JPH01199956A

JPH01199956A - 光学活性アルコールの製造法

Info

Publication number: JPH01199956A
Application number: JP26868988A
Authority: JP
Inventors: Fumie Satou; 史衛佐藤
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 1987-10-30
Filing date: 1988-10-25
Publication date: 1989-08-11
Anticipated expiration: 2012-03-05
Also published as: JP2586607B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、それ自体生理活性物質として作用すると共に
、各種の生理活性物質合成の中間体として有効な新規光
学活性アルコール及びその製造法に関し、更に詳述する
と、一般式〔■〕　ニ一般式〔■〕　ニ一般式〔■〕　：馬　　　　Ｕ１″ｉ一般式〔■〕　：（式中、Ｒ□は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜１０の
置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もしく
は不飽和の炭素数１〜１０の置換もしくは未置換の脂肪
族炭化水素基置換もしくは未置換のフェニル基を示す。

Ｒ，、Ｒ，、Ｒ４は水素又は飽和もしくは不飽和の炭素
数１〜５の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基を示
すが、Ｒ２とＲ１とは一緒になって飽和もしくは不飽和
の５員環又は６員環を形成することができる。）で表さ
れる新規光学活性アルコール及びこれらの光学活性アル
コールをそれぞれ光学純度よく分離して製造することが
できる製造法に関する。

の　　　び　ロが　　しよ゛と　る・第２級フルフリルアルコールはそれ自体有用な化合物で
あり、特に、新しい型の医薬品であるプロスタグランジ
ン類に誘導することができる有用な置換シクロベンテノ
ン誘導体の合成中間体として広く認められている。

従来、一般式（ＶＩ）ミＨδ で表される置換シクロベンテノン誘導体の合成法として
は、下記式に示すように、ラセミ体の第２級フルフリル
アルコール（■）よりラセミ体の置換シクロベンテノン
誘導体を合成し、これを光学分割する方法が知られてい
る〔テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）　３５５５頁（１９７６）、特開
昭５７−６２２３６号公報、特開昭６１−２３６７４２
号公報〕。

（■）しかしながら、これらの方法は光学活性アルコールを得
るため高価な分割剤を使用したり、煩雑な操作を必要と
するため、実用的な製造法とは言えない。この場合、直
接光学活性フルフリルアルコールより一般式（ＶＩ）の
置換シクロベンテノン誘導体を合成すれば反応工程が簡
略化される。このため、かかる簡易な合成法の開発が望
まれる。

また、ピラン−３−オン−アルコールは抗菌作用等の生
理活性を有することが知られており、例えば下記一般式
〔■〕　：１Ｕ１−ｉで表される化合物が知られている〔ジャーナル・オン・
メディシナル・ケミストリー（Ｊ　ｏｕｒｎａｌｏｆ　
Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｇｔｒｙ）　１６巻、
１０号。

１０８４頁（１９７３）；１９巻、２号、３４７頁（１
９７６））。

このピラン−３−オン−アルコールに関しては。

例えば〔１１式で表される化合物を光学活性化すること
により、抗菌性が上昇することが期待され、従ってこの
ような光学活性アルコールを容易に得ることができる方
法の開発も要望される。

問題を　“するための　段　び　用本発明者はそれ自体生理活性を有すると共に、上記の如
き生理活性物質の合成中間体として有用な化合物につい
て鋭意研究を進めた結果、下記反応式に示したように、
上記（Ｉ）式及び（ＩＩ）式のアルコールのラセミ体又
は混合物〔以下、これらを総称してＨ（なお、式中Ｒ□、　Ｒ，、Ｒ３，Ｒ４は前記と同じ意
味を示す）で表わす〕を使用し、これをチタンテトラア
ルコキサイド及びＬ−（＋）−酒石酸ジエステルの存在
下、ハイドロパーオキサイドで酸化することにより、一
般式（Ｉｌと［Ｉｔ［］の新規化合物が得られ、〔Ｖ〕（１）　　　　　　　　　　　　　（ＩＩＩ）また、チ
タンテトラアルコキサイド及びＤ−（−）−酒石酸ジエ
ステルの存在下、ハイドロパーオキサイドで酸化するこ
とにより、一般式（Ｉｆ）と（ＩＶ）の新規化合物が得
られる（Ｖ）ｎ（ＩＩ　）　　　　　　　　　　　　　　　　（ＩＶ）
（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ，、Ｒ，は前記と同じ意味を示
す、）ことを知見すると共に、これらが各種生理活性物質の合
成中間体として有効に使用され、またそれ自体生理活性
を示すことを見い出し、本発明をなすに至ったものであ
る。

従って、本発明は、一般式〔Ｉ〕　： ○Ｈ一般式〔■〕　ニ一般式〔■〕　：又は一般式〔■〕　：（式中、Ｒ□は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜１０の
置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もしく
は不飽和の炭素数１〜１０の置換もしくは未置換の脂肪
族炭化水素基置換もしくは未置換のフェニル基を示す＊
　Ｒ，、Ｒ，、Ｒ４は水素又は飽和もしくは不飽和の炭
素数１〜５の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基を
示すが、Ｒ３とＲ１とは一緒になって飽和もしくは不飽
和の５員環又は６員環を形成することができる。）で表
される新規な光学活性アルコールを提供する。

また、本発明は一般式〔■〕　：及び一般式〔■〕　：（式中、Ｒ工、　Ｒ，、Ｒ，、Ｒ４は前記と同じ意味を
示す、）で表されるアルコールのラセミ体又はこれらの混合物、
即ち、一般式（Ｖ）のアルコールをチタンテトラアルコ
キサイド及び光学活性酒石酸ジエステルの存在下にハイ
ドロパーオキサイドで酸化することにより、上記光学活
性酒石酸ジエステルの光学活性に応じて上記光学活性ア
ルコールＣＩ）又は〔■〕を優先的に反応させて、一般式〔■〕：又は一般式〔■〕　：（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ１，Ｒ４は前記と同じ意味を示
す、）で示される光学活性アルコールとこの反応に未関与の光
学活性アルコール（ＩＩ）又は［１］との混合物を得１
次いでこれら光学活性アルコール（Ｉｆ）又は（１）を
上記光学活性アルコール（ＩＶ）又は（［［）から分離
して、（ＩＩ）と（ＩＶ）又は〔Ｉ〕と（ｍ）の光学活
性アルコールを得ることを特徴とする光学活性アルコー
ルの製造法を提供する６本発明の一般式（１）、　（Ｉ
Ｉ）、更に（Ｉｎ）、　（ＴＶ）で表されるアルコール
類は、従来の方法では容易に得られなかった置換シクロ
ベンテノン誘導体（ＶＩ）や一般式（１１，（■Ｌ　（
ｍ）、　（ＩＶ）で表される化合物をその骨格に含む複
雑な生理活性物質を合成するために有用である。更に、
カルボン酸類の光学分割の際の分割剤、強誘電性液晶、
非線形光学材料等の原料としても使用することができる
。

以下、本発明につき更に詳しく説明する。

本発明で得られる新規な光学活性アルコール（１３，［
ＩＩ］、　（ＩＩＩ）及び〔■〕：において、Ｒ１は上
述したように飽和もしく番士不飽和の炭素数１〜１０の
置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、又は飽和もし
くは不飽和の炭素数１〜１０の置換もしくは未置換の脂
肪族炭化水素基置換もしくは未置換のフェニル基を示す
力１、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ
−プロピル、ｎ−ブチル、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシ
ル、アリル、６−へブテニル、７−オクテニル、２，６
−へブタジェニル、２，７−オクタジェニル、６−シア
ツヘキシル、６−ジアツー２−ヘキセニル、６−カルボ
キシヘキシル、６−アルコキシカルボニルヘキシル、６
−カルボキシ−２−ヘキセニル、６−アルコキシカルボ
ニル−２−へキセニル、７−ヒドロキシヘプチル、７−
ヒドロキシ−２−へブテニル、及びこれらの水酸基置換
アルキル基の水酸基がアルキル基、ベンジル基、トリメ
チルシリル基、ｔ−ブチルメチルシリル基の如きトリア
ルキルシリル基、メトキシ、　　メチル基、エトキシメ
チル基の如きアルコキシアルキル基、ベンジルオキシメ
チル基の如きアラルキルオキシアルキル基、トリチル基
、テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）基等で保護されたも
の、並びにフェニル基、ビフェニル基、４−（４−ハロ
ゲノフェニル）フェニル基等が挙げらｉる。

また、Ｒ２，Ｒ，、Ｒ，は水素又は飽和もしくは不飽和
の炭素数１〜５の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素
基を示すが、具体的にはメチル、エチル、ｎ−プロピル
、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチル
、アミル、ビニル、アリル等が挙げられる。また、Ｒ２
とＲ３とは一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又
は６員環を形成することもできるが、その例としてはシ
クロペンテニル、シクロへキセニル、シクロペンタジェ
ニル、フェニル基等が挙げられる。

次に、本発明に係る製造法について説明すると、本発明
に従って（Ｖ）式で示す（１）式及び（Ｉｆ）式のアル
コールのラセミ体又は混合物より〔Ｉ〕。

（［１，（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）式の光学活性アルコー
ルを得る場合には、（Ｖ）式のラセミ体又は混合物をチ
タンテトラアルコキサイド及び光学活性酒石酸ジエステ
ルの存在下にハイドロパーオキサイドで酸化するもので
、これにより下記に示すように酒石酸ジエステルの光学
活性に応じて（１）又は（ＩＩ）式のアルコールが優先
的に反応し、〔■〕と（ＩＶ）又は（１）と（ＤＩ）の
光学活性アルコールが得られる。即ち、本発明において
は、用いる光学活性酒石酸ジエステルにより生成物のア
ルコ−ルの立体を規制しているものである。

ここで、光学活性な酒石酸ジエステルとしては、Ｌ−（
＋）−酒石酸ジメチル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジエチル、
Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル、Ｌ　−（＋）−酒
石酸ジ−ｔ−ブチル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジステアリル
、Ｌ−（＋）−ｆｆＩ石酸ジ酸ジフェニルこれ等のＤ−
（−）一体が例として挙げられる。この場合、例えばＬ
　−（＋）−酒石酸ジエステルを用いれば、（Ｖ）（１）　　　　　　　　　　　　　（ｍ）の反応が進行
し、Ｄ−（−）−酒石酸ジエステルを用いれば、（Ｖ）の反応が進行し、光学活性アルコール（１３とＣｍ）又
は［ＩＩ］と（ＩＶ）が選択性よく得られる。

この酒石酸ジエステルの使用量はチタンアルコキサイド
１モル当たり０．９〜２モル、特に１〜１．２モルが望
ましい。

なお１本発明において、チタンテトラアルコキサイドと
しては、具体的には、チタンテトラメトキサイド、チタ
ンテトラエトキサイド、チタンテトラプロポキサイド、
チタンテトライソプロポキサイド、チタンテトラブトキ
サイド、チタンテトラ−ｔ−ブトキサイド等が挙げられ
、その１種又は２種以上を使用することができる。その
使用量は、（Ｖ）式のラセミ体又は混合物１モル当たり
０．０５〜１．５モルにすることが望ましい。

また、酸化剤（ハイドロパーオキサイド）としては、通
常、脂肪族のハイドロパーオキサイドが使用され、例え
ばｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（ＴＢＨＰ）、α
、α−ジメチルへブチルハイドロパーオキサイド、ビス
−イソブチル−２，５−シバイドロバ−オキサイド、１
−メチルシクロへキシルハイドロパーオキサイド、クメ
ンハイドロパーオキサイド、シクロへキシルハイドロパ
ーオキサイド等を挙げることができる。その使用量は（
Ｖ）式のラセミ体又は混合物１モル当たり０．５〜３モ
ル、特に０．５〜１．５モルが好ましい。

本発明の製造法においては溶媒を使用することが好まし
く、溶媒としては不活性溶媒、特にハロゲン化炭化水素
溶媒が好適に用いられる。具体的にはジクロロメタン、
ジクロロエタン等を挙げることができる。

反応温度は一８０℃〜８０℃の範囲が採用され、望まし
くは一３０℃〜３０℃である。また、反応時間は、反応
基質又は温度等により異なるが、通常１０分〜１００時
間である。

反応系は水分を非常に嫌うので反応溶媒、反応基質及び
反応剤は全て極力脱水することが好ましい。また、触媒
量の酒石酸ジエステルを用いる場合は粉末化したモレキ
ュラーシーブ、水素化カルシウム、シリカゲル等を共存
させて反応させても良い。

なお、（ｍ）又は（ＩＶ）の化合物は下式のように（Ｉ
ｆ）又は（１）の化合物より合成することもできる。

（式中、Ｒよ、　Ｒ２，Ｒ，、Ｒ，は前記と同じ意味を
示す、）且班勿塗米以上説明したように、本発明の一般式〔■〕。

〔■］、　（ＩＩＩ）及び（ｒＶ）で表される光学活性
を有するアルコールは、新規な化合物であって、各種の
生理活性物質合成の中間体として有用であると共に、そ
れ自身生理活性物質として作用するものである。

また１本発明のこれら一般式（１）、　（ＩＩ）、　（
ＩＩＩ）及び（ＩＶ）で表されるアルコールの製造法は
、これらのアルコールを高い安定性と高い光学純度をも
って好収率で選択的に製造することができる。

以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本
発明は下記実施例に制限されるものではない。

〔実施例１〕 −ａアルゴン雰囲気下、チタンテトライソプロポキサイド（
Ｔｉ（Ｏｉ　Ｐ　ｒＬ、　３．６８ａＱ、　１２．３ｍ
ｍｏＲ）を含むＣＨ２Ｃｆｆ、溶液（６０ｍＱ）に−２
０℃でＬ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル（Ｌ−（＋）
−ＤＩＰＴ、３．１２ｍＱ、１４．８ｍｍｏｎ）を滴下
し、その温度で１０分間撹拌した。反応溶液を一３０℃
に冷却し、化合物１−ａ　（２，０７ｇ、１２．３諺■
ｏｆｉ）を含むＣＨバＩ２溶液（３ａＱ）を滴下し、−
３０℃〜−２０℃で２０分間撹拌した。再度反応溶液を
一３０℃に冷却し、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド
（ＴＢＨＰ、１．９９ａｄｌ、塩化メチレン中の濃度ト
シテ３．７３Ｍ、　７．４１ｍｍｏＲ。

６０ｍｏ１％）をゆっくり滴下した後、−２１℃で２５
時間撹拌した６反応器を室温に戻した後、１０％酒石酸
水溶液（０，５ｎｄｌ）　、Ｘ−チル（２０ｍＱ）及び
Ｎａｐ（３ｇ）を加え、そのまま３時間撹拌を続けた。

この懸濁液をセライトで濾過し溶媒を減圧下に留去した
。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、化合物２−　ａを８７２■（収率４２％）及び化
合物３−ａを１．１０ｇ　（収率５３％）得た。化合物
２−ａの光学純度はＭＴＰＡエステルの”Ｈ−ＮＭＲ解
析により９５％ｅｅ以上であると決定された。分析値を
下記に示す。

化合物　２−　ａ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＧら、Ｄ２０添加）６０．７２−１．
０５（鳳、３１１．ＣＩ（、）、１．０５−１．４７　
　（ｍ、６）１．　　（Ｃ）１．）、）。

１．４７　１．９０　（ｍ−２Ｌ　ＣＨｚ）−４，４５
（ｔ−Ｊ＝７．３Ｈｚ。

１８、　Ｃ１（０）　、　６．０５　（ｄ、　Ｊ＝３．
６Ｈｚ、　１Ｂ、　ＨＣ＝Ｃ（０）Ｃ）　。

６．１６　（ｄｄ、　Ｊ＝１．８Ｈｚ、　３．６Ｈｚ、
　ＬＨ，！ＬＣ：ＣＨＯ）。

７．１６−７．３０　（園、　１）１．　Ｃ＝Ｃｌｌ０
）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　：　３３５０．１１４０．１
００５．７２５　（ｃｍ−’）［α）：”＋１３．８’
　　（Ｃ＝１．０７．ＣＩＩＣＬ）化合物　３−ａ１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＣＬ、Ｄ、Ｏ添加）　８０．７０−１
．００（ｍ、　３１１．　ＣＨ，）、　１．１０−２．
１０　（ｍ、　８＋１．　（Ｃ・Ｒ２）４）１４．４６
　（ｄｄ、　Ｊ＝５．３．７．６Ｈｚ、　１）１．０Ｃ
ＨＣ−）、　５．５２（ｄ、　Ｊ＝３．６Ｈｚ、　ＩＩ
Ｉ、　ＣＨＯＦ＋）、　６．０１　（ｄ、　Ｊ＝９．６
Ｈｚ。

、　ＩＩＬＨ，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ）、　６．８２　（ｄｄ、　Ｊ＝３
．３．９．６Ｈｚ、　ＩＨ。

ＨＣ＝Ｃ）１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ（ｊｌ、）δ２．３．６．１．８
．３．８．５゜１３．４，１４．４，１５．３，５７．
９，６２．５，７１．１，７４．５゜１１０．８，１１
１．９，１２９．５，１３２．８，１８０．９，１８１
．５゜（α）Ｆ　＋４２．３’　　（Ｃ＝１．０３．　
ＣＨＣｆｉ−）〔実施例２〜５〕基質を変えて実施例１と同様に反応を行った結果を第１
表に示す。

以下、各生成物の分析値を示す。

化合物　２−ｂ ”Ｈ−ＮＭＲ（ＣＣＬ、Ｄ、Ｏ添加）６０．７６及び０
．８８（２ｄ、　Ｊ＝６．６１（ｚ、　６Ｈ，２ＣＩＩ
、）、　１．７０−２．１５　（ｍ。

ＩＨ，Ｃ１（ｉＰｒ）、　４．１７　（ｄ、　Ｊ＝ＩＨ
ｚ、　ＩＨ，ＣｔｌＯＨ）　。

６．０５　（ｄ、　Ｊ＝３．６１１ｚ、　ＩＨ，１ｌｃ
＝ｃ（０）Ｃ）、　６．１６　（ｄｄ。

Ｊ＝１．８．３．６Ｈｚ、　ＩＩ（、ＨＣ＝Ｃ＋ＩＯ）
、　７．１６−７．３０　（ｍ。

Ｉｌｌ、　Ｃ＝ＣＨ０）Ｒｆ：０．４１（ヘキサン／エーテル＝１／１）Ｉ　Ｒ
（ｎｅａｔ）　　：　３３６０．１０００．７２０　（
ｃｍ−１）〔α〕もｒ　＋１ｇ、１°　（Ｃ＝１．０４
　、　ＣＨＣＱ３）化合物　２’−ｃ１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＣ４，、Ｄ、Ｏ添加）δ５．４３　（
ｇ、　ＩＨ。

ＣＨＯ）、　５．８５　（ｄ、　Ｊ＝３．６Ｈｚ、　ｌ
ｔｌ、　ＣＨ＝Ｃ（０）Ｃ）。

６．０６　（ｄｄ、　Ｊ＝１．９．３．６Ｈｚ、　ＩＩ
Ｉ、　ＨＣ＝ＣＩＩＯ）、　７．０２−７．２６　（ｍ
、　６Ｈ，芳香環及びＣ＝ＣＨ０）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）
　　：　３３５０．１０００．７２５．６９０　（ｃ＋
＋−１）（α）：’＋６．９’　　（Ｃ＝１．１３．Ｃ
ｌＣｌ化合物　２−ｄ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＣｌ４．　Ｄ、Ｏ添加）δ１．３７　
（ｄ。

、Ｃ６，６Ｈｚ、　３Ｈ，Ｃ８，）、　３．２６−３．
７５　（ｂｒｓ、　ＩＨ。

０）１）、　４．６５　（ｑ、　Ｊ＝６．６Ｈｚ、　１
）１．　（ｊｌｏ）、　６．０３　（ｄ。

Ｊ＝３．６Ｈｚ、　１８．　ＨＣ＝Ｃ（０）Ｃ）、　６
．１５　（ｄｄ、　、Ｃ１，９Ｈｚ。

３．６Ｈｚ、　ＩＨ，）ｌｃ＝ｃＨｏ）、　７．１５−
７．３０　（＋ｉ、　ＩＨ。

Ｃ＝ＣＨ０）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　：　３３４０．１０６０．７３０
　（ａｍ−’）（ｃｚ）：’＋２０．８°　（Ｃ＝１．
２７．　ＣＨＣｌ１３）化合物　２−ｅ ”Ｈ−ＮＭＲ（ＣＣＩＩ４．　Ｄ２０添加）６０．６０
−１．０５（、３Ｈ，ＣＨ３）、　１．０７−１．９０
　（ＩＩ、　ａｌｌ、　（ＣＨｚ）４）＋２．１９　（
ｓ、　３Ｈ，Ｃ，）＋３）、　２．７８　（ｂｒｓ、　
１）１．０ｉｌ）。

４．３９　（ｔ、　Ｊ＝６．６Ｈｚ、　ＬＨ，ＣＨＯ）
、　５．７２及び５．９０（２ｄ、　Ｊ＝３．０Ｈｚ、
　２Ｈ，オレフィン）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　：　３３
５０．１０１５．７８０　（ｃａ−Ｊ（ａ　）”、’　
＋７．８６　（Ｃ＝１．０１　、　ＣＩ＋（、Ｑ３）化
合物　３−ｂ ”Ｈ−ＮＭＲ（ＣＣｌ２．　Ｄ２０添加）６０．７−２
．５　（ｍ。

７Ｈ，１Ｐｒ）、　４．２−４．６　（ｍ、　ＬＨ，−
０ＣＩＩＣ−）、　５．４６（ｂｒｄ、　Ｊ＝３．６Ｈ
ｚ、　ＩＨ，ＣＨＯ）ｌ）、　５．９　（ｄ、　に９．
６Ｈｚ。

１Ｈ，Ｃ＝ＣＨ−Ｃ）、　６．８３　（ｄｄ、　Ｊ＝３
．３．９．６Ｈｚ、　ＩＨ。

Ｃ）ｌ＝ｃ）化合物　３−ｃ ”Ｈ−ＮＭＲ（ＣＣＩＩ、、　Ｄ、０添加）δ５．５５
　（ｂｒｄ。

Ｊ＝３１１ｚ、　ＩＨ，ＣＨＯＨ）　、　５．６６　（
ｓ、　ＩＨ，−０ＣＨＣ−）　。

■ ５．９３　（ｄ、　Ｊ＝９．６Ｈｚ、　ＬＨ，Ｃ＝Ｃ）
Ｉ−Ｃ）、　６．８８　（ｄｄ。

Ｊ＝３．３．９．６Ｈｚ、　ＩＨ，ＨＣ：Ｃ，）、　７
．０−７．５　（ｍｅ　５Ｈ。

芳香環）化合物　３−ｄ ”Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ（、Ｑ４．　Ｄ２０添加）δ０，７−
１．８　（ｍ。

３Ｈ，ＣＨ，）、　４．５−４．８　（ｍ、　ＬＨ，−
ＱＣ）ＩＣ−）、　５．４５（ｂｒｄ、　Ｊ＝３．６Ｈ
ｚ、　ＩＨ，ＣＨＯＨ）、　５．８９　（ｄ、　Ｊ＝９
．６Ｈｚ、　０１．　Ｃ＝ＣＩ−Ｃ）　、　６．６−６
．９　（ｍ、　Ｉｌｌ、　（１，Ｈ＝Ｃ）ｎ化合物　３−ｅ ”Ｈ−ＮＭＲＣＣＣＱ、、　Ｄ、０添加）６０．６−１
．１　（＋＋＋。

３Ｈ，Ｃ１（、）、　１．１−２．１　（＋、　ＩＩＨ
，（Ｃ）１２）４及び６．７２　（ｄ、　Ｊ＝９．６Ｈ
ｚ、　ＩＨ，ＣＨ；Ｃ）〔実施例６〕 −ａ２−　ａ　　　　　　　　　　　３−　ａアルゴン雰囲
気下、モレキュラーシーブ４Ａ（５ｇ）を含むＣＨ２Ｃ
Ｌ　（１００ｍＱ）懸濁液にチタンテトライソプロポキ
サイド（Ｔｌ（ＯＩＰｒＬｅ７、３５ｍＱ、　２４．７
ｍｍｏｆｆ、　２０ｍｏ旦％〕を加えた。溶液を一２０
℃に冷却し、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル（Ｌ−
（＋）−ＤＩＰＴ、６．２３ｍ１．２９　、６ｍｎ＋ｏ
ｆｌ、　２４ｍｏＱ％〕をゆっくり滴下し、その温度で
１０分間撹拌した。反応溶液を一３０℃に冷却し、化合
物１　　ａ（２０，７ｇｔ１２３　ｍｍｏｌｌ）を含む
ＣＨ，ＣＱ２溶液（２０ｍＱ）をゆっくり滴下し、−３
０℃〜−２０℃で２０分間撹拌した。再び反応溶液を一
３０℃に冷却し。

ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（Ｔ　Ｂ　ＨＰ　。

１７．０ｍ（１，塩化メチレン中の濃度として４．３５
Ｍ、　７４　、　Ｏｍｍｏｆｆｉ、　６０ｍｏｆｉ％）
をゆっくり滴下した後、−２１℃で１４時間撹拌した。

続いて（ＣＨ３）、Ｓ　（５，４３ｍＱ、７４　、　Ｏ
ｍｍｏＱ）を滴下し、−２１℃で２０分間撹拌した後、
反応器を室温に戻した。１０％酒石酸水溶液（３ａｌｌ
）、エーテル（５０ｄ）及びＮａＦ（Ｌｏｇ）を加え、
そのまま３時間撹拌を続けた。この懸濁液をセライトで
濾過し、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物２−ａを
７．９４ｇ　（収率３８％）得た。

化合物２−　ａの分析値は実施例１と同一である。

〔実施例７〕 −ｆＨ −ｆアルゴン雰囲気下、チタンテトライソプロポキサイド（
Ｔｉ（ＯｌＰｒ）４．６．７９ｍ１．２２．８ｍｍａｌ
ｌ）を含むＣＨｌ（１ｍ、溶液（１１０ｄ）に−２０℃
でＤ−（−）−酒石酸ジイソプロピル〔Ｄ−（−）　−
Ｄ　Ｉ　ＰＴ、　　５．　７５ｍＱ、　　２７．　３ｍ
ｍｏｌｌ）を加え、１０分間撹拌した。反応溶液を一３
０℃に冷却し、化合物１−ｆ　（６，５ｇ、２２．８ａ
ｌｌ）を含むＣＨ３ＣＯ，溶液（５−）を滴下し、２０
分間撹拌した後、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（
ＴＢＨＰ、３．６５ａｌｌ、塩化メチレン中の濃度とし
て３．７４Ｍ、１３．６５ｍｍｏＱ）をゆっくり滴下し
た。−２１℃で２４時間撹拌した後、ジメチルサルファ
イド（Ｍ　ｅ２Ｓ　、　１　ｍＱ）を加え、更に１時間
撹拌を続けた。反応液を室温に戻した後、１０％酒石酸
水溶液（ｌｄ）、エーテル（４０ｄ）及びＮａＦ　（Ｌ
ｏｇ）を加え、３時間撹拌した。この懸濁液をセライト
で濾過し、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物をエーテ
ル５０ａｌｌに溶解し、０℃で３Ｍ−ＮａＯＨ（３０Ｉ
ｄ）及び水（３０ｄ）を加えて１時間撹拌した。有機層
をエーテル（５０蔽）で抽出し、Ｍｇ５Ｏ，上で乾燥し
た後、再度溶媒を減圧下に留去した。得られた粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
化合物２−ｆを２．４７ｇ　（収率３８％）得た。化合
物２−ｆの分析値を下記に示す。

Ｈ化合物　２−ｆ ’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＣＱ、　、　Ｃ）Ｉ、Ｃ１ｌ、
　）６０．０８　（ｓ、　６Ｈ。

５ｉ（ＣＨｉ）Ｊ　＋　　０．８７　　（ｓ、　　９１
量、　　５ｉＣ（ＣＨ３）、）、　　１．１８−１．９
６　　（ｍ、６Ｈ）、２．９６　　（ｂｒｓ、ＬＨ，Ｏ
Ｈ）、３．５６　　（ｔ。

Ｊ＝６Ｈｚ、　２８．　ＣＨ，０５ｉ）、　４．５２　
（ｔｔ　Ｊ＝６Ｈｚ、　ＩＨ。

Ｃ１（Ｏ＋１）、　６．０５−６．３０　（ｍ、　２Ｈ
）、　７．１４　（ｂｒｓ、　ＩＨ）（α）：’　　７
．０°　（Ｃ＝１．２０．　ＣＨＣｆｌ、）Ｒｆ　＝０
．５０　（ヘキサン／エーテル＝ｌ／１）なお、化合物
２−ｆの光学純度はＭＴＰＡエステルとしてｉＨＮＭＲ
分析により９５％ｅｅ以上と決定した。

〔実施例８〕 −ｇチタンテトライソプロポキサイド（Ｔｉ（ＯｉＰ　ｒ）
４゜３．５４ｄ、１１．８８ｍｍａｌｌ）及びＬ−（＋
）−酒石酸ジイソプロピル［Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ。

３、ＯＯｄ、１４．２６ｍｍｏｎ］を含むＣＨ，ＣＱ。

溶液（５０ｄ）に化合物ｔ−ｇ　（ｔ、ｅ４ｇ。

１１　、８８ｍ５ｔｏｆｉ）を含むＣＨ，ＣＱ２溶液（
６−）を−２０℃で加えた。１０分間撹拌した後、ｔ−
ブチルハイドロパーオキサイド（ＴＢＨＰ。

２、０４１ＬＩＩ、　７．１４ｍｍｏｌ、塩化メチレン
中の濃度として３．５Ｍ）を滴下し、−２１℃で３６時
間撹拌した。続いて（ｃ　Ｈａ　）ｓ　ｓ　（２ｌ＋１
）を加え、−２１℃で３０分間撹拌した後、１０量酒石
酸水溶液（７−）、エーテル（１００ＲＱ）、ＮａＦ（
３ｇ）及びセライト（５ｇ）を加え、室温で１時間撹拌
した。・反応混合液をセライトで濾過し、濾液の溶媒を
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、化合物２−ｇをＯ，ｅｓｇ　（
収率４２％）及び化合物ａ−ｇを０．７’１ｇ　（収率
４３％）得た。化合物２−Ｈの分析値を下記に示す。

化合物　２−ｇ ”　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＣｆｉ、　、　Ｍｅ、Ｓｉ）δ
２．４０　（ｔ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ、　２Ｈ，（、Ｈ，
ＣＨ＝Ｃ）、　３．３６　（ｂｒｓ、　ＩＨ，ＯＲ）、
　４．３２−４．６０　　（ｍ、ＩＨ，Ｃ）（ＯＨ）、
４．８０−５．１５　　（＋、２Ｈ。

Ｃ＝Ｃ）Ｉ、）、　５．６２　（ｄａｔ、　Ｊ＝１０．
８．１８．０．７．２Ｈｚ、　ＩＨ。

ｃｏ＝ｃ）　ｔ　６−０１　（ｄ　、Ｊ＝３．６Ｈｚ　
−ＩＨｖ　Ｃ１（＝Ｃ（０）　）　−６，１０（ｄｄ、
　ＪＪ、８．３．６Ｈｚ、　１８．　ＣＨ＝Ｃ（０））
、　７．１０−７．２５　（ｍ、　ＩＨ，ＣＨ（０）＝
Ｃ）（α〕Ｆ　　３９．９°　（Ｃ＝１．５４−　ＣＨ
Ｃｆｉａ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　：　３３５０．１１
５０．１０１０．９２０゜７３５　（１′″１）なお、化合物２−Ｈの光学純度は水素添加した後、対応
するＭＴＰＡエステルへ誘導し、”Ｈ−ＮＭＲ分析によ
り〉９５％ｅｅと決定した。

〔実施例９１ −ｈ実施例８と同様にしてチタンテトライソプロポキサイド
（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）、、７．３ｍ１ｋ、２４．６ｍｍｏ
ｕ）及びＬ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル〔Ｌ−（＋
）−ＤＩ　ＰＴ、　６．２ｍｕ、　２９．５ｎ＋ｍｏＱ
）を含むＣＨ３ＣＯ，溶液（１１３ｎ戊）に化合物１．
−ｈ（３，０５ｇ、２４．６ｍｍｏｆｆｉ）及びｔ−ブ
チルハイドロパーオキサイド（ＴＢＨＰ、５．２蔽。

１４　、８ｍｍｏＬ塩化メチレン中の濃度２．８５Ｍ）
を加え、−２１℃で２４時間反応を行なった。

続いて（ＣＨ，）２Ｓ　（４ａｌｌ）を加え、−２１°
Ｃで３０分間撹拌した後、１０％酒石酸水溶液（１５Ｉ
ｄ）、エーテル（１２０ｍＱ）、ＮａＦ　（８ｇ）及び
セライト（１２ｇ）を加え、１時間撹拌した。

反応混合液をセライトで濾過し、濾液の溶媒を減圧下に
留去した。残渣をエーテル（１００ｄ）で希釈し、０℃
に冷却後、ＩＮ　ＮａＯＨ水溶液（７０ａｌｌ）を加え
、１０分間撹拌した。粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより精製し、化合物２−ｈを１．１５
ｇ　（収率３８％）得た。化合物２−ｈの分析値を下記
に示す。

化合物　２−ｈ ”　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｃ（Ｊ４．　Ｍｅ４Ｓｉ）δ３，
７３　（ｂｒｓ、　ＩＩＩ。

ＯＨ）、　４．８５−５．３８　（ｆｆｉ、　３Ｂ、　
Ｃ＝ＣＨ，とＣＨＯ）ｌ）、　５．８７（ｄｄｄ、　Ｊ
＝６．０．１０．２．１８．ＯＨｚ、　ｉｌｌ、　ＣＨ
＝Ｃ）。

６．０２　（ｄ、　Ｊ＝３．３Ｈｚ、　ＩＨ，Ｃ肪ＣＨ
（０））、　６．１３　（ｄｄ。

Ｊ＝１．８．３．３Ｈｚ、　ＩＨ，ＣＨ＝ＣＨ（０））
、　７．１０−７．２５　（ｍ。

ＩＨ，Ｃ＝ＣＨ（０））〔α）：’　−１，７４’　　（Ｃ＝２．４１．　ＣＨ
Ｃれ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　：　３３３０．１１４５．
９９０．７３０　（ａｌｌ−”）なお、化合物２−ｈの
光学純度は水素添加した後、対応するＭＴＰＡエステル
へ誘導し、１Ｈ−ＮＭＲ分析により〉９５％ｅｅと決定
した。

〔実施例１０〕 −ｉ実施例８と同様にしてチタンテトライソプロポキサイド
（Ｔｉ（ＯｉＰ　ｒ）４．２．４ｍＱ、　８．１ｍｍｏ
ｆｉ）及びＬ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル［Ｌ−（
＋）−ＤＩＦＴ、２．０ｍｌ、９．’７＋■ＯＱ］を含
むＣＨ，ＣＱ！溶液（４０ｍＵ）に化合物１−　ｉ（１
，５７ｇ、　８．１ｍｍｏｆｆ）及びｔ−ブチルハイド
ロパーオキサイド（ＴＢＨＰ、４．２５ｄ。

１２　、１ｍｍａｌｌ、塩化メチレン中の濃度２．８５
Ｍ）を加え、−２１℃で２００時間反応行なった。得ら
れた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、化合物２−ｉを０．６ｇ（収率３８％）得
た。分析値を下記に示す。

化合物　２−ｉ ”Ｈ−ＮＭＲ（ｎｅａｔ）　　δ０．０５　（ｓ、　９
Ｈ−３ＣＨ３）。

３．１２　（ｂｒｓ、　ＬＨ，ＯＨ）、　５．２０−５
．４０　（ｍ、　ＩＨ。

ＣＨＯ）、　６．１８−６．４０　（ａ＋、　２Ｈ，２
ＣＩ（＝Ｃ（０））、　７．３４＝７．４０　（園、Ｉ
Ｈ，ＣＩ（０）＝Ｃ）（ｔｘ）Ｈ’−１６，５＠（Ｃ＝
１．６５．ＣＨＣｕ、）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　：・３
３５０．１２５０．１０４０．１０１０゜８４４（ロー
１）なお、このようにして得られた化合物２−ｉの光学純度
は下記に示す方法により８８％ｅｅと決定した。

８８％田〔実施例１１〕１−ｊアルゴン雰囲気下、モレキュラーシーブ４Ａ（５００■
）を含むＣＨ，ＣＱ、　（６１１１１）　ｌ！Ｉ濁液に
チタンテトライソプロポキサイド（Ｔｉ（○１Ｐｒ）４
゜０、６９４ｍ１ｌ、　２．３３ｍｍｏ１２）を加えた
。溶液を一２０℃に冷却し、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソ
プロピル（Ｌ−（十）−ＤＩＰＴ、０．５８８ｄ。

２　、８０ｍｍｏｎ）をゆっくり滴下し、その温度で１
０分間撹拌した。反応溶液を一３０℃に冷却し。

化合物１−ｊ　（２，１４ｇ、１１．７鵬ｍａｎ）を含
むＣＨ，Ｃｆｉ、溶液（５−）をゆっくり滴下し、−３
０℃〜−２０℃で２０分間撹拌した。再び反応溶液を一
３０℃に冷却し、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（
ＴＢＨＰ、２．４５ｄ、塩化メチレン中の濃度として２
．８５Ｍ、　６．９９ａ＋ｍｏ１りをゆっくり滴下した
後、−２０℃で２２時間撹拌した。続いて（ＣＨ，）、
Ｓ　（０，５１ｄ、６．９９＋ａｍｏｎ）を滴下し、−
２０℃で２０分間撹拌した後。

反応器を室温に戻した。１０％酒石酸水溶液（０，５ｄ
）、エーテル（２０−）、ＮａＦ（２ｇ）を加え、その
まま３時間撹拌を続けた。

この懸濁液をセライトで濾過し、溶媒を減圧下で留去し
た。化合物２−ｊの収率は４０％、化合物３−ｊの収率
は５２％であった。

化合物１−ｊの分析値を下記に示す。

化合物　１−ｊ ”　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｃ（Ｊ、　、　Ｍｇ２Ｓｉ　）δ
１．１７　（ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ。

３Ｂ、　ＣＨ，）、　２．６３　（ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ、
　２Ｈ，ＣＩ、ＣＨＯ）。

３．４９　（ｂｒｓ、　ＩＩＩ、　ＯＨ）、　４．００
　（ｇ、　Ｊ＝７Ｈｚ、　２Ｈ。

ＣＨ−ＣＨａ）、４−９２　（ｔ−Ｊ＝６Ｈｚ、　ＩＨ
−ＣＨＯ）　−６−０３−６，２３（ｍ、　２Ｈ，ＨＣ
：ＣＩ−Ｃ…：Ｃ）、　７．１２−７．２３　（ｍ。

ＩＨ，０ＨＣ＝Ｃ）Ｒｆ＝０．４０　（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）なお、化合物２−ｊの光学純度はＭＴＰＡエステルの”
Ｈ−ＮＭＲ測定により決定した。

〔実施例１２〕１−に実施例８と同様にして化合物１−ｋ（１，４２ｇ、　８
．７９ｍｍｏｆり　、チタンテトライソプロポキサイド
（Ｔｉ（ＯｉＰ　ｒ）＊ｙ　０．５３　ｒａｆｌ、１　
、８ｍｍｏｆｉ）、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
ｆ：Ｌ−（＋）−ＤＩＰＴ、０．４４ｄ、２．１ｍｍｏ
ｉ）＝　ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（１，８５
ｍＱ、５．２７ｎ＋ａ＋ｏｆｆｉ　、塩化メチレン中の
濃度として２．８５Ｍ）、塩化メチレン（８ｍ１１）、
モレキュラーシーブ４Ａ（４００■）を−２１℃で４５
時間反応させた。

次に、実施例８と同様に処理して、化合物２−ｋを６０
９■（収率４３％）得た。化合物２−にの分析値を下記
に示す。

化合物　２−に ’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＣＲ，、Ｄ、Ｏ、Ｍｇ２Ｓｉ）
δ１．４２　（ｄ。

Ｊ＝６．３Ｈｚ、　３Ｈ）、　４．７４　（ｑ、　ｔ＝
６．３Ｈｚ、　０１）、　６．３１（ｓ、　ＩＨ）、　
６．９３−７．４０　（＋、　４）１）（α）Ｆ＋１９
．９”　　（Ｃ＝１．２１．ＣｌＣｌ！３）Ｉ　Ｒ（ｎ
ｅａｔ）　：　３３２０．１４５５．１２５０．１０８
０゜７４０　（ａｉ−”）Ｒｆ　＝０．３５　（ヘキサン：エチルエーテル＝１：
１）元素分析値（ＣＸ。ＨｔｓＯａ）実測値　Ｃ７４，１４，Ｈ６，１７計算値　Ｃ７４，０６，Ｈ６，２１なお、化合物２−にの光学純度はＭＴＰＡエステルへ誘
導し、”Ｈ−ＮＭＲ分析より〉９９％ｅｅと決定した。

〔実施例１３〕 −Ｑ２−Ｑ　。

実施例８と同様にして化合物１−Ｑ（７７０■。

５　、　ＯＯｍｍｏｌｉ）　、チタンテトライソプロポ
キサイド（Ｔｉ（ＯｉＰ　ｒ）４．１　、４９　ｄ、　
５　、０ｍ＋＋ｍｏｌ）、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプ
ロピル（Ｌ−（＋）−〇ＩＰＴ、１．２６ｍ１Ｌ、６．
０Ｏｍｍｏｎ）、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（
ＴＢＨＰ、０．８９ｄ、　３．　ＯｉｅｍｏＪｌ、塩化
メチレン中の濃度として３．３７Ｍ）、塩化メチレン（
２２ｄ）を−２１℃で５０時間反応させた０次に、実施
例８と同様に処理して、化合物２−Ｑを２９３■（収率
３８％）得た。化合物２−Ｑの分析値を下記に示す。

化合物　２−Ｑ ”　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＣＱ４．　Ｍｅ４Ｓｉ）６０．
７−１．９　（ｍ。

９Ｈ）、　３．２０　（ｂｒｓ、　ＩＨ）、　４．３９
Ｃｔ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ、　ＩＨ）。

６．１９　　（ｂｒｓ、ＩＨ）、７．１２−７．３０　
　（＋ａ、２）１）［ａ］％’　＋１６．２１　（Ｃ＝
ｔ、Ｏａ、　ｃｏｃｏ、）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　：　３
３４０．１０２０．７８５　（ｍ−１）Ｒｆ　＝０．３
８　（ヘキサン：エチルエーテル＝１：１）元素分析値（Ｃ，Ｈ１４０，）実測値　Ｃ６９，８７，Ｈ９，１５計算値　Ｃ７０，１０，Ｈ９，１５なお、化合物２−１の光学純度はＭＴＰＡエステルへ誘
導し、１Ｈ−ＮＭＲ分析より〉９９％ｅｅと決定した。

代理人　　弁理士　小　島　隆　司

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式〔 I 〕： ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕一般式〔II〕： ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕一般式〔III〕： ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕又は一般式〔IV〕： ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕（式中、Ｒ＿１は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜１０
の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もし
くは不飽和の炭素数１〜１０の置換もしくは未置換の脂
肪族炭化水素基置換もしくは未置換のフェニル基を示す
。Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は水素又は飽和もしくは不飽
和の炭素数１〜５の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水
素基を示すが、Ｒ＿２とＲ＿３とは一緒になって飽和も
しくは不飽和の５員環又は６員環を形成することができ
る。）で表される光学活性アルコール。２、一般式〔 I 〕： ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕及び一般式〔II〕： ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕（式中、Ｒ＿１は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜１０
の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もし
くは不飽和の炭素数１〜１０の置換もしくは未置換の脂
肪族炭化水素基置換もしくは未置換のフェニル基を示す
。Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は水素又は飽和もしくは不飽
和の炭素数１〜５の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水
素基を示すが、Ｒ＿２とＲ＿３とは一緒になって飽和も
しくは不飽和の５員環又は６員環を形成することができ
る。）で表されるアルコールのラセミ体又はこれらの混
合物をチタンテトラアルコキサイド及び光学活性酒石酸
ジエステルの存在下にハイドロパーオキサイドで酸化す
ることにより、上記光学活性酒石酸ジエステルの光学活
性に応じて上記光学活性アルコール〔 I 〕又は〔II〕
を優先的に反応させて、一般式〔IV〕： ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕又は一般式〔III〕： ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕（式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は前記と同じ
意味を示す。）で示される光学活性アルコールとこの反応に未関与の光
学活性アルコール〔II〕又は〔 I 〕との混合物を得、
次いでこれら光学活性アルコール〔II〕又は〔 I 〕を
上記光学活性アルコール〔IV〕又は〔III〕から分離し
て、上記式〔II〕と〔IV〕又は〔 I 〕と〔III〕の光学
活性アルコールを得ることを特徴とする光学活性アルコ
ールの製造法。