JPH01102401A - 反射防止膜の形成方法 - Google Patents
反射防止膜の形成方法Info
- Publication number
- JPH01102401A JPH01102401A JP62260286A JP26028687A JPH01102401A JP H01102401 A JPH01102401 A JP H01102401A JP 62260286 A JP62260286 A JP 62260286A JP 26028687 A JP26028687 A JP 26028687A JP H01102401 A JPH01102401 A JP H01102401A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stock
- optical glass
- optical
- glass
- glass element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 13
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 241000861914 Plecoglossus altivelis Species 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- QCCDYNYSHILRDG-UHFFFAOYSA-K cerium(3+);trifluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[Ce+3] QCCDYNYSHILRDG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ガラス素材をプレスして成形された光学ガラ
ス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止膜の
形成方法に関するものである。
ス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止膜の
形成方法に関するものである。
従来の技術
近年、光学ガラスレンズ等の光学ガラス素子は、光学機
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、イ
ーストマン・コダック・カンパニーから提案されている
ダイレクトプレス成形法（特公昭５４−３８１２６号公
報）が有望視されている。
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、イ
ーストマン・コダック・カンパニーから提案されている
ダイレクトプレス成形法（特公昭５４−３８１２６号公
報）が有望視されている。
また、いずれの製造法でつくられた光学ガラス素子であ
っても、光学特性すなわち光の透過率の向上のため、光
学ガラス素子表面に誘電体物質を真空蒸着法等で積層し
反射防止膜を形成することは一般技術として知られてい
る。（例えば、久保田氏他「光学技術ハンドブック」）
。
っても、光学特性すなわち光の透過率の向上のため、光
学ガラス素子表面に誘電体物質を真空蒸着法等で積層し
反射防止膜を形成することは一般技術として知られてい
る。（例えば、久保田氏他「光学技術ハンドブック」）
。
発明が解決しようとする問題点
上記のガラス素子の製造において、光学ガラス素子の性
能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそれにくらべ
てより優れている必要があり、非常に高い面精度および
面粗度が要求される０例えば、高精度カメラレンズの場
合、面精度はニュートンリング５本、アユ１本以内、面
粗度は０．０２μｍ以下であることが要求される。また
光学機器の小型化に伴って光学部品を小型化・軽量化す
ることが望まれており、従来の研磨法ではコンパクトな
光学部品を多量かつ安価に製造することは極めて困難で
ある。そこで、高精度な光学ガラス素子を製造する方法
として、ダイレクトプレス法が注目されている。ダイレ
クトプレス法の中でもとりわけ高精度な光学ガラス素子
を製造するのにリヒートプレス法が遺している。リヒー
トプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い面形状を有
したガラス素材を作り、前記ガラス素材を金型で加熱。
能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそれにくらべ
てより優れている必要があり、非常に高い面精度および
面粗度が要求される０例えば、高精度カメラレンズの場
合、面精度はニュートンリング５本、アユ１本以内、面
粗度は０．０２μｍ以下であることが要求される。また
光学機器の小型化に伴って光学部品を小型化・軽量化す
ることが望まれており、従来の研磨法ではコンパクトな
光学部品を多量かつ安価に製造することは極めて困難で
ある。そこで、高精度な光学ガラス素子を製造する方法
として、ダイレクトプレス法が注目されている。ダイレ
クトプレス法の中でもとりわけ高精度な光学ガラス素子
を製造するのにリヒートプレス法が遺している。リヒー
トプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い面形状を有
したガラス素材を作り、前記ガラス素材を金型で加熱。
加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス素子を取り
出す方法である。このリヒートプレス法では、ガラス素
材の形状９重量１面品質が重要であり、これらが成形し
た光学ガラス素子の特性に大きな影響を及ぼす、ガラス
素材の製造方法としては、ガラス材をカーブジェネレー
タにより研削加工し、さらに研磨加工して表面を円滑に
する方法が一般的である。ところが研磨加工は良好な面
精度に仕上げることができるが、曲率半径の小さなガラ
ス素材を量産性よく加工することが困難であり、コスト
高にもなる。そこでガラス材をカーブジェネレータによ
って研削加工したままのガラス素材をプレスして光学ガ
ラス素子を成形している。
出す方法である。このリヒートプレス法では、ガラス素
材の形状９重量１面品質が重要であり、これらが成形し
た光学ガラス素子の特性に大きな影響を及ぼす、ガラス
素材の製造方法としては、ガラス材をカーブジェネレー
タにより研削加工し、さらに研磨加工して表面を円滑に
する方法が一般的である。ところが研磨加工は良好な面
精度に仕上げることができるが、曲率半径の小さなガラ
ス素材を量産性よく加工することが困難であり、コスト
高にもなる。そこでガラス材をカーブジェネレータによ
って研削加工したままのガラス素材をプレスして光学ガ
ラス素子を成形している。
しかしながらこのような方法で成形された光学ガラス素
子の表面には、研削加工時の微細な表面欠陥が消滅せず
に残るために、その光学ガラス素子表面に反射防止膜を
真空蒸着法等によって形成しても反射防止膜は光学ガラ
ス素子から剥離しやすく、また、光の透過率が低いとい
う問題点があった。
子の表面には、研削加工時の微細な表面欠陥が消滅せず
に残るために、その光学ガラス素子表面に反射防止膜を
真空蒸着法等によって形成しても反射防止膜は光学ガラ
ス素子から剥離しやすく、また、光の透過率が低いとい
う問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑み、ガラス材をカーブジェネレ
ータによって研削したままのガラス素材をプレスして成
形された光学ガラス素子に対して、密着性、耐久性およ
び光学特性（光の透過率）に優れた反射防止膜の形成方
法を提供するものである。
ータによって研削したままのガラス素材をプレスして成
形された光学ガラス素子に対して、密着性、耐久性およ
び光学特性（光の透過率）に優れた反射防止膜の形成方
法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
本発明は前記問題点を解決するために、研削加工したま
まのガラス素材にエツチング処理を施した後、前記ガラ
ス素材をプレスして光学ガラス素子を成形し、しかる後
に前記光学ガラス素子上に誘電体物質を積層させて反射
防止膜を形成することを特徴とする反射防止膜の形成方
法を提供するものである。
まのガラス素材にエツチング処理を施した後、前記ガラ
ス素材をプレスして光学ガラス素子を成形し、しかる後
に前記光学ガラス素子上に誘電体物質を積層させて反射
防止膜を形成することを特徴とする反射防止膜の形成方
法を提供するものである。
作用
前述したように、高精度な光学ガラス素子を多量かつ安
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
リヒートプレス法で重要なことは、ガラス素材の形状、
重量および面品質の管理であり、特に面品質は光学ガラ
ス素子上の反射防止膜の性能に大きな影響を及ぼす。
重量および面品質の管理であり、特に面品質は光学ガラ
ス素子上の反射防止膜の性能に大きな影響を及ぼす。
本発明は、ガラス素材にエツチング処理を施した後前記
ガラス素材をプレスして光学ガラス素子を成形し、しか
る後に前記光学ガラス素子上に誘電体物質を積層して反
射防止膜を形成する方法を提供するものであり、その結
果、密着性、耐久性および光学特性（光の透過率）に優
れた反射防止膜を得ることができる。
ガラス素材をプレスして光学ガラス素子を成形し、しか
る後に前記光学ガラス素子上に誘電体物質を積層して反
射防止膜を形成する方法を提供するものであり、その結
果、密着性、耐久性および光学特性（光の透過率）に優
れた反射防止膜を得ることができる。
実施例
以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図は実施例に使用したガラス素材を示す図でありガ
ラス材質は鉛ガラス５Ｆ−８である。ガラス素材の曲率
半径は’ｔ−３，０ｍおよびＴ２＝６．０鰭、全長はＪ
−４，３鶴、ガラス素材の直径はｄ−５■であり両凸形
状に研削加工した。このガラス素材を液温４０℃の１０
％弗化水素酸に１０秒間浸漬した後、蒸留水で３分間洗
浄し、さらに２００℃に保った乾燥機で１５分間乾燥し
た。このような浸漬工程を（り返して得たガラス素材を
、一方が３．４−１他方が６．０８ｍｍの曲率半径を有
した一対の鏡面加工した金型を用いてプレス成形した。
ラス材質は鉛ガラス５Ｆ−８である。ガラス素材の曲率
半径は’ｔ−３，０ｍおよびＴ２＝６．０鰭、全長はＪ
−４，３鶴、ガラス素材の直径はｄ−５■であり両凸形
状に研削加工した。このガラス素材を液温４０℃の１０
％弗化水素酸に１０秒間浸漬した後、蒸留水で３分間洗
浄し、さらに２００℃に保った乾燥機で１５分間乾燥し
た。このような浸漬工程を（り返して得たガラス素材を
、一方が３．４−１他方が６．０８ｍｍの曲率半径を有
した一対の鏡面加工した金型を用いてプレス成形した。
成形条件としては、金型温度５２０℃、成形圧力１０ｋ
ｇ／ｃｊ、成形時間５分間であった。
ｇ／ｃｊ、成形時間５分間であった。
次に、成形された光学ガラス素子の両面に真空蒸着法に
よって弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）を蒸着した。
よって弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）を蒸着した。
第２図は成形された光学ガラス素子を示し、第３図は反
射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の概略図である。
射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の概略図である。
第２図において、２０．２１は反射防止膜が形成される
光学ガラス素子の面である。
光学ガラス素子の面である。
第３図において、３０は真空槽、３１は成形された光学
ガラス素子、３２は基板支持ドーム、３３はリング状の
イオンボンバード電極、３４は抵抗加熱ボート、３５は
弗化マグネシウム、３６はガス導入口３７はガス排気口
である。
ガラス素子、３２は基板支持ドーム、３３はリング状の
イオンボンバード電極、３４は抵抗加熱ボート、３５は
弗化マグネシウム、３６はガス導入口３７はガス排気口
である。
まず、真空槽３０内をＩ Ｘ １０’ Ｔｏｒｒまで排
気し、同時に基板支持ドーム３２に支持された光学ガラ
ス素子を約３００℃に加熱した。そして、ガス導入口３
６を通して真空槽３０内にアルゴン（Ａｒ）ガスを導入
し、約１０４〜１０ ’ Ｔｏｒｒの真空度において約
１０分間イオンボンバードを行なった。イオンボンバー
ドは電極３３に約ＩＫＶの電圧を印加して行なった。そ
の後アルゴン（Ａｓ）ガスの導入をやめ、真空槽３０内
を２×１０’ Ｔｏｒｒ以下に排気した後、抵抗加熱ボ
ート３４でもって弗化マグネシウム３５を抵抗加熱法で
光学ガラス素子上に光学的膜厚λ／４（λ−７８０ｎｍ
）の厚さに形成した。
気し、同時に基板支持ドーム３２に支持された光学ガラ
ス素子を約３００℃に加熱した。そして、ガス導入口３
６を通して真空槽３０内にアルゴン（Ａｒ）ガスを導入
し、約１０４〜１０ ’ Ｔｏｒｒの真空度において約
１０分間イオンボンバードを行なった。イオンボンバー
ドは電極３３に約ＩＫＶの電圧を印加して行なった。そ
の後アルゴン（Ａｓ）ガスの導入をやめ、真空槽３０内
を２×１０’ Ｔｏｒｒ以下に排気した後、抵抗加熱ボ
ート３４でもって弗化マグネシウム３５を抵抗加熱法で
光学ガラス素子上に光学的膜厚λ／４（λ−７８０ｎｍ
）の厚さに形成した。
（比較例）
上記本発明の実施例の光学ガラス素子と、弗化水素酸に
よるエツチング処理を行わずに弗化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ２）を蒸着した従来の光学ガラス素子との反射防止膜
の密着性、耐久性を比較するために、粘着テープ＠離試
験（温度８０℃、相対湿度９０％の高温・高湿度雰囲気
中に３００時間放置した後、粘着テープを光学ガラス素
子表面に密着させ引きはがす）を行ったところ、従来例
のものは剥離が発生したが本発明によるものは全く異状
がなかった。
よるエツチング処理を行わずに弗化マグネシウム（Ｍｇ
Ｆ２）を蒸着した従来の光学ガラス素子との反射防止膜
の密着性、耐久性を比較するために、粘着テープ＠離試
験（温度８０℃、相対湿度９０％の高温・高湿度雰囲気
中に３００時間放置した後、粘着テープを光学ガラス素
子表面に密着させ引きはがす）を行ったところ、従来例
のものは剥離が発生したが本発明によるものは全く異状
がなかった。
また、中心波長７８０ｎｍにおける光の透過率は、従来
例のものは平均９２％であったが本発明によるものは平
均９８％以上あった。
例のものは平均９２％であったが本発明によるものは平
均９８％以上あった。
以上のように、従来例のものに比べて本発明によるもの
が密着性、耐久性および光学特性（先の透過率）におい
て優れているのは明らかであった。
が密着性、耐久性および光学特性（先の透過率）におい
て優れているのは明らかであった。
なお、実施例において反射防止膜は弗化マグネシウム（
ＭｇＦ２）単層膜であるが、反射防止膜の構成は必ずし
もこれに限られるものではなく、弗化マグネシウムも含
めて他の誘電体材料、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタ
ン、酸化アルミニウム、弗化セリウムなどを使用した単
層あるいは多層の反射防止膜も良好に形成することがで
きる。
ＭｇＦ２）単層膜であるが、反射防止膜の構成は必ずし
もこれに限られるものではなく、弗化マグネシウムも含
めて他の誘電体材料、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタ
ン、酸化アルミニウム、弗化セリウムなどを使用した単
層あるいは多層の反射防止膜も良好に形成することがで
きる。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止膜の
形成方法は、ガラス素材にエツチング処理を施した後、
前記ガラス素材をプレスして光学ガラス素子を成形し、
しかる後に光学ガラス素子上に誘電体物質を積層させて
反射防止膜を形成するものであり、密着性、耐久性およ
び光学特性（光の透過率）に優れた反射防止膜を得るこ
とができ、その実用上の価値は大なるものがある。
形成方法は、ガラス素材にエツチング処理を施した後、
前記ガラス素材をプレスして光学ガラス素子を成形し、
しかる後に光学ガラス素子上に誘電体物質を積層させて
反射防止膜を形成するものであり、密着性、耐久性およ
び光学特性（光の透過率）に優れた反射防止膜を得るこ
とができ、その実用上の価値は大なるものがある。
第１図は本発明の実施例に用いた両凸形状に研削処理し
たガラス素材の側面図、第２図はガラス素材を成形して
つくられた光学ガラス素子を示す側面図、第３図は本発
明の実施例の反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の
概略図である。 ２０．２１・・・・・・反射防止膜が形成される面、３
０・・・・・・真空槽、３１・・・・・・光学ガラス素
子、３２・・・・・・基板支持ドーム、３３・・・・・
・イオンボンバード電極、３４・・・・・・抵抗加熱ボ
ート、３５・・・・・・弗化マグネシウム、３６・・・
・・・ガス導入口、３７・・・・・・ガス排気口。
たガラス素材の側面図、第２図はガラス素材を成形して
つくられた光学ガラス素子を示す側面図、第３図は本発
明の実施例の反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の
概略図である。 ２０．２１・・・・・・反射防止膜が形成される面、３
０・・・・・・真空槽、３１・・・・・・光学ガラス素
子、３２・・・・・・基板支持ドーム、３３・・・・・
・イオンボンバード電極、３４・・・・・・抵抗加熱ボ
ート、３５・・・・・・弗化マグネシウム、３６・・・
・・・ガス導入口、３７・・・・・・ガス排気口。
Claims (2)
- （１）ガラス素材にエッチング処理を施した後、前記ガ
ラス素材をプレスして光学ガラス素子を成形し、しかる
後に前記光学ガラス素子上に誘電体物質を積層させて反
射防止膜を形成することを特徴とする反射防止膜の形成
方法。 - （２）エッチング処理は、ガラス素材を弗化水素酸水溶
液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除去する
工程とからなることを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項記載の反射防止膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62260286A JPH01102401A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | 反射防止膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62260286A JPH01102401A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | 反射防止膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01102401A true JPH01102401A (ja) | 1989-04-20 |
Family
ID=17345934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62260286A Pending JPH01102401A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | 反射防止膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01102401A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5399067A (en) * | 1991-04-09 | 1995-03-21 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Nozzle for use in a geothermal steam turbine and method for preventing adhesion of scale thereto |
| WO2006062386A1 (es) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | Juan Luis Rendon Granados | Proceso químico para satinado-mateado total o parcial de vidrio por inmersión en solución acida para producción simultanea y continua |
| WO2006062385A1 (es) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | Juan Luis Rendon Granados | Proceso químico para vidrio antirreflejante por inmersión en solución acida para producción simultanea y continua |
| US8705169B2 (en) | 2009-03-17 | 2014-04-22 | Juan Luis Rendon Granados | Glass products with anti-reflection properties and methods for the production and use thereof |
-
1987
- 1987-10-15 JP JP62260286A patent/JPH01102401A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5399067A (en) * | 1991-04-09 | 1995-03-21 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Nozzle for use in a geothermal steam turbine and method for preventing adhesion of scale thereto |
| WO2006062386A1 (es) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | Juan Luis Rendon Granados | Proceso químico para satinado-mateado total o parcial de vidrio por inmersión en solución acida para producción simultanea y continua |
| WO2006062385A1 (es) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | Juan Luis Rendon Granados | Proceso químico para vidrio antirreflejante por inmersión en solución acida para producción simultanea y continua |
| US20100129606A1 (en) * | 2004-12-10 | 2010-05-27 | Juan Luis Rendon Granados | Chemical process for obtaining anti-reflective glass, comprising immersion in an acid solution, for simultaneous and continuous production |
| US8705169B2 (en) | 2009-03-17 | 2014-04-22 | Juan Luis Rendon Granados | Glass products with anti-reflection properties and methods for the production and use thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109576647A (zh) | 一种超薄滤光片薄膜制备方法 | |
| JPH0483724A (ja) | 光学素子製造用ガラスブランク及びその製造方法 | |
| JPH01102401A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPS6361201A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPS63170243A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| CN112553585B (zh) | 一种聚甲基丙烯酸甲酯基底介质增透膜及其制备方法 | |
| JPH0643260B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPS58216222A (ja) | 透明性及び親水性に優れたコンタクトレンズの製造法 | |
| JPH0237301A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH01102402A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH0421606B2 (ja) | ||
| JPH01166002A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH0543649B2 (ja) | ||
| JPH10115711A (ja) | 光学薄膜の製造方法 | |
| JPH01252542A (ja) | 光学ガラス素子の成形方法 | |
| JP2636010B2 (ja) | 成形用ガラス素材およびその製造方法 | |
| JP3636214B2 (ja) | 複合型光学素子の製造方法 | |
| JPS60156001A (ja) | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 | |
| JPS61167903A (ja) | 合成樹脂製光学部品のコ−テイング方法 | |
| JPH0258003A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH09159803A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH04352102A (ja) | 合成樹脂製光学部材の反射防止膜及びその形成方法 | |
| CN114325888A (zh) | 一种光学镜片增透膜及其制备方法 | |
| JPH01287501A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPS58112375A (ja) | 光起電力装置の製造方法 |