JPS63170244A - 反射防止膜の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガラス物品をプレス成形してつくられた光学
ガラス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止
膜の形成方法に関するものである。

従来の技術 近年、光学ガラスレンズ等の光学ガラス素子は、光学機
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、コ
ダック社から提案されているダイレクトプレス成形法（
特公昭５４−３８１２６号公報）が有望視されている。

また、いずれの製造法でつくられた光学ガラス素子であ
っても、光学特性の同上のため、光学ガラス素子表面に
誘電体物質を真空蒸着法等で積層し反射防止膜を形成す
ることは一般技術として知られている。

発明が解決しようとする問題点 上記の光学ガラス素子の製造において、光学ガラス素子
の像形成性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそ
れにくらべてより優れている必要があり、非常に高い面
精度および面粗度が要求される０例えば、高精度カメラ
レンズの場合、面精度はニュートンリング５本、アメ１
本以内、面粗さは０．０２μｍ以下であることが要求さ
れる。

また光学機器の小型化に伴なって光学部品を小型化・軽
量化することが望まれており、従来の研磨法ではコンパ
クトな光学部品を多量かつ安価に製造することは極めて
困難である。そこで、高精度な光学ガラス素子を製造す
る方法として、ダイレクトプレス法が注目されている。

ダイレクトプレス法の中でもとりわけ高精度な光学ガラ
ス素子を製造するのにリヒートプレス法が適している。

リヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い面形
状を有したガラス素材を作り、前記ガラス素材を金型で
加熱、加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス素子
を取り出す方法である。このリヒートプレス法では、ガ
ラス素材の形状、重量、面品質が重要であり、これらが
成形した光学ガラス素子の特性に大きな影響を及ぼす、
ガラス素材の製造方法としては、ガラス素材をカーブジ
ェネレータにより研削加工し、さらに研磨加工して表面
を円滑にする方法が一般的である。研磨加工は良好な面
粗度に仕上げることができるが、曲率半径の小さなガラ
ス素材を量産性よく加工することが困難であり、コスト
高になる。また、ガラス素材をカーブジェネレータによ
って研削加工したままのガラス物品をプレス成形した場
合、ガラス物品表面の微細な凹凸が消滅せずに残るため
に、光学ガラス素子の透過率が悪くなり光学性能が低下
する。そのために、ガラス物品表面の微細な凹凸を除去
するため、エツチング処理として前記ガラス物品を弗化
水素酸水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分
を除去する工程とからなる過程をくり返すことを行なっ
ている。しかしながら、前記工程による処理を行なった
ガラス物品をダイレクトプレスして製造した光学ガラス
素子上に反射防止膜を真空蒸着法によって形成すると、
反射防止膜が光学ガラス素子から剥離しやすいという問
題点があった。

本発明は上記問題点に鑑み、前記エツチング処理を行な
ったガラス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス
素子に対して、密着性および耐久性に優れた反射防止膜
の形成方法を提供するものである。

問題点を解決するための手段 本発明は前記問題点を解決するために、光学ガラス素子
上に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する際に前
記光学ガラス素子に不活性ガスイオンビームを照射しな
がら誘電体物質を積層させることを特徴とする反射防止
膜の形成方法を提供するものである。

作用 前述したように、高精度な光学ガラス素子を多量かつ安
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精！な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。

リヒートプレス法で重要なことは、ガラス物品の形状２
重量および面品質の管理であり、これらが成形した光学
ガラス素子の特性および量産性におおきな影響を及ぼす
。

そこで、ガラス物品の面粗度をよくするためにエツチン
グ処理が行なわれる。

本発明は、あらかじめエツチング処理を行なったガラス
物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に不活
性ガスイオンビームを照射しながら誘電体物質を積層し
反射防止膜を形成する方法を提供するものであり、その
結果、密着性および耐久性に優れた反射防止膜を得るこ
とができる。

実施例 以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。

図は反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の概略図で
ある０図において、１０は真空槽、１）はプレス成形後
の光学ガラス素子、１２は基板支持ドーム、１３はイオ
ンビームガン、１４は抵抗増、熱ボード、１５はイオン
ビーム、１６は蒸着材料、１７はガス排気口であ、る。

実施例に使用したガラスは、鉛ガラスＳＦ−８であリガ
ラス素材を曲率半径３．５ｍｍおよび２．９Ｎ、コバ径
が６．３１、中心肉厚が８鶴の両凸形状に研削処理した
。このガラス素材を液１４０℃の１０％弗化水素酸に１
０秒間浸漬した後、蒸留水で３分間洗浄し、さらに２０
０℃に保った乾燥機で１５分間乾燥した。このような浸
漬工程をくり返して得たガラス物品を、一方が１５ｍ、
他方が２８鶴の曲率半径を有した一対の鏡面加工した金
型を用いて前記成形ガラス素材をプレス成形した。成形
条件としては、金型温度５２０℃、成形圧力１０ｋｇ／
ｃｄ、成形時間２分間であった。

前記プレス形成後の光学ガラス素子に真空蒸着法によっ
て弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）を蒸着した。

まず、真空槽ＩＯ内をｌＸｌ０るＴ　ｏｒｒまで排気し
、基板支持ドーム１２上の光学ガラス素子１）の温度を
約３００℃に加熱した０次に真空槽１０内にＣＦ４ガス
を２　Ｘ　１０’　Ｔｏｒｒまで導入した。

そしてイオンビームガン１３内に真空槽内が４×１０’
Ｔｏｒｒ程度になるようにアルゴン（Ａｒ）ガスを導入
し、イオンビームガンの雪掻にＩＫＶの電圧を加えイオ
ンビームを発生させた。

そこで、弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）を蒸着材料１６
とし、抵抗加熱ボード１４でもって、抵抗加熱法で、前
記イオンビームを光学ガラス素子に照射しなから弗化ク
マグネシウムの膜を光学的膜厚λ／４　（λ＝７８０ｒ
ｖ）の厚さに形成した。

比較例 上記本発明の実施例の光学ガラス素子と、不活性ガスイ
オンビームを照射せずに弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）
を蒸着した従来の光学ガラス素子との反射防止膜の密着
性、耐久性を比較するためにセロテープ剥離試験（温度
８０℃、相対湿度８５％の高温・高湿度雰囲気中に３０
０時間放置した後、セロテープを光学ガラス素子表面に
密着させ引きはがす）を行なったところ、従来例のもの
は剥離が発生したが本発明によるものは全く異状がなく
、本発明によるものが優れているのは明らかであった。

発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止膜の
形成方法は、あらかじめエツチング処理を行なったガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に真
空槽内で不活性ガスイオンビームを照射しながら反射防
止膜を形成するものであり、密着性、耐久性に優れた反
射防止膜を得ることができ、その実用上の価値は大なる
ものがある。

【図面の簡単な説明】 図は本発明の実施例の反射防止膜の形成に用いた真空蒸
着装置の概略図である。 １０・・・・・・真空槽、１）・・・・・・光学ガラス
素子、１２・・・・・・基板支持ドーム、１３・・・・
・・イオンビームカン、１４・・・・・・抵抗加熱ボー
ド、１５・・・・・・イオンビーム、１６・・・・・・
蒸着材料、１７・旧・・ガス排気口。 代理人の氏名　弁理士　中尾敏男　はか１名１３−／ｉ
イオン一４ン ７７−７Ｊ°ス排気口

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）あらかじめエッチング処理を施こしたガラス物品
   をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に誘電体物
   質を積層して反射防止膜を形成する方法であって、前記
   光学ガラス素子に不活性ガスイオンビームを照射しなが
   ら誘電体物質を前記光学ガラス素子上に積層させること
   を特徴とする反射防止膜の形成方法。
2. （２）エッチング処理は、ガラス素材を弗化水素酸水溶
   液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除去する
   工程とからなることを特徴とする特許請求の範囲（１）
   項記載の反射防止膜の形成方法。
3. （３）誘電体物質は弗化マグネシウムでありＣＦ＿４ガ
   ス雰囲気中で積層することを特徴とする特許請求の範囲
   第（１）項記載の反射防止膜の形成方法。