JPS6361201A - 反射防止膜の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガラス物品をプレス成形してつくられた光学
ガラス素子の表面に誘電体物質を積層して反射防止膜の
形成方法に関するものである。

従来の技術 近年、光学ガラスレンズ等の光学ガラス素子は、光学機
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、コ
ダソク社から提案されているダイレクトプレス成形法（
特公昭５４−３８１２６号公報）が有望視されている。

また、いずれの製造法でつくられた光学ガラス素子であ
っても、光学特性の向上のため、光学ガラス素子表面に
誘電体物質を真空蒸着法等で積層し反射防止膜を形成す
ることは一般技術として知られている。

発明が解決しようとする問題点 上記の光学ガラス素子の製造において、光学ガラス素子
の像形成性能は従来のｒｔｌＦＩ？？法による光学ガラ
ス素子のそれにくらべてより優れている必要があり、非
常に高い面精度および面粗度が要求される。たとえば、
高精度カメラレンズの場合、面精度はニュートンリング
５本、アメ１本以内、面粗さは０．０２μｍ以下である
ことが要求される。

また光学機器の小型化に伴なって光学部品を小型化・軽
量化することが望まれており、従来の研磨法ではコンパ
クトな光学部品を多量かつ安価に製造することはできな
い。

高精度な光学ガラス素子を製造する方法として、ダイレ
クトプレス法が注目されている。ダイレクトプレス法の
中でとりわけ高精度な光学ガラス素子を製造するのにリ
ヒートプレス法が適している。

リヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い面形
状を有したガラス素材を作り、前記ガラス素材を金型で
加熱、加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス素子
を取り出す方法である。このリヒートプレス法では、ガ
ラス素材の形状１重量。

面品質が重要であり、これらが成形した光学ガラス素子
の特性に大きな影響を及ぼす、ガラス素材の製造方法と
して、ガラス素材をカーブジェネレータにより研削加工
し、さらに研磨加工して表面を円滑にする方法が一般的
である。研磨加工は良好な面粗度に仕上げることができ
るが、曲率半径の小さなガラス素材を量産性よく加工す
ることが困難でありコスト高になる。また、ガラス素材
をカーブジェネレータによって研削加工したままのガラ
ス物品をプレス成形した場合、ガラス物品表面の微細な
凹凸が消滅せずに残るために、光学ガラス素子の透過率
が悪くなり光学性能が低下する。

そのために、ガラス物品表面の微細な凹凸を除去するた
め、エツチング処理として前記ガラス物品をフン化水素
水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除去
する工程とからなる過程をくり返すことを行なっている
。しかしながら、前記工程による処理を行なったガラス
物品をダイレクトプレスして製造した光学ガラス素子上
に反射防止膜を真空蒸着法によって形成すると、反射防
止膜が光学ガラス素子から剥離しやすいという問題点が
あった。

本発明は上記問題点に鑑み、前記エツチング処理を行な
ったガラス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス
素子に、密着性および耐久性に優れた反射防止膜の形成
方法を提供するものである。

問題点を解決するための手段 本発明は前記問題点を解決するために、光学ガラス素子
上に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する際に前
記光学ガラス素子を真空槽内で空気あるいは不活性ガス
雰囲気中でイオンによってボンバード処理を行なった後
、前記光学ガラス素子上に誘電体物質を積層させること
を特徴とする反射防止膜の形成方法を提供するものであ
る。

作用 前述したように、高精度な光学ガラス素子を多量かつ安
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。

リヒートプレス法で重要なことは、ガラス物品の形状９
重量および面品質の管理であり、これらが成形した光学
ガラス素子の特性および量産性に大きな影響を及ぼす。

ガラス物品の面粗度をよくするためにエツチング処理が
行なわれる。

本発明は１、あらかじめエツチング処理を行なったガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子を、
真空槽内で空気あるいは不活性ガス雰囲気中でイオンに
よってボンバード処理を行なった後、誘電体物質を積層
し反射防止膜を形成する方法を提供するものであり、そ
の結果、密着性および耐久性に優れた反射防止膜を得る
ことができる。

実施例 以下本発明の反射防止膜の形成方法の一実施例について
説明する。

使用したガラスは、鉛ガラス５Ｆ−８であり、ガラス素
材を曲率半径３．５ｍｍおよび２．９１、コバ径が６．
３ｍｍ、中心肉厚が８鶴の両凸形状に研削処理した。こ
のガラス素材を液温４０℃の１０％０％フッ素酸に１０
秒間浸漬した後、蒸溜水で３分間洗浄し、さらに２００
℃に保った乾燥機で１５分間乾燥した。このような浸漬
工程をくり返して（′ｔたガラス物品を、一方が１５ｍ
ｍ、他方が２８１１１の曲率半径を有した一対の鏡面加
工した金型を用いて前記成形ガラス素材をプレス成形し
た、成形条件としては、金型温度５２０℃、成形圧力１
０ｋｇ／ｃｎｌ成形時間２分間であった。前記プレス成
形後の光学ガラス素子に真空蒸着法によってフン化マグ
ネシウム（ＭｇＦ２）を蒸着した。

まず、真空蒸着槽内をＩ　Ｘ　１０′１Ｔｏｒｒまで排
気し、前記光学ガラス素子の温度を約３００℃に加熱し
た。そして真空蒸着槽内−・導入ガスとしてＡｒガスを
１０２〜１０３Ｔｏｒｒ程度まで導入した後、ボンバー
ド電極に約１．５ＫＶ印加しグロー放電を発生させ、イ
オンボンバード処理を約１０分間行なった。その＆Ａｒ
ガスの導入を止め、２Ｘ１０”Ｔｏｒｒ以下に排気した
後、ＭｇＦ２を抵抗加熱法で光学的膜厚１９５ｎｍの厚
さに形成した。

比較例 上記本発明の実施例の光学ガラス素子と、イオンボンバ
ード処理を行なわなかった従来の光学ガラス素子との密
着性、耐久性を比較するためにセロテープｙす、にＩ試
験（温度８０’Ｃ，相体湿度８５９％の高温・晶ｔソ雰
囲気中に３００時間放置した後、セロテープを光学ガラ
ス素子表面に密着させ引きはがす）を行なったところ、
従来例のものは、７り離が発生したが、本発明品による
ものは全く異常がなく、本発明の実施例によるものが優
れているのは明らかであった。

発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止膜の
形成方法は、あらかじめエッチング処理を行なったガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子を真
空槽内で空気あるいしよ不活性ガス雰囲気中でイオンに
よってボンバード処理を行なった後、反射防止膜を形成
するものであり、密着性・耐久性に優れた反射防止膜を
得ることができ、その実用上の価値は大なるものがある
。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）あらかじめエッチング処理を行なったガラス物品
   をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に誘電体物
   質を積層して反射防止膜を形成する方法であって、前記
   光学ガラス素子を真空槽内で空気あるいは不活性ガス雰
   囲気中でイオンによってボンバード処理を行なった後、
   前記光学ガラス素子上に誘電体物質を積層させることを
   特徴とする反射防止膜の形成方法。
2. （２）エッチング処理は、ガラス素材をフッ化水素酸水
   溶液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除去す
   る工程とからなることを特徴とする特許請求の範囲第（
   １）項記載の反射防止膜の形成方法。