JPH0643260B2 - 反射防止膜の形成方法 - Google Patents
反射防止膜の形成方法Info
- Publication number
- JPH0643260B2 JPH0643260B2 JP62002378A JP237887A JPH0643260B2 JP H0643260 B2 JPH0643260 B2 JP H0643260B2 JP 62002378 A JP62002378 A JP 62002378A JP 237887 A JP237887 A JP 237887A JP H0643260 B2 JPH0643260 B2 JP H0643260B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antireflection film
- optical glass
- glass element
- forming
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/28—Other inorganic materials
- C03C2217/284—Halides
- C03C2217/285—Fluorides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/151—Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガラス物品をプレス成形してつくられた光学
ガラス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止
膜の形成方法に関するものである。
ガラス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止
膜の形成方法に関するものである。
従来の技術 近年、光学ガラスレンズ等の光学ガラス素子は、光学機
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、コ
ダック社から提案されているダイレクトプレス成形法
（特公昭５４−３８１２６号公報）が有望視されてい
る。
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、コ
ダック社から提案されているダイレクトプレス成形法
（特公昭５４−３８１２６号公報）が有望視されてい
る。
また、いずれの製造法でつくられた光学ガラス素子であ
っても、光学特性の向上のため、光学ガラス素子表面に
誘電体物質を真空蒸着法等で積層し反射防止膜を形成す
ることは一般技術として知られている。
っても、光学特性の向上のため、光学ガラス素子表面に
誘電体物質を真空蒸着法等で積層し反射防止膜を形成す
ることは一般技術として知られている。
発明が解決しようとする問題点 上記の光学ガラス素子の製造において、光学ガラス素子
の像形成性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそ
れにくらべてより優れている必要があり、非常に高い面
精度および面粗度が要求される。例えば、高精度カメラ
レンズの場合、面精度はニュートンリング５本、アス１
本以内、面粗さは0.02μｍ以下であることが要求され
る。また光学機器の小型化に伴なって光学部品を小型化
・軽量化することが望まれており、従来の研磨法ではコ
ンパクトな光学部品を多量かつ安価に製造することは極
めて困難である。そこで、高精度な光学ガラス素子を製
造する方法として、ダイレクトプレス法が注目されてい
る。ダイレクトプレス法の中でもとりわけ高精度な光学
ガラス素子を製造するのにリヒートプレス法が適してい
る。リヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い
面形状を有したガラス素材を作り、前記ガラス素材を金
型で加熱，加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス
素子を取り出す方法である。このリヒートプレス法で
は、ガラス素材の形状、重量、面品質が重要であり、こ
れらが成形した光学ガラス素子の特性に大きな影響を及
ぼす。ガラス素材の製造方法としては、ガラス素材をカ
ーブジェネレータにより研削加工し、さらに研磨加工し
て表面を円滑にする方法が一般的である。研磨加工は良
好な面粗度に仕上げることができるが、曲率半径の小さ
なガラス素材を量産性よく加工することが困難であり、
コスト高になる。また、ガラス素材をカーブジェネレー
タによって研削加工したままのガラス物品をプレス成形
した場合、ガラス物品表面の微細な凹凸が消滅せずに残
るために、光学ガラス素子の透過率が悪くなり光学性能
が低下する。そのために、ガラス物品表面の微細な凹凸
を除去するため、エッチング処理として前記ガラス物品
を弗化水素酸水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程
と、水分を除去する工程とからなる過程をくり返すこと
を行なっている。しかしながら、前記工程による処理を
行なったガラス物品をダイレクトプレスして製造した光
学ガラス素子上に反射防止膜を真空蒸着法によって形成
すると、反射防止膜が光学ガラス素子から剥離しやすい
という問題点があった。
の像形成性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそ
れにくらべてより優れている必要があり、非常に高い面
精度および面粗度が要求される。例えば、高精度カメラ
レンズの場合、面精度はニュートンリング５本、アス１
本以内、面粗さは0.02μｍ以下であることが要求され
る。また光学機器の小型化に伴なって光学部品を小型化
・軽量化することが望まれており、従来の研磨法ではコ
ンパクトな光学部品を多量かつ安価に製造することは極
めて困難である。そこで、高精度な光学ガラス素子を製
造する方法として、ダイレクトプレス法が注目されてい
る。ダイレクトプレス法の中でもとりわけ高精度な光学
ガラス素子を製造するのにリヒートプレス法が適してい
る。リヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い
面形状を有したガラス素材を作り、前記ガラス素材を金
型で加熱，加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス
素子を取り出す方法である。このリヒートプレス法で
は、ガラス素材の形状、重量、面品質が重要であり、こ
れらが成形した光学ガラス素子の特性に大きな影響を及
ぼす。ガラス素材の製造方法としては、ガラス素材をカ
ーブジェネレータにより研削加工し、さらに研磨加工し
て表面を円滑にする方法が一般的である。研磨加工は良
好な面粗度に仕上げることができるが、曲率半径の小さ
なガラス素材を量産性よく加工することが困難であり、
コスト高になる。また、ガラス素材をカーブジェネレー
タによって研削加工したままのガラス物品をプレス成形
した場合、ガラス物品表面の微細な凹凸が消滅せずに残
るために、光学ガラス素子の透過率が悪くなり光学性能
が低下する。そのために、ガラス物品表面の微細な凹凸
を除去するため、エッチング処理として前記ガラス物品
を弗化水素酸水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程
と、水分を除去する工程とからなる過程をくり返すこと
を行なっている。しかしながら、前記工程による処理を
行なったガラス物品をダイレクトプレスして製造した光
学ガラス素子上に反射防止膜を真空蒸着法によって形成
すると、反射防止膜が光学ガラス素子から剥離しやすい
という問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑み、前記エッチング処理を行な
ったガラス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス
素子に対して、密着性および耐久性に優れた反射防止膜
の形成方法を提供するものである。
ったガラス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス
素子に対して、密着性および耐久性に優れた反射防止膜
の形成方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段 本発明は前記問題点を解決するために、光学ガラス素子
上に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する際に前
記光学ガラス素子に不活性ガスイオンビームを照射しな
がら誘電体物質を積層させることを特徴とする反射防止
膜の形成方法を提供するものである。
上に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する際に前
記光学ガラス素子に不活性ガスイオンビームを照射しな
がら誘電体物質を積層させることを特徴とする反射防止
膜の形成方法を提供するものである。
作用 前述したように、高精度な光学ガラス素子を多量かつ安
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
リヒートプレス法で重要なことは、ガラス物品の形状，
重量および面品質の管理であり、これらが成形した光学
ガラス素子の特性および量産性におおきな影響を及ぼ
す。
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
リヒートプレス法で重要なことは、ガラス物品の形状，
重量および面品質の管理であり、これらが成形した光学
ガラス素子の特性および量産性におおきな影響を及ぼ
す。
そこで、ガラス物品の面粗度をよくするためにエッチン
グ処理が行なわれる。
グ処理が行なわれる。
本発明は、あらかじめエッチング処理を行なったガラス
物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に不活
性ガスイオンビームを照射しながら誘電体物質を積層し
反射防止膜を形成する方法を提供するものであり、その
結果、密着性および耐久性に優れた反射防止膜を得るこ
とができる。
物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に不活
性ガスイオンビームを照射しながら誘電体物質を積層し
反射防止膜を形成する方法を提供するものであり、その
結果、密着性および耐久性に優れた反射防止膜を得るこ
とができる。
実施例 以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
図は反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の概略図で
ある。図において、１０は真空槽、１１はプレス成形後
の光学ガラス素子、１２は基板支持ドーム、１３はイオ
ンビームガン、１４は抵抗加熱ボード、１５はイオンビ
ーム、１６は蒸着材料、１７はガス排気口である。
ある。図において、１０は真空槽、１１はプレス成形後
の光学ガラス素子、１２は基板支持ドーム、１３はイオ
ンビームガン、１４は抵抗加熱ボード、１５はイオンビ
ーム、１６は蒸着材料、１７はガス排気口である。
実施例に使用したガラスは、鉛ガラスＳＦ−８でありガ
ラス素材を曲率半径３．５mmおよび２．９mm、コバ径が
６．３mm、中心肉厚が８mmの両凸形状に研削処理した。
このガラス素材を液温４０℃の１０％弗化水素酸に１０
秒間浸漬した後、蒸留水で３分間洗浄し、さらに２００
℃保った乾燥機で１５分間乾燥した。このような浸漬工
程をくり返して得たガラス物品を、一方が１５mm、他方
が２８mmの曲率半径を有した一対の鏡面加工した金型を
用いて前記成形ガラス素材をプレス成形した。成形条件
としては、金型温度５２０℃、成形圧力１０kg／cm2、
成形時間２時間であった。
ラス素材を曲率半径３．５mmおよび２．９mm、コバ径が
６．３mm、中心肉厚が８mmの両凸形状に研削処理した。
このガラス素材を液温４０℃の１０％弗化水素酸に１０
秒間浸漬した後、蒸留水で３分間洗浄し、さらに２００
℃保った乾燥機で１５分間乾燥した。このような浸漬工
程をくり返して得たガラス物品を、一方が１５mm、他方
が２８mmの曲率半径を有した一対の鏡面加工した金型を
用いて前記成形ガラス素材をプレス成形した。成形条件
としては、金型温度５２０℃、成形圧力１０kg／cm2、
成形時間２時間であった。
前記プレス形成後の光学ガラス素子に真空蒸着法によっ
て弗化マグネシウム（ＭｇＦ2）を蒸着した。
て弗化マグネシウム（ＭｇＦ2）を蒸着した。
まず、真空槽１０内を１×１０-5Torrまで排気し、基板
支持ドーム１２上の光学ガラス素子１１の温度を約３０
０℃に加熱した。次に真空槽１０内にＣＦ4ガスを２×
１０-5Torrまで導入した。そしてイオンビームガン１３
内に真空槽内が４×１０-5Torr程度になるようにアルゴ
ン（Ａｒ）ガスを導入し、イオンビームガンの電極に１
KVの電圧を加えイオンビームを発生させた。
支持ドーム１２上の光学ガラス素子１１の温度を約３０
０℃に加熱した。次に真空槽１０内にＣＦ4ガスを２×
１０-5Torrまで導入した。そしてイオンビームガン１３
内に真空槽内が４×１０-5Torr程度になるようにアルゴ
ン（Ａｒ）ガスを導入し、イオンビームガンの電極に１
KVの電圧を加えイオンビームを発生させた。
そこで、弗化マグネシウム（ＭｇＦ2）を蒸着材料１６
とし、抵抗加熱ボード１４でもって、抵抗加熱法で、前
記イオンビームを光学ガラス素子に照射しながら弗化ク
マグネシウムの膜を光学的膜厚λ／４（λ＝７８０nm）
の厚さに形成した。
とし、抵抗加熱ボード１４でもって、抵抗加熱法で、前
記イオンビームを光学ガラス素子に照射しながら弗化ク
マグネシウムの膜を光学的膜厚λ／４（λ＝７８０nm）
の厚さに形成した。
比較例 上記本発明の実施例の光学ガラス素子と、不活性ガスイ
オンビームを照射せずに弗化マグネシウム（ＭｇＦ2）
を蒸着した従来の光学ガラス素子との反射防止膜の密着
性，耐久性を比較するためにセロテープ剥離試験（温度
８０℃、相対湿度８５％の高温・高湿度雰囲気中に３０
０時間放置した後、セロテープを光学ガラス素子表面に
密着させ引きはがす）を行なったところ、従来例のもの
は剥離が発生したが本発明によるものは全く異状がな
く、本発明によるものが優れているのは明らかであっ
た。
オンビームを照射せずに弗化マグネシウム（ＭｇＦ2）
を蒸着した従来の光学ガラス素子との反射防止膜の密着
性，耐久性を比較するためにセロテープ剥離試験（温度
８０℃、相対湿度８５％の高温・高湿度雰囲気中に３０
０時間放置した後、セロテープを光学ガラス素子表面に
密着させ引きはがす）を行なったところ、従来例のもの
は剥離が発生したが本発明によるものは全く異状がな
く、本発明によるものが優れているのは明らかであっ
た。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止膜の
形成方法は、あらかじめエッチング処理を行なったガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に真
空槽内で不活性ガスイオンビームを照射しながら反射防
止膜を形成するものであり、密着性，耐久性に優れた反
射防止膜を得ることができ、その実用上の価値は大なる
ものがある。
形成方法は、あらかじめエッチング処理を行なったガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に真
空槽内で不活性ガスイオンビームを照射しながら反射防
止膜を形成するものであり、密着性，耐久性に優れた反
射防止膜を得ることができ、その実用上の価値は大なる
ものがある。
図は本発明の実施例の反射防止膜の形成に用いた真空蒸
着装置の概略図である。 １０……真空槽、１１……光学ガラス素子、１２……基
板支持ドーム、１３……イオンビームガン、１４……抵
抗加熱ボード、１５……イオンビーム、１６……蒸着材
料、１７……ガス排気口。
着装置の概略図である。 １０……真空槽、１１……光学ガラス素子、１２……基
板支持ドーム、１３……イオンビームガン、１４……抵
抗加熱ボード、１５……イオンビーム、１６……蒸着材
料、１７……ガス排気口。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/24 9271−4Ｋ
Claims (3)
- 【請求項１】あらかじめエッチング処理を施こしたガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に誘
電体物質を積層して反射防止膜を形成する方法であっ
て、前記光学ガラス素子に不活性ガスイオンビームを照
射しながら誘電体物質を前記光学ガラス素子上に積層さ
せることを特徴とする反射防止膜の形成方法。 - 【請求項２】エッチング処理は、ガラス素材を弗化水素
酸水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除
去する工程とからなることを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の反射防止膜の形成方法。 - 【請求項３】誘電体物質は弗化マグネシウムでありＣＦ
4ガス雰囲気中で積層することを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項記載の反射防止膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62002378A JPH0643260B2 (ja) | 1987-01-08 | 1987-01-08 | 反射防止膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62002378A JPH0643260B2 (ja) | 1987-01-08 | 1987-01-08 | 反射防止膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63170244A JPS63170244A (ja) | 1988-07-14 |
| JPH0643260B2 true JPH0643260B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=11527579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62002378A Expired - Lifetime JPH0643260B2 (ja) | 1987-01-08 | 1987-01-08 | 反射防止膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643260B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6495436B2 (en) | 2001-02-09 | 2002-12-17 | Micron Technology, Inc. | Formation of metal oxide gate dielectric |
| US20100180939A1 (en) * | 2009-01-22 | 2010-07-22 | Sharma Pramod K | Heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, coated articles including heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, and methods of making the same |
-
1987
- 1987-01-08 JP JP62002378A patent/JPH0643260B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63170244A (ja) | 1988-07-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1601029A (en) | Polymeric optical element having antireflecting surface | |
| JP2651266B2 (ja) | 光学素子製造用ガラスブランク及びその製造方法 | |
| CN109576647A (zh) | 一种超薄滤光片薄膜制备方法 | |
| JP2022513541A (ja) | 撮像モジュールのパーティクル欠陥を減少させるｃｖｄ製造方法及びその生成物 | |
| JPH0643259B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH0643260B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPS6361201A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH01102401A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| US2453801A (en) | Method and apparatus for coating by thermal evaporation | |
| JPS6238818B2 (ja) | ||
| JPS58216222A (ja) | 透明性及び親水性に優れたコンタクトレンズの製造法 | |
| JPH0653578B2 (ja) | 光学ガラス素子の成形方法 | |
| JPH0421606B2 (ja) | ||
| JPH0237301A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH01102402A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH01166002A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH0543649B2 (ja) | ||
| CN113754304A (zh) | 一种硫系玻璃精密模压预型体模压前处理方法 | |
| JP2636010B2 (ja) | 成形用ガラス素材およびその製造方法 | |
| JPS61167903A (ja) | 合成樹脂製光学部品のコ−テイング方法 | |
| JP3636214B2 (ja) | 複合型光学素子の製造方法 | |
| JPH0560904A (ja) | 光学部品およびその製造方法 | |
| JPS62241833A (ja) | 成形用ガラス素材およびその製造方法 | |
| JPS6155205B2 (ja) | ||
| JP3141721B2 (ja) | 酸化チタン光触媒膜の製造方法 |