JP7476369B2 - 配線板を備えるユニット、モジュールおよび機器 - Google Patents

配線板を備えるユニット、モジュールおよび機器 Download PDF

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Description

本発明は、配線板を含むユニットに関する。
電子デバイスを搭載するための実装ユニットとして、配線板と樹脂部材とを備えるユニットがある。特許文献1には、回路基板と、回路基板の実装面を囲み、かつ回路基板の外周端面3を覆う樹脂枠とを有する半導体素子実装用中空パッケージが開示されている。特許文献2には、撮像素子および電子部品が配置される基板と、撮像素子を囲み樹脂部を有するフレームと、を備えた撮像ユニットが開示されている。
特開2015-185763号公報 特開2017-120848号公報
特許文献1、2の技術では品質や歩留りについて、検討が十分ではない。特許文献1において、例えば回路基板(11)に異物やバリがあると、異物やバリが樹脂枠(13)の形成や実装基板への実装に好ましくない影響を及ぼし、品質や歩留りの低下を招く可能性がある。そこで本発明は、品質や歩留りの向上に有利な技術を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための手段の第1の観点は、
電子デバイスを搭載するための搭載部を有する第1面と、前記第1面とは反対の第2面と、前記第1面および前記第2面に連続する端面と、を有する配線板と、
前記端面を覆い、前記搭載部の上方の空間を挟むように設けられた樹脂部材と、を備えるユニットであって、
前記第2面を覆う絶縁体膜をさらに備え、
前記絶縁体膜の縁の少なくとも一部が前記第2面の前記端面の側の端から離間していることを特徴とする。
上記課題を解決するための手段の第2の観点は、
電子デバイスを搭載するための搭載部を有する第1面と、前記第1面とは反対の第2面と、前記第1面および前記第2面に連続する端面と、を有する配線板と、
前記端面を覆い、前記搭載部の上方の空間を挟むように設けられた樹脂部材と、を備えるユニットであって、
前記第2面の上に前記配線板に固定された電子部品をさらに備え、
前記樹脂部材は前記第2面を覆う部分を有し、前記部分が前記電子部品に重ならないことを特徴とする。
本発明によれば、配線板を備えるユニットにおいて、品質や歩留りの向上に有利な技術を提供することができる。
実装ユニットを説明する図。 実装ユニットを説明する図。 実装ユニットを説明する図。 実装ユニットを説明する図。 実装ユニットを説明する図。 電子モジュールを説明する図。 機器を説明する図。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態を説明する。なお、以下の説明および図面において、複数の図面に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図面を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。
<第1実施形態>
図1(a)に第1実施形態に係る実装ユニット100の断面模式図を示す。図1(b)に図1(a)における部位Aの拡大断面図を示す。
実装ユニット100は、配線板1と、樹脂部材8と、絶縁体膜6と、を備える。配線板1は、電子デバイス(不図示)を搭載するための搭載部40を含む表面4と、表面4とは反対の裏面5と、表面4および裏面5に連続する端面3と、を有する。搭載部40は表面4の略中央に位置する。配線板1は、絶縁性の基板10と、裏面5側において基板10の上に設けられた導電体層7と、を含む。配線板1の厚みは0.05~2mm程度である。基板10は複数の絶縁体層の積層体であってもよい。
基板10と導電体層7とが裏面5を構成する。導電体層7は、配線板1の裏面5側において基板10の裏面上に存在している。絶縁体膜6は裏面5を覆う。絶縁体膜6は導電体層7を覆うことができ、導電体層7は絶縁体膜6と基板10との間に位置する。絶縁体膜6は基板10および導電体層7に接触しうる。絶縁体膜6は概ね5~100μm程度の厚みを有している。
配線板1は、表面4側において基板10の上に設けられた、導電体層2をさらに含むことができる。導電体層2と基板10とが表面4を構成する。実装ユニット100は絶縁体膜9をさらに備えることができる。絶縁体膜9は表面4を覆う。表面4側の絶縁体膜9も、その厚みは5~100μm程度である。絶縁体膜9は導電体層2の一部を覆うことができ、導電体層2は絶縁体膜9と基板10との間に位置する。絶縁体膜9は基板10および導電体層2に接触しうる。導電体層7と導電体層2は基板10の内部に設けられた配線を介して電気的に接続されていてもよい。図では表面4と裏面5にしか導電体層7、導電体層2を記載していないが、配線板1が多層配線板やビルドアップ配線板である場合には、基板10内部にも導電体層が存在している。これらの導電体層7、導電体層2は、必要に応じて所望の形状にパターニングが施されており、また必要に応じて、複数の導電体層間をビア等で接続してなるものである。
表面4側の導電体層2は、後述の電子デバイスとワイヤボンディング接続をする接続電極や、これらの電極に金やニッケル等の電解メッキを行う為の電解メッキラインなどを含む。裏面5側の導電体層7は、外部出力端子や、上記同様の電解メッキライン、あるいは後述の電子部品接続用の電極などである。導電体層7の中で、配線板1の端面3の付近に存在する場合が多いのは、電解メッキラインである。
樹脂部材8は、端面3を覆い、搭載部40の上方の空間41を挟むように設けられている。典型的な樹脂部材8は、空間41を囲むように設けられている。樹脂部材8が空間41を挟むことは、空間41の両側に樹脂部材8が位置することを意味する。樹脂部材8が空間41を囲むことは、空間41の四方に樹脂部材8が位置することを意味する。樹脂部材8のうちで搭載部40の上方の空間41を挟むように設けられている部分は表面4を覆う。表面4の上における樹脂部材8の厚さT4は、端面3の上における樹脂部材8の厚さT3よりも厚くすることができる(T4>T3)。
樹脂部材8の外面は、空間41に面する内側面と、端面3に沿った外側面83と、表面4に沿った上面84と、裏面5に沿った下面85と、を有する。厚さT3は端面3から外側面83までの距離、厚さT4は表面4から上面84までの距離、厚さT5は裏面5から下面85までの距離となる。樹脂部材8のうち、表面4を覆い上面84を含む部分を上部、裏面5を覆い下面85を含む部分を下部、端面3を覆い外側面83を含む部分を側部と、それぞれ称することができる。
本実施形態が好適な基板10は例えばガラスエポキシ材料からなるガラスエポキシ基板であり、本実施形態が好適な絶縁体膜6、絶縁体膜9はソルダーレジスト材料で構成されたソルダーレジスト膜である。典型的な導電体層7、導電体層2は銅層である。本実施形態が好適な樹脂部材8はモールド成型部材である。
絶縁体膜6の縁12の少なくとも一部が裏面5の端面3の側の端13から離間している。端13は端面3と裏面5の境界線を成す。縁12が端13から離間することにより、縁12の近傍に絶縁体膜6や配線板1に起因する異物が付着することを抑制できる。
縁12が端13から離間することにより、裏面5のうちの絶縁体膜6の縁12の一部と裏面5の端13との間の領域であるオフセット領域50が生じる。絶縁体膜6を端13から離間させることで、配線板1の裏面5(オフセット領域50)と絶縁体膜6の側縁とで凹部を形成できる。この凹部を設けることで、凹部に異物を収容することができ、異物の影響を低減できる。この観点では凹部の深さは絶縁体膜6の厚みT6に相当する。異物の大きさを考慮すると、絶縁体膜6の厚みは20~100μmが好適である。樹脂部材8がこのオフセット領域50を覆うことで、絶縁体膜6や配線板1に起因する異物の好ましくない影響を低減できる。オフセット領域50の上における樹脂部材8の厚さT5と、絶縁体膜6の厚さT6との差|T5-T6|が、絶縁体膜6の厚さT6よりも小さい(|T5-T6|<T6)。本例では、厚さT5が厚さT6と等しい(T5=T6)。
なお、図1(b)に示すように、導電体層7は絶縁体膜6で覆われているが、導電体層7は絶縁体膜6で覆われていない部分があってもよい。絶縁体膜6が存在している領域については、導電体層7は裏面5と絶縁体膜6の間に存在している。
絶縁体膜6は、導電体層7に重ならない非重複領域51と、導電体層7に重なる重複領域52と、を有する。非重複領域51と重複領域52の境界は導電体層7の縁11で決まる。絶縁体膜6は縁11を覆う。上述した厚さT6は非重複領域51における絶縁体膜6の厚さである。厚さT5は、重複領域52における絶縁体膜6の厚さよりも大きくてもよい。
樹脂部材8の中には配線板1と同じ材料からなる繊維状の固形物22が埋設されていてもよい。固形物22は配線板1の加工時に生じうる。この固形物22を樹脂部材8の中に埋設して固定しておくことで、固形物22が後述するモジュールの動作に好ましくない影響を与えることを抑制できる。樹脂部材8の中には絶縁体膜6、絶縁体膜9と同じ材料からなる繊維状の固形物が埋設されていてもよい。
図4(a)に、裏面5側から実装ユニット100を平面視した際の平面模式図を示す。本例では、配線板1の端13よりも、絶縁体膜6の縁12が全周囲にわたって内側に位置している。オフセット領域50および非重複領域51を、配線板1の端13の近傍に全周囲にわたって連続的に設けることが好適であり、後述するように異物のかみこみを安定的に防止できる。また、絶縁体膜6の縁12から一定距離で設けられたオフセット領域50(絶縁体膜6の縁12と一点鎖線との間の領域)を有している。
絶縁体膜6を配線板1の端から離間して設けることに関しては、絶縁体膜6を印刷版でパターニングする方法など、公知の方法で形成可能である。配線板1の端は、配線板1をダイシング加工、ルーター加工などの機械加工により形成されるが、絶縁体膜6が離間していることにより、機械加工時に絶縁体膜6は加工されることがない。よって、絶縁体膜6からの発塵をなくすことができる。
縁12と端13の間にオフセット領域50が形成されており、オフセット領域50に樹脂部材8(下部)が重なる。導電体層7の一部(5つの四角形のパターンを有する電極)は絶縁体膜6の開口によって露出しており、導電体層7の残りの一部は絶縁体膜6で覆われている。露出した導電体層7の電極に外部端子が接続されることになる。絶縁体膜6はその縁12と導電体層7の縁11との間に非重複領域51を有している。オフセット領域50の幅(縁12から端13に向かう方向における長さ)は、非重複領域51の幅よりも小さくてもよいが、非重複領域51の幅よりも大きいほうが好ましい。なぜなら、導電体層7を端面3から離すことができるので、導電体層7のダメージを低減し、歩留りや信頼性を向上することができるからである。
端面3は主に絶縁性の基板10で構成される。導電体層2、7は端面3を構成していないことが好ましい。つまり、導電体層7の縁11についても、配線板1の端13から離間していることが好ましい。導電体層7が配線板1の端13まで延びていると、配線板1の端面3の加工時に導電体層7も切断され、配線板1の端面3からの異物源となってしまう。縁11が端13から離間していることで、導電体層7が異物源となることを抑制できる。樹脂部材8は導電体層7に重ならないことが好ましい。樹脂部材8の下面85と基板10の裏面との間では、オフセット領域50と非重複領域51と重複領域52とが混在しない(オフセット領域50のみになる)ので、下面85の平坦性を向上できる。
<第2実施形態>
図2(a)に第2実施形態に係る実装ユニット100の断面模式図を示す。図2(b)に図2(a)における部位Bの拡大断面図を示す。
第2実施形態は、裏面5上における樹脂部材8の形状が第1実施形態と異なる。第2実施形態で第1実施形態と同じであってよい点については説明を省略する。
第2実施形態では、絶縁体膜6の一部分が樹脂部材8と裏面5との間に位置する。そして、絶縁体膜6の縁12は樹脂部材8で覆われている。
第2実施形態では、オフセット領域50の上における樹脂部材8の厚さT5が、絶縁体膜6の厚さT6よりも大きい(T5>T6)。一方、第2実施形態では第1実施形態と同様に、オフセット領域50の上における樹脂部材8の厚さT5と、絶縁体膜6の厚さT6との差|T5-T6|が、絶縁体膜6の厚さT6よりも小さい(|T5-T6|<T6)。第2実施形態では、裏面5上の樹脂部材8は裏面5に平行な下面85を有する。下面85と裏面5との間では絶縁体膜6の有無によって樹脂部材8の厚さが異なる。本例では、樹脂部材8のうち絶縁体膜6に重なる部分の厚さは、T5-T6に相当する。なお、T5>T6かつ|T5-T6|=T6となるようにしてもよい。樹脂部材8は、配線板1の端13や絶縁体膜6の縁12付近での樹脂量が、第1実施形態よりも多い構造となっている。そのため、より大きい固形物22を樹脂部材8内に埋設することができる。また、本実施形態ではT6<T5としていることによって、裏面5側の絶縁体膜6や導電体層7を、実装ユニット100の載置面から離すことができる。そのため、実装ユニット100のハンドリング時に、絶縁体膜6や導電体層7が擦れて傷が発生することを抑制することも可能である。
樹脂部材8は導電体層7に重ならないことが好ましい。樹脂部材8の下面85の下は、オフセット領域50と非重複領域51と重複領域52とが混在しない(オフセット領域50と非重複領域51のみになる)ので、下面85の平坦性を向上できる。
さらに、下面85は、裏面5との距離が一定距離であって、かつ裏面5と平行であることが好適である。このことにより、上面84と下面85が平行面となり、安定した形状のモジュールを提供することができる。また、本実施形態で示すモジュールを用いて電子デバイスを搭載した半導体装置を作成する場合には、電子デバイスとも平行となる為、下面85を電子デバイスの位置基準として用いることも可能となる。
<第3実施形態>
図3(a)に第3実施形態に係る実装ユニット100の断面模式図を示す。図3(b)に図3(a)における部位Cの拡大断面図を示す。
第3実施形態は、裏面5上における樹脂部材8の形状が第2実施形態と異なる。第2実施形態で第1、2実施形態と同じであってよい点については説明を省略する。
第3実施形態では、絶縁体膜6が樹脂部材8と裏面5との間に位置する。そして、絶縁体膜6の縁12は樹脂部材8で覆われている。
第3実施形態では第2実施形態と同様に、オフセット領域50の上における樹脂部材8の厚さT5が、絶縁体膜6の厚さT6よりも大きい(T5>T6)。さらに、オフセット領域50の上における樹脂部材8の厚さT5と、絶縁体膜6の厚さT6との差|T5-T6|が、絶縁体膜6の厚さT6よりも大きい(|T5-T6|>T6)。第3実施形態でも、裏面5上の樹脂部材8は裏面5に平行な下面85を有する。下面85と裏面5との間では絶縁体膜6の有無によって樹脂部材8の厚さが異なる。本例では、樹脂部材8のうち絶縁体膜6に重なる部分の厚さは、T5-T6に相当する。
第3実施形態は、裏面5の上に裏面5に沿って複数の電子部品16が並置されている点でも第1,2実施形態と異なる。複数の電子部品16は、例えばコネクタなどの機構部品161、チップ抵抗やチップコンデンサなどの2端子の受動部品162、ダイオードやトランジスタや簡単なIC、ROMなどの能動部品163を含みうる。受動部品162は、セラミックコンデンサ、有機高分子コンデンサ、タンタルコンデンサでありうる。複数の電子部品16は、上記以外の受動部品あるいは能動部品を含みうる。
複数の電子部品16が配線板1の裏面5側に配置されており、配線板1の導電体層7の一部が電子部品16用の電極であり、電子部品16がこの電極に半田付けされている。このような電子部品16が配置された配線板1は、電子部品16用の電極が裏面5側に露出している。その為、配線板1の端面3からの異物が移動して電極間に付着してしまうと、電極間の短絡故障を起こす可能性がある。これに対して、本実施形態では異物源である配線板1の端面3が樹脂で封止されている。さらに、オフセット領域50によって、異物を収容できる凹部を設けている。そのため、実装ユニット100自体やそれを備える電子モジュールに対して故障を低減することが可能である。
裏面5に垂直な方向で考えると、複数の電子部品16は樹脂部材8に重ならないように設けられている。このように複数の電子部品16を裏面5上に配置することで、裏面5上に樹脂部材8を配置しつつ、裏面5上の領域を有効活用することができる。電子部品16の各々の寸法は搭載部40の面積よりも小さくすることができる。そして、複数の電子部品16が搭載部40に重なるように配置することができる。なお、裏面5には、搭載部40に重なる複数の電子部品16の他に、搭載部40に重ならない電子部品(不図示)を配置することができる。本例では、厚さT5は電子部品16の高さよりも大きくなっている。さらに、下面85が、電子部品16の高さよりも突出していることにより、絶縁体膜6や導電体層7だけでなく、電子部品16を実装ユニット100の載置面から離すことができる。その結果、ハンドリング時に電子部品16が損傷したり、電子部品16に機械的な応力が印加されたりすることを抑制することが可能である。なお、厚さT5が電子部品16の高さよりも小さくてもよい。
裏面5に平行な方向で考えると、樹脂部材8は複数の電子部品16から離間している。樹脂部材8は複数の電子部品16を挟むように設けられている。典型的な樹脂部材8は、複数の電子部品16を囲むように設けられている。樹脂部材8が複数の電子部品16を挟むことは、複数の電子部品16の両側に樹脂部材8が位置することを意味する。樹脂部材8が複数の電子部品16を囲むことは、複数の電子部品16の四方に樹脂部材8が位置することを意味する。なお、裏面5には、樹脂部材8から離間した複数の電子部品16の他に、樹脂部材8に接触した電子部品(不図示)を配置することができる。
なお、ここでは第3実施形態として、複数の電子部品16を設ける例を説明したが、第1実施形態や第2実施形態のような樹脂部材8を設けた場合にも、複数の電子部品16を配置することができる。
第1~3実施形態に関して、図5を用いて、実装ユニット100の特徴について説明する。配線板1の基板10としてガラスエポキシ基板を使用する場合には、ガラスエポキシ基板がガラス繊維、樹脂、を構成材料としている。その為、配線板1を切断してできる配線板1の端面3からは、配線板1の材料からなるガラス繊維異物や樹脂異物、金属異物等の固形物22が発生しうる。これらの固形物22が電子デバイス20に付着すると不良になりやすい。ガラスエポキシ基板は上述のように、その構成材料はガラス繊維や樹脂材料、金属材料である。これらの配線板1は、ダイシング加工、ルーター加工、金型切断等の方法で外形加工され、所望の形状となるものであるが、単なる切断や研磨などの機械加工であるためにその端面3は異物の発生源となる。
樹脂部材8は、配線板1の端面3を表面4側の端から裏面5側の端まで被覆しており、配線板1の端面3から発塵しにくい構造となっている。また、樹脂部材8は、表面4の周辺部で上方に伸びて枠形状となっている。枠形状である場合は、中空構造のモジュールとして使用することができる。このような形状は、配線板1を成形用の上金型31と下金型32で挟み込み、樹脂部材8を成形樹脂として注入するモールド成形法により形成することができる。
具体的な固形物22の例としては、例えば、ガラス繊維や樹脂異物や金属異物の加工時の切断屑である。別の例としては、ガラス繊維や樹脂や金属片などが基板端面3から脱離せずに垂れ下がったような異物である。さらに別の例としては、加工時にできるガラス繊維や樹脂や金属のバリなどである。これらの異物は、除去が困難であり、発生を根絶することは難しい。たとえ洗浄を施して除去しようとしても、洗浄の過程にかかる応力によって、基板内部の正常なガラス繊維が新たに切断されたり、基板内部の樹脂が破壊されたりことで新たな異物となる為である。
従って、配線板1の端面3に、樹脂部材8をモールド成形しようとした場合、その配線板1の端面3から異物やバリが垂れ下がったような状態になっていると、異物が配線基板と成形金型の間に挟まってしまう。そのため、配線板1と金型の間に生じた隙間から樹脂漏れを起こして不良品となりやすいという課題がある。
図5(a)は、配線板1に枠体としての樹脂部材8を形成するために、モールド成形用の上金型31と、モールド成形用の下金型32で配線板1を挟み込んだ様子を示している。配線板1の端面3に付着した固形物22が、配線板1の裏面と下金型32の間に挟まり、配線板1が撓んだ状態で配置されている。この状態で、上金型31と下金型32の間に樹脂を注入して樹脂モールド成形を行い、樹脂部材8を形成する。その後、上金型31と下金型32の間から成形品を取り出す。
固形物22が下金型32と配線板1との間に挟まっていることに起因して、成形樹脂の配線板1下面への成形樹脂漏れが発生しうる。また、異物の挟まりに起因して、配線板1が撓んだ状態で成形されており、平坦性の面でも不良であることがわかる。上述した第1~3実施形態は、固形物22が異物としてあったとしても、樹脂漏れや平坦性が損なわれない構造を提供することができる。
上述のように、配線板1の裏面5上に設けられた絶縁体膜6の縁12が配線板1の端13から離間している。即ち、絶縁体膜6の縁12が、配線板1の裏面5に沿った方向において、配線板1の端13より内側に位置するように形成されている。また、絶縁体膜6は、厚みを有している為、配線板1の裏面5と、絶縁体膜6の表面との間には、厚み方向に絶縁体膜6の厚さに対応する段差に起因して隙間Pが形成されることになる。また、絶縁体膜6のうち、絶縁体膜6の縁12から内側に一定距離のオフセット領域50と非重複領域51は、導電体層7を配置しない領域である。このオフセット領域50や非重複領域51に導電体層7が配置されている場合には、導電体層7の有る部分と無い部分において絶縁体膜6の表面が波打って凹凸ができてしまう。樹脂部材8を成形する際、この波打ち部分を上金型31と下金型32で挟んでしまうと、下金型32と絶縁体膜6の間に隙間ができる可能性があり、樹脂漏れの原因となってしまう。従って、上金型31で加圧して押さえる位置の裏面5側にはオフセット領域50や非重複領域51を設けて、表面4側のうちのこのオフセット領域50や非重複領域51に重なる領域を加圧することにより、樹脂漏れを起こさないようにすることができる。
図5(b)は、第1実施形態に関して、配線板1に樹脂部材8を形成するために、モールド成形用の上金型31と、モールド成形用の下金型32で挟み込んだ様子を示している。下金型32は、平坦な金型で形成されている配線板1の端面3からの繊維状の固形物22が、配線板1の裏面5にまで垂れ下がって周り込んでいる。
図5(a)と比較すると、絶縁体膜6の縁が後退していることと、下金型32が平坦面を有することによって、裏面5と下金型32の平坦面との間に隙間Pが形成される。下金型32を絶縁体膜6の縁の後退形状に合わせて作製することもできるが、その場合は隙間Pが形成されない。従って、絶縁体膜6の縁が後退していること、及び、その後退部に空間ができるように下金型32形状が工夫されていることが必要である。隙間Pがある場合、配線板1の端面3に付着した固形物22が配線板1の裏面5に周り込んでいたとしても、この隙間Pの空間に固形物22を閉じ込めることができる為、配線板1と下金型32の間に異物が挟みこまれることをなくすことができる。また、それにより、配線板1が下金型32上で平坦に保持されている。
そして、固形物22が隙間Pで吸収されて、下金型32との挟み込みが無い為、成形樹脂の樹脂が漏れることなく、成形することが可能である。また、成形後に配線板1の平坦性が保たれていることがわかる。また、絶縁体膜6の表面と樹脂部材8とを面一に形成することができ、裏面の平坦性に優れたモジュールを提供することが可能である。
図1(a)で示すように、このようにして作成されたモジュールは、裏面5のうちの絶縁体膜6の縁12と配線板1の端13との間の部分(オフセット領域50)に樹脂部材8が接触した状態となる。そして、隙間Pが、樹脂部材8で充填された状態となる。樹脂部材8が成形樹脂であって、モールド成形法を用いれば、隙間Pを容易に樹脂で充填することができる。また、モールド成形法であれば、基板端から延びた異物も同時に樹脂中に埋設できる為、樹脂充填後にはこれらが異物源となることは無い。
さらに、図1(a)で示すように、導電体層7の縁11は絶縁体膜6から露出していないことが好ましい。導電体層7が露出している場合には、隙間Pで示す空間領域が小さくなり、配線板1端面3の固形物22を吸収する能力が低下する為である。
以上説明したように、本発明のモジュール構造により、配線板1が平坦であって、かつ、樹脂漏れ等の不良の発生を抑制し、安定した形状のモジュールを提供することが可能である。
図5(c)は、配線板1に樹脂部材8を形成するために、モールド成形用の上金型31と、モールド成形用の下金型32で挟み込んだ様子を示している。
図5(c)は、第2実施形態に関して、配線板1に枠部材を形成するために、モールド成形用の上金型31と、モールド成形用の下金型32で挟み込み、モールド成形を行った様子を示している。固形物22は異物であるが、第1の実施形態より大きく長い異物を記載している。配線板1の端面3の異物が配線板1の裏面に周り込んだとしても、隙間Qに閉じ込められて、配線板1と下金型32の間に異物が挟みこまれることをなくすことができる。また、隙間Qは、第1の実施形態の図1の隙間Pよりも大きな体積となっているので、配線板1端面3の異物に関して、より大きい異物まで対応可能となる。その結果、下金型32との間に異物が挟み込まれるリスクを低減でき、歩留を向上することが可能である。より大きな異物に対しても、隙間Qに収容されて、配線板1と下金型32の間に異物が挟みこまれることをより低減することができる。また、それにより、配線板1が下金型32上で平坦に保持される。そして、不良率を低減することが可能である。
図5(d)は、第3実施形態において配線板1に樹脂部材8を形成するために、モールド成形用の上金型31と、モールド成形用の下金型32で挟み込み、樹脂モールド成形を行った状態を示している。図で示すように、モールド成形は、電子部品16が配置された状態で成形されるものである。下金型32が電子部品16から離間するように下金型32には電子部品16に対応した凹部を有する。下金型32と電子部品16との間に形成された空隙には成型樹脂は注入されない。
<第4実施形態>
図6(a)に第4実施形態に係る電子モジュール200の断面模式図を示す。電子モジュール200は、上述した実装ユニット100と、実装ユニット100の搭載部40に搭載された電子デバイス20と、を備える。第4実施形態における実装ユニット100は、第1実施形態と第3実施形態の特徴を兼ね備えているが、他の実施形態の実装ユニット100の特徴を備えていてもよい。ただし、本実施形態では、厚さT5が電子部品16の高さよりも小さくなっている。
電子デバイス20は実装ユニット100(配線板1)へ、導電部材を介して電気的に接続される。電子デバイス20はダイボンドペーストなどによる接着材21によって配線板1の搭載部40に固定されている。また、電子モジュール200は、電子デバイス20と配線板1とを電気的に接続する導電部材として、ボンディングワイヤ23を備える。ボンディングワイヤ23の代わりの導電部材としては半田を用いることができる。電子デバイス20は、配線板1の導電体層2に、ボンディングワイヤ23で電気的に接続されている。
電子モジュール200は、電子デバイス20に対向する対向部材25を備える。対向部材25は、電子デバイス20を破損や汚染から保護する役割を有する。対向部材25は樹脂部材8に固定されている。より詳細には、対向部材25は、対向部材25と樹脂部材8の上面84との間に配された接着材24によって樹脂部材8に接着されている。
電子デバイス20は光を扱うデバイス(光デバイス)でありうる。光デバイスとしての電子デバイス20はCMOSイメージセンサーやCCDイメージセンサーなどの撮像デバイス、あるいは、液晶ディスプレイやELディスプレイのような表示デバイスでありうる。その他の光デバイスとしては測距(オートフォーカス:AF)センサーや測光(オートエクスポージャ:AE)センサーであってもよい。電子デバイス20が光デバイスである場合、対向部材25が電子デバイス20に対して遮光しないように、対向部材25はガラスやプラスチック、水晶などの透光部材であることが好ましい。対向部材25はレンズやフィルターのような光学部材であってもよい。対向部材25を配置することで、電子モジュール200は、電子デバイス20と対向部材25との間の内部空間26が外気とほぼ遮断された中空構造を有することになる。内部空間26は、空気や窒素などの気体が充填される。
本実施形態の電子モジュール200は、上述したように、異物の影響が低減された実装ユニット100を使用していることにより、高い歩留りで作製することができる。また、電子デバイス20が撮像デバイスや表示デバイスである場合には、異物の影響が低減されていることにより、異物起因による画像品質の低下がなく、画像品質を向上することができる。また、この実装ユニット100は平坦性を向上でき、安定した形状の電子モジュール200を提供することが可能である。
電子デバイス20を保護したり、対向部材25を支持したりするために樹脂部材8を用いているため、電子モジュール200の軽量化を図ることができる。上述した複数の電子部品16を裏面5上に搭載すれば、複数の電子部品16を別の実装基板に搭載する必要がなくなるため、複数の電子部品16を搭載するための別の実装基板が不要になる。そのため、電子モジュール200を軽量化できる。
<第5実施形態>
図6(b)に第5実施形態に係る電子モジュール200の断面模式図を示す。第5実施形態で第4実施形態と同じであってよい点については説明を省略する。
第5実施形態における電子モジュール200に用いられる実装ユニット100の樹脂部材8は、表面4に沿った方向において配線板1から延在した拡張部81を有している。実装ユニット100における拡張部81は、表面4に垂直な方向において配線板1に重ならず、また、電子モジュール200における拡張部81は表面4に垂直な方向において対向部材25に重ならない。拡張部81には貫通孔80が設けられている。この貫通孔80の中に位置決め用のピンあるいは固定用のネジを配置することにより、実装ユニット100や電子モジュール200を固定することができる。
<第6実施形態>
図7に第6実施形態に係る電子機器EQPの模式図を示す。電子モジュールAPRを含む機器EQPを示す模式図である。電子モジュールAPRが、電子デバイスICとパッケージPKGを含む。電子モジュールAPRには、上述した実施形態の電子モジュール200を適用可能であり、電子デバイスICには上述した実施形態の電子デバイス20を適用可能である。パッケージPKGは、電子モジュール200の内の電子デバイス20以外の構成に相当し、上述した実施形態の実装ユニット100や、上述した実施形態の電子モジュール200における対向部材25が適用可能である。
本例の電子モジュールAPRは、例えば、イメージセンサーやAF(Auto Focus)センサー、測光センサー、測距センサーとして用いることができる。機器EQPは、電子デバイス20は画素回路PXCが行列状に配列された画素エリアPXを有する。半導体デバイスICは画素エリアPXの周囲に周辺エリアPRを有することができる。周辺エリアPRには画素回路PXC以外の回路を配置することができる。
機器EQPは、光学系OPT、制御装置CTRL、処理装置PRCS、表示装置DSPL、記憶装置MMRYおよび機械装置MCHNの少なくともいずれかを更に備え得る。機器EQPの詳細は後述する。
図7に示した機器EQPについて詳述する。電子デバイス20は、複数の画素回路が設けられた第1半導体チップと、周辺回路が設けられた第2半導体チップとを積層した構造(チップ積層構造)を有していてもよい。第2半導体チップにおける周辺回路は、ぞれぞれ、第1半導体チップの画素列に対応した列回路とすることができる。また、第2半導体チップにおける周辺回路は、それぞれ、第1半導体チップの画素あるいは画素ブロックに対応したマトリックス回路とすることもできる。第1半導体チップと第2半導体チップとの接続は、貫通電極(TSV)、銅等の導電体の直接接合によるチップ間配線、チップ間のマイクロバンプによる接続、ワイヤボンディングによる接続などを採用することができる。
機器EQPは、光学系OPT、制御装置CTRL、処理装置PRCS、表示装置DSPL、記憶装置MMRYの少なくともいずれかをさらに備え得る。光学系OPTは電子モジュールAPRに対応付けられたものであり、例えば電子デバイスICに結像するためのレンズや、電子デバイスICまでの光路中に位置するシャッター、ミラーである。制御装置CTRLは電子モジュールAPRを制御するものであり、例えばASICなどの半導体デバイスである。処理装置PRCSは電子モジュールAPRから出力された信号を処理するものであり、AFE(アナログフロントエンド)あるいはDFE(デジタルフロントエンド)を構成する。処理装置PRCSは、CPU(中央処理装置)やASIC(特定用途向け集積回路)などの半導体デバイスである。表示装置DSPLは電子モジュールAPRで得られた情報(画像)を表示する、EL表示装置や液晶表示装置である。記憶装置MMRYは、電子モジュールAPRで得られた情報(画像)を記憶する、磁気デバイスや半導体デバイスである。記憶装置MMRYは、SRAMやDRAMなどの揮発性メモリ、あるいは、フラッシュメモリやハードディスクドライブなどの不揮発性メモリである。機械装置MCHNはモーターやエンジン等の可動部あるいは推進部を有する。機器EQPでは、電子モジュールAPRから出力された信号を表示装置DSPLに表示したり、機器EQPが備える通信装置(不図示)によって外部に送信したりする。そのために、機器EQPは、電子モジュールAPRが有する記憶回路部や演算回路部とは別に、記憶装置MMRYや処理装置PRCSを更に備えることが好ましい。
図7に示した機器EQPは、撮影機能を有する情報端末(例えばスマートフォンやウエアラブル端末)やカメラ(例えばレンズ交換式カメラ、コンパクトカメラ、ビデオカメラ、監視カメラ)などの電子機器でありうる。カメラにおける機械装置MCHNはズーミングや合焦、シャッター動作のために光学系OPTの部品を駆動することができる。また、機器EQPは、車両や船舶、飛行体などの輸送機器(移動体)でありうる。また、機器EQPは、内視鏡やCTスキャナーなどの医療機器でありうる。また、機器EQPは、内視鏡やCTスキャナーなどの医療機器でありうる。
輸送機器における機械装置MCHNは移動装置として用いることもできる。輸送機器としての機器EQPは、電子モジュールAPRを輸送するものや、撮影機能により運転(操縦)の補助および/または自動化を行うものに好適である。運転(操縦)の補助および/または自動化のための処理装置PRCSは、電子モジュールAPRで得られた情報に基づいて移動装置としての機械装置MCHNを操作するための処理を行うことができる。とりわけ、電子機器において機械装置MCHNは電子モジュールAPRを移動(変位)させることができる。例えばカメラにおいて、電子モジュールAPRを機械装置MCHNによって変位させることによって手振れ防止(防振)機能を実現できる。本実施形態の電子モジュールAPRは軽量化が図られているため、移動速度を高速化や、変位のための機械装置MCHNの負荷低減を実現できる。本実施形態の電子モジュールAPRは異物への対策が改善されているので、変位を行っても異物による好ましくない影響を低減できる。
本実施形態による電子モジュールAPRは、その設計者、製造者、販売者、購入者および/または使用者に、高い価値を提供することができる。そのため、電子モジュールAPRを機器EQPに搭載すれば、機器EQPの価値も高めることができる。よって、機器EQPの製造、販売を行う上で、本実施形態の電子モジュールAPRの機器EQPへの搭載を決定することは、機器EQPの価値を高める上で有利である。
以上、説明した実施形態は、本発明の思想を逸脱しない範囲において適宜変更が可能である。
1 配線板
3 端面
4 表面
5 裏面
6 絶縁体膜
8 樹脂部材
12 縁
13 端
40 搭載部
41 空間
100 実装ユニット
200 電子モジュール
EQP 機器

Claims (22)

  1. 電子デバイスを搭載するための搭載部を有する第1面と、前記第1面とは反対の第2面と、前記第1面および前記第2面に連続する端面と、を有する配線板と、
    前記端面と、前記第2面の少なくとも一部と、を覆い、前記搭載部の上方の空間を挟むように設けられた樹脂部材と、を備えるユニットであって、
    前記樹脂部材は、前記第1面に対する平面視において前記配線板に重ならない拡張部を有し、
    前記拡張部には前記第1面と交差する方向に貫通する貫通孔が設けられている
    ことを特徴とするユニット。
  2. 前記第2面を覆う絶縁体膜をさらに備え、
    前記絶縁体膜の縁の少なくとも一部が前記第2面の前記端面の側の端から離間しており、
    前記第2面のうちの前記絶縁体膜の前記縁の前記一部と前記第2面の前記端との間の領域を、前記樹脂部材が覆うことを特徴とする請求項1に記載のユニット。
  3. 前記領域の上における前記樹脂部材の厚さと、前記絶縁体膜の厚さとの差が、前記絶縁体膜の厚さよりも小さい、請求項2に記載のユニット。
  4. 前記領域の上における前記樹脂部材の厚さと、前記絶縁体膜の厚さとの差が、前記絶縁体膜の厚さよりも大きい、請求項2に記載のユニット。
  5. 前記第2面を覆う絶縁体膜をさらに備え、
    前記絶縁体膜の縁の少なくとも一部が前記第2面の前記端面の側の端から離間しており、
    前記絶縁体膜の一部分が、前記樹脂部材と前記第2面との間に位置する請求項1から4のいずれか1項に記載のユニット。
  6. 前記第2面に固定された電子部品を備え、
    前記樹脂部材は前記第2面を覆う部分を有し、前記部分が前記電子部品に重ならないことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のユニット。
  7. 前記電子部品は前記搭載部に重なる、請求項6に記載のユニット。
  8. 前記樹脂部材は前記電子部品を挟むように設けられている、請求項6に記載のユニット。
  9. 前記配線板は、基板と、前記基板の上に設けられた導電体層と、を含み、前記基板および前記導電体層が前記第2面を構成していることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のユニット。
  10. 前記樹脂部材は、前記第1面に対する平面視において前記導電体層に重ならないことを特徴とする請求項9に記載のユニット。
  11. 前記第1面の上に位置する部分の前記樹脂部材の厚さが、前記第2面の下位置する部分の前記樹脂部材の厚さよりも大きいことを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載のユニット。
  12. 前記樹脂部材の前記拡張部の厚さが、前記第2面の下に位置する部分の前記樹脂部材の厚さよりも大きい、請求項1から11のいずれか1項に記載のユニット。
  13. 前記樹脂部材は前記空間を囲むように設けられている、請求項1から12のいずれか1項に記載のユニット。
  14. 前記配線板はガラスエポキシ基板を含み、前記樹脂部材はモールド成型部材であることを特徴とする請求項1から13のいずれか1項に記載のユニット。
  15. 前記樹脂部材の中には前記配線板と同じ材料からなる繊維状の固形物が埋設されていることを特徴とする請求項1から14のいずれか1項に記載のユニット。
  16. 請求項1から15のいずれか1項に記載のユニットと、
    前記搭載部に搭載された電子デバイスと、を備えるモジュール。
  17. 前記貫通孔に配された固定具によって固定される、請求項16に記載のモジュール。
  18. 前記電子デバイスと前記配線板とを電気的に接続するボンディングワイヤを備える、請求項16または17に記載のモジュール。
  19. 前記電子デバイスに対向する対向部材を備え、
    前記対向部材は前記樹脂部材に固定されている、請求項16から18のいずれか1項に記載のモジュール。
  20. 前記電子デバイスは撮像デバイスまたは表示デバイスである、請求項16から19のいずれか1項に記載のモジュール。
  21. 請求項16から20のいずれか1項に記載のモジュールを備える機器であって、
    前記電子デバイスに対応付けられた光学系、
    前記電子デバイスを制御する制御装置、
    前記電子デバイスから出力された信号を処理する処理装置、
    前記電子デバイスで得られた情報を表示する表示装置、および、
    前記電子デバイスで得られた情報を記憶する記憶装置
    の少なくともいずれかを更に備えることを特徴とする機器。
  22. 請求項16から20のいずれか1項に記載のモジュールを備える機器であって、
    前記モジュールを移動させる機械装置を備えることを特徴とする機器。
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