチニ
ル、2−フェニルエチニル、カルボキシル、−CH2X
1、もしくは−A−C−NX6X7、 Xlはアジド、アミノ(−NH2)、ヒドロキシ、カル
ボキシル、アルコキシカルボニル、アルカノイルアミノ
、フェニルカルボニルアミノフェニル)カルボニルアミ
ノ、アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオ
キシ、(it換フェニル)スルホニルオキシ、フェニル
、置換7エニル、’/TハA C−NX6X7、−S
− X 2、またはーo−X2、 X2はアルキル、置換アルキル、フェニル、置換フェニ
ル、フェニルアルキル、l換フェニル)アルキル、アル
カノイル、フェニルアルカノイル、(置換フェニル)ア
ルカノイル、フェニルカルボニル、(1換フエニル)カ
ルボニル、laはへテロアリールカルボニル、 X3とX4の一方は水素で、他方は水素またはアルキル
、またはX3とX4はそれらが結合する炭素原子と合し
てシクロアルキル、 x5 はホルミル、アルカノイル、フェニルカルボニル アルキルカルボニル、(M換フエニlし)アルキルカル
ボニル ル ル、アミノカルボニル(NH2−C−)、(置換アミノ
)カルボニル、またはシアノ(−CEN)、X6および
x7は同一もしくは異なって、それぞれ水素、アルキル
、フェニルまたitft換フェニル、またはX6が水素
で,x7がアミハ置換アミノ、アルカノイルアミノまた
はアルコキシ、また11X6とx7はそれらが結合する
窒素原子と合して4。
5、6もしくは7員複素環基、
Aは一CH=CH−、−(CH2)m−、−(CH2)
m−0−、−(CH2)m−NH−または−CH2−S
−CH2−、mはO、1または2、 R4は (ここで、Xは水素、ハロゲン、カルボキシルスルホ(
−S03H)、 カルバモイル、アミノスルホニル、
シアノ、アルキル、アルカノイルまたttアルコキシカ
ルボニルである)、 Aは単結合、−NH−C−、−NH−、またGま一NH
ーNHーC−、および A は単結合、−NH−、−CH2−CH2−NH−、
または−C−NH−NH−、 A3は単結合、−CH=CH−、−(CH2)t−、2
、3または4、およびpはOまたは1である)、および A4は単結合、−CH2−、−NH−CH2−、または
−N=CH−である。
m−0−、−(CH2)m−NH−または−CH2−S
−CH2−、mはO、1または2、 R4は (ここで、Xは水素、ハロゲン、カルボキシルスルホ(
−S03H)、 カルバモイル、アミノスルホニル、
シアノ、アルキル、アルカノイルまたttアルコキシカ
ルボニルである)、 Aは単結合、−NH−C−、−NH−、またGま一NH
ーNHーC−、および A は単結合、−NH−、−CH2−CH2−NH−、
または−C−NH−NH−、 A3は単結合、−CH=CH−、−(CH2)t−、2
、3または4、およびpはOまたは1である)、および A4は単結合、−CH2−、−NH−CH2−、または
−N=CH−である。
上記記号にあって、たとえばAI,A2,A3およびA
4は多重原子の基を表わすのに使用される。
4は多重原子の基を表わすのに使用される。
これらの基は本明細書で示す構造式において、それらの
原子が存在する状態、すなわち左から右へ挿入されてい
る。たとえば、 の基は、 I ではない 本発明のβ−ラクタム化合物を説明するのに用いる語句
の定義を以下に列挙する。これらの定義は、特別な例と
して他に特別限定されない限り、本明細書を通じて、個
別的にまたはより大なる基の一部として使用される語句
に適用する。
原子が存在する状態、すなわち左から右へ挿入されてい
る。たとえば、 の基は、 I ではない 本発明のβ−ラクタム化合物を説明するのに用いる語句
の定義を以下に列挙する。これらの定義は、特別な例と
して他に特別限定されない限り、本明細書を通じて、個
別的にまたはより大なる基の一部として使用される語句
に適用する。
「アルキル」および「アルコキシ」とは、直鎖および分
枝鎖基の両方を指称する。炭素数1〜IOの基が好まし
い。
枝鎖基の両方を指称する。炭素数1〜IOの基が好まし
い。
「シクロアルキル」および「シクロアルケニル」とは、
炭素数3.4.5.6または7のシクロアルキルおよび
シクロアルケニル基を指称する。
炭素数3.4.5.6または7のシクロアルキルおよび
シクロアルケニル基を指称する。
「置換アルキル」とは、1個もしくはそれ以上(好まし
くは1,2または3個)のアジド、アミノ(−N Hり
、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、アルコ
キシカルボニル、アミノカルボニル、アルカノイルオキ
シ、アルコキシ、フェニルオキシ、(置換フェニル)オ
キシ、メルカプト、アルキルチオ、フェニルチオ、(置
換フェニル)チオ、アルキルスルフィニルまたはアルキ
ルスルホニル基で置換されたアルキル基を指称する。
くは1,2または3個)のアジド、アミノ(−N Hり
、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、アルコ
キシカルボニル、アミノカルボニル、アルカノイルオキ
シ、アルコキシ、フェニルオキシ、(置換フェニル)オ
キシ、メルカプト、アルキルチオ、フェニルチオ、(置
換フェニル)チオ、アルキルスルフィニルまたはアルキ
ルスルホニル基で置換されたアルキル基を指称する。
「アルカノイル」、「アルケニル」および「アルキニル
」とは、直鎖および分枝鎖基の両方を指称する。炭素数
2〜!0の基が好ましい。
」とは、直鎖および分枝鎖基の両方を指称する。炭素数
2〜!0の基が好ましい。
「ハロゲン」および「ハロ」とは、弗素、塩素、臭素お
よび沃素を指称する。
よび沃素を指称する。
「置換フェニル」とは、1.2または3個のアミノ(−
NH,)、ハロゲン、ヒドロキシル、トリフルオロメチ
ル、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキ
シ、アルカノイルオキシ、アミノカルボニルまたはカル
ボキシル基で置換されたフェニル基を指称する。
NH,)、ハロゲン、ヒドロキシル、トリフルオロメチ
ル、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキ
シ、アルカノイルオキシ、アミノカルボニルまたはカル
ボキシル基で置換されたフェニル基を指称する。
「4.5.6もしくは7員複素環基(Rx)」とは、1
個もしくはそれ以上(好ましくは1,2または3個)の
窒素、酸素または硫黄を含有する置換および非置換芳香
族および非芳香族基を指称する。
個もしくはそれ以上(好ましくは1,2または3個)の
窒素、酸素または硫黄を含有する置換および非置換芳香
族および非芳香族基を指称する。
置換基の具体例は、オキソ(=0)、ハロゲン、ヒドロ
キシ、ニトロ、アミノ、シアノ、トリフルオロメチル、
炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、
アルキルスルホニル、フェニル、置換フェニル、2−フ
ルフリリデンアミノおよび置換アルキル(アルキルの炭
素数1〜4)の基である。1種の4.5.6もしくは7
員複素環基は、ヘテロアリール基である。「ヘテロアリ
ール」とは、芳香族の4.5.6もしくは7員複素環基
を指称する。ヘテロアリール基の具体例は、置換および
非置換のピリジニル、フラニル、ピロリル、チエニル、
1,2.3−トリアゾリル、1゜2.4−)リアゾリル
、イミダゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ピリミ
ジニル、オキサシリル、トリアジニルおよびテトラゾリ
ルである。非芳香族複素環基(すなわち、完全または部
分飽和複素環基)の具体例は、置換および非置換のアゼ
チジニル、オキセタニル、チェタニル、ピペリジニル、
ピペラジニル、イミダゾリジニル、オキサゾリジニル、
ピペラジニル、テトラヒドロピリミジニル、ジヒドロチ
アゾリルもしくはヘキサヒドロアゼピニルである。置換
4.5.6もしくは7員複素環基の具体例は、■−アル
キルー3−アゼチジニル、2−オキソ−■−イミダゾリ
ジニル、3−アルキルスルホニル−2−オキソ−1−イ
ミダゾリジニル、3−ベンジリデンアミノ−2−オキソ
−1−イミダゾリジニル、3−アルキル−2−オキソ−
1−イミダゾリジニル、3−フェニル(または置換フェ
ニル)−2−オキソ−1−イミダゾリジニル、3−ベン
ジル−2−オキソ−1−イミダゾリジニル、3−(2−
アミノエチル)−2−オキソ−1−イミダゾリジニル、
3−アミノ−2−オキソ−1−イミダゾリジニル、3−
[(アルコキシカルボニル)アミノコ−2−オキソー!
−イミダゾリジニル、’3−[2−[(アルコキシカル
ボニル)アミノコエチルコー2−オキソ−1−イミダゾ
リジニル、2−オキソ−17ピロリジニル、2−オキソ
−3−オキサゾリジニル、4−ヒドロキシ−6−メチル
−2−ピリミジニル、2−オキソ−1−ヘキサヒドロア
ゼピニル、2−オキソ−3−ピロリジニル、2−オキソ
−3−テトラヒドロフラニル、2.3−ジオキソ−1−
ピペラジニル、2.5−ジオキソ−1−ピペラジニル、
4−アルキル−2,3−ジオキソ−l−ピペラジニル、
および4−フェニル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ニルである。
キシ、ニトロ、アミノ、シアノ、トリフルオロメチル、
炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、
アルキルスルホニル、フェニル、置換フェニル、2−フ
ルフリリデンアミノおよび置換アルキル(アルキルの炭
素数1〜4)の基である。1種の4.5.6もしくは7
員複素環基は、ヘテロアリール基である。「ヘテロアリ
ール」とは、芳香族の4.5.6もしくは7員複素環基
を指称する。ヘテロアリール基の具体例は、置換および
非置換のピリジニル、フラニル、ピロリル、チエニル、
1,2.3−トリアゾリル、1゜2.4−)リアゾリル
、イミダゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ピリミ
ジニル、オキサシリル、トリアジニルおよびテトラゾリ
ルである。非芳香族複素環基(すなわち、完全または部
分飽和複素環基)の具体例は、置換および非置換のアゼ
チジニル、オキセタニル、チェタニル、ピペリジニル、
ピペラジニル、イミダゾリジニル、オキサゾリジニル、
ピペラジニル、テトラヒドロピリミジニル、ジヒドロチ
アゾリルもしくはヘキサヒドロアゼピニルである。置換
4.5.6もしくは7員複素環基の具体例は、■−アル
キルー3−アゼチジニル、2−オキソ−■−イミダゾリ
ジニル、3−アルキルスルホニル−2−オキソ−1−イ
ミダゾリジニル、3−ベンジリデンアミノ−2−オキソ
−1−イミダゾリジニル、3−アルキル−2−オキソ−
1−イミダゾリジニル、3−フェニル(または置換フェ
ニル)−2−オキソ−1−イミダゾリジニル、3−ベン
ジル−2−オキソ−1−イミダゾリジニル、3−(2−
アミノエチル)−2−オキソ−1−イミダゾリジニル、
3−アミノ−2−オキソ−1−イミダゾリジニル、3−
[(アルコキシカルボニル)アミノコ−2−オキソー!
−イミダゾリジニル、’3−[2−[(アルコキシカル
ボニル)アミノコエチルコー2−オキソ−1−イミダゾ
リジニル、2−オキソ−17ピロリジニル、2−オキソ
−3−オキサゾリジニル、4−ヒドロキシ−6−メチル
−2−ピリミジニル、2−オキソ−1−ヘキサヒドロア
ゼピニル、2−オキソ−3−ピロリジニル、2−オキソ
−3−テトラヒドロフラニル、2.3−ジオキソ−1−
ピペラジニル、2.5−ジオキソ−1−ピペラジニル、
4−アルキル−2,3−ジオキソ−l−ピペラジニル、
および4−フェニル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ニルである。
「置換アミノ」とは、式: NX5Xe(Xsは水素
、アルキル、フェニル、置換フェニル、フェニルアルキ
ルまたは(置換フェニル)アルキル、およびX、はアル
キル、フェニル、置換フェニル、フェニルアルキル、(
置換フェニル)アルキル、ヒドロキシ、シアノ、アルコ
キシ、フェニルアルコキシまたはアミノ(−NH*))
の基を指称する。
、アルキル、フェニル、置換フェニル、フェニルアルキ
ルまたは(置換フェニル)アルキル、およびX、はアル
キル、フェニル、置換フェニル、フェニルアルキル、(
置換フェニル)アルキル、ヒドロキシ、シアノ、アルコ
キシ、フェニルアルコキシまたはアミノ(−NH*))
の基を指称する。
「アシル」とは有機酸(即ちカルボン酸)からヒドロキ
シル基を除去して誘導される全ての有機基を指称する。
シル基を除去して誘導される全ての有機基を指称する。
勿論、一定のアシル基が選択されるが、この選択は本発
明の技術的範囲を制限すると見るべきではない。アシル
基の具体例は、β−ラクタム抗生物質(6−アミノペニ
シラン酸および誘導体並びに7−アミツセフアロスボラ
ン酸および誘導体を包含)をアシル化するのに従来より
使用されているアシル基である(例えばフリン著r C
ephalosporins and penicil
linsJ (アカデミツク・プレス、1972年)、
1978年10月IO日出版の西独国特許公開公報第2
716677号、■978年12月11日出版のベルギ
ー特許第867994号、1979年5月1日発行の米
国特許第4152432号、1976年7月27日発行
の米国特許第3971778号、1979年10月23
日発行の米国特許第4172199号、および1974
年3月27日発行の英国特許第1348894号参照)
。これらの各種アシル基を記載する参照部分を参考とし
てここに導入する。以下にアシル基のリストを挙げて、
語句「アシル」を更に詳しく例示するが、これによって
該語句が制限されると考えるべきではない。具体的なア
シル基は以下の通りである。
明の技術的範囲を制限すると見るべきではない。アシル
基の具体例は、β−ラクタム抗生物質(6−アミノペニ
シラン酸および誘導体並びに7−アミツセフアロスボラ
ン酸および誘導体を包含)をアシル化するのに従来より
使用されているアシル基である(例えばフリン著r C
ephalosporins and penicil
linsJ (アカデミツク・プレス、1972年)、
1978年10月IO日出版の西独国特許公開公報第2
716677号、■978年12月11日出版のベルギ
ー特許第867994号、1979年5月1日発行の米
国特許第4152432号、1976年7月27日発行
の米国特許第3971778号、1979年10月23
日発行の米国特許第4172199号、および1974
年3月27日発行の英国特許第1348894号参照)
。これらの各種アシル基を記載する参照部分を参考とし
てここに導入する。以下にアシル基のリストを挙げて、
語句「アシル」を更に詳しく例示するが、これによって
該語句が制限されると考えるべきではない。具体的なア
シル基は以下の通りである。
(a)式:
で示される脂肪族基
[式中、Raはアルキル、シクロアルキル、アルコキシ
、アルケニル、シクロアルケニル、シクロへキサジェニ
ル、または置換アルキルもしくは置換アルケニル(置換
基はハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、
アルキルチオもしくはンアノメチルヂオから選ばれる置
換基1個ないしそれ以上)である] (b)式: または 9F で示される炭素環式芳香族基 [式中、nはOS 112または3、Rb1Rcおよび
Rdはそれぞれ独立して水素、)10ゲン、ヒドロキシ
ル、ニトロ、アミノ、シアノ、トリフルオロメチル、炭
素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシまた
はアミノメチル、Reはアミノ、ヒドロキシル、カルボ
キシル塩、保護カルボキシル、ホルミルオキシ、スルホ
塩、スルホアミノ塩、アジド、ハロゲン、ヒドラジノ、
アルキルヒドラジノ、フェニルヒドラジノまたは[(ア
ルキル)デオキソメチルコチオである] 好ましい炭素環式芳香族アシル基は、 Re (Reは好ましくはカルボキシル塩またはスルホ塩)、
および Re (Reは好ましくはカルボキシル塩またはスルホ塩)で
示される基を包含する。
、アルケニル、シクロアルケニル、シクロへキサジェニ
ル、または置換アルキルもしくは置換アルケニル(置換
基はハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、
アルキルチオもしくはンアノメチルヂオから選ばれる置
換基1個ないしそれ以上)である] (b)式: または 9F で示される炭素環式芳香族基 [式中、nはOS 112または3、Rb1Rcおよび
Rdはそれぞれ独立して水素、)10ゲン、ヒドロキシ
ル、ニトロ、アミノ、シアノ、トリフルオロメチル、炭
素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシまた
はアミノメチル、Reはアミノ、ヒドロキシル、カルボ
キシル塩、保護カルボキシル、ホルミルオキシ、スルホ
塩、スルホアミノ塩、アジド、ハロゲン、ヒドラジノ、
アルキルヒドラジノ、フェニルヒドラジノまたは[(ア
ルキル)デオキソメチルコチオである] 好ましい炭素環式芳香族アシル基は、 Re (Reは好ましくはカルボキシル塩またはスルホ塩)、
および Re (Reは好ましくはカルボキシル塩またはスルホ塩)で
示される基を包含する。
(c)式:
%式%
またはRf−C−C−で示される複素環芳香族基[式中
、nは0,1.2または3、Rfは窒素、酸素および硫
黄原子の1.2.3または4個(好ましくは1または2
個)を含む置換または非置換5.6もしくは7員複素環
基で、Reは前記と同意義] 複素環基の例として、チエニル、フリル、ピロリル、ピ
リジニル、ピラゾリル、ピラジニル、チアゾリル、ピリ
ミジニル、チアジアゾリルおよびテトラゾリルが挙げら
れる。置換基の例として、ハロゲン、ヒドロキシル、ニ
トロ、アミノ、保護アミノ、シアノ、トリフルオロメチ
ル、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキ
シまたは HOOCCHCHz OCNH−で示さNH。
、nは0,1.2または3、Rfは窒素、酸素および硫
黄原子の1.2.3または4個(好ましくは1または2
個)を含む置換または非置換5.6もしくは7員複素環
基で、Reは前記と同意義] 複素環基の例として、チエニル、フリル、ピロリル、ピ
リジニル、ピラゾリル、ピラジニル、チアゾリル、ピリ
ミジニル、チアジアゾリルおよびテトラゾリルが挙げら
れる。置換基の例として、ハロゲン、ヒドロキシル、ニ
トロ、アミノ、保護アミノ、シアノ、トリフルオロメチ
ル、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキ
シまたは HOOCCHCHz OCNH−で示さNH。
れる基が挙げられる。
好ましい複素環芳香族アシル基は、Rrが2−アミノ−
4−チアゾリル、2−アミノ−5−ハロー4−チアゾリ
ル、4−アミノピリミジン−2−イル、5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル、2−チエニル、
2−フラニルまたは6−アミノピリジン−2−イルであ
る前記基を包含する。
4−チアゾリル、2−アミノ−5−ハロー4−チアゾリ
ル、4−アミノピリミジン−2−イル、5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル、2−チエニル、
2−フラニルまたは6−アミノピリジン−2−イルであ
る前記基を包含する。
(d)式:
で示される[[(4−置換−2,3−ジオキソ−1−ピ
ペラジニル)カルボニル]アミノコアリールアセチル基 [式中、Rgは芳香族基( c で示される基のような炭素環式芳香族基およびRfの定
義の範囲に含まれる複素環芳香族基を包含)、Rhはア
ルキル、置換アルキル(ハロゲン、シアノ、ニトロ、ア
ミノもしくはメルカプトから選ばれる置換基1個ないし
それ以上で置換されたアルキル)、アリールメチレンア
ミノ: −N=CH−Rg(Rgは前記と同意義)、ア
リールカルボニルアミノ: −NH−C−Rg (Rg
は前記と同意義)、またはアルキルカ視ボニルアミノで
ある]好ましい[[(4−置換−2,3−ジオキソ−1
−ピペラジニル)カルボニル]アミノ]アリールアセチ
ル基は、Rhがエチル、フェニルメチレンアミノまたは
2−フリルメチレンアミノである基を包含する。
ペラジニル)カルボニル]アミノコアリールアセチル基 [式中、Rgは芳香族基( c で示される基のような炭素環式芳香族基およびRfの定
義の範囲に含まれる複素環芳香族基を包含)、Rhはア
ルキル、置換アルキル(ハロゲン、シアノ、ニトロ、ア
ミノもしくはメルカプトから選ばれる置換基1個ないし
それ以上で置換されたアルキル)、アリールメチレンア
ミノ: −N=CH−Rg(Rgは前記と同意義)、ア
リールカルボニルアミノ: −NH−C−Rg (Rg
は前記と同意義)、またはアルキルカ視ボニルアミノで
ある]好ましい[[(4−置換−2,3−ジオキソ−1
−ピペラジニル)カルボニル]アミノ]アリールアセチ
ル基は、Rhがエチル、フェニルメチレンアミノまたは
2−フリルメチレンアミノである基を包含する。
(e)式:
%式%
で示される(置換オキシイミノ)アリールアセチル基
[式中、Rgは前記と同意義、Riは水素、アルキル、
シクロアルキル、 2−ピラゾリルメチル、(2−オキソ−3−ピロリジニ
ル)メチル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミ
ノカルボニル: −C−NH−Rg (Rgは前記と同
意義)、または置換アルキル(ハロゲン、シアノ、ニト
ロ、アミノ、メルカプト、アルキルチオ、芳香族基(R
gで表わされるような基)、カルボキシル(その塩を含
む)、アミド、アルコキシカルボニル、フェニルメトキ
シカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、ヒドロ
キシアルコキシホスフィニル、ジヒドロキシホスフィニ
ル、ヒドロキシ(フェニルメトキシ)ホスフィニル、ジ
アルコキシホスフィニルもしくはテトラゾリルから選ば
れる置換基1個ないしそれ以上で置換されたアルキル)
である] 好ましい(置換オキシイミノ)アリールアセチル基は、
Rgが2−アミノ−4−子アゾリルである基を包含し、
またRiがメチル、エチル、カルボキシメチル、l−カ
ルボキシ−1−メチルエチル、2.2.2− トリフル
オロエチルまたは!−力ルボキシシクロプロピルである
基も好ましい。
シクロアルキル、 2−ピラゾリルメチル、(2−オキソ−3−ピロリジニ
ル)メチル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミ
ノカルボニル: −C−NH−Rg (Rgは前記と同
意義)、または置換アルキル(ハロゲン、シアノ、ニト
ロ、アミノ、メルカプト、アルキルチオ、芳香族基(R
gで表わされるような基)、カルボキシル(その塩を含
む)、アミド、アルコキシカルボニル、フェニルメトキ
シカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、ヒドロ
キシアルコキシホスフィニル、ジヒドロキシホスフィニ
ル、ヒドロキシ(フェニルメトキシ)ホスフィニル、ジ
アルコキシホスフィニルもしくはテトラゾリルから選ば
れる置換基1個ないしそれ以上で置換されたアルキル)
である] 好ましい(置換オキシイミノ)アリールアセチル基は、
Rgが2−アミノ−4−子アゾリルである基を包含し、
またRiがメチル、エチル、カルボキシメチル、l−カ
ルボキシ−1−メチルエチル、2.2.2− トリフル
オロエチルまたは!−力ルボキシシクロプロピルである
基も好ましい。
(f)式:
%式%
で示される(アシルアミノ)アリールアセチル基[式中
、Rgは前記と同意義、Rjは c で示される基、アミノ、アルキルアミノ、(シアノアル
キル)アミノ、アミド、アルキルアミド、(シアノアル
キル)アミド、 NH CHCHt CNHCH3、 または で示される基である] 好ましい(アシルアミノ)アリールアセチル基はRjが
アミノまたはアミドである前記基を包含し、またRgが
フェニルまたは2−チエニルである基も好ましい。
、Rgは前記と同意義、Rjは c で示される基、アミノ、アルキルアミノ、(シアノアル
キル)アミノ、アミド、アルキルアミド、(シアノアル
キル)アミド、 NH CHCHt CNHCH3、 または で示される基である] 好ましい(アシルアミノ)アリールアセチル基はRjが
アミノまたはアミドである前記基を包含し、またRgが
フェニルまたは2−チエニルである基も好ましい。
(g)式;
%式%
で示される[[[3−置換−2−オキソ−1−イミダゾ
リジニル]カルボニル]アミノ]アリールアセチル基 「式中、Rgは前記と同意義、Rkは水素、アルキルス
ルホニル、アリールメチレンアミノニーN=CH−Rg
(Rgは前記と同意義)、−C−Rm(Rmは水素、
アルキルもしくはハロゲン置換アルキル)、芳香族基(
@記Rgで示されるような基)、アルキルまたは置換ア
ルキル(ハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノもしくはメ
ルカプトから選ばれる置換基1個ないしそれ以上で置換
されたアルキル)であるコ 好ましい[[3−置換−2−オキソ−1〜イミダゾリジ
ニル]カルボニル]アミノ]アリールアセチル基は、R
gがフェニルまたは2−チエニルである前記基を包含し
、またRkが水素、メチルスルホニル、フリルメチレン
アミノまたは2−フリルメチレンアミノである基も好ま
しい。
リジニル]カルボニル]アミノ]アリールアセチル基 「式中、Rgは前記と同意義、Rkは水素、アルキルス
ルホニル、アリールメチレンアミノニーN=CH−Rg
(Rgは前記と同意義)、−C−Rm(Rmは水素、
アルキルもしくはハロゲン置換アルキル)、芳香族基(
@記Rgで示されるような基)、アルキルまたは置換ア
ルキル(ハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノもしくはメ
ルカプトから選ばれる置換基1個ないしそれ以上で置換
されたアルキル)であるコ 好ましい[[3−置換−2−オキソ−1〜イミダゾリジ
ニル]カルボニル]アミノ]アリールアセチル基は、R
gがフェニルまたは2−チエニルである前記基を包含し
、またRkが水素、メチルスルホニル、フリルメチレン
アミノまたは2−フリルメチレンアミノである基も好ま
しい。
(以下余白)
本発明化合物は、各種の無機および有機塩基と塩基性塩
を形成し、これらも本発明の技術的範囲に属する。かか
る塩としては、アンモニウム塩、アルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩、有機塩基との塩(たとえばジシクロヘ
キシルアミン塩、ベンザチン塩、N−ンチルーD−グル
カミン塩、ヒドラバミン塩〕等が包含される。医薬的に
許容しつる塩が好ましいが、その他の塩も目的生成物を
単離したり、精製するのに有用である。本発明化合物の
幾つかは、含水溶媒から晶出または再結晶することがで
きる。この場合、水和水を形成しつる。本発明は化学量
論的水和物および変化量の水を含む化合物を意図し、こ
れらは凍結乾燥などの方法で生成することができる。
を形成し、これらも本発明の技術的範囲に属する。かか
る塩としては、アンモニウム塩、アルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩、有機塩基との塩(たとえばジシクロヘ
キシルアミン塩、ベンザチン塩、N−ンチルーD−グル
カミン塩、ヒドラバミン塩〕等が包含される。医薬的に
許容しつる塩が好ましいが、その他の塩も目的生成物を
単離したり、精製するのに有用である。本発明化合物の
幾つかは、含水溶媒から晶出または再結晶することがで
きる。この場合、水和水を形成しつる。本発明は化学量
論的水和物および変化量の水を含む化合物を意図し、こ
れらは凍結乾燥などの方法で生成することができる。
本発明化合物[I)は、少なくとも1つのキラル中心(
すなわちアシルアミノ置換基(R□−NH−)が結合す
るβ−ラクタム核の3位の炭素原子)を含有する。本発
明は上述のβ−ラクタム化合物に関連するものであり、
ここでβ−ラクタム核の3位のキラル中心の立体化学は
、天然産生ペニシリン類(たとえばペニシリンG)の6
位の炭素原子の配置や、天然産生セファマイシン類(た
とえばセファマイシンC)の7位の炭素原子の配置と同
じである。また当該β−ラクタム化合物を含有するラセ
ミ混合物も本発明の技術的範囲に包含される。
すなわちアシルアミノ置換基(R□−NH−)が結合す
るβ−ラクタム核の3位の炭素原子)を含有する。本発
明は上述のβ−ラクタム化合物に関連するものであり、
ここでβ−ラクタム核の3位のキラル中心の立体化学は
、天然産生ペニシリン類(たとえばペニシリンG)の6
位の炭素原子の配置や、天然産生セファマイシン類(た
とえばセファマイシンC)の7位の炭素原子の配置と同
じである。また当該β−ラクタム化合物を含有するラセ
ミ混合物も本発明の技術的範囲に包含される。
本発明化合物CI)のβ−ラクタム化合物およびその医
薬的に許容しうる塩は、ダラム陽性および陰性菌に対し
活性を有する。かかる本発明化合物は、哺乳動物種、例
えば家畜(イヌ、ネコ、ウシ、ウマなど)やヒトの細菌
感染(尿路感染および呼吸感染を含む)に対抗する剤と
して使用することができる。
薬的に許容しうる塩は、ダラム陽性および陰性菌に対し
活性を有する。かかる本発明化合物は、哺乳動物種、例
えば家畜(イヌ、ネコ、ウシ、ウマなど)やヒトの細菌
感染(尿路感染および呼吸感染を含む)に対抗する剤と
して使用することができる。
哺乳動物の細菌感染に対抗するには、本発明化合物をこ
れを必要とする哺乳動物に対し、約1.4〜350■/
kQ 7日、好ましくは約14〜100147にり7
日の量で投与することができる。また、本発明のβ−ラ
クタム化合物を使用する場合、感染部位に対応してペニ
シリン類やセファロスポリン類を与えるのに従来より使
用されている投与型式の全てが意図される。かかる投与
方法としては、経口投与、静脈内投与、筋肉投与、およ
び串刺投与が包含される。
れを必要とする哺乳動物に対し、約1.4〜350■/
kQ 7日、好ましくは約14〜100147にり7
日の量で投与することができる。また、本発明のβ−ラ
クタム化合物を使用する場合、感染部位に対応してペニ
シリン類やセファロスポリン類を与えるのに従来より使
用されている投与型式の全てが意図される。かかる投与
方法としては、経口投与、静脈内投与、筋肉投与、およ
び串刺投与が包含される。
本発明のβ−ラクタム化合物CI)は、式:の3−保護
アミノ−2−アゼチジノンから製造することができる。
アミノ−2−アゼチジノンから製造することができる。
上記式[II)において、および本明細書を通じてR5
とはアミン保護基を指称する。これらの基はβ−ラクタ
ム分野で周知であり、特別に選定した基に制限されるも
のではない。該保護基の具体例は、ベンジルオキシカル
ボニル、トリチルおよびt−ブトキシカルボニルである
。
とはアミン保護基を指称する。これらの基はβ−ラクタ
ム分野で周知であり、特別に選定した基に制限されるも
のではない。該保護基の具体例は、ベンジルオキシカル
ボニル、トリチルおよびt−ブトキシカルボニルである
。
上記β−ラクタム(II)を式:
%式%[)
(Yは塩素などの脱離可能基)
のイソシアネートと反応させて、式:
%式%
の対応化合物を得る。反応は不活性有機溶媒(たとえば
酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、
ジクロロメタン、アセトニトリルまたはこれらの混合物
〕中で行うのが好ましい。脱離可能基Yと所望基Rとの
置換は、必要に応じて塩基(たとえばトリエチルアミン
)の存在下、式:%式%() の適当な求核試薬を用いて行うことができ、かかる置換
によって式: の対応化合物を得る。別法として、脱離可能基の置換は
、化合物[rV)を化合物EV)の保護体と反応させる
ことによって行うことができる。置換反応を行った後、
通常の方法で保護基を脱離して化合物[VI]を得るこ
とができる。さらに、脱離可能基を置換する別の方法と
しては、化合物[IV)を必要に応じてカチオンの存在
下、化合物[V]のトリメチルシリル誘導体と反応させ
ることから成る。
酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、
ジクロロメタン、アセトニトリルまたはこれらの混合物
〕中で行うのが好ましい。脱離可能基Yと所望基Rとの
置換は、必要に応じて塩基(たとえばトリエチルアミン
)の存在下、式:%式%() の適当な求核試薬を用いて行うことができ、かかる置換
によって式: の対応化合物を得る。別法として、脱離可能基の置換は
、化合物[rV)を化合物EV)の保護体と反応させる
ことによって行うことができる。置換反応を行った後、
通常の方法で保護基を脱離して化合物[VI]を得るこ
とができる。さらに、脱離可能基を置換する別の方法と
しては、化合物[IV)を必要に応じてカチオンの存在
下、化合物[V]のトリメチルシリル誘導体と反応させ
ることから成る。
3−ヒドロキシ−4−ピリドン成分を有する化合物(V
)の保護体および3−ヒドロキシ−4−ピリドン成分を
有する全反応体の保護体としては、ヒドロキシル基を保
護した化合物、ヒドロキシル基および環窒素を保護した
化合物、および両ピリドン酸素を保護した化合物が包含
される。保護基の具体例は、シリル(たとえばトリメチ
ルシリル)、ベンジルおよびアシル(たとえばアセチル
)である。シリルを用いる場合、後の脱保護は加水分解
または弗化物による開裂で行うことができる。ベンジル
を用いる場合、後の脱保護は水添分解で行うことができ
る。アシルを用いる場合、後の脱保護は加水分解で行う
ことができる。
)の保護体および3−ヒドロキシ−4−ピリドン成分を
有する全反応体の保護体としては、ヒドロキシル基を保
護した化合物、ヒドロキシル基および環窒素を保護した
化合物、および両ピリドン酸素を保護した化合物が包含
される。保護基の具体例は、シリル(たとえばトリメチ
ルシリル)、ベンジルおよびアシル(たとえばアセチル
)である。シリルを用いる場合、後の脱保護は加水分解
または弗化物による開裂で行うことができる。ベンジル
を用いる場合、後の脱保護は水添分解で行うことができ
る。アシルを用いる場合、後の脱保護は加水分解で行う
ことができる。
カテコール成分を有する化合物(V)の保護体およびカ
テコール成分を有する全反応体の保護体としては、ヒド
ロキシル基を保護した化合物が包含される。保護基の具
体例は、シリル(たとえばトリメチルシリル)、ベンジ
ルおよびアシル(たとえばアセチル)である。シリルを
用いる場合、後の脱保護は加水分解または弗化物による
開裂で行うことができる。ベンジルを用いる場合、後の
脱保護は水添分解で行うことができる。アシルを用いる
場合、後の脱保護は加水分解で行うことができる。
テコール成分を有する全反応体の保護体としては、ヒド
ロキシル基を保護した化合物が包含される。保護基の具
体例は、シリル(たとえばトリメチルシリル)、ベンジ
ルおよびアシル(たとえばアセチル)である。シリルを
用いる場合、後の脱保護は加水分解または弗化物による
開裂で行うことができる。ベンジルを用いる場合、後の
脱保護は水添分解で行うことができる。アシルを用いる
場合、後の脱保護は加水分解で行うことができる。
化合物〔■〕を通常の方法で脱保護して、式:%式%
の対応する基本中間体またはその塩を得る。勿論採用す
る個々の脱保護反応は、存在する保護基R5に基づく。
る個々の脱保護反応は、存在する保護基R5に基づく。
たとえば、R5がt−ブトキシカルボニル保護基である
場合、化合物CVI)を酸(たとえばギ酸またはトリフ
ルオロ酢酸)で処理して、脱保護を行うことができる。
場合、化合物CVI)を酸(たとえばギ酸またはトリフ
ルオロ酢酸)で処理して、脱保護を行うことができる。
R5がベンジルオキシカルボニル保護基である場合、化
合物〔■〕の接触水素添加により脱保護を行うことがで
きる。別法として、R5保護基を他のピリドンまたはカ
テコール保護基と同時に脱離し、その直後に上述の置換
反応を行うことができる。
合物〔■〕の接触水素添加により脱保護を行うことがで
きる。別法として、R5保護基を他のピリドンまたはカ
テコール保護基と同時に脱離し、その直後に上述の置換
反応を行うことができる。
周知のアシル化法を用いて、中間体〔■〕を対応する目
的化合物CI)に変換することができる。具体的な方法
としては、化合物〔■〕とカルボン酸(R,−OH)
またはその対応カルボン酸ハライドもしくはカルボン
酸無水物との反応が含まれる。カルボン酸との反応は、
カルボジイミド(たとえばジシクロへキシルカルボジイ
ミド)および活性エステルを現場で形成しつる物質(た
とえばN−ヒドロキシベンゾトリアゾール)の存在下で
、最も容易に進行する。アシル基(R工)が反応性官能
基(たとえばアミンまたはカルボキシル基)を含有する
場合、先ずこれらの官能基を保護し、次いでアシル化反
応を行い、最後に得られる生成物を脱保護することが必
要である。
的化合物CI)に変換することができる。具体的な方法
としては、化合物〔■〕とカルボン酸(R,−OH)
またはその対応カルボン酸ハライドもしくはカルボン
酸無水物との反応が含まれる。カルボン酸との反応は、
カルボジイミド(たとえばジシクロへキシルカルボジイ
ミド)および活性エステルを現場で形成しつる物質(た
とえばN−ヒドロキシベンゾトリアゾール)の存在下で
、最も容易に進行する。アシル基(R工)が反応性官能
基(たとえばアミンまたはカルボキシル基)を含有する
場合、先ずこれらの官能基を保護し、次いでアシル化反
応を行い、最後に得られる生成物を脱保護することが必
要である。
本発明化合物CI)を製造する他の方法は、先ず式:
%式%
の3−アミノ−2−アゼチジノンをアシル化(アシル化
法は前記と同じ)して、式: %式% の中間体を得ることから成る。化合物[IX)の1位に
−C−NH−3o2−R活性基を導入(前記操作を使用
)して、対応する目的化合物CI)を得ることができる
。アシル側鎖R工が反応性官能基(たとえばアミノ基)
を有する場合、先ずこれらの官能基を保護し、次いで1
位の活性基の付加を行い、最後に得られる生成物を脱保
護することが必要である。
法は前記と同じ)して、式: %式% の中間体を得ることから成る。化合物[IX)の1位に
−C−NH−3o2−R活性基を導入(前記操作を使用
)して、対応する目的化合物CI)を得ることができる
。アシル側鎖R工が反応性官能基(たとえばアミノ基)
を有する場合、先ずこれらの官能基を保護し、次いで1
位の活性基の付加を行い、最後に得られる生成物を脱保
護することが必要である。
更に本発明化合物[I)を製造する他の合成法は、式:
の3−アジド−2−アゼチジノンの使用から成る。化合
物EX)の1位に、 −C−NH−3o2−R活性基を導入(@記操作を使用
)して、式: の対応化合物を得ることができる。
物EX)の1位に、 −C−NH−3o2−R活性基を導入(@記操作を使用
)して、式: の対応化合物を得ることができる。
中間体(XI)を還元して、式:
%式%
の対応中間体を得る。還元は接触水素添加(たとえばパ
ラジウム/活性炭または酸化プラチナを使用)または還
元剤(たとえば亜鉛またはトリフェニルホスフィン)を
用いて行うことができる。上述の如く、これらの基本中
間体(化合物〔■〕)から、通常のアシル化法を用いて
、目的化合物CI)を製造することができる。
ラジウム/活性炭または酸化プラチナを使用)または還
元剤(たとえば亜鉛またはトリフェニルホスフィン)を
用いて行うことができる。上述の如く、これらの基本中
間体(化合物〔■〕)から、通常のアシル化法を用いて
、目的化合物CI)を製造することができる。
別法として、3−アジド−2−アゼチジノン〔X〕を還
元して、式: %式% の対応する3−アミノ−2−アゼチジノンとすることが
できる。還元は、接触水素添加(たとえばパラジウム/
活性炭または酸化プラチナを使用)または還元剤(たと
えば亜鉛またはトリフェニルホスフィンクを用いて行う
ことができる。3−アミノ−2−アゼチジノン〔■〕を
上述の如く反応(すなわち、先ずアシル化、次いで上述
の如く処理して1位に−C−NH−3o2−R活性基を
導入)させて、目的化合物CI)を得ることができる。
元して、式: %式% の対応する3−アミノ−2−アゼチジノンとすることが
できる。還元は、接触水素添加(たとえばパラジウム/
活性炭または酸化プラチナを使用)または還元剤(たと
えば亜鉛またはトリフェニルホスフィンクを用いて行う
ことができる。3−アミノ−2−アゼチジノン〔■〕を
上述の如く反応(すなわち、先ずアシル化、次いで上述
の如く処理して1位に−C−NH−3o2−R活性基を
導入)させて、目的化合物CI)を得ることができる。
更にまた、R2およびR3がそれぞれ水素である本発明
化合物CI)を製造する合成法は、出発物質として、式
: の6−アシルアミノペニシラン酸またはその塩を利用す
る。文献に記載の適合する操作により、対応する6−ア
シルアミノペニシラン酸[Xn)から3−アシルアミノ
−2−アゼチジノンを得ることができる(たとえば、C
hem、 Soc、 5pecialPublicat
ion &28.288頁、1977年、TheChe
mistry of Pen1cillins 、プリ
ンストン−ユニバーシティ・プレス、257頁および5
ynthesis 。
化合物CI)を製造する合成法は、出発物質として、式
: の6−アシルアミノペニシラン酸またはその塩を利用す
る。文献に記載の適合する操作により、対応する6−ア
シルアミノペニシラン酸[Xn)から3−アシルアミノ
−2−アゼチジノンを得ることができる(たとえば、C
hem、 Soc、 5pecialPublicat
ion &28.288頁、1977年、TheChe
mistry of Pen1cillins 、プリ
ンストン−ユニバーシティ・プレス、257頁および5
ynthesis 。
494.1977年参照)。
文献に記載の如く、6−アシルアミノペニシラン酸また
はその塩を脱硫(ラネー・ニッケルを用いて還元により
)して、式: の化合物を得ることができる。反応は還流条件下、水中
で行うことができる。
はその塩を脱硫(ラネー・ニッケルを用いて還元により
)して、式: の化合物を得ることができる。反応は還流条件下、水中
で行うことができる。
化合物〔■〕のカルボキシル基をアセテート基で置換し
た後、加水分解を行い、式: の対応する3−アシルアミノ−2−アゼチジノンを得る
。化合物〔■〕を有機溶媒(たとえばアセトニトリル)
中、酢酸第二銅および四酢酸鉛で処理して、カルボキシ
ル基をアセテート基と置換する。得られる化合物の加水
分解は、ホウ水素化ナトリウムの存在下炭酸カリウムを
用いて行うことができる。
た後、加水分解を行い、式: の対応する3−アシルアミノ−2−アゼチジノンを得る
。化合物〔■〕を有機溶媒(たとえばアセトニトリル)
中、酢酸第二銅および四酢酸鉛で処理して、カルボキシ
ル基をアセテート基と置換する。得られる化合物の加水
分解は、ホウ水素化ナトリウムの存在下炭酸カリウムを
用いて行うことができる。
上述の操作を用い、化合物(XIV)の1位に−C−N
H−So2−R活性基を導入することができ、これによ
ってR2およびR3がそれぞれ水素である目的化合物(
Ilが得られる。
H−So2−R活性基を導入することができ、これによ
ってR2およびR3がそれぞれ水素である目的化合物(
Ilが得られる。
更にまた、RおよびR3がそれぞれ水素である本発明化
合物〔工〕を製造する上記合成法の別法は以下の手順か
ら成る。先ず、6−アミノペニシラン酸を脱硫し、得ら
れる化合物をアシル化して化合物[XI[I ]を得、
次いで上述の如く反応を進めて最初に3−アシルアミノ
−2−アゼチジノン(XIV)、次いで目的化合物〔I
〕を得る。
合物〔工〕を製造する上記合成法の別法は以下の手順か
ら成る。先ず、6−アミノペニシラン酸を脱硫し、得ら
れる化合物をアシル化して化合物[XI[I ]を得、
次いで上述の如く反応を進めて最初に3−アシルアミノ
−2−アゼチジノン(XIV)、次いで目的化合物〔I
〕を得る。
また本発明のアゼチジノン類CI)は、式:のアミノ酸
からも製造することができる。すなわち、先ずアミノ基
を保護する(保護基R5、たとえばt−ブトキシカルボ
ニルで〕。次いで保護されたアミノ酸のカルボキシル基
をカルボジイミドの存在下、式: %式%( (2はアルキル、ベンジルまたはトリフェニルメチル) のアミンと反応させて、式: %式% の化合物を得る。化合物〔X■〕のヒドロキシル基を、
メタンスルホニルクロリドまた゛はピリジン−803錯
体などの試薬で脱離可能基(OL)に変換する。
からも製造することができる。すなわち、先ずアミノ基
を保護する(保護基R5、たとえばt−ブトキシカルボ
ニルで〕。次いで保護されたアミノ酸のカルボキシル基
をカルボジイミドの存在下、式: %式%( (2はアルキル、ベンジルまたはトリフェニルメチル) のアミンと反応させて、式: %式% の化合物を得る。化合物〔X■〕のヒドロキシル基を、
メタンスルホニルクロリドまた゛はピリジン−803錯
体などの試薬で脱離可能基(OL)に変換する。
式:
%式%
の完全保護化合物を塩基(たとえば炭酸カリウム)で処
理して環化する。反応は還流条件下、有機溶媒または有
機溶媒/水混合物中で行うことが好ましく、これによっ
て式: の化合物が得られる。
理して環化する。反応は還流条件下、有機溶媒または有
機溶媒/水混合物中で行うことが好ましく、これによっ
て式: の化合物が得られる。
別法として、最初にヒドロキシル基を脱離可能基に変換
せずに、化合物〔X■〕の環化を行うことができる。化
合物〔X■〕をトリフェニルホスフィンおよびジエチル
アゾジカルボキシレートで処理して、化合物(XIX)
を得る。
せずに、化合物〔X■〕の環化を行うことができる。化
合物〔X■〕をトリフェニルホスフィンおよびジエチル
アゾジカルボキシレートで処理して、化合物(XIX)
を得る。
化合物〔X■〕の化合物[X1X)への変換の具体的操
作については、J、 Amer、 Chem、 Soc
、 、 102 。
作については、J、 Amer、 Chem、 Soc
、 、 102 。
7026頁、1980年、およびJ、Org、 Che
m、 。
m、 。
47.5160頁、1982年に記載されている。
上述の化合物〔X■〕の両閉環方法によって、R2とR
3が同一でないとき、R2およびR3置換基を有する炭
素原子の立体化学の転化が起こる。
3が同一でないとき、R2およびR3置換基を有する炭
素原子の立体化学の転化が起こる。
アゼチジノン〔X■〕の1位からの保護基の脱離は、Z
がアルキルの場合ナトリウム還元を介して行うことがで
き、これによって式: (R2とR3の少なくとも一方は水素)の中間体が得ら
れる。Zがベンジルの場合、最初に接触水素添加(たと
えばパラジウム/活性炭を使用〕で対応するN−ヒドロ
キシ化合物を得、これを三塩化チタンで処理して、中間
体(n)を得る。Zがトリフェニルメチルの場合、最初
にギ酸または70%酢酸/水で対応するN−ヒドロキシ
化合物を得る。
がアルキルの場合ナトリウム還元を介して行うことがで
き、これによって式: (R2とR3の少なくとも一方は水素)の中間体が得ら
れる。Zがベンジルの場合、最初に接触水素添加(たと
えばパラジウム/活性炭を使用〕で対応するN−ヒドロ
キシ化合物を得、これを三塩化チタンで処理して、中間
体(n)を得る。Zがトリフェニルメチルの場合、最初
にギ酸または70%酢酸/水で対応するN−ヒドロキシ
化合物を得る。
上述の操作を用いて、化合物[II)の1位に−C−N
H−So2−R活性基を導入し、得られる化合物を脱保
護およびアシル化する。
H−So2−R活性基を導入し、得られる化合物を脱保
護およびアシル化する。
Rが
それぞれ単結合である求核試薬(V)は、テトラヒドロ
−2(LH)−ピリミジノン 核性塩基によって形成したテトラヒドロ−2(IH)−
ピリミジノンのアニオンを、式:%式%[) の酸化合物の適当に保護した活性化誘導体と反応させ、
脱保護を行って、式: の対応化合物を得ることにより、製造することができる
。
−2(LH)−ピリミジノン 核性塩基によって形成したテトラヒドロ−2(IH)−
ピリミジノンのアニオンを、式:%式%[) の酸化合物の適当に保護した活性化誘導体と反応させ、
脱保護を行って、式: の対応化合物を得ることにより、製造することができる
。
上記式において、および本明細書を通じて、「Al1」
は単結合、−CH=CH−1−(CH2)t−まH2 ま たは−CH−(tは1.2.3または4)であり、すな
わち、これに対応するA3は−NH(CH2)p−以外
の基である。反応は、不活性有機溶媒(たとえばジメチ
ルホルムアミド、アセトニトリル、ジクロロメタンまた
はテトラヒドロフラン)中で行うことができる。酸化合
物[XX]は、ジシクロへキシルカルボジイミド、また
はジシクロへキシルカルボジイミドとヒドロキシベンゾ
トリアゾールの混合物で活性化することができる。また
化合物〔XX〕の適当に保護した活性化誘導体としては
、対応する酸クロリド(五塩化リン、塩化チオニル、塩
化オキサリルまたはトリフェニルホスフィン/四塩化炭
素などの試薬を用いて製造)または混合酸無水物(塩化
ジフェニルホスホリル、塩化ピバロイルまたはインブチ
ルクロロホルメートなどの試薬を用いて製造)が挙げら
れる。
は単結合、−CH=CH−1−(CH2)t−まH2 ま たは−CH−(tは1.2.3または4)であり、すな
わち、これに対応するA3は−NH(CH2)p−以外
の基である。反応は、不活性有機溶媒(たとえばジメチ
ルホルムアミド、アセトニトリル、ジクロロメタンまた
はテトラヒドロフラン)中で行うことができる。酸化合
物[XX]は、ジシクロへキシルカルボジイミド、また
はジシクロへキシルカルボジイミドとヒドロキシベンゾ
トリアゾールの混合物で活性化することができる。また
化合物〔XX〕の適当に保護した活性化誘導体としては
、対応する酸クロリド(五塩化リン、塩化チオニル、塩
化オキサリルまたはトリフェニルホスフィン/四塩化炭
素などの試薬を用いて製造)または混合酸無水物(塩化
ジフェニルホスホリル、塩化ピバロイルまたはインブチ
ルクロロホルメートなどの試薬を用いて製造)が挙げら
れる。
化合物[XX]の保護体として、ヒドロキシル基を保護
した化合物、Xがカルボキシルの場合カルH2 ホキシルを保護した化合物、および萄が−CH−の場合
アミノ基を保護した化合物が包含される。
した化合物、Xがカルボキシルの場合カルH2 ホキシルを保護した化合物、および萄が−CH−の場合
アミノ基を保護した化合物が包含される。
保護基の具体例は、ヒドロキシル基に対してシリル、ア
セチル、ベンジル2よびメチル、カルボキシル基に対し
てベンジル、t−ブチルおよびジフェニルメチル、アミ
ン基に対してt−ブトキシカルボニルおよびベンジルオ
キシカルボニルである。化合物〔XxI〕の脱保護に採
用する方法は、使用する保護基の種類によって左右され
、すなわち、シリル旧よびアセチル基の脱離には加水分
解、ベンジルおよびベンジルオキシカルボニル基の脱離
には水添分解、メチル基の脱離には高温での臭化水素酸
水溶液または三臭化ホウ素の使用、およびt−ブトキシ
カルボニル基の脱離にはトリフルオロ酢酸の使用が採用
される。
セチル、ベンジル2よびメチル、カルボキシル基に対し
てベンジル、t−ブチルおよびジフェニルメチル、アミ
ン基に対してt−ブトキシカルボニルおよびベンジルオ
キシカルボニルである。化合物〔XxI〕の脱保護に採
用する方法は、使用する保護基の種類によって左右され
、すなわち、シリル旧よびアセチル基の脱離には加水分
解、ベンジルおよびベンジルオキシカルボニル基の脱離
には水添分解、メチル基の脱離には高温での臭化水素酸
水溶液または三臭化ホウ素の使用、およびt−ブトキシ
カルボニル基の脱離にはトリフルオロ酢酸の使用が採用
される。
Rが3−ヒドロキシ−4−ピリドン成分およびA’3
が単結合である化合物〔XX〕は、文献記載の方法で製
造することができる〔He1v、 Chem、 Act
a。
が単結合である化合物〔XX〕は、文献記載の方法で製
造することができる〔He1v、 Chem、 Act
a。
43.469(1960年)8よびJ、Med、 Ch
em、。
em、。
17.1(1974年)参照〕。
R4がジヒドロキシフェニル成分3よびAl1 が単結
合、−(CH2)を−または−CH=CH−、tが1ま
たは2である化合物〔XX〕は、商業上入手可能である
。
合、−(CH2)を−または−CH=CH−、tが1ま
たは2である化合物〔XX〕は、商業上入手可能である
。
R4が3−ヒドロキシ−4−ピリドンおよびAl1が−
CH=CH−である化合物〔XX〕は、式:%式%) の化合物(適当な保護体)を酸化して、式:R4−CH
(XXII[] の対応アルデヒド(適当な保護体)とし、これを式: のカルボキシル保護誘導体き反応させ、次いで脱保護を
行って、式: %式%[) の化合物を得ることにより製造することができる。
CH=CH−である化合物〔XX〕は、式:%式%) の化合物(適当な保護体)を酸化して、式:R4−CH
(XXII[] の対応アルデヒド(適当な保護体)とし、これを式: のカルボキシル保護誘導体き反応させ、次いで脱保護を
行って、式: %式%[) の化合物を得ることにより製造することができる。
A3’が=(CH2)t−1tが2.3または4である
化合物〔XX〕は、化合物[XXTII) (適当な
保護体)と式: のヴイツテイツヒ試薬(カルボキシル基の適当な保護体
)を共役結合反応せしめ、続いて生成するエキソ環式二
重結合を水素添加し、次いで脱保護を行って、式: %式%[) (式中、tは2.3または4である) の化合物を得ることにより製造することができる。
化合物〔XX〕は、化合物[XXTII) (適当な
保護体)と式: のヴイツテイツヒ試薬(カルボキシル基の適当な保護体
)を共役結合反応せしめ、続いて生成するエキソ環式二
重結合を水素添加し、次いで脱保護を行って、式: %式%[) (式中、tは2.3または4である) の化合物を得ることにより製造することができる。
R4が3−ヒドロキシ−4−ピリドン成分、A3’が−
(CH2) (−1tが1である化合物[XX)は、式
: %式%[ (式中、Laは塩素、臭素、メタンスルホニルオキシま
たはトルエンスルホニルオキシなどの脱離可能基である
) の適当に保護した化合物を、シアン化物と反応させ、続
いて加水分解および脱保護を行って、tが1の化合物〔
XX■〕を得ることにより製造することができる。なお
、化合物[XX■〕は、化合物〔XX■〕(適当な保護
体)から公知の方法(たとえば塩化チオニルまたは塩化
メタンスルホニル/トリエチルアミンとの反応)によっ
て製造することができる。
(CH2) (−1tが1である化合物[XX)は、式
: %式%[ (式中、Laは塩素、臭素、メタンスルホニルオキシま
たはトルエンスルホニルオキシなどの脱離可能基である
) の適当に保護した化合物を、シアン化物と反応させ、続
いて加水分解および脱保護を行って、tが1の化合物〔
XX■〕を得ることにより製造することができる。なお
、化合物[XX■〕は、化合物〔XX■〕(適当な保護
体)から公知の方法(たとえば塩化チオニルまたは塩化
メタンスルホニル/トリエチルアミンとの反応)によっ
て製造することができる。
R4が3−ヒドロキシ−4−ピリドン成分およNH2
びA3’が−CH−である化合物(xx)は、化合物〔
XXI[] (適当な保護体)から公知の方法(たとえ
ばストレッカー合成)によって製造することができる。
XXI[] (適当な保護体)から公知の方法(たとえ
ばストレッカー合成)によって製造することができる。
別法として、化合物(xxm)をトリメチルシリルシア
ニドと反応させた後、酸処理を行って、式%式%) の化合物を得ることができる。化合物[XXIX)を臭
化チオニル、次いでナトリウムアジドと反応させ、次い
で還元反応に付して、式: %式%() の対応酸化合物を得る。
ニドと反応させた後、酸処理を行って、式%式%) の化合物を得ることができる。化合物[XXIX)を臭
化チオニル、次いでナトリウムアジドと反応させ、次い
で還元反応に付して、式: %式%() の対応酸化合物を得る。
R4がジヒドロキシフェニル成分2よびA3’がNH2
−CH−である化合物(XX)は、文献記載の方法で製
造することができる〔たとえばPhysiol。
造することができる〔たとえばPhysiol。
Chemie、98:226(1917年):8よび西
独国特許公開第2151521号参照〕。
独国特許公開第2151521号参照〕。
Rが
よびA2が−NH−である求核試薬EV)は、化合物(
XX)の任意に保護した活性化誘導体を3−アミノ−テ
トラヒドロ−2(IH)−ピリミジノンの化合物を得る
ことにより製造することができる。反応はジメチルホル
ムアミドなどの不活性溶媒中で行うことができる。酸化
合物[XX]の活性化は、ジシクロへキシルカルボジイ
ミド、N−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび4−ジ
メチルアミノピリジンの混合物を用いて行うことができ
る。
XX)の任意に保護した活性化誘導体を3−アミノ−テ
トラヒドロ−2(IH)−ピリミジノンの化合物を得る
ことにより製造することができる。反応はジメチルホル
ムアミドなどの不活性溶媒中で行うことができる。酸化
合物[XX]の活性化は、ジシクロへキシルカルボジイ
ミド、N−ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび4−ジ
メチルアミノピリジンの混合物を用いて行うことができ
る。
よびA2 が−CH2−CH2−NH−である求核試薬
〔■〕は、化合物(XX)の任意に保護した活性化誘導
体を3−(2−アミノエチル)テトラヒドロ−2(LH
)−ピリミジノン を行って、式: %式%) の化合物を得ることにより製造することができる。
〔■〕は、化合物(XX)の任意に保護した活性化誘導
体を3−(2−アミノエチル)テトラヒドロ−2(LH
)−ピリミジノン を行って、式: %式%) の化合物を得ることにより製造することができる。
よびA2が−C−N!(−NH−である求核試薬EV)
の化合物を、テトラヒドロ−2(LH)−ピリミジノン
のシリル化体、強非求核性塩基によって形成したテトラ
ヒドロ−2(LH)−ピリミジノン(有機塩基の存在下
)と反応させて、式:の化合物を得ることにより製造す
ることができる。化合物(XXXrV) の接触水素
添加により、式:の化合物を得、これを化合物[XX]
の任意に保護した活性化誘導体とカップリング反応に付
し、脱保護を行って、式: の化合物を得ることができる。
の化合物を、テトラヒドロ−2(LH)−ピリミジノン
のシリル化体、強非求核性塩基によって形成したテトラ
ヒドロ−2(LH)−ピリミジノン(有機塩基の存在下
)と反応させて、式:の化合物を得ることにより製造す
ることができる。化合物(XXXrV) の接触水素
添加により、式:の化合物を得、これを化合物[XX]
の任意に保護した活性化誘導体とカップリング反応に付
し、脱保護を行って、式: の化合物を得ることができる。
別法として、先ず3−クロロカルボニル−テトラヒドロ
−2(LH)−ピリミジノンをt−ブトキシカルボニル
保護ヒドラジンと反応させて、式:の化合物を得、該化
合物〔XXX■〕 を脱保、護して、化合物(xxxv
) を得ることができる。
−2(LH)−ピリミジノンをt−ブトキシカルボニル
保護ヒドラジンと反応させて、式:の化合物を得、該化
合物〔XXX■〕 を脱保、護して、化合物(xxxv
) を得ることができる。
およびA2が単結合である求核試薬(V)は、式:の化
合物(適当な保護体)を、ヘキサメチルジシラザンと反
応させ、加水分解2よび脱保護を行って、式: %式%) の化合物を得ることにより製造することができる。
合物(適当な保護体)を、ヘキサメチルジシラザンと反
応させ、加水分解2よび脱保護を行って、式: %式%) の化合物を得ることにより製造することができる。
なお、化合物〔XXX■〕 (適当な保護体)は、化合
物[XXI) (任意に保護)のシリル化体をホスゲ
ンと反応させることにより製造することができる。
物[XXI) (任意に保護)のシリル化体をホスゲ
ンと反応させることにより製造することができる。
別法として、化合物(XXXIX) は、化合物〔X
XI)の保護体をクロロスルホニルイソシアネートと反
応させた後、得られる中間体を加水分解に付し、次いで
保護基を開裂することにより製造することができる。
XI)の保護体をクロロスルホニルイソシアネートと反
応させた後、得られる中間体を加水分解に付し、次いで
保護基を開裂することにより製造することができる。
およびA2が−NH−である求核試薬(V)は、式:(
式中、Prot はt−ブトキシカルボニルまたはベ
ンジルオキシカルボニルなどのアミノ保護基である) の化合物のシリル化体をホスゲンと反応させて、式: の化合物を得、これをヘキサメチルジシラザンと反応さ
せて、式: の化合物を得ることにより製造することができる。非シ
リルアミノ保護基の開裂後、化合物CXX)の任意に保
護した活性体と反応させて、式:の化合物を得る。
式中、Prot はt−ブトキシカルボニルまたはベ
ンジルオキシカルボニルなどのアミノ保護基である) の化合物のシリル化体をホスゲンと反応させて、式: の化合物を得、これをヘキサメチルジシラザンと反応さ
せて、式: の化合物を得ることにより製造することができる。非シ
リルアミノ保護基の開裂後、化合物CXX)の任意に保
護した活性体と反応させて、式:の化合物を得る。
化合物1:XL]II)の非シリル化誘導体は、化合物
[XX]の活性体(任意に保護)を式:O の化合物とカップリング反応に付し、式:の化合物を得
ることにより製造することができる。化合物[XLIV
)の塩は、式: の化合物をクロロスルホニルイソシアネートと反応させ
た後、反応生成物を緩和な加水分解に付し、式: の化合物を得、たとえば希酸水溶液と共に還流を行って
さらに加水分解に付すことにより製造することができる
。
[XX]の活性体(任意に保護)を式:O の化合物とカップリング反応に付し、式:の化合物を得
ることにより製造することができる。化合物[XLIV
)の塩は、式: の化合物をクロロスルホニルイソシアネートと反応させ
た後、反応生成物を緩和な加水分解に付し、式: の化合物を得、たとえば希酸水溶液と共に還流を行って
さらに加水分解に付すことにより製造することができる
。
別法として、化合物[Xi、IVIは、化合物(XL:
1をクロロスルホニルイソシアネートと反応させ、加水
分解に付して、式: の化合物を得、これを脱保護することにより製造するこ
とができる。
1をクロロスルホニルイソシアネートと反応させ、加水
分解に付して、式: の化合物を得、これを脱保護することにより製造するこ
とができる。
−A、−N、N−A2−C−A3’−R4、A、が−N
H−C−およびA2が−CH2−CH2−NH−である
求核試薬〔v〕は、先ず1−〔アミノカルボニル)−3
−〔2−C((t−ブトキシ)カルボニル〕アミノ〕エ
チル〕−テトラヒドロ−2(IH)−ピリミジノンを脱
保護し、得られる化合物を化合物(XX)の活性体(任
意に保護)とカップリング反応に付し、脱保護を行って
式: の化合物を得ることにより製造することができる。
H−C−およびA2が−CH2−CH2−NH−である
求核試薬〔v〕は、先ず1−〔アミノカルボニル)−3
−〔2−C((t−ブトキシ)カルボニル〕アミノ〕エ
チル〕−テトラヒドロ−2(IH)−ピリミジノンを脱
保護し、得られる化合物を化合物(XX)の活性体(任
意に保護)とカップリング反応に付し、脱保護を行って
式: の化合物を得ることにより製造することができる。
O
およびA2 が−C−NH−NH−である求核試薬CV
Iは、化合物(XXXVI) のシリル体(任意に保
護)をホスゲンと反応させた後、ヘキサメチルジシラザ
ンと反応させ、加水分解および脱保護を行って式: %式%) の化合物を得ることにより製造することができる。
Iは、化合物(XXXVI) のシリル体(任意に保
護)をホスゲンと反応させた後、ヘキサメチルジシラザ
ンと反応させ、加水分解および脱保護を行って式: %式%) の化合物を得ることにより製造することができる。
別法として、化合物CL)は、化合物(XXXVI:1
の保護体をクロロスルホニルインシアネートト反応させ
た後、得られる中間体の加水分解および保護基の開裂に
より製造することができる。化合物〔XXX■〕 をク
ロロスルホニルインシアネートと反応させた後、得られ
る中間体を加水分解して、式: の化合物を得ることができる。化合物[LI)を水添分
解で脱保護して、式 の化合物を得、これを化合物〔XX〕の任意に保護した
活性化誘導体とカップリング反応に付し、脱保護を行っ
て、化合物(L)を得ることができる。
の保護体をクロロスルホニルインシアネートト反応させ
た後、得られる中間体の加水分解および保護基の開裂に
より製造することができる。化合物〔XXX■〕 をク
ロロスルホニルインシアネートと反応させた後、得られ
る中間体を加水分解して、式: の化合物を得ることができる。化合物[LI)を水添分
解で脱保護して、式 の化合物を得、これを化合物〔XX〕の任意に保護した
活性化誘導体とカップリング反応に付し、脱保護を行っ
て、化合物(L)を得ることができる。
よびA2が単結合である求核試薬〔■〕は、化合物[X
L)を化合物[XX)の活性体(任意に保護)とカップ
リング反応に付し、保護基を開裂して、式二〇 の化合物を得ることにより製造することができる。
L)を化合物[XX)の活性体(任意に保護)とカップ
リング反応に付し、保護基を開裂して、式二〇 の化合物を得ることにより製造することができる。
よびA2が−NH−である求核試薬〔■〕は、1,3−
ジアミノ−テトラヒドロ−2(IH)−ピリミジノンの
モノ保護(好ましくはt−ブトキシカルボニルまたはベ
ンジルオキシカルボニルを使用)誘導体を化合物[XX
]の活性体(任意に保護)とカップリング反応に付し、
得られる化合物を脱保護して式: の化合物を得ることにより製造することができる。
ジアミノ−テトラヒドロ−2(IH)−ピリミジノンの
モノ保護(好ましくはt−ブトキシカルボニルまたはベ
ンジルオキシカルボニルを使用)誘導体を化合物[XX
]の活性体(任意に保護)とカップリング反応に付し、
得られる化合物を脱保護して式: の化合物を得ることにより製造することができる。
別法として、化合物[LIV)は、化合物(XXXI)
の保護体をニトロソ化した後、ニトロソ基の還元および
保護基の開裂によって製造することができる。
の保護体をニトロソ化した後、ニトロソ基の還元および
保護基の開裂によって製造することができる。
よびA2 が−CH2−CH2−NH−である求核試薬
〔■〕は、化合物[XXXII)(適当な保護体)をニ
トロン化して、式: の化合物(適当な保護体)を得、該化合物[LV)を還
元および脱保護に付して、式: %式% 電 の化合物を得ることにより製造することができる
。
〔■〕は、化合物[XXXII)(適当な保護体)をニ
トロン化して、式: の化合物(適当な保護体)を得、該化合物[LV)を還
元および脱保護に付して、式: %式% 電 の化合物を得ることにより製造することができる
。
Rが
金物[XXXVII] の保護誘導体のニトロン化、
還元および脱保護によって製造することができる。得ら
れる化合物は、式: %式% 別法として、化合物〔L■〕は、化合物〔XL〕をホス
ゲンと反応させて、式: の化合物を得、これを塩基の存在下、モノ保護ヒドラジ
ンと反応させて、式: (式中、2つのProt は相互に異なる)の化合物
を得ることにより製造することができる。
還元および脱保護によって製造することができる。得ら
れる化合物は、式: %式% 別法として、化合物〔L■〕は、化合物〔XL〕をホス
ゲンと反応させて、式: の化合物を得、これを塩基の存在下、モノ保護ヒドラジ
ンと反応させて、式: (式中、2つのProt は相互に異なる)の化合物
を得ることにより製造することができる。
ヒドラジド保護基の選択除去により、式:の化合物を得
る。化合物[LX)を化合物[XX)の任意に保護した
活性体とカップリング反応に付した後、脱保護を行い、
化合物〔L■〕を得る。
る。化合物[LX)を化合物[XX)の任意に保護した
活性体とカップリング反応に付した後、脱保護を行い、
化合物〔L■〕を得る。
およびA2 が単結合である求核試薬EV)は、化合物
[XXX■〕 (好ましくはその保護誘導体)を、塩基
の存在下ヒドラジン(好ましくはそのモノ保護体)と、
またはヒドラジンのシリル化体もしくはモノ保護ヒドラ
ジンと反応させ、式:の化合物の保護誘導体を得、これ
を通常の方法で脱保護することにより製造することがで
きる。
[XXX■〕 (好ましくはその保護誘導体)を、塩基
の存在下ヒドラジン(好ましくはそのモノ保護体)と、
またはヒドラジンのシリル化体もしくはモノ保護ヒドラ
ジンと反応させ、式:の化合物の保護誘導体を得、これ
を通常の方法で脱保護することにより製造することがで
きる。
別法として、化合物(XXX■〕 (そのシリル化誘導
体または強塩基との反応で形成したア戸オンのいずれか
〕を、化合物〔XX〕の活性体(適当な保護体)と反応
させ、脱保護を行って、化合物〔LXI)を得ることが
できる。
体または強塩基との反応で形成したア戸オンのいずれか
〕を、化合物〔XX〕の活性体(適当な保護体)と反応
させ、脱保護を行って、化合物〔LXI)を得ることが
できる。
2よびA2が−NH−である求核試薬〔■〕は、化合物
[LIX)の非ヒドラジド保護基の選択除去後、化合物
〔XX〕の任意に保護した活性体とカップリング反応に
付し、続いて脱保護を行って、式:の化合物を得ること
により製造することができる。
[LIX)の非ヒドラジド保護基の選択除去後、化合物
〔XX〕の任意に保護した活性体とカップリング反応に
付し、続いて脱保護を行って、式:の化合物を得ること
により製造することができる。
およびA2 が−CH2−CH2−NH−である求核試
薬(V)は、化合物(xxxII)(またはその保護誘
導体)をホスゲンと反応させ、続いてN−メチル−N−
(トリメチルシリル〕トリフルオロアセトアミドなどの
シリル化剤の存在下ヒドラジン(またはそのモノ保護誘
導体)と反応させ、脱保護を行って、式: の化合物を得ることにより製造することができる。
薬(V)は、化合物(xxxII)(またはその保護誘
導体)をホスゲンと反応させ、続いてN−メチル−N−
(トリメチルシリル〕トリフルオロアセトアミドなどの
シリル化剤の存在下ヒドラジン(またはそのモノ保護誘
導体)と反応させ、脱保護を行って、式: の化合物を得ることにより製造することができる。
別法トシて、1−(2−アミノエチル)−2−イミダゾ
リジノンのアミノ保護誘導体(任意にシリル化)をホス
ゲンと反応させ、次いで塩基またはシリル化剤(たとえ
ばN−メチル−N−(トリメチルシリル)トリフルオロ
アセトアミドまたはビス(トリメチルシリル)アセトア
ミド)の存在下ヒドラジンのモノ保護誘導体と反応させ
、式:の化合物の保護誘導体を得ることができる。化合
物(LXIV)の末端アミノ基の保護に用いる基は、ア
ミノエチル基の保護基が選択的に除去しつるように選定
すべきである。得られるモノ脱保護化合物を酸化合物(
XX)の活性体(またはその保護誘導体)とカップリン
グ反応に付し、脱保護を行って、化合物[LXIII)
を得ることができる。
リジノンのアミノ保護誘導体(任意にシリル化)をホス
ゲンと反応させ、次いで塩基またはシリル化剤(たとえ
ばN−メチル−N−(トリメチルシリル)トリフルオロ
アセトアミドまたはビス(トリメチルシリル)アセトア
ミド)の存在下ヒドラジンのモノ保護誘導体と反応させ
、式:の化合物の保護誘導体を得ることができる。化合
物(LXIV)の末端アミノ基の保護に用いる基は、ア
ミノエチル基の保護基が選択的に除去しつるように選定
すべきである。得られるモノ脱保護化合物を酸化合物(
XX)の活性体(またはその保護誘導体)とカップリン
グ反応に付し、脱保護を行って、化合物[LXIII)
を得ることができる。
Rが
−A1−N、N−A2−C−A3’−R4、A、が−N
H−NH−C−およびA2 が−C−NH−NH−であ
る求核試薬[V)は、化合物[XXXIV] (必要
に応じてそのシリル化誘導体)をホスゲンと反応させ、
式:の化合物の保護誘導体を得、これをヒドラジンの保
護誘導体とカップリング反応に付し、式:の化合物の保
護誘導体を得ることにより製造することができる。化合
物[LXVI)の末端アミン基の保護に用いる基は、該
保護基の1つを選択的に除去できるように選定すべきで
ある。得られるモノ脱保護化合物を酸化合物(XX)の
任意に保護した活性体とカップリング反応に付し、脱保
護を行って、式: の化合物を得ることにより製造することができる。
H−NH−C−およびA2 が−C−NH−NH−であ
る求核試薬[V)は、化合物[XXXIV] (必要
に応じてそのシリル化誘導体)をホスゲンと反応させ、
式:の化合物の保護誘導体を得、これをヒドラジンの保
護誘導体とカップリング反応に付し、式:の化合物の保
護誘導体を得ることにより製造することができる。化合
物[LXVI)の末端アミン基の保護に用いる基は、該
保護基の1つを選択的に除去できるように選定すべきで
ある。得られるモノ脱保護化合物を酸化合物(XX)の
任意に保護した活性体とカップリング反応に付し、脱保
護を行って、式: の化合物を得ることにより製造することができる。
Rが
NR2−(CH2)、 −R4[LX■〕(式中、pは
0または1である) の化合物の任意保護誘導体を3−(クロロプロピル)イ
ンシアネートと反応させて、式:%式%) の化合物を得ることにより製造することができる。
0または1である) の化合物の任意保護誘導体を3−(クロロプロピル)イ
ンシアネートと反応させて、式:%式%) の化合物を得ることにより製造することができる。
化合物(LXIX)を塩基で処理して、式:の化合物を
得る。
得る。
Rが
が−N=CH−または−N H−CR2−である求核試
薬(V)は、3−アミノ−テトラヒドロ−2(IH)−
ピリミジノンをアルデヒド(xxm)(任意に保護)と
縮合反応に付し、脱保護を行って、式:の化合物を得る
ことにより製造することができる。
薬(V)は、3−アミノ−テトラヒドロ−2(IH)−
ピリミジノンをアルデヒド(xxm)(任意に保護)と
縮合反応に付し、脱保護を行って、式:の化合物を得る
ことにより製造することができる。
化合物(LXXI)(任意に保護)を接触水素添加でま
たはホウ水素化シアノナトリウムを用いて還元を行い、
式: の化合物を得る。
たはホウ水素化シアノナトリウムを用いて還元を行い、
式: の化合物を得る。
Rが
求核試薬〔v〕は、化合物(LXX)、(LXXI)
または[LXXII)の適当な保護誘導体をホスゲン
と反応させて、式: の化合物の保護誘導体を得、これをヘキサメチルジシラ
ザンと反応させ、脱保護および加水分解を行って、式: の化合物を得ることにより製造することができる。
または[LXXII)の適当な保護誘導体をホスゲン
と反応させて、式: の化合物の保護誘導体を得、これをヘキサメチルジシラ
ザンと反応させ、脱保護および加水分解を行って、式: の化合物を得ることにより製造することができる。
別法として、Rが
である求核試薬[V]は、化合物(LXX) 、[LX
XI〕または(L Xff ]の適当な保護誘導体をク
ロロスルホニルイソシアネートと反応させ、加水分解お
よび脱保護を行って、化合物[LXXIV)を得ること
により製造することができる。
XI〕または(L Xff ]の適当な保護誘導体をク
ロロスルホニルイソシアネートと反応させ、加水分解お
よび脱保護を行って、化合物[LXXIV)を得ること
により製造することができる。
Rが
と)
−A、 −NYN −A4− R4およびAo が−N
H−である求核試薬[V3は、化合物[LXX) 1.
[LXXI)または[LXXII) の適当な保護
誘導体をニトロン化(たとえば亜硝酸を使用)し、得ら
れる化合物を還元(たとえば酸性条件下の亜鉛を使用)
し、脱保護を行って、式: O の化合物を得ることにより製造することができる。
H−である求核試薬[V3は、化合物[LXX) 1.
[LXXI)または[LXXII) の適当な保護
誘導体をニトロン化(たとえば亜硝酸を使用)し、得ら
れる化合物を還元(たとえば酸性条件下の亜鉛を使用)
し、脱保護を行って、式: O の化合物を得ることにより製造することができる。
別法として、A4 が−N=CH−または−1四−C)
T2−である化合物(LXXV)は、モノ保護1,3−
ジアミノ−テトラヒドロ−2(LH)−ピリミジノンを
化合物(XX[[) (またはその保護誘導体)と反
応させ、生成物を脱保護して、A4 が−N=CH−で
ある誘導体化合物CL XXV )を得ることにより製
造することができる。この誘導体化合物を還元して、A
4 が−NH−CH2−テある化合物〔LXXv〕を得
る。
T2−である化合物(LXXV)は、モノ保護1,3−
ジアミノ−テトラヒドロ−2(LH)−ピリミジノンを
化合物(XX[[) (またはその保護誘導体)と反
応させ、生成物を脱保護して、A4 が−N=CH−で
ある誘導体化合物CL XXV )を得ることにより製
造することができる。この誘導体化合物を還元して、A
4 が−NH−CH2−テある化合物〔LXXv〕を得
る。
である求核試薬(V)は、化合物(LXXI[)(適当
な保護体)を、塩基またはシリル化剤の存在下モノ保護
ヒドラジンと反応させることにより製造することができ
る。反応生成物の脱保護後は、式:%式% の化合物は、式: の化合物を、K・ヘインズらのChem、 Ber、、
87 。
な保護体)を、塩基またはシリル化剤の存在下モノ保護
ヒドラジンと反応させることにより製造することができ
る。反応生成物の脱保護後は、式:%式% の化合物は、式: の化合物を、K・ヘインズらのChem、 Ber、、
87 。
1440(1954年)に記載の手順に従って化合物(
LXX■〕の保護体に変換し、次いで脱保護することに
より製造することができる。
LXX■〕の保護体に変換し、次いで脱保護することに
より製造することができる。
化合物(LXX■〕は、式:
の化合物の適当な保護体から、これをヒドラジンとの反
応でエステル(たとえばエチルまたはメチルエステル)
に変換し、次いで脱保護を行うことにより製造すること
ができる。別法として、化合物(LXXIX)の適当に
保護した活性体をモノ保護ヒドラジンと反応させ、脱保
護を行って、化合物〔LXX■〕を得ることができる。
応でエステル(たとえばエチルまたはメチルエステル)
に変換し、次いで脱保護を行うことにより製造すること
ができる。別法として、化合物(LXXIX)の適当に
保護した活性体をモノ保護ヒドラジンと反応させ、脱保
護を行って、化合物〔LXX■〕を得ることができる。
別法として、化合物(LXX■〕 の保護体は、化合物
[LXXIX) の適当な保護体を塩基(たとえばトリ
エチルアミン)の存在下、ジフェニルホスホリルアジド
と反応させることにより製造することができる。
[LXXIX) の適当な保護体を塩基(たとえばトリ
エチルアミン)の存在下、ジフェニルホスホリルアジド
と反応させることにより製造することができる。
式:
%式%)
の化合物は、化合物[XX■〕(適当な保護体)から、
これをアジドで処理し、得られるアジド化合物を還元し
、脱保護を行うことにより製造することができる。
これをアジドで処理し、得られるアジド化合物を還元し
、脱保護を行うことにより製造することができる。
Rが
−NH−(CH2)p−テある求核試薬(V)は、式:
の化合物(任意に保護)を式: 0=C=N−(CH2)、 −R4E LXXXl[)
のインシアネートと反応させ、脱保護を行って、式: %式% の化合物を得ることにより製造することができる。
の化合物(任意に保護)を式: 0=C=N−(CH2)、 −R4E LXXXl[)
のインシアネートと反応させ、脱保護を行って、式: %式% の化合物を得ることにより製造することができる。
別法として、任意に保護した化合物(LXXXI)をホ
スゲンと反応させて、式: O の化合物を得、これを化合物〔LX■〕で処理して、化
合物[LXXXI[)を得ることができる。
スゲンと反応させて、式: O の化合物を得、これを化合物〔LX■〕で処理して、化
合物[LXXXI[)を得ることができる。
別法として、Rが
または一罷一開−C−およびA3が−NH−(CH2)
、−である求核試薬〔V〕は、式: の化合物(任意にシリル化)をホスゲンと反応させて、
式: %式% の化合物を得ることにより製造することができる。化合
物[LXXXVI)をヘキサメチルジシラザンと反応さ
せた後、窒素原子上に残るシリル基を加水分解して、式
: の対応化合物を得るか、またはモノ保護ヒドラジンと反
応させ、脱保護を行って、式: の化合物を得ることができる。
、−である求核試薬〔V〕は、式: の化合物(任意にシリル化)をホスゲンと反応させて、
式: %式% の化合物を得ることにより製造することができる。化合
物[LXXXVI)をヘキサメチルジシラザンと反応さ
せた後、窒素原子上に残るシリル基を加水分解して、式
: の対応化合物を得るか、またはモノ保護ヒドラジンと反
応させ、脱保護を行って、式: の化合物を得ることができる。
本発明化合物(I)にあって、Rが
−A、−N、N−A2−C−A3−R4である化合物が
好ましい。最も好ましい本発明化合物CI)は、Rが。
好ましい。最も好ましい本発明化合物CI)は、Rが。
また、Rエ が
I
−C−C=N−ORi 、Rgが2−アミノ−4−チア
ゾRg リル、R1がメチル、エチル、カルボキシメチル、l−
力ルボキシ−1−メチルエチル、1−、l!J/l/1
.2または3である本発明化合物〔1〕も好ましい。こ
れらの好ましいRエ アシル基の使用によって、シンも
しくはアンチ異性体またはそれらの混合異性体で存在す
る生成物が得られる。シン異性体は、アンチ異性体より
も活性か大である。
ゾRg リル、R1がメチル、エチル、カルボキシメチル、l−
力ルボキシ−1−メチルエチル、1−、l!J/l/1
.2または3である本発明化合物〔1〕も好ましい。こ
れらの好ましいRエ アシル基の使用によって、シンも
しくはアンチ異性体またはそれらの混合異性体で存在す
る生成物が得られる。シン異性体は、アンチ異性体より
も活性か大である。
次に挙げる実施例は、本発明の特別な具体例である。
実施例1
[3S (z) ) −2−CCC1−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−C[1−[([[3−[((1
,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピ
リジニル)カルボニル〕アミン〕テトラヒドロ−2−オ
キソ−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミノ
〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕アミ
ノ〕−2−オキンエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2−
メチルプロピオン酸ジナトリウム塩の製造ニー A)テトラヒドロ−2(IH)−ピリミジノン50g(
674ミリモル)の1,3−ジアミノプロパンおよび7
9.7g(674ミリモル)のジエチルカーボネートの
混合物を、180℃のスチールオートクレーブで一夜加
熱する。得られる白色結晶を戸数し、エーテルで洗い、
減圧乾燥する。
4−チアゾリル)−2−C[1−[([[3−[((1
,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピ
リジニル)カルボニル〕アミン〕テトラヒドロ−2−オ
キソ−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミノ
〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕アミ
ノ〕−2−オキンエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2−
メチルプロピオン酸ジナトリウム塩の製造ニー A)テトラヒドロ−2(IH)−ピリミジノン50g(
674ミリモル)の1,3−ジアミノプロパンおよび7
9.7g(674ミリモル)のジエチルカーボネートの
混合物を、180℃のスチールオートクレーブで一夜加
熱する。得られる白色結晶を戸数し、エーテルで洗い、
減圧乾燥する。
所望生成物の収量55.5g、m、p、 265.1℃
。
。
B) テトラヒドロ−3−[(フェニルメチレン)ア
ミン)−2(LH)−ピリミジノン480 mQの水3
よび48mQの濃硫酸混合物中の20、@(199ミリ
モル〕のテトラヒドロ−2(LH)−ピリミジノンの懸
濁液に、13.8.p(199ミリモル)の亜硝酸ナト
リウムを0℃で加える。1.5時間撹拌後、26.12
g(399ミリモル〕の亜鉛を少量づつ加える。混合物
を0℃で20分8よび室温で1時間撹拌する。固体を戸
別し、19Ii(179ミリモル〕のベンズアルデヒド
を添加後、混合物を室温で一夜撹拌する。所望生成物を
戸数し、水洗し、減圧乾燥する。収量17゜9g、m、
p、 189.7℃。
ミン)−2(LH)−ピリミジノン480 mQの水3
よび48mQの濃硫酸混合物中の20、@(199ミリ
モル〕のテトラヒドロ−2(LH)−ピリミジノンの懸
濁液に、13.8.p(199ミリモル)の亜硝酸ナト
リウムを0℃で加える。1.5時間撹拌後、26.12
g(399ミリモル〕の亜鉛を少量づつ加える。混合物
を0℃で20分8よび室温で1時間撹拌する。固体を戸
別し、19Ii(179ミリモル〕のベンズアルデヒド
を添加後、混合物を室温で一夜撹拌する。所望生成物を
戸数し、水洗し、減圧乾燥する。収量17゜9g、m、
p、 189.7℃。
C) 3−アミノテトラヒドロ−2(IH)−ピリミ
ジノン・モノ塩酸塩 43mQの水および43mff1の濃塩酸混合物中の5
゜7g(28,0ミリモル)のテトラヒドロ−3−〔(
フェニルメチレン)アミノ) −2(IH) −ピリミ
ジノンの溶液を、ベンズアルデヒドが縮合しなくなるま
でスチーム蒸留する。残留溶液を蒸発乾固し、エタノー
ルと共にトリチュレートし、減圧乾燥する。収量3.0
7g、m、p、 210〜215℃。
ジノン・モノ塩酸塩 43mQの水および43mff1の濃塩酸混合物中の5
゜7g(28,0ミリモル)のテトラヒドロ−3−〔(
フェニルメチレン)アミノ) −2(IH) −ピリミ
ジノンの溶液を、ベンズアルデヒドが縮合しなくなるま
でスチーム蒸留する。残留溶液を蒸発乾固し、エタノー
ルと共にトリチュレートし、減圧乾燥する。収量3.0
7g、m、p、 210〜215℃。
D) 1.4−ジヒドロ−4−オキソ−5−(フェニ
ルメトキシ)−N−(テトラヒドロ−2−オキソ−1−
(2H)−ピリミジニル)−2−ピリジンカルボキサミ
ド 50mQのN、N−ジメチルホルムアミド中の4.7g
(19,2ミリモル〕の1.4−ジヒドロ−4−オキソ
−5−(フェニルメトキシ)−2−ピリジンカルボン酸
の溶液に、4゜74.p(23ミリモル)のジシクロへ
キシルカルボジイミドおよび0.29g(1,92ミリ
モル)のN−ヒドロキシベンゾトリアゾールを加える。
ルメトキシ)−N−(テトラヒドロ−2−オキソ−1−
(2H)−ピリミジニル)−2−ピリジンカルボキサミ
ド 50mQのN、N−ジメチルホルムアミド中の4.7g
(19,2ミリモル〕の1.4−ジヒドロ−4−オキソ
−5−(フェニルメトキシ)−2−ピリジンカルボン酸
の溶液に、4゜74.p(23ミリモル)のジシクロへ
キシルカルボジイミドおよび0.29g(1,92ミリ
モル)のN−ヒドロキシベンゾトリアゾールを加える。
混合物を1時間撹拌する。
これに、30mff1のN、N−ジメチルホルムアミド
中の2.85.p (19,2ミリモル)の3−アミノ
テトラヒF o −2(IH)−ピリミジノン・モノ塩
酸塩8よび1.94g(19,2ミリモル〕のトリエチ
ルアミンの溶液を加える。−夜撹拌後、ジシクロヘキシ
ル尿素を戸去し、N、N−ジメチルホルムアミドを減圧
蒸発する。残渣をエーテルと共にトリチュレートして、
8.47gの所望生成物(ジシクロヘキシル尿素を含有
)を得る。この粗物質を精製せずに次工程に用いる。
中の2.85.p (19,2ミリモル)の3−アミノ
テトラヒF o −2(IH)−ピリミジノン・モノ塩
酸塩8よび1.94g(19,2ミリモル〕のトリエチ
ルアミンの溶液を加える。−夜撹拌後、ジシクロヘキシ
ル尿素を戸去し、N、N−ジメチルホルムアミドを減圧
蒸発する。残渣をエーテルと共にトリチュレートして、
8.47gの所望生成物(ジシクロヘキシル尿素を含有
)を得る。この粗物質を精製せずに次工程に用いる。
E) 1.4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキ
ソ−N−(テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピ
リミジニル)−2−ピリジンカルボキサミド 22mff1のアセトニトリル中の1.71!!(約5
ミリモル)の粗1.4−ジヒドロー4−オキソ−5=(
フェニルメトキシ)−N−(テトラヒドロ−2−オキソ
−1(2H)−ピリミジニル)−2−ピリジン−カルボ
キサミドの懸濁液に、4.1g(20ミリモル)のビス
(トリメチルシリル)アセトアミドを加える。20分撹
拌後、未溶解のジシクロヘキシル尿素を戸去し、F液に
0.85gのパラジウム/炭素を加える。混合物を1時
間水素添加した後、触媒を戸去し、p液に2.1 ml
のメタノールおよび0.1 m(!の酢酸を加える。−
夜撹拌後、所望生成物を戸数し、減圧乾燥する。収量0
.7,7、m、p、285〜290℃(分解)。
ソ−N−(テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピ
リミジニル)−2−ピリジンカルボキサミド 22mff1のアセトニトリル中の1.71!!(約5
ミリモル)の粗1.4−ジヒドロー4−オキソ−5=(
フェニルメトキシ)−N−(テトラヒドロ−2−オキソ
−1(2H)−ピリミジニル)−2−ピリジン−カルボ
キサミドの懸濁液に、4.1g(20ミリモル)のビス
(トリメチルシリル)アセトアミドを加える。20分撹
拌後、未溶解のジシクロヘキシル尿素を戸去し、F液に
0.85gのパラジウム/炭素を加える。混合物を1時
間水素添加した後、触媒を戸去し、p液に2.1 ml
のメタノールおよび0.1 m(!の酢酸を加える。−
夜撹拌後、所望生成物を戸数し、減圧乾燥する。収量0
.7,7、m、p、285〜290℃(分解)。
F)(S)−41−([[[3−C[(1,4−ジヒド
ロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジニル)カ
ルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オキソ−1(2
H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミン〕カルボニル
〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕カルバミン酸フェ
ニルメチルエステル2.73g(10,82ミリモル)
の1.4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−N
−(テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピリミジ
ニル)−2−ピリジンカルボキサミド8よび8.63g
(43,29ミリモル〕のN−メチル−N−トリメチル
シリルトリフルオロアセトアミドを酢酸エチルに溶解し
、1時間撹拌する(溶液A)。80mQの酢酸エチル中
の2.38g(10,82ミリモル)の(S) −(2
−オキソ−3−アゼチジニル)カルバミン酸フェニルメ
チルエステルの懸濁液に、1.53g(10,82ミリ
モル)のクロロスルボニルイソシアネートを加える。1
時間撹拌後、溶液を0℃に冷却し、9mQのジクロロメ
タン、続いて上記溶液Aを加える。室温で一夜撹拌後、
氷水を加え、3N−塩酸でpH1,3に調整する。沈殿
物を戸別し、水洗し、減圧乾燥し、エーテルでスラリー
化する。収量4.95 p、 m、p、 150〜23
0’C(分解)。
ロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジニル)カ
ルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オキソ−1(2
H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミン〕カルボニル
〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕カルバミン酸フェ
ニルメチルエステル2.73g(10,82ミリモル)
の1.4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−N
−(テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピリミジ
ニル)−2−ピリジンカルボキサミド8よび8.63g
(43,29ミリモル〕のN−メチル−N−トリメチル
シリルトリフルオロアセトアミドを酢酸エチルに溶解し
、1時間撹拌する(溶液A)。80mQの酢酸エチル中
の2.38g(10,82ミリモル)の(S) −(2
−オキソ−3−アゼチジニル)カルバミン酸フェニルメ
チルエステルの懸濁液に、1.53g(10,82ミリ
モル)のクロロスルボニルイソシアネートを加える。1
時間撹拌後、溶液を0℃に冷却し、9mQのジクロロメ
タン、続いて上記溶液Aを加える。室温で一夜撹拌後、
氷水を加え、3N−塩酸でpH1,3に調整する。沈殿
物を戸別し、水洗し、減圧乾燥し、エーテルでスラリー
化する。収量4.95 p、 m、p、 150〜23
0’C(分解)。
G) (S)−N−(3−[[[(3−アミノ−2−
オキソー1−アゼチジニル)カルボニル〕アミン〕スル
ホニル〕テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピリ
ミジニル]−1,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−
オキソ−2−ピリジンカルボキサミド・内部塩 4.95g(8,57ミリモル)の(S) −[1−(
([[−4[(t、4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4
−オキソ−2−ピリジニル)カルボニル〕アミン〕テト
ラヒドロ−2−オキンー1(2H)−ピ’J ミジニル
〕スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3
−アゼチジニル〕カルバミン酸フェニルメチルエステル
を50m1のN、N −ジメチルホルムアミドに溶解す
る。2.51のパラジウム/炭素を加えた後、混合物を
1時間水素添加する。触媒を戸去し、続いて戸液を50
0 mQのインプロパツールに滴下する。所望生成物を
戸板し、エーテルでスラリー化し、減圧乾燥する。収量
3゜03 glm、p、160〜220℃(分解)。
オキソー1−アゼチジニル)カルボニル〕アミン〕スル
ホニル〕テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピリ
ミジニル]−1,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−
オキソ−2−ピリジンカルボキサミド・内部塩 4.95g(8,57ミリモル)の(S) −[1−(
([[−4[(t、4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4
−オキソ−2−ピリジニル)カルボニル〕アミン〕テト
ラヒドロ−2−オキンー1(2H)−ピ’J ミジニル
〕スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3
−アゼチジニル〕カルバミン酸フェニルメチルエステル
を50m1のN、N −ジメチルホルムアミドに溶解す
る。2.51のパラジウム/炭素を加えた後、混合物を
1時間水素添加する。触媒を戸去し、続いて戸液を50
0 mQのインプロパツールに滴下する。所望生成物を
戸板し、エーテルでスラリー化し、減圧乾燥する。収量
3゜03 glm、p、160〜220℃(分解)。
H) (S) −2−C[: C1−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−[[:t−(([(a−([(
1,4−ジヒドロ−5−とドロキシ−4−オキソ−2−
ピリジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−
オキソ−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミ
ノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニルコア
ミノ−2−オキソエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2−
メチルプロピオン酸ジフェニルメチルエステル 100 mQのN、N−ジメチルホルムアミド中の1゜
87g(4,26ミリモル)の(Z) −2−アミノ−
α−[[2−(ジフェニルメトキシ)−1,1−ジメチ
ル−2−オキソエトキシ〕イミノ〕−4−チアゾール酢
酸の溶液に、1.29g(12,8ミリモル)のトリエ
チルアミンおよび1.02,9 (4,26ミリモル)
のジフェニルクロロホスフエートヲ−30℃で加える。
4−チアゾリル)−2−[[:t−(([(a−([(
1,4−ジヒドロ−5−とドロキシ−4−オキソ−2−
ピリジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−
オキソ−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミ
ノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニルコア
ミノ−2−オキソエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2−
メチルプロピオン酸ジフェニルメチルエステル 100 mQのN、N−ジメチルホルムアミド中の1゜
87g(4,26ミリモル)の(Z) −2−アミノ−
α−[[2−(ジフェニルメトキシ)−1,1−ジメチ
ル−2−オキソエトキシ〕イミノ〕−4−チアゾール酢
酸の溶液に、1.29g(12,8ミリモル)のトリエ
チルアミンおよび1.02,9 (4,26ミリモル)
のジフェニルクロロホスフエートヲ−30℃で加える。
1時間撹拌後、0.43.@(4,26ミリモル)のト
リエチルアミンおよヒ1.s9g(4,26ミリモル)
の(S)−N−[:3−[[[(3−゛アミノー2−オ
キソー1−アゼチジニル)カルボニル]アミン]スルホ
ニル〕テトラヒドロ−2−オキンー1 (2H)−ピリ
ミジニル)−1,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−
オキソ−2−ピリジンカルボキサミド−内部塩を加える
。−10℃で2時間および0℃で1.5時間撹拌後、N
、N −ジメチルホルムアミドを減圧蒸発し、残渣に氷
水および酢酸エチルを加える。3N−塩酸でpH1゜0
に調整する。不溶残渣を戸別し、水洗し、減圧乾燥する
。収量2.58g。
リエチルアミンおよヒ1.s9g(4,26ミリモル)
の(S)−N−[:3−[[[(3−゛アミノー2−オ
キソー1−アゼチジニル)カルボニル]アミン]スルホ
ニル〕テトラヒドロ−2−オキンー1 (2H)−ピリ
ミジニル)−1,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−
オキソ−2−ピリジンカルボキサミド−内部塩を加える
。−10℃で2時間および0℃で1.5時間撹拌後、N
、N −ジメチルホルムアミドを減圧蒸発し、残渣に氷
水および酢酸エチルを加える。3N−塩酸でpH1゜0
に調整する。不溶残渣を戸別し、水洗し、減圧乾燥する
。収量2.58g。
I)[35(Z))−2−[[[1−(2−7ミノー4
−チアゾリル)−2−[(1−[[([3−[(1,4
−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジ
ニル)カルボニル]アミン]テトラヒドロ−2−オキソ
−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミノ〕カ
ルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕アミノ−
2−オキソエチリデン〕アミ/〕オキシ〕−2−メチル
プロピオン酸・ジナトリウム塩 4、4 mQのアニソール中の2.52.9(2,91
ミリモル)の(S) −2−[[[、1−(2−アミノ
−4−チアゾリル)−2−〔(1−C([3−(((1
,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピ
リジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オ
キソ−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミノ
〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕アミ
ン〕−2−オキソエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2−
メチルプロピオン酸ジフェニルメチルエステルの懸濁液
に、22m2のトリフルオロ酢酸を一10℃で滴下する
。1時間撹拌後、100+rd!のエーテルを加え、さ
らに30分撹拌後生成する沈殿物を戸別する。これを5
01rIQの水に溶解し、IN−水酸化す) IJウム
でpH6,5に調整する。凍結乾燥して2.86.pの
粗塩を得、これをXADにてMPLC条件(溶離剤とし
て水を使用)下でクロマトグラフィーに付す。純粋な凍
結乾燥生成物の収量0.16.9.m、p、 250〜
275℃。
−チアゾリル)−2−[(1−[[([3−[(1,4
−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジ
ニル)カルボニル]アミン]テトラヒドロ−2−オキソ
−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミノ〕カ
ルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕アミノ−
2−オキソエチリデン〕アミ/〕オキシ〕−2−メチル
プロピオン酸・ジナトリウム塩 4、4 mQのアニソール中の2.52.9(2,91
ミリモル)の(S) −2−[[[、1−(2−アミノ
−4−チアゾリル)−2−〔(1−C([3−(((1
,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピ
リジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オ
キソ−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミノ
〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕アミ
ン〕−2−オキソエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2−
メチルプロピオン酸ジフェニルメチルエステルの懸濁液
に、22m2のトリフルオロ酢酸を一10℃で滴下する
。1時間撹拌後、100+rd!のエーテルを加え、さ
らに30分撹拌後生成する沈殿物を戸別する。これを5
01rIQの水に溶解し、IN−水酸化す) IJウム
でpH6,5に調整する。凍結乾燥して2.86.pの
粗塩を得、これをXADにてMPLC条件(溶離剤とし
て水を使用)下でクロマトグラフィーに付す。純粋な凍
結乾燥生成物の収量0.16.9.m、p、 250〜
275℃。
実施例2
[3S (Z) ) −2−([(1−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−[[t−[[[3−4C(1,
4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリ
ジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロー2−オキ
ソ−1(2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミノ〕
スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3−
アゼチジニル〕アミノ〕−2−オキソエチリデン〕アミ
ノ)−2−メチルプロピオン酸ジナトリウム塩の製造ニ
ーA) (テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)
−ピリミジニル)カルバミン酸フェニルメチルエステル 3−アミノテトラヒドロ−2(LH)−ピリミジノン・
モノ塩酸塩(30,p、0.198モル)を、240m
ff1の水および200mQのテトラヒドロフラン混合
物に溶解する。pH8,5に調整し、pHを8〜9に保
持しながら、ベンジルクロロホルメート(33,8Ii
、0.198モル)を滴下する。pHが一定値にとどま
った後、混合物をさらに1時間撹拌する。テトラヒドロ
フランを減圧除去し、得られる結晶を吸引戸数し、エー
テルと共にトリチュレートし、減圧乾燥する。収量35
.6 p 、 m、p。
4−チアゾリル)−2−[[t−[[[3−4C(1,
4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリ
ジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロー2−オキ
ソ−1(2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミノ〕
スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3−
アゼチジニル〕アミノ〕−2−オキソエチリデン〕アミ
ノ)−2−メチルプロピオン酸ジナトリウム塩の製造ニ
ーA) (テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)
−ピリミジニル)カルバミン酸フェニルメチルエステル 3−アミノテトラヒドロ−2(LH)−ピリミジノン・
モノ塩酸塩(30,p、0.198モル)を、240m
ff1の水および200mQのテトラヒドロフラン混合
物に溶解する。pH8,5に調整し、pHを8〜9に保
持しながら、ベンジルクロロホルメート(33,8Ii
、0.198モル)を滴下する。pHが一定値にとどま
った後、混合物をさらに1時間撹拌する。テトラヒドロ
フランを減圧除去し、得られる結晶を吸引戸数し、エー
テルと共にトリチュレートし、減圧乾燥する。収量35
.6 p 、 m、p。
161〜163℃。
B)テトラヒドロ−2−オキソ−3−[[(フェニルメ
トキシ)カルボニルコアミノ)−1(2H)−ピリミジ
ンカルボキサミド 500 mQの酪酸エチル中の(テトラヒドロ−2−オ
キソ−1(2H)−ピリミジニル)カルバミン酸フェニ
ルメチルエステル(35,5,p、 135.9ミリモ
ル)の懸濁液に、クロロスルホニルイソシアネート(2
4,0g、169.9ミリモル)を加える。得られる溶
液を1時間撹拌し、175mQの水を加えて加水分解す
る。各相を分離し、有機相を水および塩水で洗い、硫酸
マグネシウム上で乾燥する。溶媒を蒸発し、残渣をエー
テルと共にトリチュレートして、38.0gの所望生成
物を得る。
トキシ)カルボニルコアミノ)−1(2H)−ピリミジ
ンカルボキサミド 500 mQの酪酸エチル中の(テトラヒドロ−2−オ
キソ−1(2H)−ピリミジニル)カルバミン酸フェニ
ルメチルエステル(35,5,p、 135.9ミリモ
ル)の懸濁液に、クロロスルホニルイソシアネート(2
4,0g、169.9ミリモル)を加える。得られる溶
液を1時間撹拌し、175mQの水を加えて加水分解す
る。各相を分離し、有機相を水および塩水で洗い、硫酸
マグネシウム上で乾燥する。溶媒を蒸発し、残渣をエー
テルと共にトリチュレートして、38.0gの所望生成
物を得る。
m、p、 135.6℃。
C)3−アミノテトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)
−ピリミジンカルボキサミド テトラヒドロ−2−オキソ−3−〔((フェニルメトキ
シ)カルボニルコアミノ) −1(2H)−ピリミジン
カルボキサミド(37,45g、128゜1ミリモル)
を650mQのN、N−ジメチルホルムアミドに溶解し
、これを15gのパラジウム/活性炭上で2時間水素添
加する。触媒を戸去し、溶媒を減圧蒸発する。エーテル
と共にトリチュレートして、20.1.@の所望生成物
を得る。m、9.153〜156℃。
−ピリミジンカルボキサミド テトラヒドロ−2−オキソ−3−〔((フェニルメトキ
シ)カルボニルコアミノ) −1(2H)−ピリミジン
カルボキサミド(37,45g、128゜1ミリモル)
を650mQのN、N−ジメチルホルムアミドに溶解し
、これを15gのパラジウム/活性炭上で2時間水素添
加する。触媒を戸去し、溶媒を減圧蒸発する。エーテル
と共にトリチュレートして、20.1.@の所望生成物
を得る。m、9.153〜156℃。
D)3−(([4,5−ビス(フェニルメトキシ)−2
−ピリジニル〕カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2
−オキンー1 (2H)−ピリミジンカルボキサミド 350mQのN、N−ジメチルホルムアミド中の3−ア
ミノテトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピリミジ
ンカルボキサミド(10,9,63,2ミリモル)の溶
液に、ジシクロへキシルカルボジイミド(15,7g、
75.9ミリモル)、N−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル(0,97lI、 6.32ミリモル)Eよび4,5
−ビス(フェニルメトキシ)−2−ピリジンカルボン酸
(21,2g、63.2ミリモル)を加え、混合物を室
温で一夜撹拌する。ジシクロヘキシル尿素(13,6g
)を戸去し、溶媒を減圧除去する。残渣をエーテルと共
にトリチュレートして、27.5gの所望生成物を得る
。m、p、 192〜195℃。
−ピリジニル〕カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2
−オキンー1 (2H)−ピリミジンカルボキサミド 350mQのN、N−ジメチルホルムアミド中の3−ア
ミノテトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピリミジ
ンカルボキサミド(10,9,63,2ミリモル)の溶
液に、ジシクロへキシルカルボジイミド(15,7g、
75.9ミリモル)、N−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル(0,97lI、 6.32ミリモル)Eよび4,5
−ビス(フェニルメトキシ)−2−ピリジンカルボン酸
(21,2g、63.2ミリモル)を加え、混合物を室
温で一夜撹拌する。ジシクロヘキシル尿素(13,6g
)を戸去し、溶媒を減圧除去する。残渣をエーテルと共
にトリチュレートして、27.5gの所望生成物を得る
。m、p、 192〜195℃。
E)3−([(1,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4
−オキノー2−ピリジニル)カルボニル〕アミン〕テト
ラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピリミジンカルボ
キサミド 3−(([4,5−ビス(フェニルメトキシ)−2−ピ
リジニル〕カルボニル〕アミノ〕−テトラヒドロ−2−
オキソ−1(2H)−ピリミジンカルボキサミド(27
,45g、57.7ミリモル)を750mQのN、N−
ジメチルホルムアミドに溶解し、これを10yのパラジ
ウム/活性炭上で1.5時間水素添加する。触媒を戸去
し、溶媒を減圧留去する。残渣をエーテルと共に2回ト
リチュレートして、ツーバッチの所望生成物(15,5
gと4.0g)を得る。m、p、 215〜220℃。
−オキノー2−ピリジニル)カルボニル〕アミン〕テト
ラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−ピリミジンカルボ
キサミド 3−(([4,5−ビス(フェニルメトキシ)−2−ピ
リジニル〕カルボニル〕アミノ〕−テトラヒドロ−2−
オキソ−1(2H)−ピリミジンカルボキサミド(27
,45g、57.7ミリモル)を750mQのN、N−
ジメチルホルムアミドに溶解し、これを10yのパラジ
ウム/活性炭上で1.5時間水素添加する。触媒を戸去
し、溶媒を減圧留去する。残渣をエーテルと共に2回ト
リチュレートして、ツーバッチの所望生成物(15,5
gと4.0g)を得る。m、p、 215〜220℃。
F) (S)−41−[[[(((3−(((1,4
−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジ
ニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オキソ
−1(2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミノ〕ス
ルホニル〕アミン〕カルボニル〕−〕2−オ牛ソー3−
アゼチジニル〕カルバミン酸フェニルメチルエステ ル00mQの酢酸エチル中の(S) −< 2−オキソ
−3−アゼチジニル)カルバミン酸フェニルメチルエス
テル(6,61g、30.0ミリモル)の懸濁液に、ク
ロロスルホニルイソシアネート(4,25y、30.O
ミlJモル)を加え、混合物を室温で1時間撹拌する(
溶液A)。
−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジ
ニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オキソ
−1(2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミノ〕ス
ルホニル〕アミン〕カルボニル〕−〕2−オ牛ソー3−
アゼチジニル〕カルバミン酸フェニルメチルエステ ル00mQの酢酸エチル中の(S) −< 2−オキソ
−3−アゼチジニル)カルバミン酸フェニルメチルエス
テル(6,61g、30.0ミリモル)の懸濁液に、ク
ロロスルホニルイソシアネート(4,25y、30.O
ミlJモル)を加え、混合物を室温で1時間撹拌する(
溶液A)。
300−の酢酸エチル中の3−[((1,4−ジヒドロ
−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジニル)カル
ボニル]アミノ〕テトラヒドロ−2−オキンー1 (2
)f)−ピリミジンカルボキサミド(8,86g、30
.0ミリモル)の溶液に、N−メチル−N−トリメチル
シリルトリフルオロアセトアミド(23,91g、12
0ミリモル)を加える。30分後に透明溶液が得られ、
これに300rnQのジクロロメタンを加えた後、上記
溶液Aを0℃で滴下する。室温で一夜撹拌後、300
mQの水を加えると、油状残渣が分離する。溶媒をデカ
ントして除去し、残渣をエーテルと共にトリチュレート
して、10.27.pの所望生成物(粗製)を得る。こ
れを水に懸濁し、2N−水酸化ナトリウムでpH6に調
整する。得られる溶液の凍結乾燥後、生成物を4回にわ
けで、XADにてMPLC条件(溶離剤として水および
水/アセトニトリル=9:1を使用)下でクロマトグラ
フィーに付す。生成物含有画分を凍結乾燥して、トータ
ル5.2gの所望生成物を得る。
−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジニル)カル
ボニル]アミノ〕テトラヒドロ−2−オキンー1 (2
)f)−ピリミジンカルボキサミド(8,86g、30
.0ミリモル)の溶液に、N−メチル−N−トリメチル
シリルトリフルオロアセトアミド(23,91g、12
0ミリモル)を加える。30分後に透明溶液が得られ、
これに300rnQのジクロロメタンを加えた後、上記
溶液Aを0℃で滴下する。室温で一夜撹拌後、300
mQの水を加えると、油状残渣が分離する。溶媒をデカ
ントして除去し、残渣をエーテルと共にトリチュレート
して、10.27.pの所望生成物(粗製)を得る。こ
れを水に懸濁し、2N−水酸化ナトリウムでpH6に調
整する。得られる溶液の凍結乾燥後、生成物を4回にわ
けで、XADにてMPLC条件(溶離剤として水および
水/アセトニトリル=9:1を使用)下でクロマトグラ
フィーに付す。生成物含有画分を凍結乾燥して、トータ
ル5.2gの所望生成物を得る。
G)(3S(Z))−2−(((1−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−[(1−((([[(3−[((
1,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−
ピリジニル)カルボニル)アミノコテトラヒドロ−2−
オキソ−1(2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミ
ノ〕スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−
3−アゼチジニル〕アミノ〕−2−オキソエチリデン〕
アミノ〕オキシ〕−2−メチルプロピオン酸ジフェニル
メチルエステル 250−のN、N−ジメチルホルムアミド中の(S)−
41−([(([(3−(((1,4−ジヒドロ−5−
ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジニル)カルボニル
〕アミノ〕スルホニル〕アミン〕カルボニル〕−2−オ
キソ−3−アゼチジニル〕カルバミン酸フェニルメチル
エステル(5,24y、8.44ミリモル)の溶液に、
N−メチル−N−トリメチルシリル・トリフルオロアセ
トアミド(8,41、@、 42.2ミリモル)を加え
る。30分後、1.8yのパラジウム/炭素を加え、混
合物を1時間水素添加する。触媒をF去し、F液に(Z
)−2−アミノ−α−[(2−(ジフェニルメトキシ)
−1,1−ジメチル−2−オキソエトキシ〕イミノ〕−
4−チアゾール酢酸・IH−ベンゾトリアゾール−1−
イルエステル(4,22,9’17.59ミリモル)を
加える。−夜撹拌後、溶媒を留去し、残渣を100m1
jの水と共にトリチュレートする。得られる固体を吸引
戸別し、減圧乾燥する。収量6.1410 H)(3S(Z))−2−(([1−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−((1−((([3−([(1,
4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリ
ジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オキ
ンー1 (2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミン
〕スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3
−アゼチジニル〕アミノ〕−2−オキンエチリデン〕ア
ミノ〕オキシ〕−2−メチルプロピオン酸ジナトリウム
塩 6、5 mQのアニンール中の[3S (Z) ) −
2−(((1−(2−アミ7−4−チアゾリル)−2−
((1−[(((((3−(((1,4−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジニル〕カルボニ
ル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−
ピリミジニル〕カルボニル〕アミノ〕スルホニル〕アミ
ノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕ア
ミノ〕−2−オキソエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2
−メチルフロピオン酸ジフェニルメチルエステル(6,
1,p16゜72ミリモル)の懸濁液に、65m(!の
トリフルオロ酢酸を0℃で滴下する。1時間撹拌後、揮
発成分を減圧留去し、油状残渣をエーテルと共にトリチ
ュレートして固体を得、これを戸別し、エーテルで洗い
、減圧乾燥する。この塩固体を水に懸濁し、2N−水酸
化ナトリウムでpH6に調整する。凍結乾燥して8.6
0gの粗生成物を得、これを7回にわけて、オルガノゼ
ン(Organogen )にて水で溶離するクロマト
グラフィーに付し、凍結乾燥後、トータル2.5gの所
望生成物を得る。第2クロマトグラフイーにより、0.
66.9の所望生成物を得る。m、p、) 300 ’
C9 特許出願人 イー・アール・スクイブ・アンド・サン
ズ・インコーホレイテッド
−チアゾリル)−2−[(1−((([[(3−[((
1,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−
ピリジニル)カルボニル)アミノコテトラヒドロ−2−
オキソ−1(2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミ
ノ〕スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−
3−アゼチジニル〕アミノ〕−2−オキソエチリデン〕
アミノ〕オキシ〕−2−メチルプロピオン酸ジフェニル
メチルエステル 250−のN、N−ジメチルホルムアミド中の(S)−
41−([(([(3−(((1,4−ジヒドロ−5−
ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジニル)カルボニル
〕アミノ〕スルホニル〕アミン〕カルボニル〕−2−オ
キソ−3−アゼチジニル〕カルバミン酸フェニルメチル
エステル(5,24y、8.44ミリモル)の溶液に、
N−メチル−N−トリメチルシリル・トリフルオロアセ
トアミド(8,41、@、 42.2ミリモル)を加え
る。30分後、1.8yのパラジウム/炭素を加え、混
合物を1時間水素添加する。触媒をF去し、F液に(Z
)−2−アミノ−α−[(2−(ジフェニルメトキシ)
−1,1−ジメチル−2−オキソエトキシ〕イミノ〕−
4−チアゾール酢酸・IH−ベンゾトリアゾール−1−
イルエステル(4,22,9’17.59ミリモル)を
加える。−夜撹拌後、溶媒を留去し、残渣を100m1
jの水と共にトリチュレートする。得られる固体を吸引
戸別し、減圧乾燥する。収量6.1410 H)(3S(Z))−2−(([1−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−((1−((([3−([(1,
4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリ
ジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オキ
ンー1 (2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミン
〕スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3
−アゼチジニル〕アミノ〕−2−オキンエチリデン〕ア
ミノ〕オキシ〕−2−メチルプロピオン酸ジナトリウム
塩 6、5 mQのアニンール中の[3S (Z) ) −
2−(((1−(2−アミ7−4−チアゾリル)−2−
((1−[(((((3−(((1,4−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピリジニル〕カルボニ
ル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オキソ−1(2H)−
ピリミジニル〕カルボニル〕アミノ〕スルホニル〕アミ
ノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕ア
ミノ〕−2−オキソエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2
−メチルフロピオン酸ジフェニルメチルエステル(6,
1,p16゜72ミリモル)の懸濁液に、65m(!の
トリフルオロ酢酸を0℃で滴下する。1時間撹拌後、揮
発成分を減圧留去し、油状残渣をエーテルと共にトリチ
ュレートして固体を得、これを戸別し、エーテルで洗い
、減圧乾燥する。この塩固体を水に懸濁し、2N−水酸
化ナトリウムでpH6に調整する。凍結乾燥して8.6
0gの粗生成物を得、これを7回にわけて、オルガノゼ
ン(Organogen )にて水で溶離するクロマト
グラフィーに付し、凍結乾燥後、トータル2.5gの所
望生成物を得る。第2クロマトグラフイーにより、0.
66.9の所望生成物を得る。m、p、) 300 ’
C9 特許出願人 イー・アール・スクイブ・アンド・サン
ズ・インコーホレイテッド
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_は ▲数式、化学式、表等があります▼ R_1はカルボン酸から誘導されるアシル基、R_2お
よびR_3は同一もしくは異なつて、それぞれ水素、ア
ルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、フ
ェニル、置換フェニルまたは4,5,6もしくは7員複
素環基、またはR_2とR_3の一方が水素で、他方が
アジド、ハロメチル、ジハロメチル、トリハロメチル、
アルコキシカルボニル、2−フェニルエテニル、2−フ
ェニルエチニル、カルボキシル、−CH_2X_1、−
S−X_2、−O−X_2、▲数式、化学式、表等があ
ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼もしくは
▲数式、化学式、表等があります▼、 X_1はアジド、アミノ、ヒドロキシ、カルボキシル、
アルコキシカルボニル、アルカノイルアミノ、フェニル
カルボニルアミノ、(置換フェニル)カルボニルアミノ
、アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキ
シ、(置換フェニル)スルホニルオキシ、フェニル、置
換フェニル、シアノ、▲数式、化学式、表等があります
▼、−S−X_2、または−O−X_2、X_2はアル
キル、置換アルキル、フェニル、置換フェニル、フェニ
ルアルキル、(置換フェニル)アルキル、アルカノイル
、フェニルアルカノイル、(置換フェニル)アルカノイ
ル、フェニルカルボニル、(置換フェニル)カルボニル
、またはヘテロアリールカルボニル、 X_3とX_4の一方は水素で、他方は水素またはアル
キル、またはX_3とX_4はそれらが結合する炭素原
子と合してシクロアルキル、 X_5はホルミル、アルカノイル、フェニルカルボニル
、(置換フェニル)カルボニル、フェニルアルキルカル
ボニル、(置換フェニル)アルキルカルボニル、カルボ
キシル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、(
置換アミノ)カルボニル、またはシアノ、 X_6およびX_7は同一もしくは異なつて、それぞれ
水素、アルキル、フェニルまたは置換フェニル、または
X_6が水素で、X_7がアミノ、置換アミノ、アルカ
ノイルアミノまたはアルコキシ、またはX_6とX_7
はそれらが結合する窒素原子と合して4,5,6もしく
は7員複素環基、 Aは−CH=CH−、−(CH_2)_m−、−(CH
_2)_m−O−、−(CH_2)_m−NH−または
−CH_2−S−CH_2−、mは0、1または2、 R_4は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
す▼ (ここで、Xは水素、ハロゲン、カルボキシル、スルホ
、カルバモイル、アミノスルホニル、シアノ、アルキル
、アルカノイルまたはアルコキシカルボニルである)、 A_1は単結合、▲数式、化学式、表等があります▼、
−NH−、または▲数式、化学式、表等があります▼、 A_2は単結合、−NH−、−CH_2−CH_2−N
H−、または▲数式、化学式、表等があります▼、 A_3は単結合、−CH=CH−、−(CH_2)_t
−、−NH−(CH_2)_p−または ▲数式、化学式、表等があります▼(ここで、tは1、
2、3または4、およびpは0または1である)、およ
び A_4は単結合、−CH_2−、−NH−CH_2−ま
たは−N=CH−である〕 で示される化合物、またはその医薬的に許容しうる塩。 2、Rが ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項第1項記載の化合物。 3、Rが ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項第1項記載の化合物。 4、R_4が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項第1項記載の化合物。 5、R_4が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項第1項記載の化合物。 6、R_4が ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項第1項記載の化合物。 7、R_2とR_3が共に水素である請求項第1項記載
の化合物。 8、Rが ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項第1項記載の化合物。 9、R_1が▲数式、化学式、表等があります▼、R_
gが1−アミノ−4−チアゾリル、R_iがメチル、エ
チル、カルボキシメチル、1−カルボキシ−1−メチル
エチル、1−カルボキシ−1−エチル、または ▲数式、化学式、表等があります▼およびsが1、2ま
たは3であ る請求項第1項記載の化合物。 10、R_1が▲数式、化学式、表等があります▼、R
_gが2−アミノ−4−チアゾリル、R_iがカルボキ
シメチル、1−カルボキシ−1−メチルエチル、1−カ
ルボキシ−1−エチル、または ▲数式、化学式、表等があります▼、およびsが1、2
または3であ る請求項第1項記載の化合物。 11、〔3S(Z)〕−2−〔〔〔1−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−〔〔1−〔〔〔〔3−〔〔(1
,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピ
リジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オ
キソ−1(2H)−ピリミジニル〕スルホニル〕アミノ
〕カルボニル〕−2−オキソ−3−アゼチジニル〕アミ
ノ〕−2−オキソエチリデン〕アミノ〕オキシ〕−2−
メチルプロピオン酸である請求項第1項記載の化合物ま
たはその医薬的に許容しうる塩。 12、〔3S(Z)〕−2−〔〔〔1−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−〔〔1−〔〔〔〔3−〔〔(1
,4−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−4−オキソ−2−ピ
リジニル)カルボニル〕アミノ〕テトラヒドロ−2−オ
キソ−1(2H)−ピリミジニル〕カルボニル〕アミノ
〕スルホニル〕アミノ〕カルボニル〕−2−オキソ−3
−アゼチジニル〕アミノ〕−2−オキソエチリデン〕ア
ミノ〕−2−メチルプロピオン酸である請求項第1項記
載の化合物またはその医薬的に許容しうる塩。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/137,265 US4871841A (en) | 1987-12-23 | 1987-12-23 | 2-Oxo-1-[[(substituted sulfonyl)amino]-carbonyl]azetidines |
US137,265 | 1987-12-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01203378A true JPH01203378A (ja) | 1989-08-16 |
Family
ID=22476557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63324703A Pending JPH01203378A (ja) | 1987-12-23 | 1988-12-22 | 2―オキソ―1―[[(置換スルホニル)アミノ]カルボニル]アゼチジン類 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4871841A (ja) |
EP (1) | EP0321928A3 (ja) |
JP (1) | JPH01203378A (ja) |
AU (1) | AU2735888A (ja) |
CA (1) | CA1323029C (ja) |
DK (1) | DK718688A (ja) |
HU (1) | HU200456B (ja) |
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ZA (1) | ZA889036B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5317100A (en) * | 1988-11-04 | 1994-05-31 | Ciba-Geigy Corp. | Process for the preparation of optically active acyloxyazetidinones |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4587047A (en) * | 1981-04-09 | 1986-05-06 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | 2-oxo-1-[[(substituted sulfonyl)amino]-carbonyl]azetidines |
EG18314A (en) * | 1985-09-26 | 1993-02-28 | Squibb & Sons Inc | Process for preparing of 2-oxo-1((substituted sulfonyl)amino)carbonyl)-azitidines |
US4743685A (en) * | 1985-09-26 | 1988-05-10 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | 2-oxo-1-[[(substituted sulfonyl)amino]carbonyl]azetidines |
US4801705A (en) * | 1986-06-23 | 1989-01-31 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | 2-oxo-1-(((substituted sulfonyl)amino)-carbonyl)azetidines |
-
1987
- 1987-12-23 US US07/137,265 patent/US4871841A/en not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-11-24 CA CA000584058A patent/CA1323029C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-28 NZ NZ227103A patent/NZ227103A/en unknown
- 1988-12-01 ZA ZA889036A patent/ZA889036B/xx unknown
- 1988-12-20 EP EP88121310A patent/EP0321928A3/en not_active Ceased
- 1988-12-20 AU AU27358/88A patent/AU2735888A/en not_active Abandoned
- 1988-12-22 HU HU886581A patent/HU200456B/hu not_active IP Right Cessation
- 1988-12-22 DK DK718688A patent/DK718688A/da not_active Application Discontinuation
- 1988-12-22 JP JP63324703A patent/JPH01203378A/ja active Pending
Also Published As
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---|---|
HUT49134A (en) | 1989-08-28 |
US4871841A (en) | 1989-10-03 |
ZA889036B (en) | 1989-11-29 |
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CA1323029C (en) | 1993-10-12 |
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NZ227103A (en) | 1990-04-26 |
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