JPH01156322A - 新規ポリカーボネート系共重合体とその製造法 - Google Patents

新規ポリカーボネート系共重合体とその製造法

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JPH01156322A
JPH01156322A JP31426387A JP31426387A JPH01156322A JP H01156322 A JPH01156322 A JP H01156322A JP 31426387 A JP31426387 A JP 31426387A JP 31426387 A JP31426387 A JP 31426387A JP H01156322 A JPH01156322 A JP H01156322A
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hydroxyphenyl
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坂元 秀治
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重松 一吉
Shigenori Shiromizu
重憲 白水
Sanae Tagami
早苗 田上
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なポリカーボネート系共重合体とその製
造法に関し、より詳しくは、溶融流動性に優れたポリカ
ーボネート系共重合体とその製造法に関する。
〔従来の技術〕
ポリカーボネート樹脂は、透明性、耐熱性、機械的強度
等に優れており、光学分野、電気分野、医療、化学分野
等の種々の分野に利用されている。
しかしながら、一般に用いられている2、2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパンヲ原料とするポリカー
ボネートは、射出成形等の成形加工時の熔融流動性が悪
いという欠点を有しており、特に超精密成形品等に用い
るには不適当である等の問題点があった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、透明性、耐熱性、機械的強度等の基本特性に
優れ、しかも成形時の溶融流動性が著しく向上しており
、成形時に発生する応力が著しく少ない新規ポリカーボ
ネート系共重合体を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、特定の構造の繰
り返し単位を有し、かつ、特定の重合体末端構造を有す
るポリカーボネート系共重合体が上記目的を満足するこ
とを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明は、次の一般式(I)と−数式(n) 〔但し、上記式中、XlおよびX2は、単結合、−0−
R″ 、−5−、−3Oz−、−GO−1−〇−(ここで、R
3およびR4は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜
6のアルキル基またはフェニル基を表し、R3−R4で
あっても、R3≠ R4であってもよい。)−G−CH
2→i (但し、Uは、2〜10の整数を表\l 〜8の整数を表す。)を表し、Xl−X2であってもX
1≠X2であってもよく、R1およびR2は、ハロゲン
原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数4〜8のシク
ロアルキル基あるいはフェニル基を表し、RI=R2で
あってもR1≠R2であってもよく、nおよびmは、0
〜4の整数を表す。〕 で表される繰り返し単位を有し、かつ重合体末端が、次
の一般式(I[I) −Go−R5(III ’) 〔但し、R5は、炭素数8〜30のアルキル基を表す。
〕 、次の一般式(IV) 〔但し、R6は、炭素数8〜3oのアルキル基を表し、
Yは、単結合、−〇−または−COO−を表す。〕、次
の一般式(V) 〔但し、XlおよびR5は、それぞれ前記同様の意味を
表す。〕、次の一般式(VI) 〔但し、x’、 yおよびR6は、それぞれ前記同様の
意味を表す。〕、次の一般式(■) 〔但し、R7およびR1′は、前記R1,R2と同様の
意味を表し、kおよびjは、前記n、mと同様の意味を
表し、X2、R5はそれぞれ前記同様の意味を表す。〕
および次の一般式(■) 〔但し、R7、R8、R6、X2、Y、におよびjは、
それぞれ前記同様の意味を表す。〕 のいずれかの構造を有するポリカーボネート系共重合体
を提供するものである。
本発明のポリカーボネート系共重合体は、重合体の主鎖
が、前記−数式(1)で表される繰り返し単位の1種ま
たは2種以上と前記−数式(n)で表される繰り返し単
位の1種または2種以上とからなる構造を有し、かつ前
記−数式(I)で表される繰り返し単位のモル百分率が
好ましくは50%以上であり、さらに、重合体の少なく
とも一方の末端、好ましくは両末端の各々が、前記−数
式(I[)〜(■)のいずれかによって表される構造を
有する末端変性ポリカーボネート共重合体である。
この−数式(1)で表される繰り返し単位のモル百分率
が、50%未満であると光弾性係数が大きくなったり、
あるいは成形加工時における溶融流動性が十分に得られ
な(なることがある。
前記共重合体は、ランダム重合体、交互重合体、ブロッ
ク重合体のいずれでもよく、それらの混合物であっても
よいが、通常、その製造の容易さなどの点からランダム
重合体が好適に使用される。
前記共重合体は、それぞれ少なくとも片末端、好ましく
は両末端が前記の如く、−数式(I[[)〜(■)で表
される基の中の少なくとも1種によって構成されるもの
であるが、末端基は、通常、前記−数式(V)または(
Vl)で表されるものが、製造の容易さ等゛の点から好
適に使用できる。
前記×1およびX2として用いられる前記−〇−中のR
3およびR4の各々の具体例としては、たとえば水素原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、フェニル基等を挙げることができ、これらR3
およびR4から構成される一〇−H3 の特に好適なものとして、たとえば  −C−富 H3 H3 −C=  等を挙げることがで、きる。
前記XIの特に好適なものとしては、たとえば、前記R
1,RZの具体例としては、たとえばフッ素原子、塩素
原子などのハロゲン原子、メチル基、Iチ/L4、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘ
キシル基、イソヘキシル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、フェニル基などを挙げることができ、中で
も、たとえば、フッ素原子、メチル基、シクロヘキシル
基、フェニル基等が好適である。
前記nおよびmは、各々0〜4の整数を表すが、通常0
〜2程度、特に0または1が好ましい。
前記重合体末端基中のR5およびR6の各々の具体例と
しては、たとえば、直鎖状または分岐状のオクチル基、
ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オ
クタデシル基等を挙げることができる。
前記重合体末端基中のXI、 X2、R1およびR2は
、前記繰り返し単位中のそれぞれのものと同じ種類のも
のであっても異なった種類のものであってもよいが、通
常は同じ種類のものが好適に用いられる。また、前記−
数式(■)および(■)中のkおよびjは、各々前記−
数式(n)中のn、mと同じであっても異なっていても
よいが、通常におよびjを、それぞれnおよびmあるい
はmおよびnとするのが製造上の容易さ等の点から好適
である。
本発明のポリカーボネート系共重合体は、上記の如き特
定の重合体主鎖構造および特定の重合体末端構造を有す
るものであるが、このポリカーボネート系樹脂は、その
塩化メチレンを溶媒とする0、5g/a濃度の溶液の2
0°Cにおける還元粘度(77sp/c)が0.2dl
/g以上、好ましくは0.25〜0.8 a / gの
ものが望ましい。
この還元粘度が、0.2dl/g未満のものは、十分な
強度が得られない。
本発明のポリカーボネート系共重合体は、通常、直鎖状
のポリカーボネートから成るものが好適であるが、本発
明の目的に支障のない範囲で所望により、部分的に分岐
状構造を有するものも使用可能であり、また、少量の末
端未変性の重合体分子をあるいは、前記−数式(I[[
)〜(■)以外の末端基を有する重合体を含有させても
よく、さらには、本発明の目的に支障のない範囲で、前
記−数式(I)および−数式(II)で表される繰り返
し単位の他の繰り返し単位を含有するものであってもよ
い。また、使用目的に応じて、通常用いられる種々の添
加物を添加したり、他のポリカーボネート等のポリマー
との組成物として用いてもよい。
本発明のポリカーボネート系共重合体は通常、次の一般
式(IX) で表される二価フェノール、および で表される二価フェノールに、炭酸エステル形成性化合
物を反応させてポリカーボネート系重合体を製造するに
あたり、分子量調節剤として、R5−C0OHXR5−
C0X’、により製造することができる 〔但し、式中、XI、X2、R1、R2、R3、R4、
R5、R6、n、mおよびYは、それぞれ前記同様の意
味を表し、×3はハロゲン原子を表す。〕 なお、上記分子量調節剤は、重合体末端の変性剤として
作用するものであり、本発明の目的に支障のない範囲で
、他の分子量調節剤、たとえば、−官能性フェノール類
、ナフタレン類等の公知の−官能性有機化合物等を併用
することも可能である。
前記−数式(IX)で表される化合物の具体例としては
、たとえば3.3′−ジフェニル−4,41−ジヒドロ
キシビフェニル、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)メタン、1−フェニル−1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1.1−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン
、1.2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、1−フェニル−1,1−ビス(3−フェニ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、2゜2−ビス(
3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2
.2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)
ブタン、1.4−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)ブタン、1,1−ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)−1−フェニルブタン、2.2−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)オクタ
ン、1.8−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)オクタン、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)エーテル、ビス(3−フェニル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルフィド、ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(3−フェニル−4
−ヒドロキシフェニル)スルホン、1.1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロペンクン、
1.1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル
)シクロヘキサン等を挙げることができ、これらの中で
特に、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、1−フェニル−1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン等が好まし
い。
なお、これらの化合物は、一種単独で用いてもよく、2
種以上を併用してもよい。
前記−数式(X)で表される化合物の具体例としては、
たとえば、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1
.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2.2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2
.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2.2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、4゜4−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)へブタン、(3,5,
3’、5’−テトラブロモ−4,4′−ジヒドロキシジ
フェニル)メタン、(3,3’−ジクロロ−4,4′−
ジヒドロキシジフェニル)メタン、1.1−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)−1,1−ジフェニルメタン、■
、1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニル
エタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)ケトン、1.1−ビス(4゛−ヒドロキシフ
ェニル)シクロペンタン、1.1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(3−フル
オロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビ
ス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2.2−ビス(3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(3
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2.2
−ビス(3,5−ジメチ7L/−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2−(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、1.1−ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1゜1−ビス
(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェ
ニルエタン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)エーテル、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)スルフィド1、ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)スルホン、ビス(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)ケトン、ビス(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、1.1−ビス(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1゜■−ビス
(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン、4.4’ −ジヒドロキシビフェニル、3
,3′−ジフルオロ−4,4′ジヒドロキシビフエニル
等を挙げることができ、中でも特に、2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、■、1−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)−1,1−ジフェニルメタン、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1−ビス
(3−シクロへキシル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン等が好ましい。 なお、これらの化合物、1
種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
前記−数式R5−C0OH、R5−C0X3で表される
化合物としては、X3が各種ハロゲン原子のものが挙げ
られるが、塩素原子のものが好ましい。たとえば、ノナ
ノイルクロリド、ノナノイルプロミド、デカノイルクロ
リド、デカノイルプロミド、ウンデカノイルクロリド、
ドデカノイルクロリド、ペンタデカノイルクロリド、ヘ
キサデカノイルクロリド、オクタデカノイルクロリド、
イコサノイルクロリド、ノナン酸、デカン酸、ウンデカ
ン酸、ドデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、
オクタデカン酸等を挙げることができる。
なお、これらの化合物は、1種単独で用いてもよく、2
種以上を併用してもよい。
前記−数式(X I )で表される化合物としては、た
とえば、p−オクチルフェノール、m−オクチルフェノ
ール、0−オクチルフェノール、p−ノニルフェノール
、m−ノニルフェノール、p−デシルフェノール、p−
(2−メチルノニル)フェノール、p−ウンデシルフェ
ール、p−ドデシルフェノール、p−(2−メチルドデ
シル)フェノール、p−ペンタデシルフェノール、P−
ヘキサデシルフェノール、p−オクタデシルフェノール
、m−オクタデシルフェノール、p−オクチルオキシフ
ェノール、m−オクチルオキシフェノール、p−ノニル
オキシフェノール、p−デシルオキシフェノール、p−
ヘキサデシルオキシフェノール、p−オクタデシルオキ
シフェノール、p−オクチルオキシカルボニルフェノー
ル、m−オクチル第キシカルボニルフェノール、p−ノ
ニルオキシカルボニルフェノール、p−デシルオキシカ
ルボニルフェノール(p−ヒドロキシ安息香酸デシル)
、p−ドデシルオキシカルボニルフェノール(p −ヒ
ドロキシ安息香酸ドデシルLp−ヘキサデシルオキシカ
ルボニルフェノール、p−オクタデシルオキシカルボニ
ルフェノール等を挙げることができる。
これらの中でも、p一体が好適であり、特に、p−ノニ
ルフェノール、p−デシルオキシフェノール、p−ドデ
シルオキシフェノール等が好適に使用できる。
なお、これらの化合物は、1種単独で使用してもよく、
2種以上を併用してもよい。
前記炭酸エステル形成性化合物としては、従来のビスフ
ェノールA等をモノマーとするポリカーボネートの製造
に用いるもの、たとえば、ハロゲン化カルボニル、炭酸
エステル、ハロホルメート類等が使用できる。
このハロゲン化カルボニルの具体例としては、たとえば
、三臭化カルボニル、二塩化カルボニル(ホスゲン)あ
るいはこれらの混合物を挙げることができる。
前記炭酸エステルとしては、たとえば、ジフェニルカー
ボネート、ジ(クロロフェニル)カーボネート、ジトリ
ルカーボネート、ジナフチルカーボネート等あるいはこ
れらの混合物を挙げることができる。
前記ハロホルメート類としては、前記−数式(IX)で
表される化合物のクロロホルメート、前記−数式(X)
で表される化合物のクロロホルメート等あるいはこれら
の混合物が使用できる。
前記モノマーと炭酸エステル形成性化合物との反応(重
合反応)および前記分子量調節剤による重合体末端基変
性反応(停止反応)は、公知の重合方法、末端基変性反
応方法に準じて行うことができ、たとえば、次に示す如
き反応方法が好適に採用できる。
すなわち、前記−数式(IX)で表される化合物あるい
はこれと前記一般(X)で表される化合物の所定モル百
分率の混合物に、ホスゲンを導入し、末端未変性オリゴ
マーもしくはポリマーを形成せしめ、次いで、前記分子
量調節剤を適量添加して、上記重合反応を継続しつつ上
記停止反応を行わしめる方法が特に好適に採用できる。
このほか、所定分子量の末端未変性ポリマーもしくは、
他の末端基で末端が変性されたポリマーを得た後、重合
体の末端水酸基に上記の末端停止剤を反応せしめ所望の
末端基を導入したり、所望の末端基を交換反応等により
導入する方法も適用可能である。
上記重合反応および重合体末端基変性反応を行うに際し
ては、酸受容体、および触媒を適宜使用することができ
る。
この酸受容体としては、たとえば、トリエチルアミン、
N、N−ジメチルアニリン、トリプロピルアミン、トリ
ブチルアミン、ピリジン等の第三級アミン等の有機系酸
受容体、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸
化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩などの無機系酸受
容体が使用できる。 これらの中でも通常、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の強アルカリ化合物が好適に
使用できる。なお、これらの水酸化アルカリは、前記一
般式(■)、一般式(X)で表されるモノマーとの塩と
して用いることも可能である。
また、前記重合反応、末端基変性反応は、所望により溶
媒の存在下で行うことができる。
この溶媒としては、ビスフェノールA等をモノマーとす
る公知のポリカーボネートの製造に用いられるもの、す
なわち水系溶媒、非水系極性溶媒などが使用可能である
前記触媒としては、公知のものが使用可能であり、具体
的にはたとえばトリエチルアミン、トリプロピルアミン
、N、、N−ジメチルアニリン等の第3級アミン、テト
ラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニ
ウムプロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド等の第4級アンモ
ニウム化合物、メチルトリフェニルホスホニウムプロミ
ド等の第4級ホスホニウム化合物等を挙げることができ
る。これらの中でも、特にトリエチルアミン等の第3級
アミン等が好適に使用できる。
また、上記重合反応を行うに際して、所望により、但し
、本発明の目的に支障のない範囲で公知の三官能性化合
物などの多官能性化合物を適量添加し、部分的に分校状
構造を有するポリカーボネート系樹脂としたり、公知の
他のモノマーを添加して、重合体の主鎖に他の繰り返し
単位を導入することも可能である。
このようにして得られたポリカーボネートは、公知の分
離方法等による分離操作、公知の洗浄方法などの精製操
作等の後処理を施して、所望の純度のものとすることが
できる。
上記のようにして得られたポリカーボネート共重合体は
、そのまま、あるいは所望により、使用目的に応じて添
加物や他のポリカーボネート等のポリマー等を配合して
組成物とし、各種の用途に使用することができる。
このようにして得ることができるポリカーボネート系樹
脂からなる本発明の光学機器用素材は、射出成形等の成
形加工時における溶融流動性に著q しく優れ1、成形加工が容易であり、しかもポリカーボ
ネートが有する透明性、耐熱性、機械的強度等の基本特
性に優れるこ七はもとより、特に複屈折等の光学異方性
が著しく低減した成形品を得ることができる優れた光学
機器用素材であり、たとえば、レンズ、光ディスク、光
ファイバー等の種々の光学機器用成形品、特に超精密光
学機器用成形品として好適に利用できる。
さらに、電気アイロンの水タンク、電子レンジ用品、液
晶表示用基板、プリント基板、高周波用回路基板、透明
導電性シート・フィルム等の電気分野、注射器、ピペッ
ト、アニマルゲージ等の医療、化学分野、カメラボディ
、各種計器類ハウジング、フィルム、シート、ヘルメッ
ト等各種の分野で好適に利用できる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1) 内容量12のフラスコに2,2−ビス(3−フェニル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン76g (0,20
mol)と2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン11.4 g (0,05mol )を3規定濃
度の水酸化カリウム水溶液600dに溶解させた溶液と
塩化メチレン250 mlを加え、外部冷却により液温
を10°C付近に保ちながらホスゲンを340m1l1
分の割合で30分吹き込んだ。その後、P−ノニルフェ
ノール1gと0.5 M )リエチルアミン水溶液2 
mflとを加え1時間かく拌し、重合させた。
重合終了後、有機層に塩化メチレン500dを加えて希
釈し、水、希塩酸、水の順に洗浄した後、メタノール中
に投入してポリカーボネートを得た。
この重合体は塩化メチレンを溶媒とする濃度0゜5g/
aの溶液の20゛Cにおける還元粘度〔ηsp/c〕が
0.58a/gであった。
また、この共重合体の’H−NMRスペクトル分析から
、フェニル基(6,7〜7.6ppm)および分子末端
のノニル基のメチレン鎖(1,3ppm)の吸収が認め
られ、下記の繰り返し単位および末端構造からなるもの
と確認された。
CH30,2 CH3 得られた重合体の物性を第1表に示す。
(実施例2) 実施例1において2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンの代わりに1,1−ジフェニル−1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン25.2 g用
いた以外は同様にして、共重合体を得た。共重合体を構
成する繰り返し単位および末端構造(’H−NMR分析
)は、次の通りであった。
実施例3 実施例1において2.2−ビス(3−フェニルL −4−ヒドロキシフェニル)プロパンの代わりに1−フ
ェニル−1,1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)エタン77g(0,174mol)を用い、
2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンの代
わりにビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン16.
5 g (0,076mol)を用い、さらにP−ノニ
ルフェノールに変えてp−ヒドロキシ安息香酸n−ドデ
シル1.39 gを用いた以外は同様にして、共重合体
を得た。この共重合体を構成する繰り返し単位および末
端構造(+H−NMR分析)は、次の通りであった。得
られた重合体の物性を第1表に示す。
0.3 c、□H25−OCO−@− (実施例4) 実施例1において2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンの代わりに1,1−ビス(3−シキロヘキ
シルー4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン21.
6 g (0,05mol)を用い、p−ノニルフェノ
ールの代わりにドブシロキシフェノール1.26 gを
用いた以外は同様にして共重合体を得た。この共重合体
の組成(NMR分析)は、次の通りであった。得られた
重合体の物性を第1表に示す。
、(比較例1) 実施例1において2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンの代わりに2.2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、p−ノニルフェノ
ールの代わりにp−tert−ブチルフェノールを用い
た以外は同様にして重合体を得た。
得られた重合体の物性を第1表に示す。
第1表 ηsp/c   Tg     溶融粘度(d1/g)
  (’C)   ηo (poise)at 280
℃ 実施例1  0.57  146   15.0002
 0、56  158  16,0003 0.53 
 172  17,0004 0、55  145  
16.000比較例1  0.57  148   2
0,000〔発明の効果〕 本発明のポリカーボネート系共重合体は透明性、耐熱性
、機械的強度等の一般のポリカーボネート樹脂が有する
基本的特性に優れていることはもとより、従来のものに
比較して、射出成形等の成形加工時における溶融流動性
に著しく優れ、成形加工が容易で、特に超精密成形品を
容易に得ることができる実用上著しく有利な効果を有し
ている。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次の一般式( I )と一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔但し、上記式中、X^1およびX^2は、単結合、−
    O−、−S−、−SO_2−、−CO−、▲数式、化学
    式、表等があります▼(ここで、R^3およびR^4は
    、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基
    またはフェニル基を表し、R^3=R^4であっても、
    R^3≠R^4であってもよい。)■CH_2■(但し
    、uは、2〜10の整数を表す。)、あるいは ▲数式、化学式、表等があります▼(但し、rは、4〜
    8の整数を表す。 )を表し、X^1=X^2であってもX^1≠X^2で
    あってもよく、R^1およびR^2は、ハロゲン原子、
    炭素数1〜6のアルキル基、炭素数4〜8のシクロアル
    キル基あるいはフェニル基を表し、R^1=R^2であ
    ってもR^1≠R^2であってもよく、nおよびmは、
    0〜4の整数を表す。〕 で表される繰り返し単位を有し、かつ重合体末端が、次
    の一般式(III) −CO−R^5(III) 〔但し、R^5は、炭素数8〜30のアルキル基を表す
    。〕 2、次の一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔但し、R^6は、炭素数8〜30のアルキル基を表し
    、Yは、単結合、−O−または−COO−を表す。〕、
    次の一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔但し、X^1およびR^5は、それぞれ前記同様の意
    味を表す。〕、次の一般式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) 〔但し、X^1、YおよびR^6は、それぞれ前記同様
    の意味を表す。〕、次の一般式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 〔但し、R^7およびR^8は前記R^1およびR^2
    と同様の意味を表し、kおよびjは、前記n、mと同様
    の意味を表し、X^2、R^5はそれぞれ前記同様の意
    味を表す。〕および次の一般式(VIII)▲数式、化学式
    、表等があります▼(VIII) 〔但し、R^7、R^8、R^6、X^2、Y、kおよ
    びjは、それぞれ前記同様の意味を表す。〕 のいずれかの構造を有するポリカーボネート系共重合体
    。 2、 式〔IX〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IX〕 で表される二価フェノール、および 式〔X〕▲数式、化学式、表等があります▼〔X〕 で表される二価フェノールに、炭酸エステル形成性化合
    物を反応させてポリカー ボネート系重合体を製造するにあたり、分子量調節剤と
    して、R^5−COOH、R^5−COX^3、および ▲数式、化学式、表等があります▼のいずれかを用いる
    ことを特徴とするポリカーボネート系共重合体の製造法
    。 〔但し、上記式中、X^1およびX^2は、単結合、−
    O−、−S−、−SO_2−、−CO−、▲数式、化学
    式、表等があります▼(ここで、R^3およびR^4は
    、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基
    またはフェニル基を表し、R^3=R^4であっても、
    R^3≠R^4であってもよい。)■CH_2■(但し
    、uは、2〜10の整数を表す。)、あるいは ▲数式、化学式、表等があります▼(但し、rは、4〜
    8の整数を表す。 )を表し、X^1=X^2であってもX^1≠X^2で
    あってもよく、X^3はハロゲン原子、R^1およびR
    ^2は、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭
    素数4〜8のシクロアルキル基あるいはフェニル基を表
    し、R^1=R^2であってもR^1≠R^2であって
    もよく、nおよびmは、0〜4の整数を表し、R^5、
    R^6は、炭素数8〜30のアルキル基を表し、Yは単
    結合、−O−または−COO−を表す。〕
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05241020A (ja) * 1992-02-28 1993-09-21 Idemitsu Petrochem Co Ltd 位相差補償フィルム
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WO2024135761A1 (ja) * 2022-12-21 2024-06-27 出光興産株式会社 電子基板材料、樹脂、および樹脂の製造方法

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