JPH01172316A - 歯石抑制組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の背景〕 本発明は、抗歯石剤を含む経口組成物に関する。

歯石は、石灰化されたプラークであり、そしてプラーク
は歯肉疾患の原因である。歯石は、歯肉辺縁で歯の表面
上に形成する付着物である。成熟歯石は、骨、エナメル
質及び象牙質に類似するヒドロキシアパタイト結晶のラ
テックス構造で配列されたリン酸カルシウムである無機
部分から成る。

有機部分はまた、存在し、そして唾液沈殿物、食物残片
及び種々のタイプの微生物から成る。

カルシウム及びオルトホスフェートは、歯石、すなわち
山上に形成する鉱物化された硬質形成体として知られて
いる結晶性物質を形成することが一般的に知られている
。結晶性ヒドロキシアパタイトへの前駆体は、原子構造
、粒子形態及び化学量論的にヒドロキシアパタイトと異
なる非晶質リン酸カルシウムである。非晶質リン酸カル
シウムのＸ線回折図は、すべての結晶性物質（たとえば
ヒドロキシアパタイト）の長い範囲の原子オーダー特性
を欠く非晶質物質に典型的な広いピークを示す。

線状分子的に脱水されたポリホスフェート、たとえばヘ
キサメタホスフェート、トリポリホスフェート、ピロホ
スフェート及び同様のものは、効果的なカルシウム及び
マグネシウムイオン抑制剤、妨害剤、金属イオン封鎖剤
及び／又はキレート剤であることは一般的に良く知られ
ている。そのような物質はまた、ヒドロキシアパタイト
の生体外形成の有効な妨害剤であることも知られている
。

口腔及び／又は唾液中に導入される場合、そのようなポ
リホスフェートは、唾液酵素、すなわちホスファターゼ
によりオルトホスフェート（ヒドロキシアパタイト形成
の妨害剤として効果のない）に有意に加水分解されるこ
とがまた知られている。

研究は、ヒドロキシアパタイト結晶の生体外生長を妨害
する化合物の能力と生体内石灰化を妨害するその能力と
の間の良好な相互関係が、そのような化合物が唾液中で
安定し、そして唾液及びその成分に対して不活性である
場合、存在することを示した。

〔発明の要約〕

経口組成物は、弗化物源、歯用研磨剤及び唾液又は唾液
酵素の存在下で安定する抗歯石剤の存在により特徴づけ
られる。抗歯石剤は、３〜５個の炭素原子の一不飽和モ
ノカルボン酸及びジカルボン酸のホモポリマー及び少な
くとも３０重量％のそのような酸、特にアクリル酸を含
むコポリマーから選択される。本発明はまた、本明細書
に開示された経口組成物の１つを歯に適用することによ
って歯石を妨害する方法にも向けられる。本発明の抗歯
石剤は、殺菌組成物の不在下で効果的である。

〔発明の特定の記載〕

本発明の経口組成物は、弗化物源、歯用研磨剤又は磨き
剤、ビヒクル、及び３〜５個の炭素原子の一不飽和モノ
カルボン酸及びジカルボン酸のホモポリマー及び３〜５
個の炭素原子の一不飽和モノカルボン酸又はジカルボン
酸、その無水物又はそのような酸の水溶性塩少なくとも
３０重量％を含むコポリマーから選択された抗歯石剤の
存在により特徴づけられる。■又は複数のそのような酸
と共重合され得るモノマーは、アクリルアミド、アルキ
ルアクリレート、アルキルイタコネート、ビニルスルホ
ン酸、ヒドロキシアルキルアクリレート、アルコキシア
ルキルアクリレート、低級アルケニルカルボキシレート
、スチレンスルホン酸、アリルオキシヒドロキシアルカ
ンスルホン酸、アクリルアミドアルカンスルホン酸、ス
ルホ低級アルキルアクリレート、重合されたビニルアル
コール、それらの無水物及び塩を含む。そのような抗歯
石剤は、他の添加剤、たとえば他の抗歯石剤と一緒に使
用され得る。本発明はまた、本発明の経口組成物の歯石
妨害量を歯に適用することにより歯石を抑制する方法に
も向けられる。

カルボン酸、その無水物及び塩のホモポリマー、及びコ
ポリマーは、４００〜１００，０００　、好ましくは５
００〜５０，０００の範囲の分子量を有する。そのホモ
ポリマーは、５００〜５０，０００の特に好ましい分子
量を有する。本発明の適切なコポリマーは、非架橋性ラ
ンダムポリマーである。分子量は、ゲル透過クロマトグ
ラフィーにより測定される。本発明の経口組成物中の抗
歯石剤の量は、約０．０１〜１０重量％、好ましくは０
．１〜５重量％である。

後で示されるように、ポリホスフェートは、磨き剤又は
研磨剤として機能することができる。そのようなポリホ
スフェートは、唾液中に見出される酵素の不在下で歯石
に対してひじょうに効果的であるが、酵素の存在下にお
いて、ポリホスフェートは、抗歯石剤として効果のない
オルトホスフェートに加水分解される。

前記組成物の不可欠な成分として本発明において必要と
される弗化物イオン源又は弗素供給化合物は、抗虫歯剤
として当業界によく知られていて、そしてまた、本発明
の実施においてそのような薬物として作用する。これら
の化合物は、水にわずかに溶解し、又は完全に水に溶解
することができる。それらは、水中に弗化物イオンを放
出するそれらの能力により、及び経口製剤中の他の化合
物との所望しない反応がないことにより特徴づけられる
。これらの物質の中には、無機弗化物塩、たとえば可溶
性のアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩、たとえば弗
化ナトリウム、弗化カリウム、弗化アンモニウム、弗化
銅（たとえば弗化第一銅）、弗化亜鉛、弗化バリウム、
ナトリウムフルオロシリケート、アンモニウムフルオロ
シリケート、ナトリウムフルオロジルコネート、ナトリ
ウムモノフルオロ−ホスフェート、アルミニウムモノ−
及びジ−フルオロホスフェート及び弗素化ナトリウムカ
ルシウムピロホスフェートが存在する。アルカリ金属及
び錫の弗化物、たとえば弗化ナトリウム及び弗化錫、ナ
トリウムモノフルオロホスフェート及びそれらの混合物
が好ましい。

弗素供給化合物の量は、化合物のタイプ、その可溶性及
び経口組成物のタイプにある程度依存するが、しかしそ
れは組成物中において非毒性量、−Ｃ的には約０．００
５〜約３．０％であるべきである。

歯みがき組成物、たとえばゲル、クリーム、ねり歯みが
き又は松山みがきにおいて、組成物の弗素イオンを５０
〜３５００ρｐａｎ放出するような化合物の量が満足す
ると思われる。そのような化合物のいづれか適切な最少
量が使用され得るが、しかし約３００〜約２．　ＯＯＯ
ｐｐｍ、より好ましくは約８００〜約１　、５００ｐｐ
ｍの弗素イオンを放出するのに十分な化合物を使用する
ことが好ましい。典型的には、アルカリ金属弗化物及び
弗化錫の場合、この成分は、組成物の重量に基づいて約
２重量％までの量で、及び好ましくは約０．０５〜１重
景％の範囲の量で存在する。

ナトリウムモノフルオロホスフェートの場合、その化合
物は、約０．１〜３ｊｌｉｉｔ％、より典型的には約０
．２〜１重量％の量で存在することができる。

経口組成物、たとえばうがい薬、ロゼンジ及びチューイ
ンガムにおいては、弗素供給化合物は、典型的には約５
００ｐｐｍまで、好ましくは約２５〜約３００ｐｐｍの
弗素イオンを放出するのに十分な量で存在する。一般的
に、約０．００５〜約１．０重量％のそのような化合物
が存在する。

市販の適切な経口組成物の調製に使用される水は、好ま
しくは低いイオン含有率のものであり、そして有機不純
物を含むべきでない。水は、約２％〜約９５％、好まし
くは約２０％〜約９５％の本発明の組成物を含有する。

ねり歯みがきの形においては、水の量は好ましくは、約
２％〜約４５％であり、そしてうがい薬は、好ましくは
水約４５％〜約９５％を含む。

ねり歯みがきにおいて、液体ビヒクルは、調製物中に約
１０重量％〜約９０重１％の範囲の量で水及び湿潤剤を
含むことができる。グリセリン、プロピレングリコール
、ソルビトール、ポリプロピレングリコール及び／又は
ポリエチレングリコールが適切な湿潤剤又はキャリヤー
の例である。水、グリセリン及びソルビトールの液体混
合物もまた好都合である。屈折率が重要であると思われ
る透明なゲルにおいては、約３〜３０重量％の水、０〜
約８０重量％のグリセリン及び約２０〜８０重量％のソ
ルビトールが好ましくは使用される。

本発明の所望する形において、経口組成物は、実質的に
固形又はペースト、たとえば松山みがき、歯用錠剤、ね
り歯みがき、ゲル又は歯用クリームであり得る。そのよ
うな固形又はペースト状の経口調製物ビヒクルは、一般
的に磨き材を含む。磨き材の例として、水不溶性ナトリ
ウムメタホスフェート、カリウムメタホスフェート、リ
ン酸三カルシウム、二水和リン酸カルシウム、無水リン
酸二カルシウム、カルシウムピロホスフェート、マグネ
シウムオルトホスフェート、リン酸トリマグネシウム、
炭酸カルシウム、アルミニウムシリケート、ジルコニウ
ムシリケート、シリカ、ベントナイト及びそれらの混合
物を挙げることができる。

他の適切な磨き材は、ＵＳＰ第３．０７０．５１０号に
記載の粒状熱硬化性樹脂、たとえばメラミン、フェノー
ル及び尿素のホルムアルデヒド類、及び架橋されたポリ
エポキシド類及びポリエステル類を含む。

好ましい磨き材は、約５ミクロンまでの粒子サイズ、約
１．１ミクロンまでの平均粒子サイズ及び約５０、０Ｏ
Ｏｃｎｌ　／　ｇｍまでの表面積を有する結晶性シリカ
、シリカゲル又はコロイド状シリカ、及び非晶質性アル
カリ金属アルミノシリケート錯体を含む。

視覚的に透明なゲルが使用される場合、コロイド状シリ
カ及びアルカリ金属アルミノシリケート錯体の磨き剤が
特に有用である。なぜならば、それらは液体ゲル化剤の
屈折率に近い屈折率を有するからである。

歯用研磨剤添加物として本発明で作用する分子的に脱水
された線状ポリホスフェート塩は良く知られていて、−
ｉ的にそれらの全体又は一部を中和された水溶性アルカ
リ金属又はアンモニウム塩及びそれらの混合物の形で使
用される。代表的な例として、ナトリウムヘキサメタホ
スフェート、ナトリウムトリポリホスフェート、ニナト
リウム二酸、三ナトリウムー酸及び四ナトリウムピロホ
スフェート並びに同様のものを挙げることができる。線
状ポリホスフェートは、（ＮａＰＯ：＋）ｎ　（ここで
ｎは約２〜約１２５である〕に相当する。それらは一般
的に、約０．１〜７重量％、好ましくは１〜５重量％の
量で本発明の経口組成物に使用される。

磨き材又は歯用研磨剤は一般的に、約ｌｏ％〜約９９％
の重Ｗｋ　９８度で固形又はペースト状組成物中に存在
する。好ましくは、それは約１０％〜約７５％の範囲の
量でねり歯みがき中に存在し、そして約７０％〜約９９
％の範囲で松山みがき中に存在する。

ねり歯みがき、クリーム及びゲルは典型的には、約０．
１〜約１０、好ましくは約０．５〜約５重１％の割合で
天然又は合成の増粘剤又はゲル化剤を含む。適切な増粘
剤は、合成へクトライト、合成コロイド状マグネシウム
、アルカリ金属のシリケート錯体クレー及び中間分子量
のカルボキシビニルポリマー又はポリアクリル酸である
。

本発明の経口組成物は、種々の任意の従来の経口成分を
含むことができる。そのような任意の成分は、泡立ち剤
、風味剤、甘味剤、結合剤、着色剤、保湿剤及び顔料を
含む。

好ましい任意の成分は、泡立ち剤である。適切な泡立ち
剤は、適度に安定し、そして広いｐＨ範囲を通して泡を
形成するもの、すなわち非石鹸アニオン性、カチオン性
、両性イオン性及び両性有機性合成゛界面活性剤である
。これらのタイプの泡立ち剤は、八ｇｒｉｃｏｌａなど
、ＬＩＳＰ第３．９５９．４５８号及びＨａｅｆｅｌｅ
など、Ｕｓｐ第３，９３７，８０７号により詳しく記載
されている。

風味剤もまた、本発明の組成物に添加され得る。

適切な風味剤は、ヒメコウジから採った油、ハツカから
の油、ミドリハッカからの油、ササフラスからの油、及
びチョウジからの油を含む、使用され得る甘味剤は、サ
ッカリン、デキストロース、レブロース、アスパータム
、Ｄ−トリプトファン、ジヒドロカルコーン、アセスル
フニーム、シフラミン酸ナトリウムを含む。風味剤は、
−膜内に、約０．４〜約２重量％のレベルで組成物に使
用され、そして甘味剤は約０．１〜約５重世％のレベル
で組成物に使用される。

結合剤もまた、本発明のねり歯みがきに使用され得る。

そのような結合剤は、たとえばキサンタンガム、カラゲ
ナン（アイルランドボケ）及び中間分子量のカルボキシ
ビニルポリマー又はポリアクリル酸を含む。これらの結
合剤は一般的に、約０．１〜１％のレベルで存在する。

本発明の組成物のもう１つの任意の成分は、保湿剤であ
る。保湿剤は、空気への暴露による硬化からねり歯みが
き組成物を保持し、そしてうがい液中において、口に湿
り感覚を与えるために作用する。いくつかの保湿剤はま
た、うがい液及びねり歯みがき組成物に所望の甘味又は
風味も付与することができる。保湿剤は、純粋な保湿剤
に基づいて、−ａ的に約０〜７０重量％、好ましくは約
５〜５５重量％で本発明の組成物に含まれる。

本発明に使用のための適切な保湿剤は、食用の多価アル
コール、たとえばグリセリン、ソルビトール、キシリト
ール及びプロピレングリコールを含む。ソルビトールは
、７０％水溶液として時々使用される。

本発明のうがい液はまた、殺菌剤として約Ｏ〜約３０重
量％、好ましくは５〜２５重量％の量でエタノールも含
むことができる。

本発明の組成物のｐＨは、６〜１０、好ましくは７〜９
の範囲で存在する。そのｐＨは、好ましくは、ピロホス
フェート塩の適切な均衡を通して、又はアルカリ剤又は
酸性剤の添加により達成される。

本発明の組成物は、従来の混合技法を用いて製造される
。

本発明の抗歯石剤は、３〜５個の炭素原子の一不飽和モ
ノカルボン酸及びジカルボン酸のホモポリマー及びその
ような酸、そのような酸の無水物及び塩と少なくとも１
種の主要コモノマー（アクリルアミド、アルキルアルキ
レート、アルキルイタコネート、ビニルスルホン酸、ヒ
ドロキシアルキルアクリレート、アルコキシアルキルア
クリレート、低級アルケニルカルボキシレート、スチレ
ンスルホン酸、アリルオキシヒドロキシアルカンスルホ
ン酸、アクリルアミドアルカンスルホン酸、スルホ低級
アルキルアルキレート、重合ビニルアルコール、それら
の無水物及び塩から選択された）とのコポリマーから選
択される。

本発明で使用される場合、−ＩＱ的な用語“アクリレー
ト”はまた“メタクリレート”も含む。

弗化物源、歯用研磨剤及び水又は水及び保湿剤から選択
されたビヒクル、並びに抗歯石剤が本発明の経口組成物
の必須な成分である。

本発明のある形において、経口組成物は、実質的に液体
、たとえばうがい剤又はすすぎ剤であることができる。

そのような組成物において、ビヒクルは典型的には、所
望により保湿剤を含む水−アルコール混合物である。−
膜内に、水：アルコールの重量比は、約１：１〜約２０
；１、好ましくは約３：１〜１０：１及びより好ましく
は約４：１〜約６：１の範囲である。このタイプの調製
物における水−アルコール混合物の合計量は、典型的に
は約７０〜約９９．９重量％の範囲で存在する。

上記のカルボン酸コポリマーは、カルボン酸、その塩及
び無水物並びに少なくとも１種の主要コポリマー性モノ
マーからのコポリマーである。そのコポリマーはまた、
約３０％までの、好ましくは２〜１０％の少なくとも１
種の第二共重合性モノマーを含む（そのような第二コモ
ノマーが実質的に抗歯石剤として上記に定義されたコポ
リマーの効能を有害的に影響を及ぼさないかぎり）。

抗歯石性カルボン酸コポリマーは、酸又は無水物又は塩
形でカルボン酸モノマー少なくとも３０重■％、好まし
くは４０〜９９重量％を含む。主コモノマーは、約７０
％まで、好ましくは１〜６０重量％のレベルで使用され
る。主コモノマー及びカルボン酸モノマーは、第二七ツ
マ−が使用されない場合、コポリマーを形成する。使用
される場合、第二コモノマーは、一部の主コモノマーの
代わりに使用される。

主コモノマーは、アクリルアミド、アルキルアクリレー
ト、アルキルイタコネート、ビニルスルホン酸、ヒドロ
キシアルキルアクリレート、アルコキシアルキルアクリ
レート、低級アルキルカルボキシレート、スチレンスル
ホン酸、アリルオキシヒドロキシアルカンスルホン酸、
スルホ低級アルキルアクリレート、重合ビニルアルコー
ル及びその無水物及び塩から選択される。

適切なカルボン酸モノマーは、少なくとも１種の活性化
されたオレフィン性二重結合及び少なくとも１種のカル
ボキシル基を有する、３〜５個の炭素原子の一不飽和カ
ルボン酸、その無水物及び塩から選択される。モノカル
ボン酸及びジカルボン酸が好ましい。

そのような酸の例として、アクリル酸、メタクリル酸、
エタクリル酸、α−クロロアクリル酸、クロトン酸、β
−アクリルオキシプロピオン酸、ソルビン酸、α−クロ
ルソルビン酸、桂皮！、β−スチリルアクリル酸、ムコ
ン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メタコン酸、グルタ
コン酸、アコニット酸、α−フェニルアクリル酸、２−
ベンジルアクリル酸、２−シクロヘキシアクリル酸、ア
ンゲリカ酸、ランベル酸、フマル酸、マレイン酸及びそ
の無水物を挙げることができる。好ましいカルボン酸は
、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸
及びその無水物、シトラコン酸、特にアクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、マレイン酸及びマレイン酸の無
水物から選択される。アクリル酸及びメタクリル酸が特
に好ましい。

主コモノマーとして適切なアクリルアミドは、次のよう
に定義される： ６式中、Ｒは水素原子又はメチル基であり、そしてＲ１
及びＲ２は個々に水素原子、合計１〜１２個、好ましく
は１〜８個の炭素原子をそれぞれ含むアルキル及び置換
アルキル基から選択される〕。

好ましいアクリルアミドは、Ｒ１又はＲ２のいづれかが
水素原子でない置換アクリルアミドである。

アルキル基上の置換基は、アルキル、アリール、ヒドロ
キシル、ヒドロキシアルキル、カルボン酸及びケト基を
含む。置換アクリルアミドの特定の例は、ｔ−ブチルア
クリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、イソブチ
ルアクリルアミド、メチルアクリルアミド、ｔ−ブチル
メタクリルアミド、２−（２，４，４−トリメチルペン
チル）アクリルアミド、２−（２−メチル−４−オキソ
ペンチル）アクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリル
アミド、ヒドロキシプロピルアクリルアミド、ジアセト
ンアクリルアミド及び３−アクリルアミド−３−メチル
ブタン酸である。

主コモノマーとして適切なアルキルアクリレートは、次
のように定義される： 〔式中、Ｒは水素原子及びメチル基から選択され、そし
てＲ１が１〜６個の炭素原子のアルキル基及び置換アル
キル基（ここでＲ１がＲ”　−Ｙとして定義され、ここ
でＲｔが１〜６個の炭素原子を含ムアルキル基テアリ、
そしてＹが一５Ｏ３Ｘ　、　　Ｃ（０）Ｒ’又は−ＣＯ
□Ｘ（ここでＸは水素、アルカリ金属、アルカリ土類金
属又はアンモニウム基であり、そしてＲ３は１〜３個の
炭素原子のアルキルである）から選択される）から選択
される〕、好ましい態様において、Ｒ１基は、１〜４個
の炭素原子の非置攬基である。適切なモノマー性アルキ
ルアクリレート及びメタクリルレートの特定の例は、エ
チルアクリレート、エチルメタクリルレート、スルホブ
ロイルアクリレート及びカルボキシエチルアクリレート
である。

主コモノマーとして適切なアルキルイタコネートは、次
のような構造を有する： 〔式中、Ｒ２及びＲ３の両者が水素原子でない場合（Ｒ
ｔ又はＲ３のいづれかは水素原子であり得る）、Ｒ２及
びＲ３は個々に水素原子、１−１２個の炭素原子のアル
キル基及び置換アルキル基である〕。Ｒ２及びＲ３基上
の置換基は、低級アルキル、アリール（たとえばフェニ
ル）及びケト基を含むが、しかしながら好ましい態様に
おいては、Ｒ２及びＲ３は個々に、１〜４個の炭素原子
の非置換性低級アルキル基から選択される。好ましいＲ
２及びＲ″基の特定の例は、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル及びその異性形、及び同様のも
のを含む。イタコン酸のジエステルが本発明において好
ましい。好ましいイタコン酸エステルの特定の例は、ジ
メチルイタコネート、ジエチルイタコネート及びジブチ
ルイタコネートである。

主コモノマーとして適切なビニルスルホン酸及びその塩
は、次のように定義される： 〔式中、Ｘは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金
属及びアンモニウム基から選択され、好ましくはアルカ
リ金属及びアンモニウム基である〕。

好ましいビニルスルホン酸の塩は、ナトリウムビニルス
ルホネート（ここで上記式中のＸはナトリウムである）
である。

主コモノマーとして適切なヒドロキシアルキルアクリレ
ートは、次のように定義される：〔式中、Ｒは水素原子
及び１〜３個の炭素原子の低級アルキル基から選択され
、好ましくは水素原子又はメチル基であり；Ｒ′が２〜
４個、好ましくは２〜３個の炭素原子の低級アルキレン
基から選択され；そしてｎが１〜５の整数である〕。適
切なヒドロキシアルキルアクリレートの特定の例は、ヒ
ドロキシプロピルアクリレート及びヒドロキシプロピル
メタクリルレートである。

主コモノマーとして適切なアルコキシアルキルアクリレ
ートは、次のように定義される：〔式中、Ｒは水素原子
及びメチル基から選択され、Ｒ１は２〜４個、好ましく
は２〜３個の炭素原子のアルキレン基から選択され、Ｒ
２は１〜１０個、好ましくは１〜４個の炭素原子のアル
キル選択され、そしてｎは１〜５、好ましくは１〜３の
整数である〕。アルコキシアルキルアクリレートモノマ
ーの特定の例は、メトキシエチルアクリレート、セルソ
ルブメタクリレート及び２−（２−エトキシエトキシ）
エチルアクリレートである。

ビニルカルボキシレートモノマーは、次のように定義さ
れる： 占・ 〔式中、Ｒは水素原子又は１〜６個の炭素原子の低級ア
ルキル基であり、好ましくは水素原子又は１〜２個の炭
素原子のアルキル基でありそしてＲ１は１〜１２個、好
ましくは１〜８個の炭素原子のアルキル基から選択され
る〕。重合形でのビニルカルボキシレートは、次の構造
式： 〔式中、Ｒは水素原子又は１〜６個の炭素原子の低級ア
ルキル基であり、好ましくは水素原子又は１〜２個の炭
素原子のアルキル基である〕で表わされる重合ビニルア
ルコール反復単位を含むように加水分解され得る。加水
分解されたカルボキシレートのＲｉは、ビニルカルボキ
シレート上のＲ基に相当する。ビニルカルボキシレート
の特定の例は、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及び２
−プロペニルアセテートである。

主コモノマーとして適切なスチレンスルホン酸及びその
塩は、次のように定義される：〔式中、Ｒは水素原子及
び１〜６個の炭素原子の低級アルキル基から選択され、
好ましくは水素原子であり、そしてＸは水素原子、アル
カリ金属、アルカリ土類金属及びアンモニウム基から選
択され、好ましくは水素原子、アンモニウム基又はアル
キル金属である〕。特に好ましいスルホン酸は、スチレ
ンスルホン酸〔式中、Ｒは水素原子であり、そして−Ｓ
Ｏ３基はフェニル環上の３又は４位置に存在する〕であ
る。スチレンスルホン酸の塩は、水溶性である。スチレ
ンスルホン酸のナトリウム塩は、市販されている。

主コモノマーとして適切なアリルオキシヒドロキシアル
カンスルホン酸及びその塩は、次のように定義される： 〔式中、Ｒ及びＲ’がそれぞれに水素原子又はメチル基
であり、そしてＸが水素原子、アルカリ金属、アルカリ
土類金属及びアンモニウム基から選択される〕。好まし
いモノマーは、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロ
パンスルホン酸及びそのナトリウム塩である。

主コモノマーとして適切なアクリルアミドアルカンスル
ホン酸及びその塩は、次の一般式を有する： 〔式中、Ｒは水素原子又はメチル基であり；Ｒ１及びＲ
２が個々に水素原子及び１〜４個の炭素原子のアルキル
基から選択され、そしてＸが水素原子、アルカリ金属、
アルカリ土類金属及びアンモニウム基、好ましくは水素
原子、アンモニウム基又はアルカリ金属から選択される
〕。好ましい態様において、Ｒは水素原子であり、そし
てＲ１及びＲ２はそれぞれ１〜３個の炭素原子のアルキ
ル基である。上記構造式におけるＸは、水素原子又はポ
リマーの水溶解性に悪影響を与えないいづれかの金属カ
チオン、たとえばナトリウム、カリウム及びアンモニウ
ムカチオンを表わす。さらに、Ｘはまたカルシウム、マ
グネシウム及びリチウムを表わす。なぜならば、それら
はポリマーの溶解性に対して何の悪影響も与えないから
である。本発明に従って特に適切であることが見出され
たアクリルアミドアルカンスルホン成子ツマ−は、次の
構造式： を有する２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスル
ホン酸である。

主コモノマーとして適切なスルホアルキルアクリレート
は、次の構造式を有する： ＣＨｚ　　ＣＯＲ”　　５ＯＪ （式中、Ｒ２は１〜１２個、好ましくは２〜４個の炭素
原子のアルキレン基から選択され；そしてＸは水素原子
、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びアンモニウム基
から選択され、好ましくは水素原子、ナトリウム、カリ
ウム、カルシウム、マグネシウム及びアンモニウムであ
る）で表わされる基から選択される〕。スルホ基、−５
ｏ！Ｘは、好ましくはＲ２基の最後の炭素原子上に位置
する。

Ｒ２基は置換又は非置換性である。Ｒ２基上の置換基は
、コポリマーの抗歯石活性に悪影響を与えない置換基か
ら選択される。好ましいスルホアルキルアクリレートは
、２−スルホエチルメタクリレート、３−スルホプロピ
ルアクリレート、３−スルホプロピルメタクリレート、
ビス−（３−スルホプロピル）イタコネートである。

モノマーは所望により従来方法により製造され得るが、
しかしそれらは市販されており、そして従って購入され
得る。それらのモノマーの重合は、実質的に架橋されて
いないランダムコポリマーをもたらし、そしてその分子
量は、少々の試み及び誤差を伴って調整され得る。それ
らのコポリマーは好ましくは、約５０〜約９９重量％の
範囲の高収率で、コモノマーから形成される。

コポリマー剤が水に溶解性であることもまた、必要であ
る。従って、そのコポリマー剤の高い溶解性は必須では
ないが、しかし所望される。抗歯石剤は、溶液１００部
当り約２０重量％〜約５０重量％の範囲で固形分を含む
濃縮された水溶液としてドラムで輸送され得、そしてこ
れは水１００部当り少なくとも２０重量部程度までの溶
解性を必要とする。

本発明において同定されたモノマーの重合は、許容され
る期間内で所望する組成物を製造するために十分な遊離
基開始剤の有効量により、両者のための相互溶媒、たと
えば約１〜６個の炭素原子の低級アルカノール又は水中
で行な得る。七ツマー性酸はそれだけで使用され得、又
は重合の前、一部又は完全に中和された形で使用され得
る。

反応は便利には、約３０″〜約１３０℃の範囲の温度で
、通常大気圧又はわずかに高い圧力下で反応媒体として
水を用いて行なわれる。形成されるコポリマーの濃度は
、合計固形分に基づいて、約５重量％〜約５０重量％の
範囲であり、そしてこの溶液は直接輸送され得る。

抗歯石剤として本発明において適切なコポリマーは、ゲ
ル透過クロマトグラフィーにより測定される場合、約４
００〜約１００．０００及び好ましくは約ｓ、ｏｏｏ〜
約５０，０００の範囲の重量平均分子量を有する。ＫＯ
Ｈによる従来の滴定により決定される場合、形成される
コポリマーの酸価は、約２３０〜約７４０の範囲であり
、Ｃ００ＩＩ基を有するモノマー単位３０重世％〜約９
５重量％の重量分率に相当する。好ましいポリマーは、
５０重量％以上の遊離カルボキシル基及び約３９０〜約
７００の範囲の酸価を有する。

次の例は、本発明の範囲内で好ましい態様をさらに記載
し、そして例示する。例は例示の目的のために単に与え
られ、そして本発明を限定するものではない。多くの変
法が発明の範囲内で可能である。

廿Ｂ リン酸カルシウム沈殿を、Ｕ、Ｓ、Ｐ、第４，６２７，
９７７号の例１に記載のｐｔｌ−ｓｔａｔ技法に従って
研究した。

ヒドロキシアパタイト（ＩＩＡＰ）の形成速度を、Ｂｒ
ｉｎｋｍａｎ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　Ｔｙｐｅ　６
００　シリーズのｐＨ−５Ｌａｔ装置を用いて、水酸化
ナトリウムの消費により滴定的に測定した。

塩化力ルウシム、リン酸ナトリウム及び他の成分の溶液
を混合し、そして３７℃の一定温度で撹拌し、そしてｐ
Ｈを７．４０の一定に維持するために必要とされる水酸
化ナトリウムの量を、時間の関数として連続的に記録し
た。３７℃で水により予備飽和された窒素ガスを、溶液
を通して泡立たせ、二酸化炭素を排除した。このシステ
ムにおいては、沈殿及び結晶生長は、２種の明確な段階
で生じると思われる。水酸化ナトリウムの消費における
初期上昇に対応する第１段階は、ヒドロキシアパタイト
よりも塩基性でない非晶質性リン酸カルシウムの形成を
表わし、ところが水酸化ナトリウムの消費における第２
番目の上昇に対応する第２段階は、ヒドロキシアパタイ
トの結晶生長を表わす。

下記の第Ａ表は、ｐＨが７．４０、温度が３７℃であり
、そしてカルシウムイオン及びホスフェートイオン濃度
がそれぞれ３．２Ｘ１０−”Ｍである試験の結果を示し
、そして抗歯石剤の組成物は重量に基づいて与えられる
： 茅−Ａ＝−−一 一圃層目Ｕ町−１ｍ！え−分１ ナシ　　　　　　　−一一− ＡＡ　　　　　　　　　　　　　１００　　　　９．０
０ＡＡ　　　　　　　　　　　　　１００　　　　９．
００八八　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０
０　　　　　　９．００ＡＡ：ＭＡＡ：ｔ−ＢｕＡ＋＊
　　　　６０：２０：２０　　　　１０，００ＡＡ：Ｍ
ＡＡ：ｔ−ＢｕＡｍ　　　６０：２０：２０　　１０．
００ＡＡ：ＭＡＡ：Ｌ−ＢｕＡｍ　　　　６０：２０：
２０　　　　１０，００ＡＡ：ＭＡＡ：ｔ−ＢｕＡＩＩ
＋　　　６０：２０：２０　　　　１０，００ＡＡ：Ｍ
ＡＡ：ｔ−ＢｕＡｍ　　　６０：２０：２０　　１０，
００＾八：Ｍ＾Ａｃｔ−ＢｕＡｍ　　　　６０：２０：
２０　　　　１０，００ＭＥ：ＭＡｎ　　　　　　　　
　５０：５０　　　　−−ＭＢ：ＭＡｎ　　　　　　　
　　５０：５０　　　　−−ＭＥ：ＭＡｎ　　　　　　
　　　５０：５０　　　　−−ＭＥ：ＭＡｎ　　　　　
　　　　５０：５０　　　　−−ＡＡ：ｔ−ＢｕＡｍ　
　　　　　　　　　　８０：２０　　　　　　　３．Ｑ
ＣＡＡ：ｔ−ＢｕＡｎ＋　　　　　　　　　　８０：２
０　　　　　　６．０（＾Ａ：Ｍ＾八：ｔ−へｕＡ＋ｓ
　　　　６０：２０：２０　　　　１Ｇ、０（０５５５
Ｂ ０　　　７０　　　　　６００＋ １０　１００　　　　１２００＋ へｍ＝アクリルアミド ＥＡ−エチルアクリレート ＥｏＴｇ八−エトキシトリグリコールアクリレ−１−Ｍ
ＭＡ　＝メチルメタクリレート Ｄ旧＝ジメチルイタコネート ＤＥＩ　＝ジエチルイタコネート ＩＡ＝イタコン酸 ５ＳＳ−ナトリウムスチレンスルホネートＤＭＡ　＝ジ
メチルアクリレート ＳＥＭ＝２−スルホエチルメタクリレートＳＰＭ＝３−
スルホプロピルメタクリレートＨＭＡ　＝エチルメタク
リレート ＣＩＩＰＭ＝クロロヒドロキシプロピルメタクリレ−１
・Ｌ−ＯＡｍ　＝ｔｅｒｔ、オクチルアクリルアミドＭ
Ａ＝無水マレイン酸 ＡＡ　：　ＭＡ　−アクリル酸：無水マレイン酸（Ｂｅ
ｌｃｌｅｎｅ　２８３＋　Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙの製品
）ＶＡｃ　＝酢酸ビニル ＶＯＨ　＝ビニルアルコール ＳＰＡ＝３−スルホプロピルアクリレートＳＰＩ　＝ビ
スー３ースルホプロピルイタコネートＭｅＯＥＡ　＝メ
トキシエチルアクリレート上記実験において使用される
、メトキシエチレン及び無水マレイン酸のコポリマーは
、ＧａｎｔｒｅｚＳ−９７樹脂であった。“結晶生長抑
制の時間”として同定された欄は、ヒドロキシアペタイ
トの結晶生長を示す。

第Ａ表の結果は一般的に、酵素の不在下で３〜５個の炭
素原子の一不飽和モノカルボン酸及びジカルボン酸、特
にアクリル酸、マレイン酸及びイタコン酸のホモポリマ
ー及びコポリマーの抗歯石剤としての有効性を示す。１
０分を越える結晶生長抑制の時間は、許容できるが、し
かし好ましい態様ではなく、その好ましい時間は約３０
分を越える。もちろん、この期間は、抗歯石剤の量を増
大することによって長くされ得る。

廿Ｌ−４ 酵素による加水分解を、ピロホスフェート１２．５ｐｐ
ｍを含むトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン−）
Ｉ（ｌの緩衝溶ｆｉ　（２，５Ｘｌ０−３Ｍ　、　ｐ）
ｌ＝７．２０）２５−中で行なった。本発明の抗歯石剤
の既知量（０〜１０１００ｐｐを、ピロホスフェート溶
液に添加し、次いで無機ピロホスファターゼ酵素を添加
した。溶液を２５℃で連続して撹拌した。３時間後、溶
液を、標準の比色法を用いてオルトホスフェートについ
て分析した。抗歯石剤による酵素的加水分解の抑制を、
次の式に従って計算した：ここで、（ホスフェート）ｃ
及び（ホスフェート）ａは、それぞれ抗歯石剤の不在及
び存在下でのオルトホスフェート濃度を示す。

抗歯石剤の不在Ｆでの三重反復実験からの結果は、酵素
的加水分解の間、開放されるオルトホスフェートの量が
利用できるオルトホスフェートの９５％以上であること
を示した。酵素の存在下でＳＳＳは、無水マレイン酸ナ
トリウムスチレンスルホネートとのコポリマーであると
思われる、ＶｅｒｓａＴＬ−７として知られるＮａｔｉ
ｏｎａｌ　５ｔａｒｃｈ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎの製
品を表わす。

■−１ ヒドロキシアパタイト（ＲＡＰ）の生体外形成を、上記
例１に記載のｐＨ−５ｔａｔ法を用いて滴定的に測定し
た。試験を、２５℃で７．２０のｐｌ＋で及びそれぞれ
３．８５Ｘ１０−’Ｍの濃度のカルシウムイオン及びホ
スフェートイオンと共に行なった。唾液酵素、すなわち
ピロホスファクーゼ、及び抗歯石剤の存在下で行なわれ
た実験の結果が下記の第６表に要約されている： 以下余白 ｔＣ，−、、ｊ なし　　　　　　　　−いいえ なし　　　　　　　　−　　は　い なし　　　　−−は　い 第６表に示される結果は、ピロホヌ １１ＡＰ形成を有意に遅らせることを示すフェートは、
２５ｐｐｍのレベルで使井かしながら、抗歯石剤ポリマ
ーの不４ ホスフエートの有効性は、酵素と共に 一トされる場合、より短い遅れ時間に かなように、徹底的に減じられる。こ 減少は、Ｐ−０−Ｐ結合の酵素的顎外 ものである。上記表に示されるように ポリマー組成物は、ピロホスフェート 素の両者の存在下で特に有効な抗歯石 いいえ　　　　１２ いいえ　　　　３０ はい　　１１ は　　い　　　　　　　１２ は　　い　　　　　〉４００ 、フェートが −。ピロホス Ｉされた。し 三下で、ピロ ：インキュへ ：よって明ら の有効性の 一分解による ：、本発明の 及び唾液酵 １剤である。

第Ａ及びＢ表に示されるように、他のコポリマーもまた
、唾液酵素及びピロホスフェートの存在下でＩＩＡＰ結
晶生長抑制剤として有効であろう。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、経口組成物であって： （ａ）有効量の弗素源； （ｂ）有効量の研磨剤；及び （ｃ）３〜５個の炭素原子の一不飽和モノカルボン酸及
   びジカルボン酸、それらの塩及び無水物のホモポリマー
   、及び前記酸から選択されたカルボン酸モノマー少なく
   とも３０重量％を含むコポリマーから選択された抗歯石
   剤及びそのような抗歯石剤の混合物０．０１〜１０重量
   ％を含んで成る組成物。 ２、前記コポリマーの少なくとも１種のコモノマーを、
   アクリルアミド、アルキルアクリレート、アルキルイタ
   コネート、ビニルスルホン酸、ヒドロキシアルキルアク
   リレート、アルコキシアルキルアクリレート、低級アル
   キルカルボキシレート、スチレンスルホン酸、アリルオ
   キシヒドロキシアルカンスルホン酸、アクリルアミドア
   ルカンスルホン酸、ホスホノアルカンカルボン酸、スル
   ホアルキルアクリレート、それらの塩及び無水物及びそ
   のようなコモノマーの混合物から選択する請求項１記載
   の組成物。 ３、前記弗素源の量が前記経口組成物の０．００５〜３
   ．０重量％であり、前記カルボン酸モノマーの量が前記
   コポリマーの４０〜９０％であり、そして前記ホモポリ
   マー及び前記コポリマーの分子量が約４００〜１００，
   ０００の範囲で存在する請求項２記載の組成物。 ４、前記コポリマーが少なくとも１種の前記コモノマー
   １０〜６０％を含み、前記弗素源の量が０．０５〜１％
   であり、そして前記抗歯石剤の量が０．１〜５％である
   請求項３記載の組成物。 ５、前記カルボン酸モノマーを、アクリル酸、メタクリ
   ル酸、イタコン酸、マレイン酸及びその無水物、シトラ
   コン酸、メサコン酸、そのような酸の塩及びそれらの混
   合物から選択し；アクリルアミドを次のように定義し： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子及びメチル基から選択され；そし
   てＲ＾１及びＲ＾２は個々に、水素原子及び１〜１２個
   の炭素原子のアルキル基から選択される〕；アルキルア
   クリレートを次のように定義し：▲数式、化学式、表等
   があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子及びメチル基から選択され、そし
   てＲ＾１が１〜６個の炭素原子のアルキル基及び置換ア
   ルキル基（ここでＲ＾１がＲ＾２−Ｙとして定義され、
   ここでＲ＾２が１〜６個の炭素原子を含むアルキル基で
   あり、そしてＹが−ＳＯ＿３Ｘ、−Ｃ（Ｏ）Ｒ＾３又は
   −ＣＯ＿２Ｘ（ここでＸは水素、アルカリ金属、アルカ
   リ土類金属又はアンモニウム基であり、そしてＲ＾３は
   １〜３個の炭素原子のアルキルである）から選択される
   ）から選択される〕；アルキルイタコネートを次のよう
   に定義し； ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾２及びＲ＾３の両者が水素原子でない場合
   （Ｒ＾２又はＲ＾３のいづれかは水素原子であることが
   できる）、Ｒ＾２及びＲ＾３は個々に水素原子及び１〜
   ４個の炭素原子のアルキル基から選択される〕；ビニル
   スルホン酸及びその塩を次のように定義し：▲数式、化
   学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金
   属及びアンモニウム基から選択される〕；ヒドロキシア
   ルキルアクリレートを次のように定義し： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子及び１〜３個の炭素原子のアルキ
   ル基から選択され、Ｒ＾１が２〜４個の炭素原子のアル
   キレン基から選択され、そしてｎが１〜５である〕；ア
   ルコキシアルキルアクリレートを次のように定義し： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子及びメチル基から選択され、Ｒ＾
   １は２〜４個の炭素原子のアルキレン基から選択され、
   Ｒ＾２は１〜１０個の炭素原子のアルキル基から選択さ
   れ、そしてｎは１〜５である〕；低級アルケニルカルボ
   キシレートを次のように定義し： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子又は１〜６個の炭素原子の低級ア
   ルキル基であり、そしてＲ＾１は１〜１２個の炭素原子
   のアルキル基から選択される〕；ビニルアルコールを次
   のように定義し： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子又は１〜６個の炭素原子の低級ア
   ルキル基である〕；スチレンスルホン酸及びその塩を次
   のように定義し： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子及び１〜６個の炭素原子のアルキ
   ル基から選択され、そしてＸは水素原子、アルカリ金属
   、アルカリ土類金属及びアンモニウム基から選択される
   〕；アリルオキシヒドロキシアルカンスルホン酸及びそ
   の塩を次のように定義し： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ及びＲ＾１が個々に水素原子及びメチル基か
   ら選択され、そしてＸが水素原子、アルカリ金属、アル
   カリ土類金属及びアンモニウム基から選択される〕；ア
   クリルアミドアルカンスルホン酸及びその塩を次のよう
   に定義し： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子及びメチル基から選択され、Ｒ＾
   １及びＲ＾２が個々に水素原子及び１〜４個の炭素原子
   のアルキル基から選択され、そしてＸが水素原子、アル
   カリ金属、アルカリ土類金属及びアンモニウム基から選
   択される〕；そしてスルホアルキルアクリレートを次の
   式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１は水素原子、メチル基及び下記の式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２は１〜１２個の炭素原子のアルキレン基
   から選択され、そしてＸは水素原子、アルカリ金属、ア
   ルカリ土類金属及びアンモニウム基から選択される）で
   表わされる基から選択される〕のように定義する請求項
   ２記載の組成物。 ６、前記アクリルアミドにおいて、Ｒ＾１及びＲ＾２が
   一緒に水素原子ではなく；前記アルキルアクリレートに
   おいて、Ｒ＾１は１〜４個の炭素原子の非置換アルキル
   基から選択され；前記アルキルイタコネートにおいて、
   Ｒ＾２及びＲ＾３は個々に、１〜４個の炭素原子の非置
   換アルキル基から選択され；前記スルホン酸及びその塩
   において、Ｘはアルカリ金属及びアンモニウム基から選
   択され；前記ヒドロキシアルキルアクリレートにおいて
   、Ｒは水素原子及びメチル基から選択され、そしてＲ＾
   １は２〜３個の炭素原子のアルキレン基から選択され；
   前記アルコキシアルキルアクリレートにおいて、Ｒ＾１
   は２〜３個の炭素原子のアルキレン基から選択され、Ｒ
   ＾２は１〜４個の炭素原子のアルキル基から選択され、
   そしてｎは１〜３であり；前記スチレンスルホン酸及び
   その塩において、Ｒは水素原子であり、Ｘは水素原子、
   アンモニウム基及びアルキル金属基から選択され、そし
   て前記−ＳＯ＿３Ｘ基が前記フェニル環上の３又は４位
   置に位置し；前記アクリルアミドアルカンスルホン酸及
   びその塩において、Ｒは水素原子であり、そしてＲ＾１
   及びＲ＾２は個々に、１〜３個の炭素原子のアルキル基
   から選択され；そして前記スルホアルキルアクリレート
   において、Ｒ＾２は２〜４個の炭素原子のアルキレン基
   から選択され、そしてＸは水素原子、ナトリウム基、カ
   リウム基、カルシウム基、マグネシウム基及びアンモニ
   ウム基から選択される請求項５記載の組成物。 ７、歯石の形成を抑制するのに有効である６〜１０のｐ
   Ｈを有し；前記弗化物源の量が約５０ｐｐｍ〜約２，５
   ００ｐｐｍの弗化物イオンを供給するのに十分であり；
   前記抗歯石剤の量が１〜１０００ｐｐｍであり；前記歯
   用研磨剤の量が１０〜７０％であり；そして前記組成物
   がまた経口ビヒクルを含む請求項６記載の組成物。 ８、前記研磨剤の量が、アルカリ金属のヘキサメタホス
   フェート、アルカリ金属のトリポリホスフェート、ジア
   ルカリ金属の二酸、トリアルカリ金属の一酸、アルカリ
   金属のトリポリホスフェート、テトラアルカリ金属のピ
   ロホスフェート、ヒドロキシエチルエタン二ホスホン酸
   及びそれらの混合物から選択されたポリホスフェートの
   ０．１〜７重量％である請求項７記載の組成物。 ９、前記歯石剤が１〜５％であり、前記コポリマー性抗
   歯石剤が２，０００〜２０，０００の分子量を有し、そ
   して前記一不飽和カルボン酸がアクリル酸、メタクリル
   酸、マレイン酸又はその無水物、イタコン酸及びそれら
   の混合物から選択される請求項６記載の組成物。 １０、前記抗歯石剤を、次のコポリマー： （ａ）ＡＡ：ＭＡＡ：ｔ−ＢｕＡｍの比が６０：２０：
   ２０のコポリマー （ｂ）ＡＡ：ＨＰＡの比が６３：３７のコポリマー （ｃ）ＡＡ：ＡＭＰＳの比が５１：４９のコポリマー （ｄ）マレイン酸の１００％ホモポリマー （ｅ）アクリル酸の１００％ホモポリマー 〔上記に使用される略語は次のように定義される：ＡＡ
   ＝アクリル酸、ＭＡＡ＝メタクリル酸、ＨＰＡ＝ヒドロ
   キシプロピルアクリレート、ＡＰＳ＝２−アクリルアミ
   ド−２−メチルプロパンスルホン酸〕から選択する請求
   項９記載の組成物。 １１、練り歯磨き形において、前記弗化物源が弗化ナト
   リウム、弗化錫、ナトリウムモノフルオロホスフェート
   及びそれらの混合物から選択され；前記歯用研磨剤の量
   が１０〜７５％であり、そして前記歯用研磨剤がシリカ
   、水和アルミニウム、不溶性メタホスフェート、熱硬化
   性重合樹脂及びそれらの混合物から選択され；そして前
   記経口ビヒクルの量が１０〜９０重量％である請求項５
   記載の組成物。 １２、請求項１記載の口腔組成物の適用を含んで成る歯
   石を抑制するための方法。 １３、請求項３記載の口腔組成物の適用を含んで成る歯
   石を抑制するための方法。 １４、請求項４記載の歯用組成物の適用を含んで成る歯
   石を抑制するための方法。 １５、請求項５記載の歯用組成物の適用を含んで成る歯
   石を抑制するための方法。 １６、請求項７記載の歯用組成物の適用を含んで成る歯
   石を抑制するための方法。 １７、請求項１１記載の歯用組成物の適用を含んで成る
   歯石を抑制するための方法。