JPH01200188A - 連続処理装置 - Google Patents

連続処理装置

Info

Publication number
JPH01200188A
JPH01200188A JP2501988A JP2501988A JPH01200188A JP H01200188 A JPH01200188 A JP H01200188A JP 2501988 A JP2501988 A JP 2501988A JP 2501988 A JP2501988 A JP 2501988A JP H01200188 A JPH01200188 A JP H01200188A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fixed
furnace
moving beam
mounting member
furnace body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2501988A
Other languages
English (en)
Inventor
Seijirou Kawada
川田 静二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DENKOO KK
Denkoh Co Ltd
Original Assignee
DENKOO KK
Denkoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DENKOO KK, Denkoh Co Ltd filed Critical DENKOO KK
Priority to JP2501988A priority Critical patent/JPH01200188A/ja
Publication of JPH01200188A publication Critical patent/JPH01200188A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は、連続処理装置に関し、例えば、熱処理その他
の処理を連続的に施す連続処理装置に関する。
口、従来技術 半導体部品や、セラミックス基板にスクリーン印刷によ
って所定の回路パターンを形成し、焼成してなる厚膜集
積回路、或いは配向膜や偏向膜が形成された液晶表示装
置用ガラス基板等の電子部品の熱処理にあっては、塵埃
の付着によって電子部品の品質が甚だしく劣化するので
、清浄な雰囲気中で熱処理がなされる必要がある。
上記電子部品の熱処理を塵埃のない清浄な雰囲気中で連
続的に行う熱処理炉として、炉内に摺動する部分がなく
、従って塵埃の発生しない所謂ウオーキングビーム式搬
送機構を用いた連続熱処理炉の採用が考えられる。
このウオーキングビーム搬送機構は、長形の炉本体の長
さ方向の一端側入口から他端側出口に亘って炉本体内を
貫通する複数本の位置固定された平行棒材からなる固定
ビームと、この固定ビームに平行して上記と同様に炉本
体内を貫通する複数本の平行棒材からなりかつ前記固定
ビームに対する関係位置が上下及び長さ方向の前後に変
位可能に設けられた移動ビームとを備えている。そして
、駆動装置によって前記移動ビームを駆動して、この移
動ビームを前記固定ビームに対して上昇、前進、下降、
後退の順に反復して周期的に変位運動させることにより
、炉本体内で被加熱物を前記両ビームに交互に載置させ
るようにしながら炉本体の長さ方向に漸次搬送するよう
に構成されている。
このような搬送機構を備えた連続熱処理炉は、通常、鋼
片や鋼管等の熱処理に使用されている。
上記のウオーキングビーム搬送機構を備えた連続熱処理
炉では、固定ビーム、移動ビーム共に、高温に加熱され
る炉内で撓みを起こすのを防止するため、炉内で支柱に
よって支持されている。
ビームを炉内で支持する支柱も同様の運動をするように
している。
このため、第9図及び第9図のX−X線矢′fMlfr
面図である第10図に示すように、固定ビーム66は炉
床63上に立設した支柱87に支持させているのである
が、移動ビーム69を支持する支柱88は、炉本体61
を支持する支持台65及び炉床63を貫通する長さ方向
に細長の貫通孔61c及び65aを経由して炉外下方に
突出させて移動架枠71に固定具73によって固定させ
、支柱88が上下方向と長さ方向の前後とに往復動可能
としている。炉内外の雰囲気のシールは水封機構によっ
てなされる。即ち、移動架枠71上に設けられた細長の
ウォータトラフ(水桶)72に支柱88を収容し、水7
4と支持台65からウォータトラフ72中に突入するシ
ール板70とによって炉内外をシールする。シール板7
0の先端に設けられたスクレーバ70aは、炉内で発生
してウォータトラフ72中に落下するスケール(金属の
酸化皮膜)を、支柱88の前後方向の運動によって移送
する役割を果たす。
このような水封機構では、水蒸気が発生してこれが炉内
に侵入し、炉内雰囲気を悪化させるので、前述したよう
な清浄な雰囲気中で熱処理を行う連続熱処理炉にあって
は甚だ不都合である。また、水蒸気の侵入によって炉内
温度が不均一になる。
水封機構に替えて機械的機構によっt支柱88を運動さ
せながら炉内外をシールすることも考えられるが、これ
では機構が複雑になって故障し易く、その上、摺動部分
から塵埃が発生して炉内雰囲気を害するようになり、こ
れも不都合である。
このようなことは、雰囲気処理等熱処理以外の連続処理
装置についても同様である。
ハ1発明の目的 本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、
処理装置本体内で上記移動ビームのような移動可能な載
置部材が撓むことがなく、かつ、処理装置本体内の雰囲
気や炉内温度の均一性が悪化することのない上に故障の
虞のない連続処理装置を提供することを目的としている
二1発明の構成 本発明は、処理装置本体と;第一〇載置部材及び移動可
能な第二〇載置部材からなる被処理物載置手段と;前記
第二の載置部材を前記第一の載置部材に対し反復して変
位運動させ、これによりこれら第一及び第二の載置部材
間で被処理物を交互に載置しながらこの被処理物を搬送
する駆動手段とを具備する連続処理装置に於いて、前記
処理装置本体外で前記第二の載置部材の両端側が前記駆
動手段に結合され、かつ、前記処理装置本体内で前記第
二の載置部材に作用する曲げモーメントが小さくなるよ
うに、前記第二の載置部材の前記両端側が前記搬送方向
に対して所定の角度で結合されることを特徴とする連続
処理装置に係る。
ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。
第4図及び第5図はウオーキングビーム式搬送機構を備
えた連続熱処理炉を示し、第4図は搬送方向に沿う断面
図、第5図は第4図のV−V線矢視断面図である。
炉壁、天井、炉床は断熱材3からなっていて、これらは
鋼板製外殻5に覆われ、天井と炉床との内側には平板状
の赤外線ヒータ2が配置され、炉内周面はヒータ2をも
含めてセラミックス又は石英からなる被覆層4によって
被覆されている。これらによって筒状の炉本体1が構成
される。また、炉本体1の一端には開口1aによって装
入口が形成され、他端には開口1bによって排出口が形
成されている。
炉本体1内の両側縁側には、炉床上にステンレス鋼S 
U S 304製の角棒6aが配置され、角棒6a1内 から上方啜側に向けてL字形を呈する5US304製の
第一の支持部6bが等間隔に多数固定されていて、角棒
6aと第一の支持部6bとで第一の載置部材6が構成さ
れる。
炉本体1内には断面寸法80mmX4Qm++の中空の
ステンレス81SUS304製の2本の移動ビーム9a
が装入口1a、排出口−bから炉本体1外へ突出するよ
うに挿入されていて、その両端は炉本体1外で上下動駆
動装置24A、24Aに固定され、上下動駆動装置24
A、24Aは、前進、後退駆動装置24日、24日に固
定されて、移動ビーム9aの上下動及び前進後退が可能
になっている。
上下動駆動装置24A及び前進、後退駆動装置24日り
字形を呈する5US304製の第二の支持部9bが等間
隔に多数固定されていて、移動ビーム9aと第二の支持
部9bとで第二の載置部材9が構成される。第二の支持
部9bは、第一の支持部6bと同数にしてあり、上下動
及び前進、後退が可能となるように、第一の支持部6b
よりも外側に位置している。図中、Wは板状の被処理物
である。
第6図は、第二の載置部材9の左右3個ずつの第二の支
持部9b上に被処理物Wが載置、支持されている状態を
図解的に示す炉本体内部の概略斜視図である。
被処理物の搬送は次のようにして遂行される。
上下動駆動装置24A(第4図参照)を駆動して第7図
(alに部分正面図で、同図(b)に側面図で示すよう
に、移動ビーム9aが実線位置から一点鎖線で示す位置
に矢印Uの方向に上昇して第二〇支持部9bが第一の支
持部6bの下側からこれよりも上方に移動し、第一の支
持部6bに載置されていた被処理物Wは一点鎖線で示す
ように第二の支持部9bに移換えられてこれに載置され
る0次に、前進、後退駆動装置24日(第4図参照)が
駆動して移動ビーム9aが矢印Fの方向に緩やかに前淋 進し、被処理物Wは一点鎖線で示す位置から二l鎖線で
示す位置にL寸法だけ前進する。次に、上下動駆動装置
24Aが駆動して移動ビーム9aが矢印りの方向に下降
し、第二の支持部9aが第一の支持部6bよりも下方に
移動して被処理物Wは三点鎖線で示すように第一の支持
部6bに移換えられてこれに載置される。次に、前進、
後退駆動装置24Aが駆動し、移動ビーム9aは矢印R
の方向に急速に後退して元の位置に復する。
上記のようにして、移動ビーム9aは角棒6a前進を緩
速、後退を急速にするのは、時間的な加熱特性曲線が段
階状にならないよう、緩やかに温度変化させるためであ
る。このように前進と後退とで移動速度を変えるには、
例えば、回転数を容易に変化させられる直流モータその
他の適宜のモータが、駆動用モータ18(第4図参照)
として便利に使用できる。また、通常の交流誘導モータ
を使用し、自動車の変速に於けると同様にシフトフォー
クによるギアチェンジで駆動軸19(第4図参照)の回
転数を変えるようにしても良い。
前述した移動ビーム9aの周期的な変位運動により、被
処理物Wは炉本体1内を前記の距1iIILずつ徐々に
搬送方向に搬送されて、所定の温度領域を所定の時間で
通過し、所要の熱処理が施される。
本例で注目すべきことは、移動ビームが上下動駆動装置
に所定の角度で固定されていることである。以下、これ
について第1図によって詳述する。
固定基台22上には、モータ18が固定され、モータ1
8の軸には雄ねじを設けた駆動軸19が結合していて、
雌ねじを設け、固定基台22上に立設された2個の駆動
軸支持板20.20に駆動軸19が螺合している。駆動
軸支持板20.20の間には、雌ねじを設けた可動基台
21が駆動軸19に螺合していて、モータ18の駆動に
よる駆動軸19の回動によって可動基台21がガイド2
3に案内されて往復動するようにしである。上記各部分
によって前進、後退駆動装置24日が構成される。
可動基台21上にはシリンダ25が立設され、シリンダ
25内にプランジャ27が嵌入し、プランジャ27は、
シリンダ25内に配設されたカム26上に載置されて図
示しない駆動手段によるカム26の回動によって上下動
する。プランジャ27の上端面には合板28が固定され
ている。上記各部分によって上下動駆動装置24Aが構
成される。
合板28上では移動ビーム9aの端部が抑え板29によ
って合板28に抑え付けられ、移動ビーム9aが上下動
駆動装置24Aに固定される。移動ビーム9aの上下動
駆動装置24Aへの固定は、抑え板29と合板28とを
スプリングワッシャ32を介してボルト30、ナツト3
1で締め付けることによってなされる。
合板28の上面は、移動ビーム9aの中央に向かって鉛
直方向に対し直角よりも少し大きな角度θだけ傾斜させ
である。従って、移動ビーム9aは、上記固定端部が水
平方向に対して(θ−90°)傾斜していて、上方へ向
かって僅か湾曲して上下動駆動装置24Aに固定されて
いる。
上記のように移動ビーム9aを上下動駆動装置24Aに
傾斜して固定させる理由は、次の通りである。
第2図(b)は、両端が水平に固定され、−様な荷重を
受ける梁に作用する曲げモーメントの分布を示す図であ
る。梁の長さを!、−様な荷重をWとすると、梁の中央
では曲げモーメントはWA 2/24となり、両端固定
部での曲げモーメントはWj22/12となる。移動ビ
ームを第2図(b)のように両端を水平に固定すると、
炉本体内で加熱される部分には最大W J 2 /24
の曲げモーメントが作用し、クリープを起こして第3図
(b)のように撓んだ形状に永久変形を起こし、被処理
物の搬送がスムーズになされなくなる。
そこで、本例では、移動ビームを前述したように上下動
駆動装置に傾斜して固定し、第2図(a)に示すような
曲げモーメントの分布とする。その結果、炉本体内で移
動ビームに作用する曲げモーメントが小さくなってクリ
ープが防止され、第3図(a)に示すように、炉本体内
では略水平が保たれる。
なお、炉本体外の固定部分に近い領域では、移動ビーム
に作用する曲げモーメントはW12/12よりも大きく
なるが、移動ビームのこの領域は炉本体外にあって加熱
されないので、クリープによる永久変形を起こすことは
なく、従って被処理物の搬送に支障をきたすことはない
次に、前記の上下動駆動装置24A及び前進、後退駆動
装置24Bによって被処理物を炉本体内で搬送し、熱処
理を施す方法を説明する。
まず、第4図のヒータ2に給電して炉本体1内を所定の
温度分布に加熱する。次に、第1図の駆動軸19を回動
させて可動基台21を後退させ、かつ移動ビーム9aを
下位に位置せしめてお(。
この状態で第4図に示す第二の載置部材9の装入口1a
から炉本体1外に出ている第二の支持部9b上に被処理
物Wを図示しない移換え装置によって位置せしめる。次
に、第1図のカム26を回動させてスピンドル27を上
昇させる(前記Uの運動)と、第二の支持部9bが上昇
して被処理物Wを載すと共に、新しい被処理物が前記の
ようにして次々に第二の支持部9bに載置され、被処理
物Wは炉本体1内を通過し、所定の熱処理が施される。
熱処理が終了して排出口1bから炉本体1外へ排出され
た被処理物W(仮想線で示す。)は、前述した逆の手順
に従って図示しない移換え装置によって次々に第二の支
持部9bから取り外され、次の工程に搬送される。
次に、実際の操業結果について説明する。
どの例では、炉本体1の内部の長さを5〆、移動ビーム
9aの台板28と抑え板29とに挟まれた部分以外の長
さを5.8 m、固定角度θを例えば0.5°、炉本体
内の最高加熱温度を550℃とじてある。なお、第1図
、第3図(a)及び第4図では、角度θは誇張して大き
く画いである。このような条件で、長さ400 **、
幅300鶴、重量360gの板状被処理物を炉本体内に
20n間隔で装入するようにして10.5w/secの
平均搬送速度で搬送し、延べ2400時間稼働させたと
ころ、移動ビームは永久変形を起こすことなく炉本体内
で略水平に保たれ、連続熱処理が順調に遂行された。上
記最高加熱温度は、例えば液晶表示装置用のガラス基板
の熱処理の温度450℃に較べてかなり高い温度に設定
してあり、上記の操業結果は、450℃での連続熱処理
では、延べ1万時間を越える長時間の順調な操業が可能
であることを示すものである。
また、移動ビームは炉本体外で支持されていて、前述し
た水封機構を設ける必要がなく、炉本体内は清浄な雰囲
気が保たれていた。
上記の例では、移動ビームの上下動駆動装置への固定は
、所定の角度θで両端部を固定しているが、始めは移動
ビーム両端部の固定は水平又は僅かな傾斜にし、使用中
の移動ビームの変形に対応して固定角度を調節ねじなど
によってθを適宜の角度に変更するように可変にし、炉
本体内で移動ビームを常に略水平に保つようにしても良
い。
また、第一の載置部材は炉本体外で両端部を固定させる
ようにして炉床から離すようにしても良い。この場合、
第一の載置部材は固定ビームのみからなり、両端部の固
定は前記実施例に於けると同様の固定による。また、第
二の載置部材は移動ビームのみからなっていて良い。
本発明に基づく連続処理装置は、前述した液晶表示装置
用ガラス基板の熱処理以外に、厚膜集積回路、各種プリ
ンタ用の感熱記録ヘッド、そのは雰囲気処理を連続的に
施す装置として通用可能である。これらの場合、角棒及
び第一の支持部によって構成される第一の載置部材や、
移動ビーム及び第二の支持部によって構成される第二〇
載置部材は、適宜の形状の載置部材であってよく、それ
らの材料も被処理物、処理の種類に応じて適宜の材料を
使用することができる。
へ1発明の効果 本発明は1.第一〇載置部材と移動可能な第二の載置部
材とからなる被処理物載置手段を備え、前記第二の載置
部材を前記第一の載置部材に対して反復して変位運動さ
せてこれら第一及び第二の載置部材間で被処理物を交互
に載置しながらこの被処理物を搬送するように構成され
ている。そして、第二〇載置部材の両端側が処理装置本
体外でこの第二の載置部材を運動させる駆動手段に結合
され、かつこの結合が、第二の載置部材に作用する曲げ
モーメントが小さくなるように、前記搬送の方向に対し
て所定角度でなされているので、処理装置本体内で不所
望な塵埃や異物の発生や侵入がなく、従って被処理物の
品質が安定して信頼性が高い。
その上、変位運動する第二の載置部材が使用中に変形し
て前記搬送に支障をきたすことがなく、長朝 グ間に亘って被処理物の搬送がスムーズになされ、耐久
性が著しく改善される。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第8図は本発明の実施例を示すものであって、 第1図は上下動駆動装置、前進、後退駆動装置及び移動
ビームの固定方法を示す一部破砕正面図、 第2図(a)及び(b)は移動ビームの固定方法を説明
するための梁に作用する曲げモーメントの分布を示す図
、 第3図(a)及び(b)は移動ビームの固定方法を説明
するための梁の変形を示す図、 第4図は連続熱処理炉の搬送方向に沿う断面図、第5図
は第4図のV−V線矢視断面図、第6図は炉本体内の第
一の載置部材及び第二の載置部材を示す概略斜視図、 第7図は第二の載置部材及び被処理物の運動を説明する
ための概略図で、同図(a)は概略部分正面図、同図中
)は概略側面図、 第8図は移動ビームの変位運動要領を説明するための説
明図 である。 第9図及び第10図は従来例を示すものであって、 第9図は連続熱処理装置の搬送方向に沿う部分断面図、 第10図は第9図のX−X線矢視部分断面図である。 なお、図面に示された符号に於いて、 1・・・・・・・・・炉本体 1a・・・・・・・・・装入口 1b・・・・・・・・・排出口 2・・・・・・・・・ヒータ 6・・・・・・・・・第一の載置部材 6a・・・・・・・・・角棒 6b・・・・・・・・・第一の支持部 9・・・・・・・・・第二〇載置部材 9a・・・・・・・・・移動ビーム 9b・・・・・・・・・第二の支持部 19・・・・・・・・・駆動軸 21・・・・・・・・・可動基台 24A・・・・・・・・・上下動駆動装置24B・・・
・・・・・・前進、後退駆動装置25・・・・・・・・
・シリンダ 26・・・・・・・・・カム 27・・・・・・・・・スピンドル 28・・・・・・・・・台板 29・・・・・・・・・抑え板 30・・・・・・・・・ボルト 31・・・・・・・・・ナンド θ・・・・・・・・・固定角度 である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.処理装置本体と;第一の載置部材及び移動可能な第
    二の載置部材からなる被処理物載置手段と;前記第二の
    載置部材を前記第一の載置部材に対し反復して変位運動
    させ、これによりこれら第一及び第二の載置部材間で被
    処理物を交互に載置しながらこの被処理物を搬送する駆
    動手段とを具備する連続処理装置に於いて、前記処理装
    置本体外で前記第二の載置部材の両端側が前記駆動手段
    に結合され、かつ、前記処理装置本体内で前記第二の載
    置部材に作用する曲げモーメントが小さくなるように、
    前記第二の載置部材の前記両端側が前記搬送方向に対し
    て所定の角度で結合されることを特徴とする連続処理装
    置。
JP2501988A 1988-02-04 1988-02-04 連続処理装置 Pending JPH01200188A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2501988A JPH01200188A (ja) 1988-02-04 1988-02-04 連続処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2501988A JPH01200188A (ja) 1988-02-04 1988-02-04 連続処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01200188A true JPH01200188A (ja) 1989-08-11

Family

ID=12154195

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2501988A Pending JPH01200188A (ja) 1988-02-04 1988-02-04 連続処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01200188A (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5845244B2 (ja) * 1980-12-02 1983-10-07 日本電信電話株式会社 ケ−ブル引取装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5845244B2 (ja) * 1980-12-02 1983-10-07 日本電信電話株式会社 ケ−ブル引取装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4550239A (en) Automatic plasma processing device and heat treatment device
JP3604082B2 (ja) 高速熱処理システム用加熱組立体
KR101848168B1 (ko) 금속 열처리장치
GB2256625A (en) Heat treatment system for treating workpieces.
JPH03216409A (ja) 連続処理装置
JP2003165735A (ja) ガラス基板用熱処理装置
JPH01200188A (ja) 連続処理装置
JPH0426878Y2 (ja)
JP2000128345A (ja) 気体浮揚・搬送装置、熱処理装置および熱処理方法
JPS645757Y2 (ja)
JP3862197B2 (ja) 縦型熱処理装置
JPH01271321A (ja) 搬送装置
JPH07201949A (ja) 連続熱処理装置
JPH07159768A (ja) 連続熱処理装置
JPH0558429A (ja) 連続処理装置
JP3346823B2 (ja) 基板ウェット処理装置
JPH0410555Y2 (ja)
JPS6352307B2 (ja)
JP4635350B2 (ja) 搬送装置
JP2764154B2 (ja) ベーク装置
JP3484592B2 (ja) 熱処理装置
JPH038952Y2 (ja)
JPH05203364A (ja) 連続処理装置
JP3486761B2 (ja) 連続熱処理装置
JP3105984B2 (ja) 連続処理装置