JP2586607B2 - 光学活性アルコールの製造法 - Google Patents
光学活性アルコールの製造法Info
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- JP2586607B2 JP2586607B2 JP63268689A JP26868988A JP2586607B2 JP 2586607 B2 JP2586607 B2 JP 2586607B2 JP 63268689 A JP63268689 A JP 63268689A JP 26868988 A JP26868988 A JP 26868988A JP 2586607 B2 JP2586607 B2 JP 2586607B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、それ自体生理活性物質として作用すると共
に、各種の生理活性物質合成の中間体として有効な新規
光学活性アルコールの製造法に関し、更に詳述すると、 一般式〔Ｉ〕： 一般式〔II〕： 一般式〔III〕 一般式〔IV〕： （式中、R1は飽和もしくは不飽和炭素数１〜10の置換も
しくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もしくは不飽
和の炭素数１〜10の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水
素基置換もしくは未置換のフェニル基を示す。R2,R3,R4
は水素又は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜５の置換も
しくは未置換の脂肪族炭化水素基を示すが、R2とR3とは
一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又は６員環を
形成することができる。）で表される光学活性アルコー
ルをそれぞれ光学純度よく分離して製造することができ
る製造法に関する。
に、各種の生理活性物質合成の中間体として有効な新規
光学活性アルコールの製造法に関し、更に詳述すると、 一般式〔Ｉ〕： 一般式〔II〕： 一般式〔III〕 一般式〔IV〕： （式中、R1は飽和もしくは不飽和炭素数１〜10の置換も
しくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もしくは不飽
和の炭素数１〜10の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水
素基置換もしくは未置換のフェニル基を示す。R2,R3,R4
は水素又は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜５の置換も
しくは未置換の脂肪族炭化水素基を示すが、R2とR3とは
一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又は６員環を
形成することができる。）で表される光学活性アルコー
ルをそれぞれ光学純度よく分離して製造することができ
る製造法に関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 第２級フルフリルアルコールはそれ自体有用な化合物
であり、特に新しい型の医薬品であるプロスタグランジ
ン類に誘導することができる有用な置換シクロペンテノ
ン誘導体の合成中間体として広く認められている。
であり、特に新しい型の医薬品であるプロスタグランジ
ン類に誘導することができる有用な置換シクロペンテノ
ン誘導体の合成中間体として広く認められている。
従来、一般式〔IV〕 で表される置換シクロペンテノン誘導体の合成法として
は、下記式に示すように、ラセミ体の第２級フルフリル
アルコール（VII）よりラセミ体の置換シクロペンテノ
ン誘導体を合成し、これを光学分割する方法が知られて
いる〔テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letter
s）3555頁（1976）、特開昭57−62236号公報、特開昭61
−236742号公報〕。
は、下記式に示すように、ラセミ体の第２級フルフリル
アルコール（VII）よりラセミ体の置換シクロペンテノ
ン誘導体を合成し、これを光学分割する方法が知られて
いる〔テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letter
s）3555頁（1976）、特開昭57−62236号公報、特開昭61
−236742号公報〕。
しかしながら、これらの方法は光学活性アルコールを
得るため高価な分割剤を使用したり、煩雑な操作を必要
とするため、実用的な製造法とは言えない。この場合、
直接光学活性フルフリルアルコールより一般式〔VI〕の
置換シクロペンテノン誘導体を合成すれば反応工程が簡
略化される。このため、かかる容易な合成法の開発が望
まれる。
得るため高価な分割剤を使用したり、煩雑な操作を必要
とするため、実用的な製造法とは言えない。この場合、
直接光学活性フルフリルアルコールより一般式〔VI〕の
置換シクロペンテノン誘導体を合成すれば反応工程が簡
略化される。このため、かかる容易な合成法の開発が望
まれる。
また、ピラン−３−オン−アルコールは抗菌作用等の
生理活性を有することが知られており、例えば下記一般
式〔VIII〕： て表される化合物が知られている〔ジャーナル・オブ・
メディシナル・ケミストリー（Journal of Medicinal C
hemistry）16巻,10号,1084頁（1973）;19巻,2号,347頁
（1976）〕。
生理活性を有することが知られており、例えば下記一般
式〔VIII〕： て表される化合物が知られている〔ジャーナル・オブ・
メディシナル・ケミストリー（Journal of Medicinal C
hemistry）16巻,10号,1084頁（1973）;19巻,2号,347頁
（1976）〕。
このピラン−３−オン−アルコールに関しては、例え
ば〔VIII〕式で表される化合物を光学活性化することに
より、抗菌性が上昇することが期待され、従ってこのよ
うな光学活性アルコールを容易に得ることができる方法
の開発も要望される。
ば〔VIII〕式で表される化合物を光学活性化することに
より、抗菌性が上昇することが期待され、従ってこのよ
うな光学活性アルコールを容易に得ることができる方法
の開発も要望される。
課題を解決するための手段及び作用 本発明はそれ自体生理活性を有すると共に、上記の如
き生理活性物質の合成中間体として有用な化合物につい
て鋭意研究を進めた結果、下記反応式に示したように、
上記〔Ｉ〕式及び〔II〕式のアルコールのラセミ体又は
混合物〔以下、これらを総称して （なお、式中R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す）で
表わす〕を使用し、これをチタンテトラアルコキサイド
及びＬ−（＋）−酒石酸ジエステルの存在下、ハイドロ
パーオキサイドで酸化することにより、一般式〔Ｉ〕と
〔III〕の新規化合物が得られ、 また、チタンテトラアルコキサイド及びＤ−（−）−酒
石酸ジエステルの存在下、ハイドロパーオキサイドで酸
化することにより、一般式〔II〕と〔IV〕の新規化合物
が得られる （式中、R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す。） ことを知見すると共に、これらが各種生理活性物質の合
成中間体として有効に使用され、またそれ自体活性を示
すことを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
き生理活性物質の合成中間体として有用な化合物につい
て鋭意研究を進めた結果、下記反応式に示したように、
上記〔Ｉ〕式及び〔II〕式のアルコールのラセミ体又は
混合物〔以下、これらを総称して （なお、式中R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す）で
表わす〕を使用し、これをチタンテトラアルコキサイド
及びＬ−（＋）−酒石酸ジエステルの存在下、ハイドロ
パーオキサイドで酸化することにより、一般式〔Ｉ〕と
〔III〕の新規化合物が得られ、 また、チタンテトラアルコキサイド及びＤ−（−）−酒
石酸ジエステルの存在下、ハイドロパーオキサイドで酸
化することにより、一般式〔II〕と〔IV〕の新規化合物
が得られる （式中、R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す。） ことを知見すると共に、これらが各種生理活性物質の合
成中間体として有効に使用され、またそれ自体活性を示
すことを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
従って、本発明は、 一般式〔Ｉ〕： 及び一般式〔II〕： （式中、R1は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜10の置換
もしくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もしくは不
飽和の炭素数１〜10の置換もしくは未置換の脂肪族炭化
水素基、置換もしくは未置換のフェニル基を示す。R2,R
3,R4は水素又は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜５の置
換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基を示すが、R2とR3
とは一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又は６員
環を形成することができる。） で表されるアルコールのラセミ体又はこれらの混合物
を、ハイドロパーオキサイドで酸化するに当たり、 チタンテトラアルコキサイドとＬ−（＋）−酒石酸ジ
エステルの存在下で反応させ、 一般式〔Ｉ〕： 及び一般式〔III〕： で表される光学活性アルコール、又はチタンテトラアル
コキサイドとＤ−（−）−酒石酸ジエステルの存在下で
反応させ、 一般式〔II〕： 及び一般式〔IV〕： （式中、R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す。） で表される光学活性アルコールを得ることを特徴とする
光学活性アルコールの製造法を提供する。
もしくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もしくは不
飽和の炭素数１〜10の置換もしくは未置換の脂肪族炭化
水素基、置換もしくは未置換のフェニル基を示す。R2,R
3,R4は水素又は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜５の置
換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基を示すが、R2とR3
とは一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又は６員
環を形成することができる。） で表されるアルコールのラセミ体又はこれらの混合物
を、ハイドロパーオキサイドで酸化するに当たり、 チタンテトラアルコキサイドとＬ−（＋）−酒石酸ジ
エステルの存在下で反応させ、 一般式〔Ｉ〕： 及び一般式〔III〕： で表される光学活性アルコール、又はチタンテトラアル
コキサイドとＤ−（−）−酒石酸ジエステルの存在下で
反応させ、 一般式〔II〕： 及び一般式〔IV〕： （式中、R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す。） で表される光学活性アルコールを得ることを特徴とする
光学活性アルコールの製造法を提供する。
本発明の一般式〔Ｉ〕，〔II〕、更に〔III〕，〔I
V〕で表されるアルコール類は、従来の方法では容易に
得られなかった置換シクロペンテノン誘導体〔VI〕や一
般式〔Ｉ〕，〔II〕，〔III〕，〔IV〕で表される化合
物をその骨格に含む複雑な生理活性物質を合成するため
に有用である。更にカルボン酸類の光学分割の際の分割
剤、強誘電性液晶、非線形光学材料等の原料としても使
用することができる。
V〕で表されるアルコール類は、従来の方法では容易に
得られなかった置換シクロペンテノン誘導体〔VI〕や一
般式〔Ｉ〕，〔II〕，〔III〕，〔IV〕で表される化合
物をその骨格に含む複雑な生理活性物質を合成するため
に有用である。更にカルボン酸類の光学分割の際の分割
剤、強誘電性液晶、非線形光学材料等の原料としても使
用することができる。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明で得られる新規な光学活性アルコール〔Ｉ〕，
〔II〕，〔III〕及び〔IV〕： において、R1は上述したように飽和もしくは不飽和の炭
素数１〜10の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、
又は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜10の置換もしくは
未置換の脂肪族炭化水素置換もしくは未置換のフェニル
基を示すが、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、デシル、アリル、６−ヘプテニル、７−オクテニ
ル、2,6−ヘプタジエニル、2,7−オクタジエニル、６−
シアノヘキシル、６−シアノ−２−ヘキセニル、６−カ
ルボキシヘキシル、６−アルコキシカルボニルヘキシ
ル、６−カルボキシ−２−ヘキセニル、６−アルコキシ
カルボニル−２−ヘキセニル、７−ヒドロキシヘプチ
ル、７−ヒドロキシ−２−ヘプテニル、及びこれらの水
酸基置換アルキル基の水酸基がアルキル基、ベンジル
基、トリメチルシリル基,t−ブチルメチルシリル基の如
きトリアルキルシリル基、メトキシメチル基，エトキシ
メチル基の如きアルコキシアルキル基、ベンジルオキシ
メチル基の如きアラルキルオキシアルキル基、トリチル
基、テトラヒドロピラニル（THP）基等で保護されたも
の、並びにフェニル基、ビフェニル基、４−（４−ハロ
ゲノフェニル）フェニル基等が挙げられる。
〔II〕，〔III〕及び〔IV〕： において、R1は上述したように飽和もしくは不飽和の炭
素数１〜10の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、
又は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜10の置換もしくは
未置換の脂肪族炭化水素置換もしくは未置換のフェニル
基を示すが、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、デシル、アリル、６−ヘプテニル、７−オクテニ
ル、2,6−ヘプタジエニル、2,7−オクタジエニル、６−
シアノヘキシル、６−シアノ−２−ヘキセニル、６−カ
ルボキシヘキシル、６−アルコキシカルボニルヘキシ
ル、６−カルボキシ−２−ヘキセニル、６−アルコキシ
カルボニル−２−ヘキセニル、７−ヒドロキシヘプチ
ル、７−ヒドロキシ−２−ヘプテニル、及びこれらの水
酸基置換アルキル基の水酸基がアルキル基、ベンジル
基、トリメチルシリル基,t−ブチルメチルシリル基の如
きトリアルキルシリル基、メトキシメチル基，エトキシ
メチル基の如きアルコキシアルキル基、ベンジルオキシ
メチル基の如きアラルキルオキシアルキル基、トリチル
基、テトラヒドロピラニル（THP）基等で保護されたも
の、並びにフェニル基、ビフェニル基、４−（４−ハロ
ゲノフェニル）フェニル基等が挙げられる。
また、R2,R3,R4は水素又は飽和もしくは不飽和の炭素
数１〜５の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基を示
すが、具体的にはメチル、エチル、ｎ−プロピルｉ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、アミ
ル、ビニル、アリル等が挙げられる。また、R2とR3とは
一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又は６員環を
形成することもできるが、その例としてはシクロペンテ
ニル、シクロヘキセニル、シクロペンタジエニル、フェ
ニル基等が挙げられる。
数１〜５の置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基を示
すが、具体的にはメチル、エチル、ｎ−プロピルｉ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、アミ
ル、ビニル、アリル等が挙げられる。また、R2とR3とは
一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又は６員環を
形成することもできるが、その例としてはシクロペンテ
ニル、シクロヘキセニル、シクロペンタジエニル、フェ
ニル基等が挙げられる。
次に、本発明に係る製造法について説明すると、本発
明に従って〔Ｖ〕式で示す〔Ｉ〕式及び〔II〕式のアル
コールのラセミ体又は混合物より〔Ｉ〕，〔II〕，〔II
I〕及び〔IV〕式の光学活性アルコールを得る場合に
は、〔Ｖ〕式のラセミ体又は混合物をチタンテトラアル
コキサイド及び光学活性酒石酸ジエステルの存在下にハ
イドロパーオキサイドで酸化するもので、これにより下
記に示すように酒石酸ジエステルの光学活性に応じて
〔Ｉ〕又は〔II〕式のアルコールが優先的に反応し、
〔II〕と〔IV〕又は〔Ｉ〕と〔III〕の光学活性アルコ
ールが得られる。即ち、本発明においては、用いる光学
活性酒石酸ジエステルにより生成物のアルコールの立体
を規制しているものである。
明に従って〔Ｖ〕式で示す〔Ｉ〕式及び〔II〕式のアル
コールのラセミ体又は混合物より〔Ｉ〕，〔II〕，〔II
I〕及び〔IV〕式の光学活性アルコールを得る場合に
は、〔Ｖ〕式のラセミ体又は混合物をチタンテトラアル
コキサイド及び光学活性酒石酸ジエステルの存在下にハ
イドロパーオキサイドで酸化するもので、これにより下
記に示すように酒石酸ジエステルの光学活性に応じて
〔Ｉ〕又は〔II〕式のアルコールが優先的に反応し、
〔II〕と〔IV〕又は〔Ｉ〕と〔III〕の光学活性アルコ
ールが得られる。即ち、本発明においては、用いる光学
活性酒石酸ジエステルにより生成物のアルコールの立体
を規制しているものである。
ここで、光学活性な酒石酸ジエステルとしては、Ｌ−
（＋）−酒石酸ジメチル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジエチ
ル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル、Ｌ−（＋）−
酒石酸ジ−ｔ−ブチル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジエステア
リル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジフェニル及びこれ等のＤ−
（−）−体が例として挙げられる。この場合、例えばＬ
−（＋）−酒石酸ジエステルを用いれば、 の反応が進行し、Ｄ−（−）−酒石酸ジエステルを用い
れば、 の反応が進行し、光学活性アルコール〔Ｉ〕と〔III〕
又は〔II〕と〔IV〕が選択性よく得られる。
（＋）−酒石酸ジメチル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジエチ
ル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル、Ｌ−（＋）−
酒石酸ジ−ｔ−ブチル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジエステア
リル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジフェニル及びこれ等のＤ−
（−）−体が例として挙げられる。この場合、例えばＬ
−（＋）−酒石酸ジエステルを用いれば、 の反応が進行し、Ｄ−（−）−酒石酸ジエステルを用い
れば、 の反応が進行し、光学活性アルコール〔Ｉ〕と〔III〕
又は〔II〕と〔IV〕が選択性よく得られる。
この酒石酸ジエステルの使用量はチタンアルコキサイ
ド１モル当たり0.9〜２モル、特に１〜1.2モルが望まし
い。
ド１モル当たり0.9〜２モル、特に１〜1.2モルが望まし
い。
なお、本発明において、チタンテトラアルコキサイド
としては、具体的には、チタンテトラメトキサイド、チ
タンテトラエトキサイド、チタンテトラプロポキサイ
ド、チタンテトライソプロポキサイド、チタンテトラブ
トキサイド、チタンテトラ−ｔ−ブトキサイド等が挙げ
られ、その１種又は２種以上を使用することができる。
その使用量は、〔Ｖ〕式のラセミ体又は混合物１モル当
たり0.05〜1.5モルにすることが望ましい。
としては、具体的には、チタンテトラメトキサイド、チ
タンテトラエトキサイド、チタンテトラプロポキサイ
ド、チタンテトライソプロポキサイド、チタンテトラブ
トキサイド、チタンテトラ−ｔ−ブトキサイド等が挙げ
られ、その１種又は２種以上を使用することができる。
その使用量は、〔Ｖ〕式のラセミ体又は混合物１モル当
たり0.05〜1.5モルにすることが望ましい。
また、酸化剤（ハイドロパーオキサイド）としては、
通常、脂肪族のハイドロパーオキサイドが使用され、例
えばｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TBHP）、α，
α−ジメチルヘプチルハイドロパーオキサイド、ビス−
イソブチル−2,5−ジハイドロパーオキサイド、１−メ
チルシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、クメンハ
イドロパーオキサイド、シクロヘキシルハイドロパーオ
キサイド等を挙げることができる。その使用量は〔Ｖ〕
式のラセミ体又は混合物１モル当たり0.5〜３モル、特
に0.5〜1.5モルが好ましい。
通常、脂肪族のハイドロパーオキサイドが使用され、例
えばｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TBHP）、α，
α−ジメチルヘプチルハイドロパーオキサイド、ビス−
イソブチル−2,5−ジハイドロパーオキサイド、１−メ
チルシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、クメンハ
イドロパーオキサイド、シクロヘキシルハイドロパーオ
キサイド等を挙げることができる。その使用量は〔Ｖ〕
式のラセミ体又は混合物１モル当たり0.5〜３モル、特
に0.5〜1.5モルが好ましい。
本発明の製造法においては溶媒を使用することが好ま
しく、溶媒としては不活性溶媒、特にハロゲン化炭化水
素溶媒が好適に用いられる。具体的にはジクロロメタ
ン、ジクロロエタン等を挙げることができる。
しく、溶媒としては不活性溶媒、特にハロゲン化炭化水
素溶媒が好適に用いられる。具体的にはジクロロメタ
ン、ジクロロエタン等を挙げることができる。
反応温度は−80℃〜80℃の範囲が採用され、望ましく
は−30℃〜30℃である。また、反応時間は、反応基質又
は温度等により異なるが、通常10分〜100時間である。
は−30℃〜30℃である。また、反応時間は、反応基質又
は温度等により異なるが、通常10分〜100時間である。
反応系は水分を非常に嫌うので反応溶媒、反応基質及
び反応剤は全て極力脱水することが好ましい。また、触
媒量の酒石酸ジエステルを用いる場合は粉末化したモレ
キュラーシーブ、水素化カルシウム、シリカゲル等を共
存させて反応させても良い。
び反応剤は全て極力脱水することが好ましい。また、触
媒量の酒石酸ジエステルを用いる場合は粉末化したモレ
キュラーシーブ、水素化カルシウム、シリカゲル等を共
存させて反応させても良い。
なお、〔III〕又は〔IV〕の化合物は下式のように〔I
I〕又は〔Ｉ〕の化合物より合成することもできる。
I〕又は〔Ｉ〕の化合物より合成することもできる。
（式中、R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す。） 発明の効果 以上説明したように、本発明の上記一般式〔Ｉ〕，
〔II〕，〔III〕及び〔IV〕で表されるアルコールの製
造法は、これらのアルコールを高い安定性と高い光学純
度をもって好収率で選択的に製造することができる。
〔II〕，〔III〕及び〔IV〕で表されるアルコールの製
造法は、これらのアルコールを高い安定性と高い光学純
度をもって好収率で選択的に製造することができる。
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、
本発明は下記実施例に制限されるものではない。
本発明は下記実施例に制限されるものではない。
〔実施例１〕 アルゴン雰囲気下、チタンテトライソプロポキサイド
〔Ti（OiPr）4,3.68ml、12.3mmol〕を含むCH2Cl2溶液
（60ml）に−20℃でＬ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｌ−（＋）−DIPT,3.12ml,14.8mmol〕を滴下し、その
温度で10分間撹拌した。反応溶液を−30℃に冷却し、化
合物１−ａ（2.07g,12.3mmol）を含むCH2Cl2溶液（3m
l）を滴下し、−30℃〜−20℃で20分間撹拌した。再度
反応溶液を−30℃に冷却し、ｔ−ブチルハイドロパーオ
キサイド（TBHP,1.99ml、塩化メチレン中の濃度として
3.73M,7.41mmol,60mol％）をゆっくり滴下した後、−21
℃で25時間撹拌した。反応器を室温に戻した後、10％酒
石酸水溶液（0.5ml）、エーテル（20ml）及びNaF（3g）
を加え、そのまま３時間撹拌を続けた。この懸濁液をセ
ライトで濾過し、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物
２−ａを872mg（収率42％）及び化合物３−ａを1.10g
（収率53％）得た。化合物２−ａの光学純度はMTPAエス
テルの1H−NMR解析により95％ee以上であると決定され
た。分析値を下記に示す。
〔Ti（OiPr）4,3.68ml、12.3mmol〕を含むCH2Cl2溶液
（60ml）に−20℃でＬ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｌ−（＋）−DIPT,3.12ml,14.8mmol〕を滴下し、その
温度で10分間撹拌した。反応溶液を−30℃に冷却し、化
合物１−ａ（2.07g,12.3mmol）を含むCH2Cl2溶液（3m
l）を滴下し、−30℃〜−20℃で20分間撹拌した。再度
反応溶液を−30℃に冷却し、ｔ−ブチルハイドロパーオ
キサイド（TBHP,1.99ml、塩化メチレン中の濃度として
3.73M,7.41mmol,60mol％）をゆっくり滴下した後、−21
℃で25時間撹拌した。反応器を室温に戻した後、10％酒
石酸水溶液（0.5ml）、エーテル（20ml）及びNaF（3g）
を加え、そのまま３時間撹拌を続けた。この懸濁液をセ
ライトで濾過し、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物
２−ａを872mg（収率42％）及び化合物３−ａを1.10g
（収率53％）得た。化合物２−ａの光学純度はMTPAエス
テルの1H−NMR解析により95％ee以上であると決定され
た。分析値を下記に示す。
1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.72−1.05（m,3H,CH3）,1.
05−1.47（m,6H,（CH2）３）,1.47−1.90（m,2H,CH2）,
4.45（t,J＝7.3Hz,1H,（HO）,6.05（d,J＝3.6Hz,1H,HC
＝Ｃ（Ｏ）Ｃ）,6.16（dd,J＝1.8Hz,3.6Hz,1H,HC＝CH
O）,7.16−7.30（m,1H,C＝CHO） IR（neat）:3350,1140,1005,725（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋13.8゜（Ｃ＝1.07,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.70−1.00（m,3H,CH3）,1.
10−2.10（m,8H,（CH2）４）,4.46 5.52（d,J＝3.6Hz,1H,CＨOH）,6.01 6.82（dd,J＝3.3,9.6Hz,1H,HC＝Ｃ）13 C−NMR（CDCl3）δ2.3,6.1,8.3,8.5,13.4,14.4,15.3,
57.9,62.5,71.1,74.5,110.8,111.9,129.5,132.8,180.9,
181.5。
05−1.47（m,6H,（CH2）３）,1.47−1.90（m,2H,CH2）,
4.45（t,J＝7.3Hz,1H,（HO）,6.05（d,J＝3.6Hz,1H,HC
＝Ｃ（Ｏ）Ｃ）,6.16（dd,J＝1.8Hz,3.6Hz,1H,HC＝CH
O）,7.16−7.30（m,1H,C＝CHO） IR（neat）:3350,1140,1005,725（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋13.8゜（Ｃ＝1.07,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.70−1.00（m,3H,CH3）,1.
10−2.10（m,8H,（CH2）４）,4.46 5.52（d,J＝3.6Hz,1H,CＨOH）,6.01 6.82（dd,J＝3.3,9.6Hz,1H,HC＝Ｃ）13 C−NMR（CDCl3）δ2.3,6.1,8.3,8.5,13.4,14.4,15.3,
57.9,62.5,71.1,74.5,110.8,111.9,129.5,132.8,180.9,
181.5。
▲〔α〕25 D▼＋42.3゜（Ｃ＝1.03,CHCl3） 〔実施例２〜５〕 基質を変えて実施例１と同様に反応を行った結果を第
１表に示す。
１表に示す。
以下、各生成物の分析値を示す。
1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.76及び0.88（2d,J＝6.6H
z,6H,2CH3）,1.70−2.15（m,1H,CＨiPr）,4.17（d,J＝7
Hz,1H,CＨOH）,6.05（d,J＝3.6Hz,1H,HC＝Ｃ（Ｏ）
Ｃ）,6.16（dd,J＝1.8,3.6Hz,1H,ＨＣ＝CHO）,7.16−7.
30（m,1H,C＝CHO） Rf:0.41（ヘキサン／エーテル＝1/1） IR（neat）:3360,1000,720（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋18.1゜（Ｃ＝1.04,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ5.43（s,1H,CHO）,5.85（d,
J＝3.6Hz,1H,CH＝Ｃ（Ｏ）Ｃ）,6.06（dd,J＝1.9,3.6H
z,1H,ＨＣ＝CHO）,7.02−7.26（m,6H,芳香環及びＣ＝CH
O） IR（neat）:3350,1000,725,690（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋6.9゜（Ｃ＝1.13,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ1.37（d,J＝6.6Hz,3H,C
H3）,3.26−3.75（brs,1H,OH）,4.65（q,J＝6.6Hz,1H,C
HO）,6.03（d,J＝3.6Hz,1H,HC＝Ｃ（Ｏ）Ｃ）,6.15（d
d,J＝1.9Hz,3.6Hz,1H,ＨＣ＝CHO）,7.15−7.30（m,1H,C
＝CHO） IR（neat）:3340,1060,730（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋20.8゜（Ｃ＝1.27,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.60−1.05（m,3H,CH3）,1.
07−1.90（m,8H,（CH2）４）,2.19（s,3H,CH3）,2.78
（brs,1H,OH）,4.39（t,J＝6.6Hz,1H,CHO）,5.72及び5.
90（2d,J＝3.0Hz,2H,オレフィン） IR（neat）:3350,1015,780（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋7.8゜（Ｃ＝1.01,CHCl3） 1H−NMR（COl4,D2O添加）δ0.7−2.5（m,7H,iPr）,4.2
−4.6 5.46（brd,J＝3.6Hz,1H,CＨOH）,5.9 6.83（dd,J＝3.3,9.6Hz,1H,CH＝Ｃ） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ5.55（brd,J＝3Hz,1H,CＨO
H）,5.66 5.93 6.88（dd,J＝3.3,9.6Hz,1H,HC＝Ｃ）,7.0−7.5（m,5H,
芳香環） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.7−1.8（m,3H,CH3）,4.5
−4.8 5.45（brd,J＝3.6Hz,1H,CＨOH）,5.89 6.6−6.9（m,1H,CＨ＝Ｃ） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.6−1.1（m,3H,CH3）,1.1
−2.1（m,11H,（CH2）４及びCH3C−Ｏ）,4.2−4.5 5.8 6.72（d,J＝9.6Hz,1H,CＨ＝Ｃ） 〔実施例６〕 アルゴン雰囲気下、モレキュラーシーブ4A（5g）を含
むCH2Cl2（100ml）懸濁液にチタンテトライソプロポキ
サイド〔Ti（OiPr）4,7.35ml,24.7mmol,20mol％〕を加
えた。溶液を−20℃に冷却し、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイ
ソプロピル〔Ｌ−（＋）−DIPT,6.23ml,29.6mmol,24mol
％〕をゆっくり滴下し、その温度で10分間撹拌した。反
応溶液を−30℃に冷却し、化合物１−ａ（20.7g,123mmo
l）を含むCH2Cl2溶液（20ml）をゆっくり滴下し、−30
℃〜−20℃で20分間撹拌した。再び反応溶液を−30℃に
冷却し、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TBHP,17.
0ml,塩化メチレン中の濃度として4.35M,74.0mmol,60mol
％）をゆっくり滴下した後、−21℃で14時間撹拌した。
続いて（CH3）2S（5.43ml,74.0mmol）を滴下し、−21℃
で20分間撹拌した後、反応器を室温に戻した。10％酒石
酸水溶液（3ml）、エーテル（50ml）及びNaF（10g）を
加え、そのまま３時間撹拌を続けた。この懸濁液をセラ
イトで濾過し、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物２
−ａを7.94g（収率38％）得た。
z,6H,2CH3）,1.70−2.15（m,1H,CＨiPr）,4.17（d,J＝7
Hz,1H,CＨOH）,6.05（d,J＝3.6Hz,1H,HC＝Ｃ（Ｏ）
Ｃ）,6.16（dd,J＝1.8,3.6Hz,1H,ＨＣ＝CHO）,7.16−7.
30（m,1H,C＝CHO） Rf:0.41（ヘキサン／エーテル＝1/1） IR（neat）:3360,1000,720（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋18.1゜（Ｃ＝1.04,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ5.43（s,1H,CHO）,5.85（d,
J＝3.6Hz,1H,CH＝Ｃ（Ｏ）Ｃ）,6.06（dd,J＝1.9,3.6H
z,1H,ＨＣ＝CHO）,7.02−7.26（m,6H,芳香環及びＣ＝CH
O） IR（neat）:3350,1000,725,690（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋6.9゜（Ｃ＝1.13,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ1.37（d,J＝6.6Hz,3H,C
H3）,3.26−3.75（brs,1H,OH）,4.65（q,J＝6.6Hz,1H,C
HO）,6.03（d,J＝3.6Hz,1H,HC＝Ｃ（Ｏ）Ｃ）,6.15（d
d,J＝1.9Hz,3.6Hz,1H,ＨＣ＝CHO）,7.15−7.30（m,1H,C
＝CHO） IR（neat）:3340,1060,730（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋20.8゜（Ｃ＝1.27,CHCl3） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.60−1.05（m,3H,CH3）,1.
07−1.90（m,8H,（CH2）４）,2.19（s,3H,CH3）,2.78
（brs,1H,OH）,4.39（t,J＝6.6Hz,1H,CHO）,5.72及び5.
90（2d,J＝3.0Hz,2H,オレフィン） IR（neat）:3350,1015,780（cm-1） ▲〔α〕25 D▼＋7.8゜（Ｃ＝1.01,CHCl3） 1H−NMR（COl4,D2O添加）δ0.7−2.5（m,7H,iPr）,4.2
−4.6 5.46（brd,J＝3.6Hz,1H,CＨOH）,5.9 6.83（dd,J＝3.3,9.6Hz,1H,CH＝Ｃ） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ5.55（brd,J＝3Hz,1H,CＨO
H）,5.66 5.93 6.88（dd,J＝3.3,9.6Hz,1H,HC＝Ｃ）,7.0−7.5（m,5H,
芳香環） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.7−1.8（m,3H,CH3）,4.5
−4.8 5.45（brd,J＝3.6Hz,1H,CＨOH）,5.89 6.6−6.9（m,1H,CＨ＝Ｃ） 1H−NMR（CCl4,D2O添加）δ0.6−1.1（m,3H,CH3）,1.1
−2.1（m,11H,（CH2）４及びCH3C−Ｏ）,4.2−4.5 5.8 6.72（d,J＝9.6Hz,1H,CＨ＝Ｃ） 〔実施例６〕 アルゴン雰囲気下、モレキュラーシーブ4A（5g）を含
むCH2Cl2（100ml）懸濁液にチタンテトライソプロポキ
サイド〔Ti（OiPr）4,7.35ml,24.7mmol,20mol％〕を加
えた。溶液を−20℃に冷却し、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイ
ソプロピル〔Ｌ−（＋）−DIPT,6.23ml,29.6mmol,24mol
％〕をゆっくり滴下し、その温度で10分間撹拌した。反
応溶液を−30℃に冷却し、化合物１−ａ（20.7g,123mmo
l）を含むCH2Cl2溶液（20ml）をゆっくり滴下し、−30
℃〜−20℃で20分間撹拌した。再び反応溶液を−30℃に
冷却し、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TBHP,17.
0ml,塩化メチレン中の濃度として4.35M,74.0mmol,60mol
％）をゆっくり滴下した後、−21℃で14時間撹拌した。
続いて（CH3）2S（5.43ml,74.0mmol）を滴下し、−21℃
で20分間撹拌した後、反応器を室温に戻した。10％酒石
酸水溶液（3ml）、エーテル（50ml）及びNaF（10g）を
加え、そのまま３時間撹拌を続けた。この懸濁液をセラ
イトで濾過し、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物２
−ａを7.94g（収率38％）得た。
化合物２−ａの分析値は実施例１と同一である。
〔実施例７〕 アルゴン雰囲気下、チタンテトライソプロポキサイド
〔Ti（OiPr）4,6.79ml,22.8mmol〕を含むCH2Cl2溶液（1
10ml）に−20℃でＤ−（−）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｄ−（−）−DIPT,5.75ml,27.3mmol〕を加え、10分間
撹拌した。反応溶液を−30℃に冷却し、化合物１−ｆ
（6.5g,22.8ml）を含むCH2Cl2溶液（5ml）を滴下し、20
分間撹拌した後、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド
（TBHP,3.65ml,塩化メチレン中の濃度として3.74M,13.6
mmol）をゆっくり滴下した。−21℃で24時間撹拌した
後、ジメチルサルファイト（Me2S,1ml）を加え、更に１
時間撹拌を続けた。反応液を室温に戻した後、、10％酒
石酸水溶液（1ml）、エーテル（40ml）及びNaF（10g）
を加え、３時間撹拌した。この懸濁液をセライトで濾過
し、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物をエーテル50ml
に溶解し、０℃で3M−NaOH（30ml）及び水（30ml）を加
えて１時間撹拌した。有機層をエーテル（50ml）で抽出
し、MgSO4上で乾燥した後、再度溶媒を減圧下に留去し
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、化合物２−ｆを2.47g（収率38
％）得た。化合物２−ｆの分析値を下記に示す。
〔Ti（OiPr）4,6.79ml,22.8mmol〕を含むCH2Cl2溶液（1
10ml）に−20℃でＤ−（−）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｄ−（−）−DIPT,5.75ml,27.3mmol〕を加え、10分間
撹拌した。反応溶液を−30℃に冷却し、化合物１−ｆ
（6.5g,22.8ml）を含むCH2Cl2溶液（5ml）を滴下し、20
分間撹拌した後、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド
（TBHP,3.65ml,塩化メチレン中の濃度として3.74M,13.6
mmol）をゆっくり滴下した。−21℃で24時間撹拌した
後、ジメチルサルファイト（Me2S,1ml）を加え、更に１
時間撹拌を続けた。反応液を室温に戻した後、、10％酒
石酸水溶液（1ml）、エーテル（40ml）及びNaF（10g）
を加え、３時間撹拌した。この懸濁液をセライトで濾過
し、溶媒を減圧下に留去した。粗生成物をエーテル50ml
に溶解し、０℃で3M−NaOH（30ml）及び水（30ml）を加
えて１時間撹拌した。有機層をエーテル（50ml）で抽出
し、MgSO4上で乾燥した後、再度溶媒を減圧下に留去し
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、化合物２−ｆを2.47g（収率38
％）得た。化合物２−ｆの分析値を下記に示す。
1H−NMR（CCl4,CH2Cl2）δ0.08（s,6H,Si（CH3）２）,
0.87（s,9H,SiC（CH3）３）,1.18−1.96（m,6H）,2.96
（brs,1H,0H）,3.56（t,J＝6Hz,2H,CH20Si）,4.52（t,J
＝6Hz,1H,CＨOH）,6.05−6.30（m,2H）,7.14（brs,1H） ▲〔α〕25 D▼ 7.0゜（Ｃ＝1.20,CHCl3） Rf＝0.50（ヘキサン／エーテル＝1/1） なお、化合物２−ｆの光学純度はMTPAエステルとして
1HNMR分析により95％ee以上と決定した。
0.87（s,9H,SiC（CH3）３）,1.18−1.96（m,6H）,2.96
（brs,1H,0H）,3.56（t,J＝6Hz,2H,CH20Si）,4.52（t,J
＝6Hz,1H,CＨOH）,6.05−6.30（m,2H）,7.14（brs,1H） ▲〔α〕25 D▼ 7.0゜（Ｃ＝1.20,CHCl3） Rf＝0.50（ヘキサン／エーテル＝1/1） なお、化合物２−ｆの光学純度はMTPAエステルとして
1HNMR分析により95％ee以上と決定した。
〔実施例８〕 チタンテトライソプロポキサイド〔Ti（OiPr）4,3.54
ml,11.88mmol〕及びＬ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｌ−（＋）−DIPT,3.00ml,14.26mmol〕を含むCH2Cl2
溶液（50ml）に化合物１−ｇ（1.64g,11.88mmol）を含
むCH2Cl2溶液（6ml）を−20℃で加えた。10分間撹拌し
た後、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TBHP,2.04m
l,7.14mmol,塩化メチレン中の濃度として3.5M）を滴下
し、−21℃で36時間撹拌した。続いて（CH3）2S（2ml）
を加え、−21℃で30分撹拌した後、10％酒石酸水溶液
（7ml）、エーテル（100ml）,NaF（3g）及びセライト
（5g）を加え、室温で１時間撹拌した。反応混合液をセ
ライトで濾過し、濾液の溶媒を減圧下に留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
化合物２−ｇを0.68g（収率42％）及び化合物３−ｇを
0.77g（収率43％）得た。化合物２−ｇの分析値を下記
に示す。
ml,11.88mmol〕及びＬ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｌ−（＋）−DIPT,3.00ml,14.26mmol〕を含むCH2Cl2
溶液（50ml）に化合物１−ｇ（1.64g,11.88mmol）を含
むCH2Cl2溶液（6ml）を−20℃で加えた。10分間撹拌し
た後、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TBHP,2.04m
l,7.14mmol,塩化メチレン中の濃度として3.5M）を滴下
し、−21℃で36時間撹拌した。続いて（CH3）2S（2ml）
を加え、−21℃で30分撹拌した後、10％酒石酸水溶液
（7ml）、エーテル（100ml）,NaF（3g）及びセライト
（5g）を加え、室温で１時間撹拌した。反応混合液をセ
ライトで濾過し、濾液の溶媒を減圧下に留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
化合物２−ｇを0.68g（収率42％）及び化合物３−ｇを
0.77g（収率43％）得た。化合物２−ｇの分析値を下記
に示す。
1H−NMR（CCl4,Me4Si）δ2.40（t,J＝7.2Hz,2H,CＨ 2CH
＝Ｃ）,3.36（brs,1H,OH）,4.32−4.60（m,1H,CＨOH）,
4.80−5.15（m,2H,C＝CH2）,5.62（ddt,J＝10.8,18.0,
7.2Hz,1H,CH＝Ｃ）,6.01（d,J＝3.6Hz,1H,CH＝Ｃ
（Ｏ））,6.10（dd,J＝1.8,3.6Hz,1H,CH＝Ｃ（Ｏ））,
7.10−7.25（m,1H,CH（Ｏ）＝Ｃ） ▲〔α〕25 D▼ 39.9゜ （Ｃ＝1.54,CHCl3） IR（neat）:3350,1150,1010,920,735（cm-1） なお、化合物２−ｇの光学純度は水素添加した後、対
応するMTPAエステルへ誘導し、1H−NMR分析により＞95
％eeと決定した。
＝Ｃ）,3.36（brs,1H,OH）,4.32−4.60（m,1H,CＨOH）,
4.80−5.15（m,2H,C＝CH2）,5.62（ddt,J＝10.8,18.0,
7.2Hz,1H,CH＝Ｃ）,6.01（d,J＝3.6Hz,1H,CH＝Ｃ
（Ｏ））,6.10（dd,J＝1.8,3.6Hz,1H,CH＝Ｃ（Ｏ））,
7.10−7.25（m,1H,CH（Ｏ）＝Ｃ） ▲〔α〕25 D▼ 39.9゜ （Ｃ＝1.54,CHCl3） IR（neat）:3350,1150,1010,920,735（cm-1） なお、化合物２−ｇの光学純度は水素添加した後、対
応するMTPAエステルへ誘導し、1H−NMR分析により＞95
％eeと決定した。
〔実施例９〕 実施例８と同様にしてチタンテトライソプロポキサイ
ド〔Ti（OiPr）4,7.3ml,24.6mmol〕及びＬ−（＋）−酒
石酸ジイソプロピル〔Ｌ−（＋）−DIPT,6.2ml,29.5mmo
l〕を含むCH2Cl2溶液（113ml）に化合物１−ｈ（3.05g,
24.6mmol）及びｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TB
HP,5.2ml,14.8mmol,塩化メチレン中の濃度2.8M）を加
え、−21℃で24時間反応を行なった。続いて（CH3）2S
（4ml）を加え、−21℃で30分撹拌した後、10％酒石酸
水溶液（15ml）、エーテル（120ml）、NaF（8g）及びセ
ライト（12g）を加え、１時間撹拌した。反応混合液を
セライトで濾過し、濾液の溶媒を減圧下に留去した。残
渣をエーテル（100ml）で希釈し、０℃に冷却後、1N Na
OH水溶液（70ml）を加え、10分間撹拌した。粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化
合物２−ｈを1.15g（収率38％）得た。化合物２−ｈの
分析値を下記に示す。
ド〔Ti（OiPr）4,7.3ml,24.6mmol〕及びＬ−（＋）−酒
石酸ジイソプロピル〔Ｌ−（＋）−DIPT,6.2ml,29.5mmo
l〕を含むCH2Cl2溶液（113ml）に化合物１−ｈ（3.05g,
24.6mmol）及びｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TB
HP,5.2ml,14.8mmol,塩化メチレン中の濃度2.8M）を加
え、−21℃で24時間反応を行なった。続いて（CH3）2S
（4ml）を加え、−21℃で30分撹拌した後、10％酒石酸
水溶液（15ml）、エーテル（120ml）、NaF（8g）及びセ
ライト（12g）を加え、１時間撹拌した。反応混合液を
セライトで濾過し、濾液の溶媒を減圧下に留去した。残
渣をエーテル（100ml）で希釈し、０℃に冷却後、1N Na
OH水溶液（70ml）を加え、10分間撹拌した。粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化
合物２−ｈを1.15g（収率38％）得た。化合物２−ｈの
分析値を下記に示す。
1H−NMR（CCl4,Me4Si）δ3.73（brs,1H,OH）,4.85−5.3
8（m,3H,C＝CH2とＣＨOH）,5.87（ddd,J＝6.0,10.2,18.
0Hz,1H,CH＝Ｃ）,6.02（d,J＝3.3Hz,1H,CＨ＝CH
（Ｏ））,6.13（dd,J＝1.8,3.3Hz,1H,CＨ＝CH（Ｏ））,
7.10−7.25（m,1H,C＝CH（Ｏ）） ▲〔α〕25 D▼−1.74゜（Ｃ＝2.41,CHCl3） IR（neat）:3330,1145,990,730（cm-1） なお、化合物２−ｈの光学純度は水素添加した後、対
応するMTPAエステルへ誘導し、1H−NMR分析により＞95
％eeと決定した。
8（m,3H,C＝CH2とＣＨOH）,5.87（ddd,J＝6.0,10.2,18.
0Hz,1H,CH＝Ｃ）,6.02（d,J＝3.3Hz,1H,CＨ＝CH
（Ｏ））,6.13（dd,J＝1.8,3.3Hz,1H,CＨ＝CH（Ｏ））,
7.10−7.25（m,1H,C＝CH（Ｏ）） ▲〔α〕25 D▼−1.74゜（Ｃ＝2.41,CHCl3） IR（neat）:3330,1145,990,730（cm-1） なお、化合物２−ｈの光学純度は水素添加した後、対
応するMTPAエステルへ誘導し、1H−NMR分析により＞95
％eeと決定した。
〔実施例10〕 実施例８と同様にしてチタンテトライソプロポキサイ
ド〔Ti（OiPr）4,2.4ml,8.1mmol〕及びＬ−（＋）−酒
石酸ジイソプロピル〔Ｌ−（＋）−DIPT,2.0ml,9.7mmo
l〕を含むCH2Cl2溶液（40ml）に化合物１−ｉ（1.57g,
8.1mmol）及びｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TBH
P,4.25ml,12.1mmol,塩化メチレン中の濃度2.85M）を加
え、−21℃で20時間反応を行なった。得られた粗生成物
をシルカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
化合物２−ｉを0.6g（収率38％）得た。分析値を下記に
示す。
ド〔Ti（OiPr）4,2.4ml,8.1mmol〕及びＬ−（＋）−酒
石酸ジイソプロピル〔Ｌ−（＋）−DIPT,2.0ml,9.7mmo
l〕を含むCH2Cl2溶液（40ml）に化合物１−ｉ（1.57g,
8.1mmol）及びｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（TBH
P,4.25ml,12.1mmol,塩化メチレン中の濃度2.85M）を加
え、−21℃で20時間反応を行なった。得られた粗生成物
をシルカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
化合物２−ｉを0.6g（収率38％）得た。分析値を下記に
示す。
1H−NMR（neat）δ0.05（s,9H,3CH3）,3.12（brs,1H,O
H）,5.20−5.40（m,1H,CHO）,6.18−6.40（m,2H,2CH＝
Ｃ（Ｏ））,7.34−7.40（m,1H,CH（Ｏ）＝Ｃ） ▲〔α〕25 D▼−16.5゜（Ｃ＝1.65,CHCl3） IR（neat）:3350,1250,1040,1010,884（cm-1） なお、このようにして得られた化合物２−ｉの光学純
度は下記に示す方法より88％eeと決定した。
H）,5.20−5.40（m,1H,CHO）,6.18−6.40（m,2H,2CH＝
Ｃ（Ｏ））,7.34−7.40（m,1H,CH（Ｏ）＝Ｃ） ▲〔α〕25 D▼−16.5゜（Ｃ＝1.65,CHCl3） IR（neat）:3350,1250,1040,1010,884（cm-1） なお、このようにして得られた化合物２−ｉの光学純
度は下記に示す方法より88％eeと決定した。
〔実施例11〕 アルゴン雰囲気下、モレキュラーシーブ4A（500mg）
を含むCH2Cl2（6ml）懸濁液にチタンテトライソプロポ
キサイド〔Ti（OiPr）4,0.694ml,2.33mmol〕を加えた。
溶液を−20℃に冷却し、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロ
ピル〔Ｌ−（＋）−DIPT,0.588ml,2.80mmol〕をゆっく
り滴下し、その温度で10分間撹拌した。反応溶液を−30
℃に冷却し、化合物１−ｊ（2.14g,11.7mmol）を含むCH
2Cl2溶液（5ml）をゆくり滴下し、−30℃〜−20℃で20
分間撹拌した。再び反応溶液を−30℃に冷却し、ｔ−ブ
チルハイドロパーオキサイド（TBHP,2.45ml,塩化メチレ
ン中の濃度として2.85M,6.99mmol）をゆっくり滴下した
後、−20℃で22時間撹拌した。続いて（CH3）2S（0.51m
l,6.99mmol）を滴下し、−20℃で20分間撹拌した後、反
応器を室温に戻した。10％酒石酸水溶液（0.5ml）、エ
ーテル（20ml）、NaF（2g）を加え、そのまま３時間撹
拌を続けた。この懸濁液をセライトで濾過し、溶媒を減
圧下で留去した。化合物２−ｊの収率は40％、化合物３
−ｊの収率は52％であった。
を含むCH2Cl2（6ml）懸濁液にチタンテトライソプロポ
キサイド〔Ti（OiPr）4,0.694ml,2.33mmol〕を加えた。
溶液を−20℃に冷却し、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロ
ピル〔Ｌ−（＋）−DIPT,0.588ml,2.80mmol〕をゆっく
り滴下し、その温度で10分間撹拌した。反応溶液を−30
℃に冷却し、化合物１−ｊ（2.14g,11.7mmol）を含むCH
2Cl2溶液（5ml）をゆくり滴下し、−30℃〜−20℃で20
分間撹拌した。再び反応溶液を−30℃に冷却し、ｔ−ブ
チルハイドロパーオキサイド（TBHP,2.45ml,塩化メチレ
ン中の濃度として2.85M,6.99mmol）をゆっくり滴下した
後、−20℃で22時間撹拌した。続いて（CH3）2S（0.51m
l,6.99mmol）を滴下し、−20℃で20分間撹拌した後、反
応器を室温に戻した。10％酒石酸水溶液（0.5ml）、エ
ーテル（20ml）、NaF（2g）を加え、そのまま３時間撹
拌を続けた。この懸濁液をセライトで濾過し、溶媒を減
圧下で留去した。化合物２−ｊの収率は40％、化合物３
−ｊの収率は52％であった。
化合物１−ｊの分析値を下記に示す。
1H−NMR（CCl4,Me4Si）δ1.17（t,J＝7Hz,3H,CH3）,2.6
3（d,J＝6Hz,2H,CH2CHO）,3.49（brs,1H,OH）,4.00（g,
J＝7Hz,2H,CＨ 2CH3）,4.92（t,J＝6Hz,1H,CHO）,6.03−
6.23（m,2H,HC＝ＣＨ＝ＣＨ＝Ｃ）,7.12−7.23（m,1H,O
HC＝Ｃ） Rf＝0.40（ヘキサン：酢酸エチル＝1:1） なお、化合物２−ｊの光学純度はMTPAエステルの1H−
NMR測定により決定した。
3（d,J＝6Hz,2H,CH2CHO）,3.49（brs,1H,OH）,4.00（g,
J＝7Hz,2H,CＨ 2CH3）,4.92（t,J＝6Hz,1H,CHO）,6.03−
6.23（m,2H,HC＝ＣＨ＝ＣＨ＝Ｃ）,7.12−7.23（m,1H,O
HC＝Ｃ） Rf＝0.40（ヘキサン：酢酸エチル＝1:1） なお、化合物２−ｊの光学純度はMTPAエステルの1H−
NMR測定により決定した。
〔実施例12〕 実施例８と同様にして化合物１−ｋ（1.42g8.79mmo
l）、チタンテトライソプロポキサイド〔Ti（OiPr）4,
0.53ml,1.8mmol〕、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｌ−（＋）−DIPT,0.44ml,2.1mmol〕、ｔ−ブチルハ
ドロパーオキサイド（1.85ml,5.27mmol,塩化メチレン中
の濃度として2.85M）、塩化メチレン（8ml）、モレキュ
ラーシーブ4A（400mg）を−21℃で45時間反応させた。
次に、実施例８と同様に処理して、化合物２−ｋを609m
g（収率43％）得た。化合物２−ｋの分析値を下記に示
す。
l）、チタンテトライソプロポキサイド〔Ti（OiPr）4,
0.53ml,1.8mmol〕、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｌ−（＋）−DIPT,0.44ml,2.1mmol〕、ｔ−ブチルハ
ドロパーオキサイド（1.85ml,5.27mmol,塩化メチレン中
の濃度として2.85M）、塩化メチレン（8ml）、モレキュ
ラーシーブ4A（400mg）を−21℃で45時間反応させた。
次に、実施例８と同様に処理して、化合物２−ｋを609m
g（収率43％）得た。化合物２−ｋの分析値を下記に示
す。
1H−NMR（CCl4,D2O,Me4Si）δ1.42（d,J＝6.3Hz,3H）,
4.74（q,t＝6.3Hz,1H）,6.31（s,1H）,6.93−7.40（m,4
H） ▲〔α〕25 D▼＋19.9゜（Ｃ＝1.21,CHCl3） IR（neat）:3320,1455,1250,1080,740（cm-1） Rf＝0.35（ヘキサン：エチルエーテル＝1:1） 元素分析値（C10H16O2） 実測値 Ｃ 74.14, H 6.17 計算値 Ｃ 74.06, H 6.21 なお、化合物２−ｋの光学純度はMTPAエステルへ誘導
し、1H−NMR分析より＞99％eeと決定した。
4.74（q,t＝6.3Hz,1H）,6.31（s,1H）,6.93−7.40（m,4
H） ▲〔α〕25 D▼＋19.9゜（Ｃ＝1.21,CHCl3） IR（neat）:3320,1455,1250,1080,740（cm-1） Rf＝0.35（ヘキサン：エチルエーテル＝1:1） 元素分析値（C10H16O2） 実測値 Ｃ 74.14, H 6.17 計算値 Ｃ 74.06, H 6.21 なお、化合物２−ｋの光学純度はMTPAエステルへ誘導
し、1H−NMR分析より＞99％eeと決定した。
〔実施例13〕 実施例８と同様にして化合物１−ｌ（770mg,5.00mmo
l）、チタンテトライソプロポキサイド〔Ti（OiPr）4,
1.49ml,5.0mmol〕、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｌ−（＋）−DIPT,1.26ml,6.00mmol〕、ｔ−ブチルハ
イドロパーオキサイド（TBHP,0.89ml,3.0mmol,塩化メチ
レン中の濃度として3.37M）、塩化メチレン（22ml）を
−21℃で50時間反応させた。次に、実施例８と同様に処
理して、化合物２−ｌを293mg（収率38％）得た。化合
物２−ｌの分析値を下記に示す。
l）、チタンテトライソプロポキサイド〔Ti（OiPr）4,
1.49ml,5.0mmol〕、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル
〔Ｌ−（＋）−DIPT,1.26ml,6.00mmol〕、ｔ−ブチルハ
イドロパーオキサイド（TBHP,0.89ml,3.0mmol,塩化メチ
レン中の濃度として3.37M）、塩化メチレン（22ml）を
−21℃で50時間反応させた。次に、実施例８と同様に処
理して、化合物２−ｌを293mg（収率38％）得た。化合
物２−ｌの分析値を下記に示す。
1H−NMR（CCl4,MeSi）δ0.7−1.9（m,9H）,3.20（brs,1
H）,4.39（t,J＝6.3Hz,1H）,6.19（brl,1H）,7.12−7.3
0（m,2H） ▲〔α〕25 D▼＋16.2゜（Ｃ＝1.08,CHCl3） IR（neat）:3340,1020.785（cm-1） Rf＝0.38（ヘキサン：エチルエーテル＝1:1） 元素分析値（C3H14O2） 実測値 Ｃ 69.87,H 9.15 計算値 Ｃ 70.10,H 9.15 なお、化合物２−ｌの光学純度はMTPAエステルへ誘導
し、1H−NMR分析より＞99％eeと決定した。
H）,4.39（t,J＝6.3Hz,1H）,6.19（brl,1H）,7.12−7.3
0（m,2H） ▲〔α〕25 D▼＋16.2゜（Ｃ＝1.08,CHCl3） IR（neat）:3340,1020.785（cm-1） Rf＝0.38（ヘキサン：エチルエーテル＝1:1） 元素分析値（C3H14O2） 実測値 Ｃ 69.87,H 9.15 計算値 Ｃ 70.10,H 9.15 なお、化合物２−ｌの光学純度はMTPAエステルへ誘導
し、1H−NMR分析より＞99％eeと決定した。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式〔Ｉ〕： 及び一般式〔II〕： （式中、R1は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜10の置換
もしくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もしくは不
飽和の炭素数１〜10の置換もしくは未置換の脂肪族炭化
水素基、置換もしくは未置換のフェニル基を示す。R2,R
3,R4は水素又は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜５の置
換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基を示すが、R2とR3
とは一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又は６員
環を形成することができる。） で表されるアルコールのラセミ体又はこれらの混合物
を、ハイドロパーオキサイドで酸化するに当たり、チタ
ンテトラアルコキサイドとＬ−（＋）−酒石酸ジエステ
ルの存在下で反応させることを特徴とする 一般式〔Ｉ〕： 及び一般式〔III〕： （式中、R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す。） で表される光学活性アルコールの製造法。 - 【請求項２】一般式〔Ｉ〕： 及び一般式〔II〕： （式中、R1は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜10の置換
もしくは未置換の脂肪族炭化水素基又は飽和もしくは不
飽和の炭素数１〜10の置換もしくは未置換の脂肪族炭化
水素基、置換もしくは未置換のフェニル基を示す。R2,R
3,R4は水素又は飽和もしくは不飽和の炭素数１〜５の置
換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基を示すが、R2とR3
とは一緒になって飽和もしくは不飽和の５員環又は６員
環を形成することができる。） で表されるアルコールのラセミ体又はこれらの混合物
を、ハイドロパーオキサイドで酸化するに当たり、チタ
ンテトラアルコキサイドとＤ−（−）−酒石酸ジエステ
ルの存在下で反応させることを特徴とする 一般式〔II〕： 及び一般式〔IV〕： （式中、R1,R2,R3,R4は前記と同じ意味を示す。） で表される光学活性アルコールの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63268689A JP2586607B2 (ja) | 1987-10-30 | 1988-10-25 | 光学活性アルコールの製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-274945 | 1987-10-30 | ||
| JP27494587 | 1987-10-30 | ||
| JP63268689A JP2586607B2 (ja) | 1987-10-30 | 1988-10-25 | 光学活性アルコールの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01199956A JPH01199956A (ja) | 1989-08-11 |
| JP2586607B2 true JP2586607B2 (ja) | 1997-03-05 |
Family
ID=26548432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63268689A Expired - Fee Related JP2586607B2 (ja) | 1987-10-30 | 1988-10-25 | 光学活性アルコールの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2586607B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6320069B1 (en) * | 1996-07-02 | 2001-11-20 | Toray Industries, Inc. | Production of optically active ketone |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1095921A (en) * | 1976-08-02 | 1981-02-17 | Thomas M. Brennan | Preparation of gamma-pyrones |
| US4126624A (en) * | 1976-11-12 | 1978-11-21 | Pfizer Inc. | Preparation of gamma-pyrones from 3-substituted furans |
-
1988
- 1988-10-25 JP JP63268689A patent/JP2586607B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01199956A (ja) | 1989-08-11 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |