JP7497452B2

JP7497452B2 - 塗布システム

Info

Publication number: JP7497452B2
Application number: JP2022556592A
Authority: JP
Inventors: 黄思応; 王耀輝; 林銀祥; 郭超; 金鵬; 劉金龍
Original assignee: Contemporary Amperex Technology Co Ltd
Current assignee: Contemporary Amperex Technology Co Ltd
Priority date: 2021-01-22
Filing date: 2021-12-08
Publication date: 2024-06-10
Anticipated expiration: 2041-12-08
Also published as: EP4119240A1; KR20220144878A; WO2022156414A1; JP2023517386A; CN214390896U; US20230036043A1; EP4119240A4

Description

本出願は塗布の技術分野に関し、具体的に塗布システムに関する。

（関連出願）
本出願は、２０２１年０１月２２日に出願された発明名称「塗布システム」の中国特許出願２０２１２０１８７１５８Ｘの優先権を主張し、この出願のすべての内容が参照により本出願に取り込まれる。

リチウム電池極片の塗布プロセスでは、単一層・単一キャビティの塗布ヘッドを用いて塗布し、スラリーを塗布ヘッドのリップから集電体に連続的に吐出され、膜の表面密度を均一化する目的を達成する。しかしながら、塗膜厚が一定の場合、単一層塗布ヘッドのキャビティ内の圧力が高くなり、リップの摩耗が発生しやすく、塗布時の重量変動が発生しやすい。したがって、先行技術では、スラリーを多層に分割して集電体に数回塗布し、集電体に一定の塗膜厚を形成し、このようにすれば、各塗布時に塗布ヘッドキャビティ内の圧力が低くなり、リップの摩耗を低減することができるが、層間塗布の間隔時間があり、層間の密着性が悪く、相対的に剥離しやすくなる。

本出願の実施例は、多層塗布時に層間の密着性が悪いという問題を改善する塗布システムを提供する。

本出願の実施例は、基板を塗布して極片を形成するための塗布システムを提供し、前記塗布システムは塗布ヘッド、供給装置および弁を含み、前記塗布ヘッドに相互に独立した少なくとも２つの分配キャビティが設けられ、各分配キャビティはそれぞれ塗布開口を有し、前記供給装置は前記分配キャビティに接続され、前記供給装置は前記分配キャビティにスラリーを供給するために使用され、少なくとも１つの分配キャビティと前記供給装置間に前記弁が設けられ、前記弁は対応の分配キャビティと前記供給装置を連通または遮断するために使用される。

上記技術的解決手段では、塗布ヘッドに塗布開口を有する複数の分配キャビティが設けられ、各分配キャビティは１層に対応して塗布し、つまり同一の塗布ヘッドによって多層塗布が実現され、スラリーを多層に分割して基板に数回塗布し、基板に一定の塗膜厚を形成し、このようにすれば、各塗布時に塗布ヘッドの各分配キャビティ内の圧力がスラリーを１つの分配キャビティに集中する場合の圧力よりも低く、リップの摩耗を低減することができる。そして、各層の塗布は同一の塗布ヘッドによって実現されるので、層間の塗布間隔時間が短くなり、各層の同時塗布を実現し、各塗布開口から流出したスラリーを塗布ヘッドのリップでまず接着して基板に塗布し、層間の密着性がより良く、相対的に剥離しにくい。さらに、少なくとも１つの分配キャビティと供給装置間に弁が設けられ、この塗布システムは局所的な薄層塗布を実現することができる。

本出願のいくつかの実施例では、前記塗布システムはバックローラをさらに含み、前記バックローラは前記基板を転送するために使用され、各前記塗布開口の吐出方向が前記バックローラの直径の延伸方向と一致している。

上記技術的解決手段では、塗布開口の吐出方向はバックローラの直径方向に沿っているため、塗布ヘッドのリップのスキージを回避することができる。

本出願のいくつかの実施例では、前記少なくとも２つの分配キャビティの１つの分配キャビティの塗布開口の吐出方向は水平に配置される。

上記技術的解決手段では、塗布ヘッドの塗布開口の１つの塗布開口の吐出方向が水平に配置されることにより、塗布ヘッドのリップスキージを回避することができる。塗布ヘッドが塗布作業中上下に振動するので、水平に配置された塗布開口は塗布ヘッドに追従して上下に振動し、このようにすれば、水平に配置された塗布開口は上下方向にしか位置変化せず、バックローラの中心からの水平距離が変化することなく、この塗布開口から吐出された塗膜の厚さに影響を与えず、塗布品質を確保することに有利である。

本出願のいくつかの実施例では、前記塗布システムは吸着装置をさらに含み、前記吸着装置は前記塗布開口において安定した空気圧を維持するために使用される。

上記技術的解決手段では、吸着装置は、塗布開口において安定した空気圧を維持し、塗布開口でのスラリーが気流変動の影響を受けず、スラリーと基板間の親和性が向上し、塗布の均一性を向上させ、塗布品質を向上させることができる。

本出願のいくつかの実施例では、前記塗布システムはマーキング装置をさらに含み、前記マーキング装置は前記塗布ヘッドの下流に配置され、前記マーキング装置は前記基板の非塗布領域をマーキングして、薄塗布位置または非塗布位置をマーキングするために使用される。

上記技術的解決手段では、マーキング装置の設置により、基板の非塗布領域にマーキングして、薄塗布位置または非塗布位置をマーキングし、後のダイカットに正確な位置決めを提供する。

本出願のいくつかの実施例では、前記分配キャビティの数は２つであり、前記塗布ヘッドは下型、中型および上型を含み、前記上型の下面と前記中型の上面間に１つの分配キャビティが形成され、前記中型の下面と前記下型の上面間にもう１つの分配キャビティが形成される。

上記技術的解決手段では、塗布ヘッドは、下型、中型および上型を含み、組み合わせると、中型と上型、中型と下型はそれぞれ分配キャビティを形成する。このようにすれば、塗布ヘッドを分解して分配キャビティ内の洗浄および分配キャビティ内部の部品の交換に便利である。

本出願のいくつかの実施例では、前記塗布ヘッドは２つのガスケットをさらに含み、前記２つのガスケットはそれぞれ前記上型と前記中型間、前記中型と前記下型間に設けられ、前記塗布開口は前記ガスケットに設けられる。

上記技術的解決手段では、ガスケットの厚さは塗布開口の塗膜厚に影響を与え、塗布重量に影響を与え、上型と中型間、中型と下型間に異なる厚さのガスケットを設けることで、塗布重量を調整することができる。

本出願のいくつかの実施例では、前記上型と前記中型は枢動可能に接続され、前記中型と前記下型は枢動可能に接続され、前記塗布ヘッドは第１クランプ部材と第２クランプ部材をさらに含み、前記第１クランプ部材は、前記上型と前記中型を閉じるとき前記上型と前記中型を固定するために使用され、前記第２クランプ部材は、前記中型と前記下型を閉じるとき前記中型と前記下型を固定するために使用される。

上記技術的解決手段では、上型と前記中型は枢動可能に接続され、中型と前記下型は枢動可能に接続され、塗布ヘッドの各部材が常に接続され、下型、中型と上型の相対的な位置を固定することができ、下型と中型を閉じ、中型と上型を閉じるとき、３つの位置を再確認する必要がなく正確な閉じを実現することができる。第１クランプ部材と第２クランプ部材はそれぞれ上型と中型、中型と下型を強固に接続し、２つの分配キャビティ中のスラリーの圧力および流速を安定化させ、塗布品質を向上させることができる。

本出願のいくつかの実施例では、前記供給装置の数は少なくとも２つであり、前記供給装置は前記分配キャビティと１対１で対応し、前記供給装置は貯蔵タンクと供給ポンプを含み、前記供給ポンプは前記貯蔵タンク内のスラリーを前記分配キャビティに圧送するために使用される。

上記技術的解決手段では、供給装置は分配キャビティと１対１で対応して設けられ、各分配キャビティの供給速度および圧力を独立に制御することに有利である。

本出願のいくつかの実施例では、前記弁は弁本体、第１弁コア、第２弁コア、第１駆動部材と第２駆動部材を含み、前記弁本体に材料入口、材料戻り口および排出口が設けられ、前記排出口は前記分配キャビティに連通し、前記材料入口は前記供給ポンプの出口に連通し、前記材料戻り口は前記貯蔵タンクに連通し、前記第１駆動部材は、前記第１弁コアを駆動して前記弁本体内で移動させ、前記材料入口と前記排出口を連通または遮断するように構成され、前記第２駆動部材は、前記第２弁コアを駆動して前記弁本体内で移動させ、前記排出口と前記材料戻り口を連通または遮断するように構成される。塗布する必要がある場合、前記第１駆動部材は前記第１弁コアを開弁するように駆動して、前記材料入口と前記排出口を連通し、且つ、前記第２駆動部材は前記第２弁コアを閉弁するように駆動して、前記排出口と前記材料戻り口を遮断しても良い。塗布する必要がない場合、前記第１駆動部材は前記第１弁コアを閉弁するように駆動して、前記材料入口と前記排出口を遮断し、且つ、前記第２駆動部材は前記第２弁コアを開弁するように駆動して、前記排出口と前記材料戻り口を連通しても良い。

上記技術的解決手段では、第１弁コアの移動により材料入口と排出口を連通または遮断し、材料入口と排出口を連通させることにより塗布を実現することができる。第２弁コアの移動により排出口と材料戻り口を連通または遮断し、薄塗布または非塗布の位置の場合、第２弁コアを介して排出口と材料戻り口を連通し、対応の分配キャビティ内のスラリーは貯蔵タンクに流れ戻り、分配キャビティに残留したスラリーが非塗布または薄塗布に影響を与えることを回避することができる。つまり、この弁によって、塗布ヘッドへの供給も材料戻りも実現することができる。塗布が不要な場合、材料を即時に戻して、分配キャビティ内のスラリーが間隔塗布または局所的な薄層塗布の塗布効果に影響を与えることを回避することができる。

本出願の実施例の技術的解決手段をより明確に説明するために、以下実施例で使用される図面を簡単に説明するが、以下の図面は本出願のいくつかの実施例を示すに過ぎず、範囲を限定するものとして解釈されなく、当業者にとって、創造的な労働をすることなく、これらの図面に基づいて他の関連する図面を得ることができる。

本出願の実施例によって提供される塗布システムの概略図である。図１中の塗布システムの概略ブロック図である。本出願の別の実施例によって提供される塗布システムの概略図である。図１中の塗布ヘッドの第１視点の概略図である。図１中の塗布ヘッドの第２視点の概略図である。図１中の塗布ヘッドの断面図である。図１中の弁の概略図である。

本出願の実施例の目的、技術的解決手段および利点をより明確にするために、本出願の実施例における技術的解決手段を、本出願の実施例における添付の図面と併せて、明確かつ完全に説明する。明らかに、説明された実施例それは本出願の実施例の一部であり、実施例の全てではない。本明細書において一般的に説明され、図面に示される本出願の実施例の構成要素は、様々な異なる構成で配置および設計され得る。

したがって、添付図面に提供された本出願の実施例の以下の詳細な説明は、請求された本出願の範囲を制限することを意図するものではなく、単に本出願の選択された実施例を表すものである。本出願の実施例に基づき、当業者が創造的な労働をすることなく得られた他の実施例は、すべて本出願の保護範囲に含まれる。

本出願の実施例と実施例における特徴は、矛盾がなければ、互いに組み合わせることができることに留意すべきである。

また、以下の図面において、同様の参照数字及び文字は、同様の項目を示すことに留意すべきであるため、ある図面においてある項目が定義されると、それ以降の図面においてさらに定義及び説明する必要はない。

本出願の実施例の説明において、指示方位または位置関係は、図面に示す方位または位置関係、またはこの出願製品が使用されるときに慣習的に置かれる方位または位置関係、または当業者が一般的に理解されている方位または位置関係であり、本出願の説明および説明の簡略化の目的でのみ使用され、かかる装置またはデバイスは必ずしも特定の方位を有し、特定の方位で構成および操作されることを指示または暗示するものではなく、本出願の制限として解釈されないことに留意されたい。さらに、「第１」、「第２」、「第３」などの用語は説明を区別するために使用され、相対的な重要性を指示または暗示するものとして解釈されない。

通信、携帯電子製品、電気自動車、航空宇宙、船舶などの分野でのリチウムイオン電池の応用と漸進的な普及に伴い、特に電気自動車の分野では、高い航続距離と安全性能に対する要求がますます強くなって、リチウムイオン電力電池の極片塗布プロセスにもより高い要求がある。

プレス塗装機の塗布技術が成熟し、リチウム電池の塗布生産プロセスの主流の方向になっている。

当初、電力電池企業のリチウムイオン極片塗布生産プロセスでは、単一層・単一キャビティの塗布ヘッドを使用して塗布し、スラリーが塗布ヘッドリップから連続的に基板に吐出され、膜の表面密度を均一化にする目的を達成する。単一層・単一キャビティ塗布ヘッドのキャビティ圧力が大きくなり、リップの摩耗が発生しやすい。リップ摩耗の過程中塗布過程の重量が変動し、リップでの塗布スラリーが薄すぎるか厚すぎることがあり、そうすると、リチウムイオン電池の充放電過程中、リチウム析出の安全上リスクがある。

したがって、複数の塗布ヘッドによって同じ重量の塗布スラリーを多層に分割して基板上に塗布することが考えられ、このようにすれば、塗布重量を確保するだけでなく各塗布ヘッドのキャビティ内のスラリー圧力を低減でき、リップの摩耗を低減する。しかしながら、その分、各塗布ヘッド間に時間差が生じ、層間密着性が悪くなり、相対的に剥離しやすくなる。

これを鑑み、本出願の実施例は、基板２００を塗布して極片を形成するための塗布システム１００を提供し、塗布ヘッド１０に塗布開口を有する複数の分配キャビティ１１を設け、少なくとも１つの分配キャビティ１１と供給装置２０間に弁３０が設けられることにより、塗布システム１００は多層塗布を実現し、塗布ヘッド１０のリップの摩耗を低減できるだけでなく、間隔塗布と薄塗布も実現可能である。

なお、基板２００は極片の集電体である。

図１および図２を参照すると、図１は本出願の実施例によって提供される塗布システム１００の概略図であり、図２は図１中の塗布システム１００の概略ブロック図である。塗布システム１００は塗布ヘッド１０、供給装置２０および弁３０を含む。塗布ヘッド１０に相互に独立した少なくとも２つの分配キャビティ１１が設けられ、各分配キャビティ１１はそれぞれ塗布開口を有する。供給装置２０は分配キャビティ１１に接続され、供給装置２０は分配キャビティ１１にスラリーを提供するために使用され、少なくとも１つの分配キャビティ１１と供給装置２０間に弁３０が設けられ、弁３０は対応の分配キャビティ１１と供給装置２０を連通または遮断するために使用される。

塗布ヘッド１０に塗布開口を有する複数の分配キャビティ１１が設けられ、各分配キャビティ１１は各層に対応して塗布し、つまり同一の塗布ヘッド１０によって多層塗布を実現し、スラリーを多層に分割して基板２００に数回塗布して基板２００に一定の塗膜厚を形成することができ、このように、各塗布時に塗布ヘッド１０の各分配キャビティ１１内の圧力がスラリーを１つの分配キャビティ１１内に集中したときの圧力よりも低く、リップの摩耗低減することができる。塗布開口のサイズを大きく設計すると、塗布重量を高め、リチウム電池容量を増加させることができる。

そして、各層の塗布は同一の塗布ヘッド１０によって実現され、層間塗布間隔時間が短くなり、各層の同時塗布を実現し、各塗布開口から流出したスラリーを塗布ヘッド１０のリップでまず接着した後基板２００に塗布し、層間の密着性がより良く、相対的に剥離することがない。

また、少なくとも１つの分配キャビティ１１と供給装置２０間に弁３０が設けられ、この塗布システム１００は局所的な薄層塗布を実現することができる。

いくつかの実施例では、図１に示すように、各分配キャビティ１１と供給装置２０間に弁３０が設けられ、各弁３０が対応の分配キャビティ１１と供給装置２０を連通すると、各塗布開口は塗布を実現でき、一部の弁３０が対応の分配キャビティ１１と供給装置２０の接続を間欠的に遮断し、残りの弁３０が対応の分配キャビティ１１と供給装置２０を常に連通すると、塗布ヘッド１０は局所的な薄層塗布を実現でき、すべての弁３０が対応の分配キャビティ１１と供給装置２０の接続を間欠的に遮断すると、基板２００の部分非塗布、つまり部分間欠塗布を実現することができる。

いくつかの実施例では、図３に示すように、１つの分配キャビティ１１と供給装置２０間に弁３０が設けられ、他の分配キャビティ１１と供給装置２０間に弁３０が設けられていないと、この弁３０によって対応の分配キャビティ１１と供給装置２０の接続を間欠的に遮断し、基板２００に対する局所的な薄層塗布を実現でき、この弁３０によって対応の分配キャビティ１１と供給装置２０の接続を常に遮断すると、基板２００全体に対する薄塗布を実現することができる。

いくつかの実施例では、供給装置２０の数は少なくとも２つであり、供給装置２０は分配キャビティ１１と１対１で対応し、供給装置２０は貯蔵タンク２１と供給ポンプ２２を含み、供給ポンプ２２は貯蔵タンク２１内のスラリーを分配キャビティ１１に圧送するために使用される。供給装置２０は分配キャビティ１１と１対１で対応し設置され、各分配キャビティ１１の供給速度と圧力を独立して制御することに有利である。供給ポンプ２２はスクリューポンプである。

いくつかの実施例では、分配キャビティ１１の数に応じて、供給装置２０の数を調整し、供給装置２０と分配キャビティ１１を１対１で対応して設置する。例えば、分配キャビティ１１の数が３つであると、対応して、供給装置２０の数も３つである。

いくつかの実施例では、供給装置２０は１つであってもよく、同一の供給装置２０によって各分配キャビティ１１に供給する。

いくつかの実施例では、図３に示すように、供給装置２０は１つの貯蔵タンク２１と複数の供給ポンプ２２を含み得、供給ポンプ２２は分配キャビティ１１と１対１で対応して設置され、供給ポンプ２２は貯蔵タンク２１内の供給ポンプ２２を対応する分配キャビティ１１内に送る。

いくつかの実施例では、塗布システム１００はマーキング装置４０をさらに含み、マーキング装置４０は塗布ヘッドの下流に位置し、マーキング装置４０は基板２００の非塗布領域をマーキングし、薄塗布位置または非塗布位置をマーキングするために使用される。つまり、マーキング装置４０は塗布済の一部の基板２００の非塗布領域をマーキングして、薄塗布または非塗布の位置をマーキングし、後のダイカットに正確な位置決めを提供する。もちろん、マーキング装置４０は弁３０とＰＬＣ（プログラムブルロジックコントローラー）を介して閉ループ制御され、指定の間隙位置（非塗布位置）または薄塗布位置にマーキングして、後のダイカットに検出および識別を提供し、ラグのダイカットの正確な位置決めを提供し、間隙位置または薄塗布位置が巻取後の所定位置にある。マーキング装置４０はインクジェット装置を含むが、これに限定されない。なお、下流とは加工工程の後工程を指し、塗布ヘッド１０の下流で、まず塗布工程を実行し、その後マーキング工程を実行する。

いくつかの実施例では、塗布システム１００はダンパ５０をさらに含み、ダンパ５０はスラリー流れ過程の圧力変動のバランスを取るために使用され、スラリーの流れを安定化する。ダンパ５０は脈動ダンパ５０であり、脈動ダンパ５０は滑らかな脈動効果を達成するために加圧された液体を蓄積するように特別に設計された装置である。脈動ダンパ５０は、エアバッグ型脈動ダンパであってもよいし、貫通型脈動ダンパであってもよい。その中で、エアバッグ型脈動ダンパは、気体の圧縮性を利用して、エネルギーの蓄積及び放出という目的を達成することができる。

いくつかの実施例では、貯蔵タンク２１と供給ポンプ２２間にダンパ５０が設けられ、このダンパ５０は貯蔵タンク内のスラリーの液面変化に起因する供給圧力の変動を解消し、供給ポンプ２２におけるスラリーの供給をスムーズに流れるようにすることができる。

いくつかの実施例では、供給ポンプ２２と弁３０間にダンパ５０が設けられ、このダンパ５０は、供給ポンプ２２に起因する供給圧力の変動や、弁３０の開閉に起因する供給圧力の移動衝撃を解消する。

いくつかの実施例では、貯蔵タンク２１と供給ポンプ２２間、供給ポンプ２２と弁３０間にそれぞれダンパ５０が設けられてもよい。

いくつかの実施例では、弁３０と塗布ヘッド１０間にダンパ５０が設けられ、このダンパ５０は、スラリーが塗布ヘッド１０に入る前の供給圧力の変動を解消することができる。さらに、流量計１２０によって圧送流量を即時に監視し、塗布測定システム３００で閉ループ制御が実現され、塗布状況に応じて供給ポンプ２２の圧送速度を調整することもできる。

いくつかの実施例では、貯蔵タンク２１と供給ポンプ２２間、供給ポンプ２２と弁３０間、弁３０と塗布ヘッド１０間にそれぞれダンパ５０が設けられてもよい。供給ポンプ２２と弁３０間、弁３０と塗布ヘッド１０間にダンパ５０が設けられてもよい。

いくつかの実施例では、塗布システム１００は第１フィルタ６０をさらに含む。供給ポンプ２２と弁３０間に第１フィルタ６０が設けられてもよいし、弁３０と塗布ヘッド１０間に第１フィルタ６０が設けられてもよいし、ポンプと弁３０間、弁３０と塗布ヘッド１０間に第１フィルタ６０が設けられてもよく、貯蔵タンク２１から圧送されたスラリーが第１フィルタ６０によって濾過された後塗布ヘッド１０の分配キャビティ１１に入る。第１フィルタ６０の設置によりスラリー濾過効果が向上し、供給粒子の濾過効果が効果し、塗布品質を大幅に向上させることができる。

貯蔵タンク２１と供給ポンプ２２間にダンパ５０が設けられている場合、第１フィルタ６０がダンパ５０の上流に設けられる。なお、上流とは、加工工程中の前工程を指し、つまり、第１フィルタ６０が貯蔵タンク２１とダンパ５０間に設けられ、スラリーがまず第１フィルタ６０によって濾過された後ダンパ５０を通過する。弁３０と塗布ヘッド１０間にダンパ５０が設けられている場合、第１フィルタ６０がダンパ５０の上流に設けられ、つまり、第１フィルタ６０が弁３０とダンパ５０間に設けられ、スラリーがまず第１フィルタ６０によって濾過された後ダンパ５０を通過する。このようにすれば、スラリーが第１フィルタ６０を通過したことによって引き起こされたスラリー圧力変動がダンパ５０によって均衡され得る。

いくつかの実施例では、塗布システム１００は第２フィルタ７０と給料システム８０をさらに含み、給料システム８０は貯蔵タンク２１に供給する。第２フィルタ７０は給料システム８０と貯蔵タンク２１間に設けられ、給料システム８０と貯蔵タンク２１間で濾過を行う。第２フィルタ７０によって濾過される粒子は第１フィルタ６０よりも大きい。第１フィルタ６０は３芯フィルタであり、第２フィルタ７０は回転フィルタである。もちろん、実際のニーズに応じて、第１フィルタ６０と第２フィルタ７０は同じフィルタであってもよく、例えば第１フィルタ６０と第２フィルタ７０はいずれも３芯フィルタであってもよいし、または第１フィルタ６０と第２フィルタ７０はいずれも回転フィルタであってもよい。

いくつかの実施例では、塗布システム１００に流量計１２０と圧力センサー１３０がさらに設けられ、流量計１２０と圧力センサー１３０は塗布中のスラリー流量およびダイキャビティ圧力を即時に検出し、フィードバックして調節することができる。流量計１２０は供給ポンプ２２と弁３０間に設けられ、流量計１２０はβ／Ｘ-ｒａｙなどの塗布測定システム３００と統合して閉ループ制御システムを実現し、塗布重量をより均一化し、塗布重量の一致性を向上させる。圧力センサー１３０は貯蔵タンク２１と弁３０の材料戻り口３１３（後述）間に設けられる。

図４～図６に示すように、図４は塗布ヘッド１０の第１視点の概略図であり、図５は塗布ヘッド１０の第２視点の概略図であり、図６は塗布ヘッド１０の断面図である。

分配キャビティ１１の数は２つである。塗布ヘッド１０は下型１４、中型１３および上型１２を含み、上型１２の下面と中型１３の上面間に１つの分配キャビティ１１が形成され、第１分配キャビティ１１ａとして定義され、中型１３の下面と下型１４の上面間にもう１つの分配キャビティ１１が形成され、第２分配キャビティ１１ｂとして定義される。塗布ヘッド１０は下型１４、中型１３および上型１２を含み、組み合わせた後、中型１３と上型１２、中型１３と下型１４がそれぞれ分配キャビティ１１を形成し、塗布ヘッド１０を分解して分配キャビティ１１内の洗浄および分配キャビティ１１の内部部品の交換に便利である。

上型１２に第１分配キャビティ１１ａと連通する第１給料口１２２が設けられ、供給装置２０は第１給料口１２２から第１分配キャビティ１１ａに供給する。下型１４に第２分配キャビティ１１ｂと連通する第２給料口１４１が設けられ、供給装置２０は第２給料口１４１から第２分配キャビティ１１ｂに供給する。

上型１２と中型１３間の分配キャビティ１１は、上型１２の下面と中型１３の上面間に形成され、中型１３と下型１４間の分配キャビティ１１は、中型１３の下面と下型１４の上面間に形成される。

その中で、第１分配キャビティ１１ａは第１凹部１２１と第２凹部１３１を含み、第２凹部１３１は第１凹部１２１よりも塗布開口に近く、第１凹部１２１と第２凹部１３１は第１方向に間隔を空けて配置され、第１凹部１２１と第２凹部１３１間に第１緩流帯（図示しない）が形成され、第１凹部１２１の幅が第２凹部１３１の幅よりも大きく、第１給料口１２２は第１凹部１２１に直接連通する。第１給料口１２２からのスラリーが順次第１凹部１２１、第１緩流帯と第２凹部１３１を通過し、最終的に塗布開口から押出される。第１給料口１２２から塗布開口まで、スラリーの速度が徐々に減少し、第２凹部１３１により流入したスラリーの速度を減少して、第１給料口１２２からのスラリーが第１分配キャビティ１１ａ内でのながれによる圧力損失によって引き起こされた圧力分配不均一を回避して、スラリー流れの均一性を向上させる。

第１凹部１２１は上型１２の下面に設けられ、第２凹部１３１は中型１３の上面に設けられることで、中型１３の構造強度を確保するだけでなく、スラリーの流動中自重作用によるスラリー圧力変動と流れ安定性不良という問題を解消することもできる。第１凹部１２１と第２凹部１３１はいずれも円弧状の溝であり、スラリーが第１凹部１２１と第２凹部１３１に入り込むと、スラリーが第１凹部１２１と第２凹部１３１の溝壁に対して垂直に作用するのを回避し、第１凹部１２１と第２凹部１３１の溝壁のスラリーに対する衝撃を低減し、第１凹部１２１と第２凹部１３１内のスラリーの速度と圧力変動を低減することができる。いくつかの実施例では、第１凹部１２１と第２凹部１３１は他の形状の凹部であってもよい。

いくつかの実施例では、第１凹部１２１と第２凹部１３１はいずれも中型１３の上面または上型１２の下面に設けられてもよい。

いくつかの実施例では、第１分配キャビティ１１ａは、第１凹部１２１または第２凹部１３１のみを含んでもよい。

いくつかの実施例では、第１凹部１２１は上型１２の下面に設けられ、第２凹部１３１は中型１３の上面に設けられ、第１凹部１２１と第２凹部１３１の幅は同じであり、第１凹部１２１と第２凹部１３１は対向して配置されて環状の第１分配キャビティ１１ａを形成する。

第２分配キャビティ１１ｂは第３凹部１４２と第４凹部１４３を含み、第４凹部１４３は第３凹部１４２よりも塗布開口に近く、第３凹部１４２と第４凹部１４３は第１方向に間隔を空けて配置され、第３凹部１４２と第４凹部１４３間に第２緩流帯（図示しない）が形成され、第３凹部１４２の幅が第４凹部１４３の幅よりも大きく、第２給料口１４１が第３凹部１４２に直接連通する。第２給料口１４１からのスラリーが順次第３凹部１４２、第２緩流帯と第３凹部１４２を通過し、最終的に塗布開口から押出される。第２給料口１４１から塗布開口まで、スラリーの速度が徐々に減少し、第４凹部１４３によって流入したスラリーの速度を減少し、第２給料口１４１からのスラリーが第２分配キャビティ１１ｂ内での流れによる圧力損失によって引き起こされた圧力分配不均一を回避して、スラリー流れの均一性を向上させる。第３凹部１４２と第４凹部１４３はいずれも円弧状の溝であり、スラリーが第３凹部１４２と第４凹部１４３内に流入すると、スラリーが第３凹部１４２と第４凹部１４３の溝壁に対して垂直に作用するのを回避し、第３凹部１４２と第４凹部１４３の溝壁のスラリーに対する衝撃を減少し、第３凹部１４２と第４凹部１４３内のスラリーの速度と圧力変動を減少することができる。いくつかの実施例では、第３凹部１４２と第４凹部１４３は他の形状の凹部であってもよい。

本実施例では、第３凹部１４２と第４凹部１４３は下型１４の上面に設けられることで、中型１３の構造強度を確保することができる。

いくつかの実施例では、第３凹部１４２と第４凹部１４３はいずれも中型１３の下面に設けられてもよいし、第３凹部１４２と第４凹部１４３は別々に下型１４の上面と中型１３の下面に設けられてもよい。

第２凹部１３１は中型１３の上面に設けられることで、中型１３の構造強度を確保するだけでなく、スラリーの流れ中自重作用によるスラリー圧力と流れ安定性が悪くなるという問題を解消することもできる。

いくつかの実施例では、第２分配キャビティ１１ｂは、第３凹部１４２または第４凹部１４３のみを含んでもよい。

いくつかの実施例では、第３凹部１４２は下型１４の上面に設けられ、第４凹部１４３は中型１３の下面に設けられ、第３凹部１４２と第４凹部１４３の幅が同じであり、第３凹部１４２と第４凹部１４３は対向して配置されて環状の第２分配キャビティ１１ｂを形成する。

２つの分配キャビティ１１内の空気を排出するために、塗布ヘッド１０に第１排気口１２３と第２排気口１３２が設けられ、第１排気口１２３は上型１２に設けられて第１分配キャビティ１１ａに連通し、第２排気口１３２は中型１３に設けられて第２分配キャビティ１１ｂに連通する。いくつかの実施例では、上型１２にサブ排気口１２４がさらに設けられる。排気品質と排気効率を向上させるために、第１排気口１２３は２つであり、２つの第１排気口１２３が塗布開口の塗布幅方向Ｄにおいて間隔を空けて上型１２に配置される。第２排気口１３２は２つであり、２つの第２排気口１３２が塗布開口の塗布幅方向Ｄにおいて間隔を空けて下型１４に配置される。

いくつかの実施例では、塗布ヘッド１０は２つのガスケット１５をさらに含み、２つのガスケット１５がそれぞれ上型１２と中型１３間、中型１３と下型１４間に設けられ、塗布開口がガスケット１５に設けられる。２つのガスケット１５はそれぞれ押圧板１５１を介して下型１４と中型１３に取り付けられ、押圧板１５１はガスケット１５を支持して、ガスケット１５でスラリー漏れが発生するのを回避するために使用される。ガスケット１５の厚さは、塗布開口の塗膜厚に影響し、ひいては塗布重量に影響するため、上型１２と中型１３間、中型１３と下型１４間に異なる厚さのガスケット１５を設けることで塗布重量を調整することができる。

いくつかの実施例では、２つのガスケット１５はそれぞれ上型１２と中型１３に取り付けられてもよい。

いくつかの実施例では、塗布ヘッド１０は一体構造であるため、塗布ヘッド１０にガスケット１５が設けられていなくてもよく、塗布開度が機械的加工によって実現され得る。

いくつかの実施例では、上型１２と中型１３は枢動可能に接続され、中型１３と下型１４は枢動可能に接続されるため、塗布ヘッド１０の各部分の部材が常に接続され、下型１４、中型１３と上型１２の相対的な位置を固定し、下型１４と中型１３を閉じ、中型１３と上型１２を閉じる場合、３つの位置を再確認する必要がなく、正確な閉じを実現することができる。上型１２と中型１３は第１ヒンジ１６によって枢動可能に接続され、中型１３と下型１４は第２ヒンジ１７によって枢動可能に接続される。

塗布ヘッド１０は第１クランプ部材１８と第２クランプ部材１９をさらに含み、第１クランプ部材１８は上型１２と中型１３を閉じると上型１２と中型１３を固定するために使用され、第２クランプ部材１９は中型１３と下型１４を閉じると中型１３と下型１４を固定するために使用される。上型１２と中型１３が閉じると、第１クランプ部材１８は上型１２と中型１３を同時に接続して、上型１２と中型１３を強固に接続させ、下型１４と中型１３が閉じると、第２クランプ部材１９は下型１４と中型１３を同時に接続して、下型１４と中型１３を強固に接続させる。第１クランプ部材１８と第２クランプ部材１９はそれぞれ上型１２と中型１３、中型１３と下型１４を強固に接続させ、２つの分配キャビティ１１中のスラリー圧力と速度を安定化して、塗布品質を向上させる。第１クランプ部材１８と第２クランプ部材１９はネジ、ボルトなどの接続部品であり得る。

閉状態下で上型１２、中型１３と下型１４をより強固に接続させるために、塗布ヘッド１０は固定バックプレート１９０をさらに含み、固定バックプレート１９０の一端は中型１３に着脱可能に接続され、固定バックプレート１９０の他端は下型１４に着脱可能に接続される。

塗布ヘッド１０は回転式付勢レバー１９１をさらに含み、回転式付勢レバー１９１は１つであり、中型１３に取り付けられ、回転式付勢レバー１９１は複数であってもよく、例えば回転式付勢レバー１９１は２つであり、２つの回転式付勢レバー１９１はそれぞれ上型１２と中型１３に取り付けられるか、または２つの回転式付勢レバー１９１はそれぞれ中型１３と下型１４に取り付けられるか、または２つの回転式付勢レバー１９１はそれぞれ上型１２と下型１４に取り付けられてもよい。また、例えば、回転式付勢レバー１９１は３つであり、３つの回転式付勢レバー１９１はそれぞれ上型１２、中型１３と下型１４に取り付けられてもよい。

第１分配キャビティ１１ａの洗浄または上型１２と中型１３間のガスケット１５の交換時、第１クランプ部材１８を取り外し、回転式付勢レバー１９１を手で持って、上型１２を第１ヒンジ１６の回転の周りに開き、第１分配キャビティ１１ａの洗浄またはガスケット１５の交換を実現する。第２分配キャビティ１１ｂの洗浄または下型１４と中型１３間のガスケット１５の交換時、第２クランプ部材１９と固定バックプレート１９０を取り外し、回転式付勢レバー１９１を手で持って、中型１３を第２ヒンジ１７の回転軸の周りに開き、第２分配キャビティ１１ｂの洗浄またはガスケット１５の交換を実現する。

いくつかの実施例では、塗布ヘッド１０は調節機構１９２をさらに含み、調節機構１９２は塗布開口の塗布流量を調節するために使用される。その中で、調節機構１９２はマイクロメーター調節機構１９２であり、マイクロメーター調節機構１９２とは調節機構１９２の調節精度がマイクロメーターの精度に達することを意味し、調節精度を向上させることができる。調節機構１９２は固定板１９２１と固定ネジ１９２２を介して上型１２に取り付けられる。調節機構１９２の数は複数であり、複数の調節機構１９２は塗布開口の塗布幅方向Ｄにおいて間隔を空けて配置されるため、幅方向の部分領域または全体領域の塗布流量調節を実現することができる。

塗布ヘッド１０は調節プッシュプルロッド１９３をさらに含み、下型１４の重量調節を実現し、プッシュプルロッドが下型１４のリップ後に近いＵ字形の溝（図示しない）にねじ込まれ、プッシュプルモーメントがかかることでリップ開度を調節する。調節機構１９２と調節プッシュプルロッド１９３がリップの開度を調節することは、実際に、調節機構１９２と調節プッシュプルロッド１９３によって分配キャビティ１１の塗布開口の遮断面積の大きさを調節することで実現される。調節機構１９２と調節プッシュプルロッド１９３によって遮断された塗布開口の面積が大きいほど、リップの開度が小さくなり、塗布重量が小さくなる。調節機構１９２と調節プッシュプルロッド１９３によって遮断された塗布開口の面積が小さいほど、リップの開度が大きくなり、塗布重量が大きくなる。

いくつかの実施例では、塗布ヘッド１０は一体構造であり、分配キャビティ１１と塗布開口は機械的加工によって塗布ヘッド１０を加工することで実現される。

いくつかの実施例では、塗布システム１００はバックローラ９０をさらに含み、基板２００はバックローラ９０の周りに巻かれ、バックローラ９０は基板２００の伝達に用いられ、バックローラ９０が回転すると、バックローラ９０と基板２００間の摩擦力によって基板２００を駆動して基板２００の延伸方向に沿って移動させる。

各塗布開口の吐出方向はバックローラ９０の直径の延伸方向と重なる。塗布開口の吐出方向はバックローラ９０の直径方向に沿っているため、塗布ヘッド１０のリップスキージを回避することができる。

いくつかの実施例では、すべての分配キャビティ１１中の１つの分配キャビティ１１の塗布開口の吐出方向は水平に配置される。水平方向Ｃは上下方向に垂直し、塗布ヘッド１０の塗布開口の１つの塗布開口の吐出方向が水平に配置されることによって、塗布ヘッド１０のリップスキージを回避することができる。また、塗布ヘッド１０は塗布作業中上下方向の振動が発生し、塗布ヘッド１０が上下振動するとき、水平に配置された塗布開口は上下方向でのみ位置変化し、バックローラ９０の中心までの水平距離がわずか変化し、この塗布開口吐出の塗膜厚に対する影響が小さく、塗布品質を確保するのに有利である。

バックローラ９０によって基板２００を高速に移動させる過程中、空気が塗布開口に運ばれ、塗布開口での気流が不安定になる。塗布開口押出機で押し出されたスラリーは非常に薄いため、塗布開口で不安定な気流が常に乱れると、スラリーと基板２００間の親和性が低下し、基板２００に塗布されたスラリーは気泡や箔漏れなどが発生し、塗布効果が悪くなる場合がある。また、塗布開口での空気の不均一により、塗布均一性が悪化し、特にスラリー粘度と固形分が低い場合、この現象がより深刻になる。

これに基づいて、いくつかの実施例では、塗布システム１００は吸着装置１１０（図３）をさらに含み、吸着装置１１０は塗布開口での安定な空気圧を維持するために使用される。吸着装置１１０は真空装置であり、吸着装置１１０は真空ポンプを含み、真空ポンプの吸引口は塗布ヘッド１０の上流に設けられる。吸着装置１１０の吸引口は塗布ヘッドの上流で吸引し、塗布ヘッド１０の上流から塗布開口での安定な空気圧を維持し、塗布開口でのスラリーが気流変動の影響を受けず、スラリーと基板２００間の親和性が高まり、塗布の均一性を向上させ、塗布品質を向上させることができる。なお、上流とは加工工程の前工程を指し、塗布ヘッド１０の上流とは、まず他の工程を実行し、その後塗布工程を実行することを意味する。

いくつかの実施例では、塗布ヘッド１０に、接着剤ディスペンサーバルブ１９４がさらに設けられ、接着剤ディスペンサーバルブ１９４は下型１４に設けられ、接着剤ディスペンサーバルブ１９４は極片のラグに絶縁接着剤を塗布するために使用される。

いくつかの実施例では、図７に示すように、図７は弁３０の構造概略図である。弁３０は弁本体３１、第１弁コア３２、第２弁コア３３、第１駆動部材３４と第２駆動部材３５を含み、弁本体３１に材料入口３１１、材料戻り口３１３および排出口３１２が設けられ、排出口３１２は分配キャビティ１１に連通し、材料入口３１１は供給ポンプ２２の出口に連通し、材料戻り口３１３は貯蔵タンク２１に連通し、第１駆動部材３４は、第１弁コア３２を駆動して弁本体３１内で移動させ、材料入口３１１と排出口３１２を連通または遮断するように構成され、第２駆動部材３５は、第２弁コア３３を駆動して弁本体３１内で移動させ、排出口３１２と材料戻り口３１３を連通または遮断するように構成される。

第１駆動部材３４と第２駆動部材３５はいずれも、シリンダー、電動シリンダーなどの直線駆動機構である。第１駆動部材３４は弁本体３１に固定的に取り付けられ、第１弁コア３２は第１駆動部材３４の出力端に固定され、第２駆動部材３５は第２駆動部材３５の出力端に固定的に取り付けられる。塗布する必要がある場合、第１駆動部材３４は第１弁コア３２を上方に移動させるように駆動して、材料入口３１１と排出口３１２を連通して、供給ポンプ２２によってスラリーを分配キャビティ１１内に圧送し、第２駆動部材３５は第２弁コア３３を下方に移動させるように駆動して、排出口３１２と材料戻り口３１３を遮断して、分配キャビティ１１内のスラリーが貯蔵タンク２１に流れ戻ることができない。塗布する必要がない場合、第１駆動部材３４は第１弁コア３２を下方に移動させるように駆動して、材料入口３１１と排出口３１２を遮断して、スラリーが給料口から分配キャビティ１１内に流入できなく、第２駆動部材３５は第２弁コア３３を上方に移動させるように駆動し、排出口３１２と材料戻り口３１３を連通して、分配キャビティ１１内のスラリーが貯蔵タンク２１に流れ戻る。材料入口３１１と排出口３１２を連通する時、第１弁コア３２の移動は、スラリーが分配キャビティ１１内に流入する前に行われるため、第１弁コア３２はスラリーに直接作用せず、スラリー圧力に影響を与えない。材料戻り口３１３と排出口３１２を連通する時、第２弁コア３３の移動はスラリーが貯蔵タンク２１内に流入する前に行われるため、第２弁コア３３はスラリーに直接作用せず、スラリー圧力に影響を与えなく、塗布品質が向上する。

スラリーの流れ戻りは、スラリー自身の流動特性を利用して実現されてもよく、供給ポンプ２２と同様の動力装置によって実現されてもよい。この弁３０は塗布ヘッド１０に給料し、材料戻りも実現できる。塗布する必要がない場合、材料を即時に戻して分配キャビティ１１内のスラリーが間隔塗布または局所的な薄層塗布の塗布効果を影響するのを回避することができる。

弁３０は第１封止構造３６と第２封止構造３７をさらに含み、第１封止構造３６は弁本体３１と第１駆動部材３４の出力端間に設けられ、第２封止構造３７は弁本体３１と第２駆動部材３５の出力端間に設けられる。

いくつかの実施例では、弁３０は、分配キャビティ１１と供給装置２０を連通または遮断する機能のみを有し、流れ戻り機能を有さないオンオフ弁であってもよい。

以上、本出願の好ましい実施例を説明したが、本出願を限定するものではなく、当業者にとって、本出願に様々な変更や修正を加えることができる。本出願の精神および原則を逸脱しない範囲で行われた任意の修正、同等置換や改良などは、すべて本出願の保護範囲に含まれるべきである。

１００塗布システム
１０塗布ヘッド
１１分配キャビティ
１１ａ第１分配キャビティ
１１ｂ第２分配キャビティ
１２上型
１２１第１凹部
１２２第１給料口
１２３第１排気口
１２４サブ排気口
１３中型
１３１第２凹部
１３２第２排気口
１４下型
１４１第２給料口
１４２第３凹部
１４３第４凹部
１５ガスケット
１５１押圧板
１６第１ヒンジ
１７第２ヒンジ
１８第１クランプ部材
１９第２クランプ部材
１９０固定バックプレート
１９１回転式付勢レバー
１９２調節機構
１９２１固定板
１９２２固定ネジ
１９３調節プッシュプルロッド
１９４接着剤ディスペンサーバルブ
２０供給装置
２１貯蔵タンク
２２供給ポンプ
３０弁
３１弁本体
３１１材料入口
３１２排出口
３１３材料戻り口
３２第１弁コア
３３第２弁コア
３４第１駆動部材
３５第２駆動部材
３６第１封止構造
３７第２封止構造
４０マーキング装置
５０ダンパ
６０第１フィルタ
７０第２フィルタ
８０給料システム
９０バックローラ
１１０吸着装置
１２０流量計
１３０圧力センサー
２００基板
３００塗布測定システム
Ｃ水平方向
Ｄ塗布開口の塗布幅方向

Claims

基板を塗布して極片を形成するための塗布システムであって、
相互に独立した２つの分配キャビティが設けられ、各分配キャビティはそれぞれ塗布開口を有する塗布ヘッドと、
前記分配キャビティのそれぞれに１対１で対応し且つ接続され、前記分配キャビティにスラリーを供給するために使用される２つの供給装置と、
前記分配キャビティと前記供給装置の２つの組合せの少なくとも一方の間に設けられ、対応の分配キャビティと前記供給装置を連通または遮断するために使用される弁とを含み、
前記塗布ヘッドは下型、中型および上型を含み、
前記上型の下面と前記中型の上面間に１つの分配キャビティが形成され、前記中型の下面と前記下型の上面間にもう１つの分配キャビティが形成され、
前記塗布ヘッドは２つのガスケットをさらに含み、前記２つのガスケットはそれぞれ前記上型と前記中型間、前記中型と前記下型間に設けられ、
前記塗布開口は前記ガスケットに設けられ、
前記供給装置は貯蔵タンクと供給ポンプを含み、前記供給ポンプは前記貯蔵タンク内のスラリーを前記分配キャビティに圧送するために使用され、
前記弁は弁本体、第１弁コア、第２弁コア、第１駆動部材と第２駆動部材を含み、
前記弁本体に材料入口、材料戻り口および排出口が設けられ、前記排出口は前記分配キャビティに連通し、前記材料入口は前記供給ポンプの出口に連通し、前記材料戻り口は前記貯蔵タンクに連通し、
前記第１駆動部材は、前記第１弁コアを駆動して前記弁本体内で移動させ、前記材料入口と前記排出口を連通または遮断するように構成され、
前記第２駆動部材は、前記第２弁コアを駆動して前記弁本体内で移動させ、前記排出口と前記材料戻り口を連通または遮断するように構成され、
塗布する必要がある場合、前記第１駆動部材は前記第１弁コアを開弁するように駆動して、前記材料入口と前記排出口を連通し、前記第２駆動部材は前記第２弁コアを閉弁するように駆動して、前記排出口と前記材料戻り口を遮断し、
塗布する必要がない場合、前記第１駆動部材は前記第１弁コアを閉弁するように駆動して、前記材料入口と前記排出口を遮断し、前記第２駆動部材は前記第２弁コアを開弁するように駆動して、前記排出口と前記材料戻り口を連通する、
塗布システム。
基板を塗布して極片を形成するための塗布システムであって、
相互に独立した２つの分配キャビティが設けられ、各分配キャビティはそれぞれ塗布開口を有する塗布ヘッドと、
前記分配キャビティのそれぞれに１対１で対応し且つ接続され、前記分配キャビティにスラリーを供給するために使用される２つの供給装置と、
前記分配キャビティと前記供給装置の２つの組合せの少なくとも一方の間に設けられ、対応の分配キャビティと前記供給装置を連通または遮断するために使用される弁とを含み、
前記供給装置は貯蔵タンクと供給ポンプを含み、前記供給ポンプは前記貯蔵タンク内のスラリーを前記分配キャビティに圧送するために使用され、
前記弁は弁本体、第１弁コア、第２弁コア、第１駆動部材と第２駆動部材を含み、
前記弁本体に材料入口、材料戻り口および排出口が設けられ、前記排出口は前記分配キャビティに連通し、前記材料入口は前記供給ポンプの出口に連通し、前記材料戻り口は前記貯蔵タンクに連通し、
前記第１駆動部材は、前記第１弁コアを駆動して前記弁本体内で移動させ、前記材料入口と前記排出口を連通または遮断するように構成され、
前記第２駆動部材は、前記第２弁コアを駆動して前記弁本体内で移動させ、前記排出口と前記材料戻り口を連通または遮断するように構成され、
塗布する必要がある場合、前記第１駆動部材は前記第１弁コアを開弁するように駆動して、前記材料入口と前記排出口を連通し、前記第２駆動部材は前記第２弁コアを閉弁するように駆動して、前記排出口と前記材料戻り口を遮断し、
塗布する必要がない場合、前記第１駆動部材は前記第１弁コアを閉弁するように駆動して、前記材料入口と前記排出口を遮断し、前記第２駆動部材は前記第２弁コアを開弁するように駆動して、前記排出口と前記材料戻り口を連通する、
塗布システム。
前記塗布システムはバックローラをさらに含み、前記バックローラは前記基板を転送するために使用され、
各前記塗布開口の吐出方向が前記バックローラの直径の延伸方向と一致している、請求項１または２に記載の塗布システム。
前記２つの分配キャビティの１つの分配キャビティの塗布開口の吐出方向は水平に配置される、請求項１～３のいずれか１項に記載の塗布システム。
前記塗布システムは吸着装置をさらに含み、前記吸着装置は前記塗布開口において安定した空気圧を維持するために使用される、請求項１～４のいずれか１項に記載の塗布システム。
前記塗布システムはマーキング装置をさらに含み、前記マーキング装置は前記塗布ヘッドの下流に配置され、前記マーキング装置は前記基板の非塗布領域をマーキングして、薄塗布位置または非塗布位置をマーキングするために使用される、請求項１～５のいずれか１項に記載の塗布システム。
前記塗布ヘッドは下型、中型および上型を含み、
前記上型の下面と前記中型の上面間に１つの分配キャビティが形成され、前記中型の下面と前記下型の上面間にもう１つの分配キャビティが形成される、請求項２に記載の塗布システム。
前記上型と前記中型は枢動可能に接続され、前記中型と前記下型は枢動可能に接続され、
前記塗布ヘッドは第１クランプ部材と第２クランプ部材をさらに含み、前記第１クランプ部材は、前記上型と前記中型を閉じるとき前記上型と前記中型を固定するために使用され、前記第２クランプ部材は、前記中型と前記下型を閉じるとき前記中型と前記下型を固定するために使用される、請求項１または７に記載の塗布システム。