JPH01205084A - 腐蝕方法及び腐蝕装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明はＩＣ用リードフレーム等を製造する場合の腐蝕
を行なう場合の腐蝕方法及び該腐蝕方法に用いられる腐
蝕装置に関する。

〈従来の技術〉 従来ＩＣ用リードフレーム等を製造する場合の腐蝕方法
においては、次の如きものが一般的に知られている。

すなわち、第１図に示す如く、腐蝕液（１）を吹きつけ
るための複数個のノズル部（２）を有するパイプ状物（
３）と、該パイプ状物に腐蝕液を供給するためのポンプ
等の腐蝕液供給手段（４）とを有し、腐蝕液貯溜槽（５
）内の腐蝕液（６）を金属シート等の被腐蝕物（７）に
吹き付けて腐蝕を行っている。被腐蝕物（７）は適宜の
搬送手段により搬送されるようになっている。第１図の
例においては、巻き取り状の金属シートを被腐蝕物とし
た場合の例が示されており、送り出しロール（８）、ガ
イドロール（９）、巻取りロールθωにより、矢印（１
１）の方向へ被腐蝕物が搬送されるようになっている。

この場合において、パイプ状物（３）は回転手段θりに
よりその長袖のまわりを適当なスイング角度内でスイン
グしている。このスイング運動により、第２図に示す如
く、腐蝕ｆｉ！ｋ（１）の吹き付け方向はスイング角（
θ）の範囲内で変化する。

このパイプ状物（３）は、第３図に示す如く、被腐蝕物
の搬送方向を示す矢印θ１）の方向と平行な方向に沿っ
て、前記被腐蝕物から所定の距離１）だけ離れた平面（
ｐ）内にほぼ一敗するように複数本が平行に配列されて
いる。

なお、第３図においては、パイプ状物は３個のチャンバ
ー（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）に分割して表示しである。

〈発明が解決しようとする課題〉 以上説明したような従来の腐蝕方法によって、例えば第
４図（ａ）の如く、コーナ一部（八）を有するようなバ
ターン状にレジスト層θ３）を形成させた被腐蝕物を腐
蝕した場合には、腐蝕液は被腐蝕物の搬送による移動に
よって被腐蝕物に対しては相対的に矢印（２１の方向か
ら吹き付けられる。また、パイプ状物（３）のスイング
運動により腐蝕液は被腐蝕物に対しては相対的に矢印（
２１）、（２２）の方向からも吹き付けられている。こ
の場合、矢印（２０）、（２１）、（２２）の方向から
の腐蝕が促進され、従ってコーナ一部（八）の腐蝕が相
対的に遅れてしまう。

従って、腐蝕完了時点においては、第４図（ｂ）に示す
如くコーナ一部（＾）はレジスト層θりのバターン形状
通りに腐蝕されずに丸みを帯びた未腐蝕部（Ｂ）が残っ
てしまう。（もちろん、このようなコーナ一部の腐蝕の
問題を解決するために、レジスト層のバターン形状を調
整する方法も従来から行われているが、それでもこの問
題点は充分解決されるには到っていない。） この丸み部分を少なくするために更に腐蝕を継続させた
場合には、コーナ一部の未腐蝕部分は少なくなるが、腐
蝕すべきではないレジスト層の下部の被腐蝕物のサイド
エツチングが進行し、良好な製品が得られない。

また、ＩＣ用リードフレームやシャドウマスク等の如く
、金属板等の被腐蝕物をバターン状に腐蝕除去する場合
においては、第５図に示す如く、被腐蝕物（３）の厚さ
（ｄ）と腐蝕除去すべき部分の開花部の巾（ｄｌ）との
相対的関係から、巾（ｄｌ）の厚さ（ｄ）に対する比率
が小さくなればなるほど、サイドエッチの影響は太き（
なる。このような状況において、近年ますます微細なバ
ターンを要求されるようになっているＩＣ用リードフレ
ームやシャドウマスクにおいては、既述のコーナ一部の
丸みの問題やサイドエッチ等の影響を可能な限り低減さ
せ、従来以上に微細なバターン加工が要求されている。

しかしながら、従来の腐蝕方法においては、このような
要求には充分こたえることはできなかった。

従って、本発明は被腐蝕物を腐蝕するに当たって、既述
の如き、コーナ一部が丸みを帯びてしまうという程度を
低減させることができ、さらには被腐蝕物のバターンを
なお一層微細にすることができるような腐蝕方法及び腐
蝕装置を提供することを目的としている。

く課題を解決するための手段〉 上記目的を達成するために、本発明の腐蝕装置において
は、腐蝕液を吹き付けるための複数個のノズル部を有す
るパイプ状物の配列方向を複数方向としたものである。

この場合の配列方向としては、被腐蝕物の搬送方向の外
に、更にこの搬送方向に対して傾斜した方向を有せしめ
ることが望ましい。被腐蝕物に形成されたレジスト層の
バターン中にコーナ一部を有する場合にはこのコーナー
部に向って腐蝕液が強く吹き付けられるようにしてパイ
プ状物の配列方向を定めるようにけすることが好ましい
。

本発明の腐蝕方法においては被腐蝕物にレジスト層をバ
ターン状に形成させてから腐蝕液を吹き付けることによ
り腐蝕を行なう場合に、被腐蝕物と腐蝕液の吹き付け方
向との相対位置関係を腐蝕工程中において変化させるよ
うにしたものである。

この場合において腐蝕液の吹き付けは、パイプ状物に設
けられた複数個のノズルから行ない、このパイプ状物の
配列方向を腐蝕工程中において変化させるようにしたも
のである。

この場合においてパイプ状物の配列方向を変化させるに
はパイプ状物を３つのチャンバーに区分けしておいてそ
れぞれのチャンバー間において配列方向が異なるように
しておくことができる。あるいは１つのチャンバー内に
一定の方向に配列したパイプ状物を腐蝕工程中に所定時
間内は被腐蝕物の搬送方向へ配列させ、他の所定時間内
は別の方向へ配列するようにパイプ状物を前記搬送方向
に対して所定角度だけ配列方向を変化させるようにパイ
プ状物を回転させることであってもよい。

〈作用〉 上記のように構成した腐蝕装置を用いることにより被腐
蝕物と腐蝕装置の吹き付け方向との相対的位置関係を腐
蝕工程中において変化させることができ、腐蝕が促進さ
れる方向が従来よりも多くなり、腐蝕の程度が方向によ
って差がつく程度が減少する。従って、レジスト層のバ
ターン形状にコーナ一部を有するような場合であっても
、コーナ一部への腐蝕液の吹き付け量を従来よりも増加
させることも可能となる。従ってサイドエツチングの程
度を減少させることが可能となる。

〈実施例〉 実施例について図面を参照しながら説明すると第１図に
示す如き腐蝕装置のパイプ状物（３）の配列を第６図に
示す如く、被腐蝕物の搬送方向（１１）に対して４５°
〜６０°の角度をもって傾斜させたチャンバー（３０）
と搬送方向に対して別の方向に４５°〜６０’の角度を
もって傾斜させたチャンバー（３１）と搬送方向と同一
としたチャンバ＝（３２）を設け、それぞれのチャンバ
ー内へ被腐蝕物を通過させて腐蝕を行なう。

この場合においてパイプ状物は、その軸のまわりを所定
角度内でスイング運動をさせておく。被腐蝕物の搬送に
よる移動と前記パイプ状物のスイング運動との相対的関
係から、腐蝕の進行が促進される方向は第７図に示すよ
うなレジスト層０３）のバターン形状においてはチャン
バー（３０）、（３１）、（３２）に対応してそれぞれ
第７図（ａ）〜（Ｃ）の矢印（Ｌ　、（×２）、（×３
）の如くなる。従ってバターンのコーナ一部においても
腐蝕液が充分に供給され、コーナ一部が丸みを帯びる程
度が減少する。従って得られる製品も腐蝕精度の高い高
品質なものとなる。

更にまた、腐蝕液の供給方向が相対的に多方向となるた
めに、腐蝕のかたよりが少なくなり、腐蝕による加工も
、従来よりも微細バターンのものにまで適用することが
可能となる。

従来の腐蝕手段では、被腐蝕物の厚さよりも小さい開孔
部の腐蝕による形成はできないとされていた。例えば被
腐蝕物としてＩＣ用リードフレーム用の金属板を用いた
場合には腐蝕液としては塩化第２鉄ｔ８液が用いられる
がこの場合において本発明の方法においては従来から行
なわれているバターン形状を調整する手段と組み合わせ
て用いることにより、例えば第５図に示す如く厚さ（ｄ
Ｊが３００　ミクロンの場合において巾（ｄ、）が２０
０　ミクロンの腐蝕を行なうことが可能となる。更に厚
さ（ｄｌが５０ミクロンの場合において巾（ｄ、）が３
０ミクロンの腐蝕を行なうことができる。

〈効果〉 本発明の方法によればコーナ一部を有するバターン状に
腐蝕を行なう場合においてもコーナ一部の丸みの程度を
減少させることができ、ｇ蝕可能なバターンの微細化を
達成することが可能となる。

更に本発明によれば、このような腐蝕を行なうのに適し
た腐蝕装置を堤供することが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は腐蝕装置の一級的な説明のための説明図、第２
図はパイプ状物のスイングの説明図、第３図は従来の腐
蝕装置のパイプ状物の配列方向の説明図、第４図（ａ）
は従来法による腐蝕の進行の説明図、第４図（ｂ）は従
来法による腐蝕によりコーナ一部に形成される丸みの説
明図、第５図は被腐蝕物の厚さと腐蝕により形成される
開孔部の関係の説明図、第６図は本発明による腐蝕装置
のパイプ状物の配列の一例の説明図、第７図は第６図の
バイブ状物の配列の場合の腐蝕の進行の説明図をそれぞ
れ示す。 （１）、（６）・・・腐蝕液　　（２）・・・ノズル部
（３）パイプ状物　　　（４）・・・腐蝕液供給手段（
５）・・・腐蝕液貯溜槽　（７）・・・被腐蝕物（８）
・・・送り出しロール（９）・・・ガイドロール００）
・・・巻取りロール （１０、（２０）、（２１）、（２２）・・・矢印θり
・・・回転手段　　　０湯・・・レジスト層特　　　許
　　　出　　　願　　　人 凸版印刷株式会社 代表者　鈴木和夫 Ｃ′２）第４図　　（−ａ、ｔ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）被腐蝕物にレジスト層をバター状に形成させ、し
   かる後に腐蝕液を吹き付けることにより腐蝕を行なう腐
   蝕方法において、被腐蝕物と腐蝕液の吹き付け方向との
   相対的位置関係を腐蝕工程中において変化させることを
   特徴とする腐蝕方法。
2. （２）前記腐蝕液の吹き付けは、パイプ状物に設けられ
   た複数個のノズル部から行われ、前記パイプ状物の配列
   方向を変化させることにより、前記被腐蝕物と腐蝕液の
   吹き付け方向との相対的位置関係を腐蝕工程中において
   変化させることを特徴とする請求項１記載の腐蝕方法。
3. （３）腐蝕液を吹き付けるための複数個のノズル部を有
   するパイプ状物と該パイプ状物に腐蝕液を供給するため
   の腐蝕液供給手段と被腐蝕物搬送手段とからなる腐蝕装
   置において、前記パイプ状物の配列方向を複数方向とし
   たことを特徴とする腐蝕装置。
4. （４）前記パイプ状物の配列方向は、（イ）被腐蝕物の
   搬送方向、（ロ）被腐蝕物の搬送方向に対して少なくと
   も２種類の傾斜した方向の少なくとも３種類の配列方向
   を含んでいることを特徴とする請求項３記載の腐蝕装置
   。