JPH01173337A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は音声、画像、電気信号を記録、再生するための
記録媒体に関する。

（従来技術および問題点） 音声、画像、電気信号を記録、再生、消去するために従
来から磁気および光記録方式がとられているが、光記録
方式のものは磁気記録材料に較べて記録密度が高く出来
ることから最近注目されてきている。これには、種々の
方法があり、例えばレーザー光の熱エネルギーにより記
録層にピットやホールを形成する方式や、相変化を起こ
さしめる方式があり、いずれも要するに書込みにより反
射光に変化を起こさせ信号を書き込むのである。

しかして、相変化を利用した光記録方式としては、テル
ル系の薄膜すなわちＴｅ０ｇ巻からなる記録層ににレー
ザー光を照射して、熱モードで非晶質−晶質の変化を行
わせ光反射率の異なる状態を作る方式が一般的である。

しかしながら、テルル及びテルル合金薄膜には、酸化安
定性が低いこと及び毒性が高いなどの大きな欠点がある
。

酸化インジウム膜は、透明導電膜や選択透過膜として知
られており、液晶デイスプレィ用電極、赤外線反射膜等
に利用されている。該膜の導電性や赤外線反射率を向上
する目的から、スズ等をドープしたものや、作製温度を
上げることにより結晶性を良くしたものが用いられてい
る。

しかしながら、光記録媒体としての利用は、これまで全
くなされていなかった。

〔発明の目的〕

本発明は、毒性が低くかつ安定性の良好な光記録媒体を
提供することを目的とするものである。

〔基本的着想〕

本発明者らは、酸化インジウム薄膜の非晶質−晶質の相
変化を行わせることにより、光線反射率または光線透過
率を変化させることが出来ることを見出した。本発明は
かかる知見にもとづいてなされるに到ったものである。

〔発明の開示〕

本発明は、非晶質を主成分とする酸化インジウム薄膜を
記録層として基板上に形成してなる光記録媒体、であり
、好ましくは、 ８５０〜３５０ｎｍの波長領域の光線透過率が３０％以
下である光記録媒体、であり、また好ましくは、非晶質
を主成分とする酸化インジウム薄膜が、１５０°Ｃ以下
の基板温度において形成されたものである光記録媒体、
である。

すなわち、本発明の要旨は、 基板上に非晶質を主成分とする酸化インジウム薄膜（以
下、非晶質酸化インジウム薄膜）を形成し、該薄膜をレ
ーザー照射等により結晶化し、非晶質−晶質の光線反射
率または光線透過率の変化を利用する光記録媒体である
。

本発明において、非晶質を主体とするとは、少なくとも
非晶質部分が３０％以上、好ましくは、５０％以上、さ
らに好ましくは７０％以上、更に好ましくは９０％以上
、最も好ましくは、実質的に１００％である。なお、こ
の割合は、Ｘ線のピーク強度で算出する。

本発明の非晶質酸化インジウム薄膜を形成する方法とし
ては、反応性真空蒸着法、プラズマＣｖＤ法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、イオンベーパー蒸
着法、イオンビームアシスト法、イオンクラスタービー
ム法等が挙げられる。これらの中で好ましくは、反応性
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング
法、イオンペーパー蒸着法、イオンクラスタービーム法
等が採用される。

本発明で用いられる酸化インジウム薄膜は、低温プロセ
スで作製することにより得られる。得られる薄膜は、非
晶質を主成分とする膜であり、光線透過率が３０％以下
と低いものである。

薄膜を作製する場合、形成温度を変えることにより、非
晶質成分の量を変化させることができる。形成温度を変
更することにより、酸化インジウムの非晶質成分の量を
変化させることが出来、光線透過率や光線反射率を意図
的に変更した薄膜を得ることが可能になる。

すなわち、本発明の非晶質酸化インジウム薄膜を形成す
るには１５０°Ｃ以下、好ましくは１００　℃以下の温
度の基体上に、インジウムを含む材料を蒸着するのであ
る。

基板温度が１５０°Ｃを越える場合、序々に薄膜中の結
晶質成分が増加し、光線透過率も増し、本発明の目的に
は、そぐわない。

本発明の非晶質酸化インジウム薄膜は、書込みおよび読
みだしのレーザー光の波長である８５０ｎｍ〜３５０ｎ
ｍの波長領域において、エネルギを吸収して相変化を起
こすためにある程度の吸収が必要である。光線透過率が
少なくとも３０％以下、好ましくは１０％以下であるこ
とが好ましい。一方、酸化インジウム薄膜はこのように
非晶質状態においては、光線の吸収が非常に高いのであ
るが、これに該波長のレーザー光を照射せしめ、照射部
分を非晶質→結晶質に変化せしめると、該照射部の反射
率が高くなるのでこの差を生じさせかつ検出することに
より、信号の書込みおよび読みたしが行われるのである
。

薄着材料は、有機インジウム化合物、酸化インジウム、
金属インジウムのいずれでもよいが、好ましくは金属イ
ンジウムを用い、１０−”ｍｍｍ１（以下、好ましくは
１０−”ｍｍＨｇ以下の真空度の酸素雰囲気中で反応性
蒸着を行う。

記録層の膜厚は、用途に応じて決められるが、通常約１
００〜１００００人、好ましくは２００〜２０００人の
範囲である。

本発明において、記録層の支持体である基板としては、
ガラス、マイカ、アルミニウム合金等の無機材料または
ポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リ塩化ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、ポリメチル
メタクリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
等のポリマー、あるいはこれらの変性ポリマー、コポリ
マー、ブレンド物等の有機材料から成るフィルムまたは
板を挙げることが出来る。

本発明の光記録媒体は、作製後並びに情報記録後も通常
の環境下では極めて安定であり、特に保護層を設ける必
要はないが、機械的衝撃等に対する保護や、塵芥等の付
着により記録再生に支障を生じるのを防ぐことを目的と
して保護層を記録層の上に設けることが可能である。保
護層としては、　５ｉＯｚ、、ＡＩＮ　、　ＭｇＦ２等
の無機材料およびアクリル系樹脂、エポキシ樹脂等の有
機高分子材料が用いられる。

本発明の光記録媒体は以上の構成を有するものであるが
、これに、レーザー光線等を照射することにより、光線
透過率や光線反射率を変化させいわば光学的ピットを形
成することにより情報の書込みが行われる。

本発明に用いられる照射光としては、半導体レーザー、
キセノンフラッシュランプ、アルゴンガスレーザー、そ
の他８５０〜３５０ｎｍ程度の可視領域、近赤外領域に
発振波長をも９レーザーや各種ランプを使用することが
できる。記録用部材に情報を記録する方法としては、レ
ーザー光線をスポット、あるいは連続的に照射する方法
および適当なコントラストを有するマスクを通して、高
強度のレーザー光線またはキセノンフラッシュランプの
短パルス光線などで照射して画家を形成する方法などが
あげられる。

〔発明を実施するための好ましい形態〕１５０　℃以下
の温度の基板上に、真空度１０−２ｍｍＨｇ以下の酸素
雰囲気中で、金属インジウムを蒸着材料として、反応性
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング
法、イオンペーパー蒸着法、イオンクラスタービーム法
により反応性蒸着をする。作製する非晶質酸化インジウ
ム薄膜の膜厚は、２００〜２０００人の範囲で形成され
る。

〔本発明の作用〕

本発明の薄膜への記録書込みは、レーザー照射等を用い
結晶質成分を増やすことにより、光線透過率や光線反射
率を、所望の値に変化させることで可能となる。こうし
て、毒性の全くない光記録材料を提供することが可能と
なる。

〔実施例〕

キャスト法によって作製した、表面平滑性の良いポリメ
チルメタクリレートの基板を直径３０ｃｍのディスクに
加工し真空薫着機槽内にセットする。

ディスクは、装置の中央において回転できるようになっ
ている。装置内には、６つのルツボを持つ電子ビーム装
置を備え、ルツボ内には、金属インジウムを入れた。装
置内を５＊１０−　’Ｔｏｒｒの真空度とした後、ｓ本
ｉｏ−’Ｔｏｒｒになるように０２ガスを導入し、基板
回転を２０ｒｐｍとし、膜厚１０００人の酸化インジウ
ムを形成するように、基板温度７０°Ｃで蒸着した。膜
厚のモニターは水晶振動子法で行った。

このサンプルについて発振波長８３０ｎｍ半導体レーザ
ーにより記録評価を行ったところ、記録闇値・は４．０
１であった。このＣ／Ｎ比は４８ｄＢであった。

また記録孔光学的形状も良好であり光学的ビット周囲に
ついて乱れなく形成された。

〔発明の効果〕

本発明により、毒性の全くない、しかも安定性にも優れ
た光記録媒体の提供が可能になる。この光記録媒体は、
記録再生用光ディスクとして画像ファイル、文書ファイ
ル、データファイル及ヒコンピュータの外部メモリとし
て用いられるばかりでなく、レーザー光で直接記録再生
が可能なテープ、マイクロフィッシュ等として用いるこ
とができる。

特許出願人　　三井東圧化学株式会社

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）非晶質を主成分とする酸化インジウム薄膜を記録
   層として基板上に形成してなる光記録媒体。
2. （２）８５０〜３５０ｎｍの波長領域の光線透過率が３
   ０％以下である特許請求の範囲第１項に記載の光記録媒
   体。
3. （３）非晶質を主成分とする酸化インジウム薄膜が、１
   ５０℃以下の基板温度において形成されたものである特
   許請求の範囲第１項に記載の光記録媒体。