JPH0844075A - 現像方法 - Google Patents
現像方法Info
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- JPH0844075A JPH0844075A JP20012894A JP20012894A JPH0844075A JP H0844075 A JPH0844075 A JP H0844075A JP 20012894 A JP20012894 A JP 20012894A JP 20012894 A JP20012894 A JP 20012894A JP H0844075 A JPH0844075 A JP H0844075A
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- JP
- Japan
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- developing
- substrate
- development
- shower
- rinse
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- Granted
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- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 現像ムラやシミを作ることのない現像方法を
提供する。 【構成】 パドル現像の後、一時的に基板１の搬送を停
止させるか、あるいはその基板１の搬送速度を低下させ
ることにより、一定時間をおいてから次のシャワー現像
工程へ搬送するようにする。これにより、パドル現像の
後、現像液を基板上に一定時間静止させてじっくりと反
応させることができ、よってムラのない現像を行うこと
ができる。しかもその後のシャワー現像で、さらに現像
品位を高めることができる。そして、次のムラ取り工程
により、微小な残渣成分をも除去して現像ムラを取り、
仕上がりをより良くすることができる。
提供する。 【構成】 パドル現像の後、一時的に基板１の搬送を停
止させるか、あるいはその基板１の搬送速度を低下させ
ることにより、一定時間をおいてから次のシャワー現像
工程へ搬送するようにする。これにより、パドル現像の
後、現像液を基板上に一定時間静止させてじっくりと反
応させることができ、よってムラのない現像を行うこと
ができる。しかもその後のシャワー現像で、さらに現像
品位を高めることができる。そして、次のムラ取り工程
により、微小な残渣成分をも除去して現像ムラを取り、
仕上がりをより良くすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光された感光性樹脂
を現像液を用いて現像する現像方法、特に、液晶ディス
プレイ用のカラーフィルタの製造に適した現像方法に関
する。
を現像液を用いて現像する現像方法、特に、液晶ディス
プレイ用のカラーフィルタの製造に適した現像方法に関
する。
【０００２】
【従来技術】従来より、この種の現像方法では、基板を
１枚ずつ一定速度で搬送し、その基板上の露光された感
光性樹脂を、現像液を用いてシャワー現像した後、シャ
ワーリンス槽へ搬送してシャワーリンスする。その際、
現像液がリンス槽へ持ち込まれてリンスが劣化すること
を防止するために、現像工程とリンス工程との間で、エ
アーナイフによる液切りを行う。
１枚ずつ一定速度で搬送し、その基板上の露光された感
光性樹脂を、現像液を用いてシャワー現像した後、シャ
ワーリンス槽へ搬送してシャワーリンスする。その際、
現像液がリンス槽へ持ち込まれてリンスが劣化すること
を防止するために、現像工程とリンス工程との間で、エ
アーナイフによる液切りを行う。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の現像方法のように、シャワー現像のみによる現像で
は、基板上の露光された感光性樹脂に、現像の不充分な
部分ができ、現像ムラが発生するという問題があった。
来の現像方法のように、シャワー現像のみによる現像で
は、基板上の露光された感光性樹脂に、現像の不充分な
部分ができ、現像ムラが発生するという問題があった。
【０００４】また、現像工程とリンス工程との間の、エ
アーナイフによる液切りでは、乾きが発生して、シミの
原因になるという問題もあった。
アーナイフによる液切りでは、乾きが発生して、シミの
原因になるという問題もあった。
【０００５】本発明は、このような問題を解決するため
に提案されたもので、現像ムラやシミを作ることのない
現像方法を提供することを目的とする。
に提案されたもので、現像ムラやシミを作ることのない
現像方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る現像方法
は、パドル現像を行う第１の工程と、シャワー現像を行
う第２の工程と、現像ムラを取る第３の工程と、現像液
の液切りを行う第４の工程と、１回目のシャワーリンス
を行う第５の工程と、２回目のシャワーリンスを行う第
６の工程と、リンス液の液切りを行う第７の工程と、を
備えたもので、上記各工程に沿って基板を搬送させる。
そして、上記パドル現像工程の後、一時的に上記基板の
搬送を停止させるか、あるいはその基板の搬送速度を、
上記パドル現像工程における搬送速度よりも低下させる
ことにより、一定時間をおいてから、次のシャワー現像
工程へ搬送する。
は、パドル現像を行う第１の工程と、シャワー現像を行
う第２の工程と、現像ムラを取る第３の工程と、現像液
の液切りを行う第４の工程と、１回目のシャワーリンス
を行う第５の工程と、２回目のシャワーリンスを行う第
６の工程と、リンス液の液切りを行う第７の工程と、を
備えたもので、上記各工程に沿って基板を搬送させる。
そして、上記パドル現像工程の後、一時的に上記基板の
搬送を停止させるか、あるいはその基板の搬送速度を、
上記パドル現像工程における搬送速度よりも低下させる
ことにより、一定時間をおいてから、次のシャワー現像
工程へ搬送する。
【０００７】
【作用】上記現像方法によれば、パドル現像の後に、基
板の搬送停止状態あるいは低速搬送状態を作ることによ
り、現像液を基板上に一定時間静止させて、じっくりと
反応させることができ、よってムラのない現像を行うこ
とができる。しかも、その後のシャワー現像で、さらに
現像品位を高めるとともに、ムラ取りにより、微小な残
渣成分をも除去して現像ムラを取り、仕上がりをより良
くすることができる。
板の搬送停止状態あるいは低速搬送状態を作ることによ
り、現像液を基板上に一定時間静止させて、じっくりと
反応させることができ、よってムラのない現像を行うこ
とができる。しかも、その後のシャワー現像で、さらに
現像品位を高めるとともに、ムラ取りにより、微小な残
渣成分をも除去して現像ムラを取り、仕上がりをより良
くすることができる。
【０００８】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。 〈実施例１〉図１は、本発明に係る現像方法の実施例１
を説明する現像装置の概略構成図で、カラーフィルタの
製造工程の一部を構成するものである。
する。 〈実施例１〉図１は、本発明に係る現像方法の実施例１
を説明する現像装置の概略構成図で、カラーフィルタの
製造工程の一部を構成するものである。
【０００９】図のようにこの現像装置は、感光性樹脂が
塗布されて露光された基板１を搬入する搬入部２と、２
連のパドル装置３を備えたパドル現像工程部５と、複数
のシャワーノズル６を備えたシャワー現像工程部７と、
２連のハイメガソニックの超音波発振装置９を備えたム
ラ取り工程部１０と、エアーナイフ装置１１を備えた第
１液切り工程部１２と、複数のシャワーノズル１３を備
えた第１シャワーリンス工程部１５と、複数のシャワー
ノズル１６を備えた第２シャワーリンス工程部１７と、
液切り装置１９を備えた第２液切り工程部２０と、現像
の終了した基板１を搬出する搬出部２１と、から構成さ
れ、上記各部を通して設けられた搬送ローラ２２により
基板１を１枚ずつ搬送して現像するようになっている。
塗布されて露光された基板１を搬入する搬入部２と、２
連のパドル装置３を備えたパドル現像工程部５と、複数
のシャワーノズル６を備えたシャワー現像工程部７と、
２連のハイメガソニックの超音波発振装置９を備えたム
ラ取り工程部１０と、エアーナイフ装置１１を備えた第
１液切り工程部１２と、複数のシャワーノズル１３を備
えた第１シャワーリンス工程部１５と、複数のシャワー
ノズル１６を備えた第２シャワーリンス工程部１７と、
液切り装置１９を備えた第２液切り工程部２０と、現像
の終了した基板１を搬出する搬出部２１と、から構成さ
れ、上記各部を通して設けられた搬送ローラ２２により
基板１を１枚ずつ搬送して現像するようになっている。
【００１０】この現像装置を用いた現像方法では、搬入
部２から１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度の一定搬送速度で搬
入した基板１を、４０００ｍｍ／ｍｉｎ程度の高速搬送
にてパドル現像工程部５を通過させ、その後、一時的に
搬送を停止させるか、もしくは搬送速度を低下させるこ
とにより、１５秒以上、６０秒以下の範囲内の一定時間
をおいてから、次のシャワー現像工程部７へ搬送する。
そしてシャワー現像工程部７に入ってからは、再び１０
００ｍｍ／ｍｉｎ程度の一定搬送速度に戻して搬送し、
それ以後は、同じ搬送速度、もしくはより速い搬送速度
で搬出部２１まで搬送する。
部２から１０００ｍｍ／ｍｉｎ程度の一定搬送速度で搬
入した基板１を、４０００ｍｍ／ｍｉｎ程度の高速搬送
にてパドル現像工程部５を通過させ、その後、一時的に
搬送を停止させるか、もしくは搬送速度を低下させるこ
とにより、１５秒以上、６０秒以下の範囲内の一定時間
をおいてから、次のシャワー現像工程部７へ搬送する。
そしてシャワー現像工程部７に入ってからは、再び１０
００ｍｍ／ｍｉｎ程度の一定搬送速度に戻して搬送し、
それ以後は、同じ搬送速度、もしくはより速い搬送速度
で搬出部２１まで搬送する。
【００１１】さらに詳しく説明すると、先ず、パドル現
像工程部５では、パドル装置３からの、ＮＭＰ（ノルマ
ルメチルピロリドン）あるいはδ−ブチロラクトンを主
成分とする現像液５ａと、基板１上の、感光性ポリアミ
ド（顔料込み）等の感光性樹脂とを十分に反応させるた
めに、現像液５ａを基板１上に、ある一定時間静止させ
る。十分に反応し終えた感光性樹脂を、さらによく現像
し、ムラなく現像するために、シャワー現像工程部７で
シャワー現像を行う。このとき、シャワーノズル６は、
当然、千鳥状に配列しておくことが好ましい。また、こ
れらのパドル現像工程部５とシャワー現像工程部７とに
おける現像液は同じものがよい。
像工程部５では、パドル装置３からの、ＮＭＰ（ノルマ
ルメチルピロリドン）あるいはδ−ブチロラクトンを主
成分とする現像液５ａと、基板１上の、感光性ポリアミ
ド（顔料込み）等の感光性樹脂とを十分に反応させるた
めに、現像液５ａを基板１上に、ある一定時間静止させ
る。十分に反応し終えた感光性樹脂を、さらによく現像
し、ムラなく現像するために、シャワー現像工程部７で
シャワー現像を行う。このとき、シャワーノズル６は、
当然、千鳥状に配列しておくことが好ましい。また、こ
れらのパドル現像工程部５とシャワー現像工程部７とに
おける現像液は同じものがよい。
【００１２】このようにパドル現像工程部５とシャワー
現像工程部７とで現像を行った後、基板１表面に感光性
樹脂の一部が薄く、現像ムラとして残る。特に、このカ
ラーフィルタの製造のように、顔料を含んだ感光性樹脂
を現像した際には残渣がある。そこで、ムラ取り工程部
１０において、超音波発振装置９から９５０ｋＨｚ以上
のハイメガソニックの超音波を当てた液カーテン状の現
像液１０ａ（上記現像液５ａと同様あるいは薄めたも
の）を基板１にかけることにより、この薄く残った感光
性樹脂や顔料等を除去して現像ムラを取る。
現像工程部７とで現像を行った後、基板１表面に感光性
樹脂の一部が薄く、現像ムラとして残る。特に、このカ
ラーフィルタの製造のように、顔料を含んだ感光性樹脂
を現像した際には残渣がある。そこで、ムラ取り工程部
１０において、超音波発振装置９から９５０ｋＨｚ以上
のハイメガソニックの超音波を当てた液カーテン状の現
像液１０ａ（上記現像液５ａと同様あるいは薄めたも
の）を基板１にかけることにより、この薄く残った感光
性樹脂や顔料等を除去して現像ムラを取る。
【００１３】また、第１と第２のシャワーリンス工程部
１５、１７において、エチルセルソルブ等のリンス液を
用いてシャワーリンスを２回施すことにより、基板１上
の現像液の残りを完全に流すことができ、現像ムラやシ
ミを生じさせることがない。さらに、第１シャワーリン
ス工程部１５の手前の第１液切り工程部１２において、
基板１の現像液の液切りを行うことにより、シミの発生
を確実に抑えることができる。ただし、この第１液切り
工程部１２においては、基板１上の現像液を完全には切
らずに、その現像液の下の現像パターンが露出する前
に、次の第１シャワーリンス工程部１５へ送るようにす
る。これにより、乾きによるシミの発生をも抑えること
ができる。このような液切りを行うために、第１液切り
工程部１２のエアーナイフ装置１１から基板１に対し、
１リットル／ｍｉｎ程度の流量の乾燥空気あるいは窒素
を、５ｍｍ程度の距離をおいて吹き付けるようにする。
１５、１７において、エチルセルソルブ等のリンス液を
用いてシャワーリンスを２回施すことにより、基板１上
の現像液の残りを完全に流すことができ、現像ムラやシ
ミを生じさせることがない。さらに、第１シャワーリン
ス工程部１５の手前の第１液切り工程部１２において、
基板１の現像液の液切りを行うことにより、シミの発生
を確実に抑えることができる。ただし、この第１液切り
工程部１２においては、基板１上の現像液を完全には切
らずに、その現像液の下の現像パターンが露出する前
に、次の第１シャワーリンス工程部１５へ送るようにす
る。これにより、乾きによるシミの発生をも抑えること
ができる。このような液切りを行うために、第１液切り
工程部１２のエアーナイフ装置１１から基板１に対し、
１リットル／ｍｉｎ程度の流量の乾燥空気あるいは窒素
を、５ｍｍ程度の距離をおいて吹き付けるようにする。
【００１４】そして第２のシャワーリンス工程部１７で
２回目のシャワーリンスを施した後、第２液切り工程部
２０において、基板１のリンス液をエアーナイフ装置１
９で液切りし、その基板１を搬出部２１から搬出する。 〈比較例〉シャワー現像（シャワーノズル７本、シャワ
ー圧１．５ｋｇｆ／cm2 ）→シャワーリンス（シャワー
ノズル７本、シャワー圧１．５ｋｇｆ／cm2 ）→エアー
ナイフによる液切りの各工程により、１０００ｍｍ／ｍ
ｉｎの一定搬送速度で現像を行ったところ、現像ムラ、
および残渣やリンスシミが発生した。
２回目のシャワーリンスを施した後、第２液切り工程部
２０において、基板１のリンス液をエアーナイフ装置１
９で液切りし、その基板１を搬出部２１から搬出する。 〈比較例〉シャワー現像（シャワーノズル７本、シャワ
ー圧１．５ｋｇｆ／cm2 ）→シャワーリンス（シャワー
ノズル７本、シャワー圧１．５ｋｇｆ／cm2 ）→エアー
ナイフによる液切りの各工程により、１０００ｍｍ／ｍ
ｉｎの一定搬送速度で現像を行ったところ、現像ムラ、
および残渣やリンスシミが発生した。
【００１５】この比較例からもわかるように、本発明に
係る現像方法によれば、パドル現像の後に、一時的に基
板の搬送停止状態あるいは低速搬送状態を作ることによ
り、現像液を基板上に一定時間静止させて、じっくりと
反応させることができ、よってムラのない現像ができ
る。また、その後のシャワー現像で、さらに現像品位を
高めるとともに、メガソニックの超音波を利用したムラ
取りによって、微小な残渣成分をも除去し、仕上がりを
より良くすることができる。 〈実施例２〉図２は、本発明に係る現像方法の実施例２
を説明する現像装置の概略構成図で、カラーフィルタの
製造工程の一部を構成するものである。
係る現像方法によれば、パドル現像の後に、一時的に基
板の搬送停止状態あるいは低速搬送状態を作ることによ
り、現像液を基板上に一定時間静止させて、じっくりと
反応させることができ、よってムラのない現像ができ
る。また、その後のシャワー現像で、さらに現像品位を
高めるとともに、メガソニックの超音波を利用したムラ
取りによって、微小な残渣成分をも除去し、仕上がりを
より良くすることができる。 〈実施例２〉図２は、本発明に係る現像方法の実施例２
を説明する現像装置の概略構成図で、カラーフィルタの
製造工程の一部を構成するものである。
【００１６】図のようにこの実施例における現像装置で
は、第１液切り工程部１２の液切り装置１１として、基
板１の一端を持ち上げて傾ける昇降機１１’が配設され
ている。その他の構成は、上記実施例１における現像装
置と同様である。そしてこの現像装置を用いた現像方法
では、第１液切り工程部１２において、基板１の搬送を
一時停止し、その基板１を昇降機１１’により傾けて、
基板１上の現像液をほとんど落とすようにする。その
後、基板１を、次の第１シャワーリンス工程部１５へ、
１００ｍｍ／sec 以上の高速で搬送する。
は、第１液切り工程部１２の液切り装置１１として、基
板１の一端を持ち上げて傾ける昇降機１１’が配設され
ている。その他の構成は、上記実施例１における現像装
置と同様である。そしてこの現像装置を用いた現像方法
では、第１液切り工程部１２において、基板１の搬送を
一時停止し、その基板１を昇降機１１’により傾けて、
基板１上の現像液をほとんど落とすようにする。その
後、基板１を、次の第１シャワーリンス工程部１５へ、
１００ｍｍ／sec 以上の高速で搬送する。
【００１７】以下に、具体的な例を述べる。
【００１８】ポリアミドを主体とした感光性樹脂中に顔
料を分散させた材料を、ガラス製の基板１の全面にスピ
ナー方式にて塗布し、プリベークを８０℃で１０分間行
う。次いで、露光機にて６００ｍＪ前後（色毎に異な
る）露光し、パドル現像工程部５へ搬送する。そのパド
ル現像工程部５においては、基板１を、１台目のパドル
装置３からの現像液５ａの液カーテンの下を高速にて搬
送し、その後３０秒間停止させる。２台目のパドル装置
３の下でも同様に基板１を搬送し、その後３０秒間停止
させる。
料を分散させた材料を、ガラス製の基板１の全面にスピ
ナー方式にて塗布し、プリベークを８０℃で１０分間行
う。次いで、露光機にて６００ｍＪ前後（色毎に異な
る）露光し、パドル現像工程部５へ搬送する。そのパド
ル現像工程部５においては、基板１を、１台目のパドル
装置３からの現像液５ａの液カーテンの下を高速にて搬
送し、その後３０秒間停止させる。２台目のパドル装置
３の下でも同様に基板１を搬送し、その後３０秒間停止
させる。
【００１９】次いで、基板１をシャワー現像工程部７へ
１００ｍｍ／sec の搬送速度で搬送し、千鳥状に配置さ
れた８連のシャワーノズル６の下を同じ搬送速度で搬送
する。続いて、２連のメガソニックの超音波発振装置９
を備えたムラ取り工程部１０において、残渣の大部分を
落とすとともに、次の第１液切り工程部１２において、
基板１を一時停止させ、その基板１を昇降機１１’によ
り傾ける。このときの昇降機１１’の上昇量は、基板サ
イズによって異なるが、４５０ｍｍ×５５０ｍｍの基板
の場合には、８ｍｍから２０ｍｍの間が最適であり、現
像液の大部分を落とすことができる。
１００ｍｍ／sec の搬送速度で搬送し、千鳥状に配置さ
れた８連のシャワーノズル６の下を同じ搬送速度で搬送
する。続いて、２連のメガソニックの超音波発振装置９
を備えたムラ取り工程部１０において、残渣の大部分を
落とすとともに、次の第１液切り工程部１２において、
基板１を一時停止させ、その基板１を昇降機１１’によ
り傾ける。このときの昇降機１１’の上昇量は、基板サ
イズによって異なるが、４５０ｍｍ×５５０ｍｍの基板
の場合には、８ｍｍから２０ｍｍの間が最適であり、現
像液の大部分を落とすことができる。
【００２０】上記第１液切り工程部１２における液切り
では、現像液を落とし過ぎると乾燥ムラとして残ってし
まう。また、あまり落とさないまま、次の第１シャワー
リンス工程部１５へ送ると、リンス液が能力を落とし
（新液を常に供給している場合は別だが通常はコストア
ップになるためこの方法はとらない）、これもムラの原
因となる。このようなムラを残さないために、上述した
程度の基板１の傾斜が好ましい。
では、現像液を落とし過ぎると乾燥ムラとして残ってし
まう。また、あまり落とさないまま、次の第１シャワー
リンス工程部１５へ送ると、リンス液が能力を落とし
（新液を常に供給している場合は別だが通常はコストア
ップになるためこの方法はとらない）、これもムラの原
因となる。このようなムラを残さないために、上述した
程度の基板１の傾斜が好ましい。
【００２１】次いで、第１と第２のシャワーリンス工程
部１５、１７において、シャワーリンスを２連で行い、
基板１の現像液を完全に置換する。第１のシャワーリン
ス工程部１５には、現像液が多少持ち込まれるが、急激
な置換よりも良いようである。第２のシャワーリンス工
程部１７では、現像液がほとんど持ち込まれていない状
態のリンス液を用いて、基板１の現像液を完全に置換す
る。
部１５、１７において、シャワーリンスを２連で行い、
基板１の現像液を完全に置換する。第１のシャワーリン
ス工程部１５には、現像液が多少持ち込まれるが、急激
な置換よりも良いようである。第２のシャワーリンス工
程部１７では、現像液がほとんど持ち込まれていない状
態のリンス液を用いて、基板１の現像液を完全に置換す
る。
【００２２】最後に、第２液切り工程部２０において、
基板１のリンス液をエアーナイフ装置１９からの乾燥空
気または窒素で液切りし、その基板１を搬出部２１から
搬出してポストベークへ送る。
基板１のリンス液をエアーナイフ装置１９からの乾燥空
気または窒素で液切りし、その基板１を搬出部２１から
搬出してポストベークへ送る。
【００２３】このような現像により、残渣、シミ、ムラ
のない高品質のカラーフィルタ基板が得られた。
のない高品質のカラーフィルタ基板が得られた。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の現像方法
によれば、シミやムラのない現像を行うことができる。
そして、この現像方法を利用すれば、液晶ディスプレイ
用のカラーフィルタ、特に、ＳＴＮ方式やＦＬＣ方式と
いったセルギャップの非常に狭い液晶ディスプレイを
も、非常に高品位のものを製造することができる。
によれば、シミやムラのない現像を行うことができる。
そして、この現像方法を利用すれば、液晶ディスプレイ
用のカラーフィルタ、特に、ＳＴＮ方式やＦＬＣ方式と
いったセルギャップの非常に狭い液晶ディスプレイを
も、非常に高品位のものを製造することができる。
【図１】本発明に係る現像方法の実施例１を説明する現
像装置の概略構成図。
像装置の概略構成図。
【図２】本発明に係る現像方法の実施例２を説明する現
像装置の概略構成図。
像装置の概略構成図。
１ 基板 ５ パドル現像工程部 ５ａ 現像液 ７ シャワー現像工程部 １０ ムラ取り工程部 １０ａ 現像液 １２ 第１液切り工程部 １５ 第１シャワーリンス工程部 １７ 第２シャワーリンス工程部 ２０ 第２液切り工程部 ２２ 搬送ローラ
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上の露光された感光性樹脂を現像液
を用いて現像する現像方法において、 パドル現像を行う第１の工程と、 シャワー現像を行う第２の工程と、 現像ムラを取る第３の工程と、 現像液の液切りを行う第４の工程と、 １回目のシャワーリンスを行う第５の工程と、 ２回目のシャワーリンスを行う第６の工程と、 リンス液の液切りを行う第７の工程と、 を備え、前記各工程に沿って前記基板を搬送させるとと
もに、 前記パドル現像工程の後、一時的に前記基板の搬送を停
止させるか、あるいはその基板の搬送速度を、前記パド
ル現像工程における搬送速度よりも低下させることによ
り、一定時間をおいてから、次のシャワー現像工程へ搬
送することを特徴とする現像方法。 - 【請求項２】 前記パドル現像工程の後、前記基板を、
１５秒以上、６０秒以下の範囲内の一定時間をおいてか
ら、次のシャワー現像工程へ搬送することを特徴とする
請求項１記載の現像方法。 - 【請求項３】 前記現像ムラを取る工程では、ハイメガ
ソニックの超音波を当てた液カーテン状の現像液を、前
記基板にかけることにより現像ムラを取ることを特徴と
する請求項１または２記載の現像方法。 - 【請求項４】 前記現像液の液切りを行う工程では、基
板上の現像液を完全には切らずに、その現像液の下の現
像パターンが露出する前に、次の１回目のシャワーリン
ス工程へ送ることを特徴とする請求項１ないし３のいず
れかに記載の現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20012894A JP3040055B2 (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 感光性樹脂の現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20012894A JP3040055B2 (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 感光性樹脂の現像方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0844075A true JPH0844075A (ja) | 1996-02-16 |
| JP3040055B2 JP3040055B2 (ja) | 2000-05-08 |
Family
ID=16419283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20012894A Expired - Fee Related JP3040055B2 (ja) | 1994-08-01 | 1994-08-01 | 感光性樹脂の現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3040055B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0794463A2 (en) * | 1996-03-05 | 1997-09-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resist develop process having a post develop dispense step |
| JP2007005695A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| JP2008219043A (ja) * | 2001-07-05 | 2008-09-18 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
| WO2024140454A1 (zh) * | 2022-12-28 | 2024-07-04 | 通威太阳能（成都）有限公司 | 一种太阳电池的制备方法 |
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1994
- 1994-08-01 JP JP20012894A patent/JP3040055B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| EP0794463A3 (en) * | 1996-03-05 | 1997-10-29 | Toshiba Kk | Method for developing a reserve comprising an additional application of the developing liquid |
| US5897982A (en) * | 1996-03-05 | 1999-04-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resist develop process having a post develop dispense step |
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