JPS60135582A - フオトエツチング加工方法 - Google Patents

フオトエツチング加工方法

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JPS60135582A
JPS60135582A JP24355283A JP24355283A JPS60135582A JP S60135582 A JPS60135582 A JP S60135582A JP 24355283 A JP24355283 A JP 24355283A JP 24355283 A JP24355283 A JP 24355283A JP S60135582 A JPS60135582 A JP S60135582A
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JP
Japan
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metal
tank
etching
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spirally wound
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JP24355283A
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JPS6219507B2 (ja
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Kunihiko Honda
本多 邦彦
Atsushi Wanibuchi
鰐渕 淳
Shizuo Furukawa
古川 静夫
Kazuhisa Nakasone
中曽根 和久
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Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄板金属の時計部品、電子部品の製造において
、プレスによる後加工が必要な帯状金属をフォトエツチ
ング方式で加工する方法に関するものである。
従来、帯状金属の部品形状加工方法には次のような方法
がとられている。(1) プレス加工法、(2)帯状金
属を連続的にエツチング加工する方法、上記(1)のプ
レス加工による方法ではプレス加工に特有なパリ、カエ
リといったヒズミが材料にあられれて部品の品質面での
欠点となっており、後加工での修正、矯正等の処置をお
こなわなければならない。またプレスによる加工は量産
向きの方法であるため、ロット数1000〜50000
個程度の少量生産においては、高価な金型のコストが部
品製造費に大きな割合をしめるため、部品の単価が上昇
するという欠点があった。
このプレスによる部品の平面形状加工をフォトエツチン
グ法でおきかえて、パリやカエリの発生しない部品を製
造しようという方法が上記(2)の帯状金14を連続的
にエッチング力ロエする方法であるが、この従来のエツ
チングl用工方法にも下記のような、さまざまな欠点が
ある。
従来の帯状金属のエツチング加工方法ではコイル状に巻
きとられた帯状金属をアンワインダ−からくり出し、帯
状金属を水平状態あるいは垂直状態に伸ばしてフォトエ
ツチング法の各々の処理槽へ送シこみ、各種での処理を
全て終了した材料を再びワインダーで巻き取るという方
法が多くの場合とられている。この従来方式では、フォ
トエツチング法の各処理槽が連続して設置されているも
のが一般に公知となっている。この方式では、各(理工
程での侠埋時間がアンバランスなために、最も処理に時
間がかかる部分の工程が装置全体の処理速度を決定l−
てしまう。!、た帯状金属をJ手続した状態で装置内に
通すため、材料を装置全体にセットする時点で濁料に無
駄が多く発生する。帯状金属の前部と後部との場所の違
うところでの蝕刻の処理結果を常に一定に維持するだめ
の制御機構が複雑化する。エツチングレートが金属の材
質、板厚の差異によって、それぞれ違ってくるので、材
質、板厚の異なる金属を同時にはエンチングすることが
できない。以上のような欠点があるため少量生産に適し
た方法とはいい難い。
本発明は上記のプレス加工、帯状金属を連続的にエツチ
ング加工する方法の両方法の欠点をともに改良しようと
するものであり、帯状金属を長い状態のまま、互いに接
触させることなしに、渦巻き状に治具とは点接触で固定
して、エツチング工程のうち、少なくとも、帯状金属材
料の洗浄、フォトレジスト現像、水洗、ベーキング、蝕
刻、フォトレジスト膜剥離の各工程操作を行なって、パ
リ、カエリ等のない均一な品質の薄板金属部品を製品切
換性の良い、少量生産対応として、製造しようとするも
のである。
本発明の方法によれば、帯状金属を渦巻き形状にしての
一括処理のため、各処理槽間の複雑な同期化は不要とな
シ、処理の遅い工程では同時に複数処理が可能となるた
めに、各処理時間のアンバランスは解消できる。また帯
状金属は最初から最後まで無駄な部分が出すに使用でき
る。帯状金属の板厚、材質の違いによる蝕刻時間の変化
にも一括処理のため、容易に対応できる。一本の帯状金
属の一括処理のため、部品数が多くても少なくても処理
時間が変わらない。という数多くの利点をもった方法で
ある。
以下、本発明の実施例を図面について説明する。
第1図では帯状金属2を渦巻き状に固定する治具1の一
例をあげである。これは第2図に示すように帯状の金属
材料同志が互いに接触しないように材料間に空隙をとり
両側から接触で治具1に固定して材料がはずれないよう
にビン3で保持するものである。渦巻き状の材料の巻芯
の径をある程度以上に大きく(実施例では直径50謂)
とり、材料を互いに接触させずに間隔を保って巻き取る
ことで材料の湾曲による影響はほとんどない。
第5図で示すように、治具に固定された帯状金属4は、
前処理槽5内で種々の方向からのスプレーによる溶剤脱
脂6、アルカリ脱脂7、水洗8、酸中和9、水洗10、
乾燥11の公知の処理薬品による前処理が行なわれる。
ついで帯状金属4は、レジスト塗布槽12でひきのばさ
れた状態でフォトレジスト液中を通過して金属両面にレ
ジスト皮膜の塗布が行なわれる。
レジスト皮膜塗布の終了した帯状金属4は、乾燥 5− 機15を通シ、ベーキングがほどこされて再び渦巻き状
に巻きとられる。続いて露光機14で、フォトマスク1
5を密着して、超高圧水銀灯16による紫外線露光が行
なわれ、所望の部品パターンがレジスト皮膜に焼き付け
られる。
露光の終わった帯状金属4は、再度渦巻き状に倦き取ら
れ、現像槽17で現像液、水洗槽18で市水、ベーキン
グ槽19、エツチング槽20で塩化第二鉄、水洗槽21
で市水、フォトレジスト皮膜剥離槽22で剥離液による
処理が渦巻き状のまま各種ごとに行なわれる。
各種にはそれぞれ上ぶた23が具備されていて処理液、
熱等が外へもれるのを防いでいる。
第5図でエツチング加工の各処理槽で処理液のスフーレ
ーの状態を、現像槽17を例にして説明する。現像槽1
7内に治具1で固定されfc帯状金属2は治具支持バー
26により槽内に載置される。
ボンフ−で加圧された現像液はスプレィノズルから布状
金属の横側面方向を主体とした種々の方向へのスプレー
が行なわれる。液のバイツーに設けら 6 − れた圧力計25でスプレー圧をコントロールすることで
現像液に液だまりもなく良好な処理結果が得られる。こ
の良好な処理結果は他の処理槽にも共通して言えること
である。
本発明によれば、帯状金属を渦巻き状に固定しつつ、i
11処理、乾燥、フォトレジスト現像、ベーキング、蝕
刻、レジスト皮膜剥離の各処理が帯状金属−巻単位で行
なわれるので、品種切換時間の短縮、部品1個当たりの
エツチングスピードのアップが期待でき、次工程のプレ
スとの加工速度差を小さくするととができる多品種少量
生産向きの方法である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施で使用される帯状金属を渦巻き状
に固定する治具の一例を示す正面図、第2図は治具が帯
状金属を保持する状態を示すI−I方向の縦断面図、 第5図は本発明を実施する装置の説明図、第4図は渦巻
き状の帯状金属と現像槽の状態を示す断面図である。 1・・・帯状金属を渦巻き状に巻取る治具、2・・・帯
状金属、 5・・・固定ピン、4・・・治具に固定され
た帯状金属、 5・・・前処理装置、 6・・・溶剤脱脂槽、7・・・
アルカリ脱脂槽、8・・・水洗槽、9・・・酸中和槽、
 10・・・水洗槽、11・・・乾N機、 12・・・
レジスト塗布槽、16・・・乾燥機、 14・・・露光
機、15・・・フォトマスク、16・・・超高圧水銀灯
、17・・・現像槽、 18・・・水洗槽、19・・・
ベーキング炉、20・・・蝕刻槽、21・・・水洗槽、 22・・・フォトレジスト皮膜剥離槽、23・・・上ぶ
た、 24・・・スプレーノズル、25・・・圧力計、
 26・・・治具支持バー。 以 上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 最 上 務 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 帯状金属からフォトエツチング加工およびプレス加工に
    よって金属部品を製造する方法において、前記フォトエ
    ツチングの工程中の金属の前処理、乾燥、レジスト現像
    、蝕刻、レジスト皮膜剥離の各処理時、前記帯状金属を
    互いに接触しないように間隔を保つ渦巻き状にセットし
    、かつこの渦巻き状のまま一括して前記各処理槽へ順次
    供給するようにしたことを特徴とするフォトエツチング
    加工方法。
JP24355283A 1983-12-23 1983-12-23 フオトエツチング加工方法 Granted JPS60135582A (ja)

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JP24355283A JPS60135582A (ja) 1983-12-23 1983-12-23 フオトエツチング加工方法

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JPS60135582A true JPS60135582A (ja) 1985-07-18
JPS6219507B2 JPS6219507B2 (ja) 1987-04-28

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