JPH01170023A - フォトレジスト現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はフォトレジストの現像装置に係り、特には物理
的１ｈ撃に弱いポジ型フォトレジストの現像に好適なフ
ォトレジスト現像装置に関する。

〔従来技術及びその問題点〕

従来のフォトレジスト現像装置としては、デイツプ方式
とシャワ一方式が一般的に知られている。

デイツプ方式は、現像液中に被現像物（例えば、露光工
程終了後のフォトレジスト塗布基板）を浸漬させて現像
する方法である。そのため、フォトレジストに対する物
理的な衝撃がないという利点はある。しかし、多数の被
現像物を一度に処理するバッチ処理であるため、被現像
物間において、その仕上がり寸法精度にばらつきが発生
するという問題点があった。

一方、シャワ一方式を採用したフォトレジスト現像装置
の概略構成を第３図に示す。同図においては、上下に移
動可能なローダ１に収容された被現像物りが、このロー
ダ１から順次送出され、−定速度で移動する搬送ベルト
２上に載置されたまま、現像室３、第１及び第２の水洗
室４．５並びに乾燥室６を順次通ってアンローダ７中に
収容される。上記現像室３は、第４図に示すようにシャ
ワー３ａを複数本備え、そのそれぞれに設けられたシャ
ワーノズル３ｂから現像液が被現像物り上に高圧（例え
ば０．１〜０．５　ｋｇ／ｃｄ）で吐出されるようにな
っている。水洗室４．５も、水を吐出するための同様な
シャワーを有している。このようなシャワ一方式では、
被現像物りを次々に搬送しながら、現像、水洗及び乾燥
の連続処理を実行できるため、スループットの極めて高
い現像処理が可能になる。

ところが、最近は微細加工の要求が高まってきており、
それに伴いネガ型フォトレジストよりも微細加工の可能
なポジ型フォトレジストが使用されるようになってきた
ため、上記シャワ一方式では次のような問題点が生じた
。すなわち、現像室３内のシャワー３ａの圧力は上述し
たように高い（０，１〜０．５ｋｇ／ａＪ）ので、フォ
トレジストニ加わる物理的なｆｉ撃が大きいものとなる
。ところが、ポジ型フォトレジストは物理的衝撃に弱い
ため、上記シャワーによる衝撃に負けてレジストパター
ンが欠けてしまい、仕上がり寸法精度が劣化するという
事態が生じた。

そこで、フォトレジストに加わる衝撃を弱めるため、霧
状の現像液を、回転する被現像物の上に噴霧するように
したものもある。これによれば、噴霧された現像液が被
現像物上に徐々に貯えられていき、その後表面張力によ
り全面に均一な状態で保持されるため、レジストパター
ンが欠けるようなことはなくなる。しかし、このように
すると、通常の現像時間に被現像物１枚当たり最低１分
を要し、更に水洗や乾燥等を考慮すると、スループット
が非常に悪くなり、装置コストの増大につながるという
問題が生じた。

なお、このことを考慮し、連続処理のシャワー方式を用
いて上記の霧状の現像液を被現像物上の全面に保持させ
るようにすることも考えられるが、これを実現すること
は非常に困難である。なぜなら、この場合でも、現像液
が完全に被現像物表面を均一に濡らすことができるよう
に、被現像物を回転しながら現像液を噴霧する必要があ
るが、このようにすると現像液に最初に接触した部分と
遅れて接触した部分とで現像時間に差が生じ、これが現
像不良の原因となってしまうからである。

〔発明の目的〕

本発明は、上記従来の問題点を解決するため、物理的衝
撃に弱いポジ型フォトレジストを現像する場合であって
も、現像の仕上がり寸法精度の向上と、高スループツト
現像とを共に可能にするフォトレジスト現像装置を提供
することを目的とする。

〔発明の要点〕

本発明は、上記目的を達成するため、被現像物が一定速
度で搬送される現像室内に、現像液を自然落下もしくは
それに近い低圧で吐出する手段を設け、ここから吐出さ
れる現像液を表面張力により被現像物上に保持したまま
で現像を行えるようにしたことを要点とする。

〔実　　施　　例〕

以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。

第１図は、本発明の一実施例に係る現像室１０の斜視図
である。

同図に示した現像室１０は、例えば第３図に示したフォ
トレジスト現像装置における搬送ベルト２の搬送経路の
途中に、シャワ一方式の現像室３に代えて配置されてい
る。現像室１０の入口部と出口部には、それぞれ、被現
像物り上に現像液を吐出するための第１、第２の現像液
吐出部１１゜１２が設けられている。

第１の現像液吐出部１１は、現像室１０の外部から引き
入れられたパイプ状の配管１１ａの側面部に、その内側
から外側へ通ずる直径１ｗ以下程度の孔１１ｂを５〜１
０言−程度のピッチで複数形成した構成からなっている
。このような構成の現像液吐出部１１は、その複数の孔
１１ｂが搬送ベルト２上の被現像物りの上面から例えば
１（１ｍ以下の高さに位置するように、水平に配置され
ている。

そして、複数の孔１１ｂから吐出される現像液が被現像
物り上に自然落下するように、配管１１ａ内へ外部から
供給される現像液の圧力が適宜羽整されている。一方、
第２の現像液吐出部１２は、現像室１０の外部から引き
入れられたパイプ状の配管１２ａの下方に、その内側か
ら外側へ通ずるシャワーノズル１２ｂを複数形成してな
り、すなわち、第４図に示したシャワー３ａとほぼ同様
な構成である。このような構成の現像液吐出部１２は被
現像物りの上面から一定の高さに配置され、シャワーノ
ズル１２ｂから吐出される現像液Φ圧力が自然落下に近
い低圧（例えば０．１ｋｇ／ａａ以下）となるように調
整されている。

次に、上記構成からなる現像室１０による現像処理につ
いて説明する。

まず、露光工程終了後のフォトレジストを上面に備えた
被現像物りが搬送ベルト２により現像室１０内へ搬送さ
れてくると、その入口部に設けられた第１の現像液吐出
部１１によって被現像物り上に現像液が供給される。こ
の現像液の供給は、第２図に示すように、複数の孔１１
ｂから被現像物りの上面まで連続的に切れ目のない状態
で、自然落下により行われる。そのため、被現像物りの
上面に対する物理的衝撃は非常に棋やかである。

すると、被現像物りが移動するに伴い、その上面にはあ
る程度の厚さの現像液Ｅが表面張力により貯えられてい
く。そして、被現像物りの後端が第１の現像液吐出部１
１の下方を通り過ぎた時点で、上記の表面張力で貯えら
れた十分な量の現像液Ｅによって被現像物りの全面が覆
われる。この後は、被現像物りが上記の現像液Ｅで覆わ
れたままの状態で順送ベルト２により搬送されながら、
フォトレジストの現像が進行していく。

その後、被現像物りが現像室１０の出口部まで搬送され
てくると、第１図に示した第２の現像液吐出部１２によ
って、被現像物り上に新たな現像液が供給される。この
現像液の供給は、前述したように、シャワーノズル１２
ｂからの緩やかな低圧シャワーにより行われる。これに
より、被現像物り上に貯えられていた現像液が新たな現
像液で速やかに置換され、現像の仕上げが行われる。そ
の後は、第３図で述べたと同様に、第１、第２の水洗室
４．５及び乾燥室６を経て、アンローダ７に収容される
。

以上に述べたように、本実施例では現像液吐出部１１．
１２により被現像物り上に現像液を自然落下もしくはそ
れに近い低圧で供給するようにしたことから、フォトレ
ジストに加わる物理的な衝撃が著しく緩和される。従っ
て、物理的な衝撃に弱いポジ型フォトレジストを用いた
場合であっても、そのレジストパターンが欠けてしまう
ようなことがなくなり、よって現像の仕上がり寸法精度
を著しく向上させることができる。

更に、本実施例では、多くの被現像物を搬送ベルト２に
より一定速度で次々と搬送しながら、現像、水洗及び乾
燥を連続処理で実施できるため、スループットの極めて
高い現像処理が可能になる。

しかも、従来のように現像液を霧状にして吐出するもの
と異なり、被現像物を回転させずに被現像物りの上面を
現像液で均一に濡らすことができるため、現像時間は被
現像物りの全面で全て等しくなり、よって均一な現像が
可能になる。

また、現像液を自然落下もしくはそれに近い低圧で吐出
していることから、第４図に示した従来のシャワ一方式
の現像室３と比べて現像室１０の排気ダクト（不図示）
からの現像液の損失が少なくなり、よって現像液の消費
量を低減させることができる。更に、現像液は循環させ
ながら繰返し使用するようにしてもよいが、より高精度
なフォトレジストパターンが必要であれば、現像液を１
回だけで使い棄てるようにすることもできる。

なお、上記実施例では現像室１０の出口部に設けられた
現像液吐出部１２を低圧のシャワーとしたが、第１の現
像液吐出部１１と同様に自然落下で行うようにしてもよ
い。また、現像液吐出部１１．１２の両方を自然落下に
近い低圧で行うようにしてもよい。

また、上記２つの現像液吐出部１１．１２の間に、これ
らと同様な構成の現像液吐出部を１つもしくはそれ以上
設けてもよい。更に、これら現像液吐出部の孔１１ｂや
シャワーノズル１２ｂは、被現像物り上にできるだけ近
く、かつ圧力がかからないような方向及び位置（高さ）
に形成されていることが望ましいが、第１図に示した方
向及び位置に限定する必要はない。また、第１の現像液
吐出部１１では、孔１１ｂの代わりに、例えば幅１龍以
下程度のスリットを形成するようにしてもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、一定速度で搬送
される被現像物上に現像液を自然落下もしくはそれに近
い低圧で吐出するようにしたので、物理的衝撃に弱いポ
ジ型フォトレジストを使用した場合であっても、現像の
仕上がり寸法精度を著しく向上させることができ、かつ
スループットの極めて高い現像処理を実現することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る現像室１０の斜視図、 第２図は第１図中の第１の現像液吐出部１１による現像
液の供給作用を説明するための図、第３図（ａ）及び（
ｂ）はシャワ一方式を採用した従来のフォトレジスト現
像装置の概略構成を示す平面図及び正面図、 第４図は第３図中の現像室３の拡大斜視図である。 ２・・・搬送ベルト、 １０・・・現像室、 １１・・・第１の現像液吐出部、 １１ａ・・・配管、 １１ｂ・・・孔、 １２・・・第２の現像液吐出部、 １２ａ・・・配管、 １２ｂ・・・シャワーノズル、 Ｄ・・・被現像物。 特許出願人　　カシオ計算機株式会社 第１図 第３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　露光工程終了後のフォトレジストが上面に形成された
   被現像物を一定速度で搬送する搬送手段と該搬送手段に
   よる搬送経路の途中に設けられ、前記被現像物に対し現
   像処理を施す現像室とを有するフォトレジスト現像装置
   において、 前記被現像物上に現像液を自然落下もしくはそれに近い
   低圧で吐出する現像液吐出手段を前記現像室に設けたこ
   とを特徴とするフォトレジスト現像装置。