JP7469043B2 - タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム、光透過性導電層付き偏光フィルムおよびタッチパネル表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム、光透過性導電層付き偏光フィルムおよびタッチパネル表示装置に関する。

従来、フィルム基材および透明導電層を備える透明導電性フィルムが知られており、また、この透明導電性フィルムは、タッチパネル型装置に用いられるタッチパネル用透明導電性フィルムとしても知られている（例えば、下記特許文献１参照。）。

このようなタッチパネル用透明導電性フィルムでは、透明導電層は、低抵抗化の観点から、結晶質である。

特開２０１８－７８０９０号公報

しかし、結晶質の透明導電層は、クラックを生じ易いという不具合がある。

そこで、非晶質の透明導電層を備えるタッチパネル用透明導電性フィルムが試案される。

しかし、非晶質の透明導電層は、膜質の安定性が低いことから、加熱（具体的には、８０℃以内での低温加熱）によって、結晶化が徐々に進行してしまい、一定以上結晶化が進んだ結果、抵抗値などの特性が大きく変化する不具合がある。

本発明は、クラックの発生を抑制できながら、熱的安定性に優れるタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムと、それを備える光透過性導電層付き偏光フィルムおよびタッチパネル表示装置とを提供する。

本発明［１］は、フィルム基材と、光透過性導電層とを備え、前記光透過性導電層、および、前記光透過性導電層を８０℃で、５００時間加熱した後の被加熱光透過性導電層は、ともに、非晶質であり、前記光透過性導電層のキャリア密度をＸａ×１０^１９（／ｃｍ^３）、ホール移動度をＹａ（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）とし、前記被加熱光透過性導電層のキャリア密度をＸｃ×１０^１９（／ｃｍ^３）、ホール移動度をＹｃ（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）としたときに、下記（１）式および式（２）の両方を満たす、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルムを含む。

０．５≦（Ｘｃ／Ｘａ）×（Ｙｃ／Ｙａ）≦１．８ （１）
Ｙｃ＞Ｙａ （２）
本発明［２］は、前記フィルム基材は、長尺形状を有し、前記フィルム基材は、３０ｃｍ以上の幅方向長さを有する、［１］に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムを含む。

本発明［３］は、前記被加熱光透過性導電層の前記幅方向に沿う３点の位置でＸｃおよびＹｃのそれぞれを測定し、前記Ｘｃの標準偏差が、１０×１０^１９（／ｃｍ^３）以下であり、前記Ｙｃの標準偏差が、５（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）以下である、［２］に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムを含む。

本発明［４］は、前記フィルム基材は、３０ｃｍ以上のＴＤ方向長さを有する、［１］～［３］のいずれか一項に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムを含む。

本発明［５］は、前記被加熱光透過性導電層の前記ＴＤ方向に沿う３点の位置でＸｃおよびＹｃのそれぞれを測定し、前記Ｘｃの標準偏差が、１０×１０^１９（／ｃｍ^３）以下であり、前記Ｙｃの標準偏差が、５（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）以下である、［４］に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムを含む。

本発明［６］は、前記光透過性導電層は、インジウム系酸化物を含有する、［１］～［５］のいずれか一項に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムを含む。

本発明［７］は、［１］～［６］のいずれか一項に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムと、偏光子とを備え、前記光透過性導電層、前記フィルム基材および前記偏光子が、この順に配置されている、光透過性導電層付き偏光フィルムを含む。

本発明［８］は、前記光透過性導電層および前記偏光子の間に配置される１／４波長層をさらに備える、［７］に記載の光透過性導電層付き偏光フィルムを含む。

本発明［９］は、［７］または［８］に記載のタッチパネル用光透過性導電層付き偏光フィルムを備える、タッチパネル表示装置を含む。

本発明のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムでは、光透過性導電層および被加熱光透過性導電層は、ともに、非晶質であるため、クラックの発生が抑制される。

また、光透過性導電層および被加熱光透過性導電層のキャリア密度およびホール移動度が所定の条件を満たすため、加熱による光透過性導電層の表面抵抗の変化率および／または差を抑制することができ、そのため、熱安定性に優れる。

本発明の光透過性導電層付き偏光フィルムは、熱安定性に優れているため、これを備える本発明のタッチパネル用表示装置は、信頼性に優れる。

図１は、本発明のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムの一実施形態の断面図を示す。 図２Ａ～図２Ｃは、図１に示すタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムの平面図であり、図２Ａは、外形加工前のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム、図２Ｂは、外形加工後において、ＴＤ方向に沿う短辺を有するタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム、図２Ｃは、外形加工後において、ＴＤ方向に沿う長辺を有するタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムを示す。 図３は、図１に示すタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムを備える光透過性導電層付き偏光フィルムおよびタッチパネル表示装置の一実施形態の断面図を示す。 図４は、図３に示す光透過性導電層付き偏光フィルムの変形例の断面図を示す。

＜一実施形態＞
本発明のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムの一実施形態を、図１を参照して、説明する。

このタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、図１に示すように、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、厚み方向と直交する所定方向（面方向）に延び、平坦な一方面および平坦な他方面（２つの主面）を有する。タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、光透過性導電層付き偏光フィルム４またはタッチパネル表示装置１５（後述、図３参照）などの一部品であり、つまり、光透過性導電層付き偏光フィルム４またはタッチパネル表示装置１５ではない。すなわち、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、光透過性導電層付き偏光フィルム４などを作製するための部品であり、円偏光板１８、光透過性感圧接着剤層５、光源２０、液晶セル２１（後述、図３参照）などを含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。

具体的には、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、フィルム基材２と、光透過性導電層３とを、厚み方向一方側に向かって順に備える。つまり、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、フィルム基材２と、フィルム基材２の厚み方向一方側に配置される光透過性導電層３とを備える。具体的には、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、フィルム基材２と、フィルム基材２の一方面に配置される光透過性導電層３とを備える。好ましくは、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、フィルム基材２と、光透過性導電層３とのみからなる。

フィルム基材２は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１の最他方層であって、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１の機械強度を確保する支持材である。

フィルム基材２は、フィルム形状（シート形状を含む）を有している。

フィルム基材２の材料としては、例えば、有機材料、例えば、ガラスなどの無機材料が挙げられ、好ましくは、有機材料が挙げられる。有機材料は、水や有機ガスを含有しているため、光透過性導電層３の加熱による結晶性を抑制し、非晶質性をより一層維持することができる。

フィルム基材２の材料として、より好ましくは、高分子が挙げられる。

高分子としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）など）、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら高分子は、単独使用または２種以上併用することができる。

高分子は、耐熱性、機械特性などの観点から、好ましくは、ポリエステル樹脂が挙げられ、より好ましくは、ＰＥＴが挙げられる。また、光学等方性の観点から、好ましくは、オレフィン樹脂、より好ましくは、ＣＯＰも挙げられる。

フィルム基材２の可視光透過率は、例えば、８０％以上、好ましくは、９０％以上であり、また、例えば、１００％以下である。

また、フィルム基材２の水分含有量を調整することにより、後述する特性のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を得ることができる。

具体的には、フィルム基材２の単位面積あたりの水分含有量は、例えば、１０μｇ／ｃｍ^２以上、好ましくは、２０μｇ／ｃｍ^２以上、より好ましくは、３０μｇ／ｃｍ^２以上であり、また、例えば、２００μｇ／ｃｍ^２以下、好ましくは、１７０μｇ／ｃｍ^２以下である。フィルム基材２の水分含有量が上記範囲内であれば、結晶化が生じ難く、かつ、低抵抗の非晶質の光透過性導電層３が得られ易くなる。フィルム基材２の水分が過渡に小さいと環境温度での非晶質の光透過性導電層３の結晶化が生じ易くなる傾向があり、フィルム基材２の水分含有量が過度に大きいと非晶質の光透過性導電層３の表面抵抗安定性が低下する傾向がある。水分含有量（μｇ／ｃｍ^２）は、ＪＩＳ Ｋ ７２５１－Ｂ法（水分気化法）により求めた水分含有量から、単位面積あたりの水の含有量として算出できる。

フィルム基材２の他方面には、セパレータや保護フィルムなどを設けてもよい。

フィルム基材２の厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上、より好ましくは、４０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下である。フィルム基材２の厚みは、例えば、膜厚計を用いて測定することができる。

フィルム基材２の平面視形状は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１が用いられる光透過性導電層付き偏光フィルム４およびタッチパネル表示装置１５の寸法などに応じて適宜設定され、特に限定されない。図２Ａに示すように、フィルム基材２は、例えば、長尺の略矩形状を有する。それにより、フィルム基材２は、互いに対向する２つの長辺１６、および、長辺１６の長手方向両端縁を連結する２つの短辺１７を有する。

このフィルム基材２の平面視における寸法は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１の用途および目的に応じて適宜設定され、特に限定されない。フィルム基材２は、例えば、３０ｃｍ以上、好ましくは、０．５０ｍ以上、より好ましくは、１．０ｍ以上、さらに好ましくは、１．２ｍ以上、特に好ましくは、２ｍ以上、また、１０ｍ以下の短辺１７の長さ（ＴＤ方向長さ）Ｗを有する。

フィルム基材２は、フィルム基材２を巻回し、長尺状フィルムロールとしてもよい。長尺状フィルムロールの巻回数量は、例えば、１００ｍ以上、好ましくは、５００ｍ以上、より好ましくは、１０００ｍ以上であり、また、例えば、２００００ｍ以下である。長尺状フィルムロールは、ロール・トゥ・ロール方式で連続的に光透過性導電層３を形成でき、生産性に優れる。

光透過性導電層３は、必要により後の工程でエッチングによりパターニングすることができる導電層である。図１に示すように、光透過性導電層３は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１における最一方層である。光透過性導電層３は、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、フィルム基材２の一方面に接触するように、配置されている。光透過性導電層３は、非晶質である。

なお、光透過性導電層３が非晶質であることは、例えば、光透過性導電層３の材料がＩＴＯ（後述）である場合には、２０℃の塩酸（濃度５質量％）に１５分間浸漬した後、水洗および乾燥し、１５ｍｍ程度の間の端子間抵抗を測定することで判断できる。本明細書においては、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を塩酸（２０℃、濃度：５質量％）に浸漬、水洗および乾燥した後に、光透過性導電層３における１５ｍｍ間の端子間抵抗が１０ｋΩ以上である場合、光透過性導電層３が非晶質であるものとする。

光透過性導電層３の材料としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子や上記群に記載のない金属原子または半金属原子をドープしていてもよい。

光透過性導電層３としては、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ）などのインジウム系酸化物、例えば、アンチモンスズ複合酸化物（ＡＴＯ）などのアンチモン系酸化物などが挙げられる。光透過性導電層３は、表面抵抗を低下させる観点、および、優れた光透過性を確保する観点から、インジウム系酸化物を含有し、より好ましくは、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）を含有する。すなわち、光透過性導電層３は、好ましくは、インジウム系酸化物層であり、より好ましくは、ＩＴＯ層である。これにより、低表面抵抗、光透過性に優れる。

光透過性導電層３の材料としてＩＴＯを用いる場合、酸化スズ（ＳｎＯ_２）含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、８質量％以上、さらに好ましくは、１０質量％超であり、また、例えば、２５質量％以下、好ましくは、１５質量％以下、より好ましくは、１３質量％以下である。酸化スズの含有量を上記下限以上とすることにより、光透過性導電層３の低表面抵抗（例えば、１５０Ω／□以下）を実現しつつ、結晶質への転化をより確実に抑制できる。また、酸化スズの含有量を上記上限以下とすることにより、光透過性や表面抵抗の安定性を向上させることができる。

本明細書中における「ＩＴＯ」とは、少なくともインジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含んでもよい。追加成分としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ以外の金属元素が挙げられ、具体的には、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｇａなどが挙げられる。

光透過性導電層３は、好ましくは、不純物元素を含んでいる。不純物元素としては、光透過性導電層３を形成する際に使用するスパッタガス由来の元素（例えば、Ａｒ元素）、フィルム基材２に含有される水や有機ガス由来の元素（例えば、Ｈ元素、Ｃ元素）が挙げられる。これらを含有することにより、光透過性導電層３の非晶質性をより一層向上させることができる。

光透過性導電層３の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、３０ｎｍ以上、より好ましくは、３０ｎｍ超、さらに好ましくは、４０ｎｍ以上であり、とりわけ好ましくは、５０ｎｍ以上であり、また、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、１５０ｎｍ以下、より好ましくは、１００ｎｍ以下、さらに好ましくは、８０ｎｍ以下である。光透過性導電層３の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いた断面観察により測定することができる。光透過性導電層３の材料がＩＴＯである場合には、一般的に非晶質の光透過性導電層３の厚みが大きい程、非晶質安定性（非晶質を安定して維持できる性質）が低下し、自然結晶化し易い。特に、厚みが３０ｎｍ超の水準ではその傾向が顕著であるが、この光透過性導電層３は、後述する特性を有するため、光透過性導電層３の材料がＩＴＯであっても非晶質安定性に優れる。

光透過性導電層３における平面視形状および寸法は、フィルム基材２におけるそれらと同一である。

次に、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造する方法について説明する。

タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、まず、フィルム基材２を用意し、次いで、光透過性導電層３をフィルム基材２の厚み方向一方面に形成することにより得られる。

光透過性導電層３をフィルム基材２の厚み方向一方面に形成するには、例えば、光透過性導電層３をフィルム基材２の一方面に、乾式により、配置（積層）する。

乾式としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。

スパッタリング法は、真空装置のチャンバー内にターゲットおよびフィルム基材２を対向配置し、ガスを供給するとともに電圧を印加することによりガスイオンを加速しターゲットに照射させて、ターゲット表面からターゲット材料をはじき出して、そのターゲット材料をフィルム基材２の厚み方向一方面に積層させる。

スパッタリング法としては、例えば、２極スパッタリング法、ＥＣＲ（電子サイクロトロン共鳴）スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法などが挙げられる。好ましくは、マグネトロンスパッタリング法が挙げられる。

スパッタリング法に用いる電源は、例えば、直流（ＤＣ）電源、交流中周波（ＡＣ／ＭＦ）電源、高周波（ＲＦ）電源、直流電源を重畳した高周波電源のいずれであってもよい。

ターゲットとしては、光透過性導電層３を構成する上述の金属酸化物が挙げられる。例えば、光透過性導電層３の材料としてＩＴＯを用いる場合、ＩＴＯからなるターゲットを用いる。ターゲットにおける酸化スズ（ＳｎＯ_２）含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、８質量％以上、さらに好ましくは、１０質量％超であり、また、例えば、２５質量％以下、好ましくは、１５質量％以下、より好ましくは、１３質量％以下である。

ターゲット表面の水平磁場の強度は、成膜速度、光透過性導電層３に対する不純物の取り込みなどの観点から、例えば、１０ｍＴ以上、好ましくは、２０ｍＴ以上であり、また、２００ｍＴ以下、好ましくは、１００ｍＴ以下、より好ましくは、８０ｍＴ以下である。水平磁場強度が前記範囲であれば、スパッタにおけるプラズマ密度を高くでき、フィルム基材２にかかる熱量が高くなり易い。その結果、フィルム基材２から放出される不純物（例えば、水等）が光透過性導電層３内に取り込まれ易くなり、光透過性導電層３の非晶質性が高くなり易い。

スパッタリング時の放電気圧は、例えば、１．０Ｐａ以下、好ましくは、０．５Ｐａ以下であり、また、例えば、０．０１Ｐａ以上、好ましくは、０．２Ｐａ以上である。

スパッタリング時のフィルム基材２の温度を調整することにより、後述する特性のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を得ることができる。

スパッタリング時のフィルム基材２の温度は、例えば、－３０℃以上、好ましくは、－１０℃以上であり、また、例えば、１８０℃以下、好ましくは、９０℃以下、より好ましくは、６０℃以下、さらに好ましくは、４０℃以下、とりわけ好ましくは、１０℃未満である。

上記上限以下とすることにより、成膜時の熱による光透過性導電層３の結晶粒生成を抑制できる。また、上記下限以上とすることにより、フィルム基材２に含有される水や有機ガスの放出量を好適な範囲に調整でき、良質な非晶質膜を有する光透過性導電層３を得易い。

スパッタリング法で用いられるガスとしては、例えば、不活性ガスの単独使用、例えば、不活性ガスおよび反応性ガスの組合せが挙げられる。不活性ガスとしては、例えば、Ａｒガスなどが挙げられる。反応性ガスとしては、例えば、酸素ガスなどが挙げられる。

好ましくは、不活性ガスおよび反応性ガスの組合せが挙げられる。

反応性ガスの流量の、不活性ガスの流量に対する比（反応性ガスの流量（ｓｃｃｍ）／不活性ガスの流量（ｓｃｃｍ））は、例えば、０．０１０以上、５以下である。反応性ガスの流量の、不活性ガスの流量に対する比は、気圧やターゲット表面の水平磁場強度、フィルム基材の温度等の成膜環境に応じて適宜設定される。

この方法では、反応ガス量、とりわけ、酸素ガス量を調整することにより、後述する特性の光透過性導電層３を形成（成膜）することができる。

例えば、光透過性導電層３の材料がＩＴＯである例を挙げる。スパッタリング法により得られる光透過性導電層３は、一般的に、非晶質の光透過性導電層３として成膜される。
このとき、非晶質の光透過性導電層３内部に導入される酸素導入量により、非晶質の光透過性導電層３の膜質が変化する。

具体的には、非晶質の光透過性導電層３内部に導入される酸素導入量が、適量よりも少ない場合（酸素不足状態）では、大気雰囲気下での加熱により結晶質へと転化する。

一方、非晶質の光透過性導電層３に含有される酸素導入量が、適量であると、大気雰囲気下での加熱を経た場合であっても非晶質構造を維持し、熱安定性に優れる。

他方、非晶質の光透過性導電層３に含有される酸素導入量が適量より過剰であると、大気雰囲気下での加熱により非晶質構造を維持するが、加熱後の表面抵抗が大きく増大してしまい、熱安定性に劣る。

上記の理由は、いかなる理論にも限定されないが、以下のように推察される。なお、本発明は、以下の理論に限定されるものではない。非晶質の光透過性導電層３に含まれる酸素量が少ない場合（酸素不足状態）では、非晶質の光透過性導電層３は、その構造において多数の酸素欠損部を有しているため、インジウムスズ複合酸化物ＩＴＯを構成する各原子が熱振動により動き易く、最適構造を取り易い。そのため、大気雰囲気下での加熱により、酸素を酸素欠損部に適度に取り込みながら、最適構造（結晶質構造）を取る。一方、非晶質の光透過性導電層３に含有される酸素導入量が、適量範囲であると、非晶質の光透過性導電層３に酸素欠損部が生じ難い。即ち、酸素の適量範囲とは、非晶質の光透過性導電層３が化学量論組成を取り易い範囲を示す。酸素量が適量であると、非晶質の光透過性導電層３は大気雰囲気下で加熱した場合であっても、酸素欠損部が少ない為、過度に酸化することなく、良質な非晶質構造を維持する。他方、非晶質の光透過性導電層３に含有される酸素導入量が過剰である場合、非晶質の光透過性導電層３内に含まれる酸素原子は不純物として作用する。不純物原子は、好適な含有水準を超えると中性子散乱の要因となり、表面抵抗を増大させる。
そのため、非晶質の光透過性導電層３に含有される酸素導入量が過剰であると、加熱により光透過性導電層３内の酸素量が更に過剰となり、表面抵抗が大きく増大する（熱安定性が低下する）と推察される。

ここで、ロールトゥロール方式で、ＴＤ方向長さが大きい（例えば、３０ｃｍ以上）フィルム基材２の一方面に、非晶質の光透過性導電層３を形成する場合、光透過性導電層３の成膜時に供給する酸素の供給量を、フィルム基材２のＴＤ方向で変化させることで、後述する特性の光透過性導電層３が得られる。フィルム基材２は、不純ガス（前述の水分や有機ガス）を含有するが、スパッタリング（真空成膜）時に放出される不純ガスの量、ひいては、光透過性導電層３に取り込まれる不純ガスの量はフィルム基材２のＴＤ方向で均一ではない（不均一である）。また、導入した酸素量に対して真空ポンプにより排気される酸素量もＴＤ方向で均一ではない（不均一である）。

このため、ＴＤ方向に均一に酸素を導入する場合には、ＴＤ方向の不純物ガスの量や廃棄される酸素量に応じて、部分的に酸素過多（不純物過多）、或いは、酸素不足な領域を生じ、後述する特性の光透過性導電層３を得難い。特に、長尺状のフィルム基材２（例えば、３００ｍ以上）を用い、ロールトゥロール方式で光透過性導電層３を形成する場合、ＴＤ方向の不純物ガスの量の違い（不均一性）に加えて、フィルム基材２の流れ方向（ＭＤ方向）の不純ガス含有量の違いの影響も受け易く、後述する特性の光透過性導電層３をより一層得難い傾向がある。このため、光透過性導電層３のＴＤ方向の不純ガス含有量や酸素含有量に応じて、ＴＤ方向の酸素の導入量を調整することで、後述する特性を有するタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１が得られる。なお、結晶質の光透過性導電層３（本発明の非晶質の光透過性導電層３ではないもの）を得る場合は、予め酸素導入量を前述の「適量」よりも明確に少なくするため、ＴＤ方向の不純ガスや酸素量の影響を小さくでき、ＴＤ方向の酸素導入量の影響は小さい。

ＴＤ方向の酸素導入量を調整する方法に限定はないが、例えば、酸素供給配管をＴＤ方向で複数に分割することで好適に酸素導入量を調整することができる。酸素供給配管の分割数は、例えば、２分割以上、好ましくは、３分割以上であり、また、例えば、２０分割以下、好ましくは、１０分割以下である。複数に分割された酸素供給配管を備えることにより、後述する特性の光透過性導電層３が得られる。

光透過性導電層３における、加熱前の表面抵抗は、例えば、１Ω／□以上、好ましくは、１０Ω／□以上であり、また、例えば、２５０Ω／□以下、好ましくは、２００Ω／□以下、より好ましくは、１５０Ω／□以下、さらに好ましくは、１００Ω／□未満である。加熱前の表面抵抗が上記した下限以上であれば、光透過性導電層３の光学特性の劣化を抑制できる。また、加熱前の表面抵抗が上記した上限以下であれば、後述する光透過性導電層３の加熱前後における表面抵抗の変化率および／または差が大きくなり過ぎることを防止して、安定な光透過性導電層３を得ることができる。

被加熱光透過性導電層３αの表面抵抗は、光透過性導電層３のそれと同一である。

光透過性導電層３の加熱前後における表面抵抗の変化率（被加熱光透過性導電層３αの表面抵抗の光透過性導電層３の表面抵抗に対する割合）（すなわち、被加熱光透過性導電層３αの表面抵抗／光透過性導電層３の表面抵抗）は、例えば、０．８０以上、好ましくは、光透過性基材フィルム１０．８５以上、より好ましくは、０．９０以上であり、また、例えば、１．２５以下、好ましくは、１．２０以下、より好ましくは、１．１以下である。

被加熱光透過性導電層３αの表面抵抗から光透過性導電層３の表面抵抗を差し引いた値の絶対値、要するに、被加熱光透過性導電層３αの表面抵抗と光透過性導電層３の表面抵抗との差（｜［被加熱光透過性導電層３αの表面抵抗］－［光透過性導電層３の表面抵抗］｜）は、例えば、４０Ω／□以下、好ましくは、３０Ω／□以下、より好ましくは、２０Ω／□以下、さらに好ましくは、１５Ω／□以下であり、また、例えば、０Ω／□以上、好ましくは、０．００１Ω／□以上である。表面抵抗が小さい（例えば、２５０Ω／□以下）非晶質の光透過性導電層３は、一般的に厚みが厚くなりやすく、その結果、非晶質安定性が劣化して、加熱前後の表面抵抗の差が大きくなり易い。しかし、本願の光透過性導電層３は、膜内の酸素量や不純物量（例えば、水分含有量）、成膜プロセス（ターゲット表面の水平磁場強度や放電気圧、温度等）を好適に設定しているため、加熱前後の表面抵抗の差を先述の範囲に抑制することができる。

上記した差が上記した上限以下であれば、光透過性導電層３の膜質変化が過大になることを抑制することができる。

光透過性導電層３における、加熱前の比抵抗は、例えば、６×１０^－４Ω・ｃｍ以下、好ましくは、５．５×１０^－４Ω・ｃｍ以下、より好ましくは、５×１０^－４Ω・ｃｍ以下、さらに好ましくは、４．８×１０^－４Ω・ｃｍ以下、特に好ましくは、４．５×１０^－４Ω・ｃｍ以下であり、また、例えば、３×１０^－４Ω・ｃｍ以上、好ましくは、３．５×１０^－４Ω・ｃｍ以上、より好ましくは、４．０×１０^－４Ω・ｃｍ以上である。加熱前の光透過性導電層３の比抵抗が上記上限以下であれば、前述した光透過性導電層３の加熱前後における表面抵抗の変化率および／または差を小さくすることができ。また、比抵抗が上記下限以上であれば、光透過性導電層３の非晶質性を維持し易い。

被加熱光透過性導電層３αの比抵抗は、光透過性導電層３のそれと同一であるが、好ましくは、光透過性導電層３の比抵抗と同等水準以下である。具体的には、被加熱光透過性導電層３αの比抵抗の、光透過性導電層３の比抵抗に対する比（［被加熱光透過性導電層３αの比抵抗／［光透過性導電層３の比抵抗］）は、例えば、１．２５以下、好ましくは、１．２以下、より好ましくは、１．２未満、さらに好ましくは、１．１以下、とりわけ好ましくは、１．０以下、最も好ましくは、０．９８以下であり、また、例えば、０．５以上、好ましくは、０．６５以上、さらに好ましくは、０．８以上である。上記した比が前記範囲であれば、安定した非晶質性を得やすい。

なお、被加熱光透過性導電層３αは、光透過性導電層３を、大気環境下で、８０℃で、５００時間加熱した後のものである。また、被加熱光透過性導電層３αは、光透過性導電層３の熱安定性の指標となる。さらに、長期間の熱安定性の加速試験として加熱する場合は、加熱条件を、例えば、１４０℃、１時間とすることもできる。被加熱光透過性導電層３αは、非晶質である。

光透過性導電層３の可視光透過率は、例えば、８０％以上、好ましくは、９０％以上であり、また、例えば、１００％以下である。

このタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、以下のホール効果に基づく特性を備える。

［１］キャリア密度（Ｘａ、Ｘｃ）
光透過性導電層３における、加熱前のキャリア密度（Ｘａ×１０^１９／ｃｍ^３）は、例えば、１０×１０^１９／ｃｍ^３以上、好ましくは、２０×１０^１９／ｃｍ^３以上、より好ましくは、３０×１０^１９／ｃｍ^３以上、さらに好ましくは、３５×１０^１９／ｃｍ^３以上であり、また、例えば、６０×１０^１９／ｃｍ^３以下、好ましくは、５０×１０^１９／ｃｍ^３以下、より好ましくは、４０×１０^１９／ｃｍ^３以下である。図２Ａに示すように、光透過性導電層３のキャリア密度Ｘａは、短辺１７に沿う方向（ＴＤ方向、短手方向）に沿って、複数点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３でキャリア密度を測定し、それらの平均値として求められる。この際、測定する点数は、３点である。測定点の両端部（Ｐ１およびｐ３の２点）は、光透過性導電層３が均一形成されている末端部の位置から８０ｍｍ内側位置とし、中央点（Ｐ２である１点）はフィルム基材２の中央位置とする。本願において、「光透過性導電層３が均一形成されている末端部」とは、光透過性導電層３の厚みが、フィルム基材２の中央位置の光透過性導電層３の厚みに対して±１０％以内である領域の末端部を意味する。

具体的には、フィルム基材２のＴＤ幅が１３００ｍｍであり、全面均一に光透過性導電層３が形成されている場合は、Ｐ１＝８０ｍｍ、Ｐ２＝６５０ｍｍ、Ｐ３＝１２２０ｍｍ位置を測定点とする。

なお、「加熱前」とは、例えば、光透過性導電層３が形成された後から、８０℃以上に加熱する以前をいう。

さらに、光透過性導電層３の熱履歴が不明なタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１であっても、新たに８０℃以上に加熱する以前であれば「加熱前」として扱う。

光透過性導電層３の、短辺１７に沿う方向長さにおける３点の複数点のキャリア密度の標準偏差は、例えば、１０×１０^１９（／ｃｍ^３）以下、好ましくは、５×１０^１９（／ｃｍ^３）以下、より好ましくは、３×１０^１９（／ｃｍ^３）以下、さらに好ましくは、２×１０^１９（／ｃｍ^３）以下であり、また、例えば、０．００１×１０^１９（／ｃｍ^３）以上である。標準偏差が上記した上限以下であれば、光透過性導電層３の幅方向におけるキャリア密度Ｘａを均一に設定でき、そのため、幅方向における熱特性のばらつきを低減して、熱安定性を向上させることができる。

一方、被加熱光透過性導電層３αのキャリア密度（Ｘｃ×１０^１９／ｃｍ^３）は、例えば、１０×１０^１９／ｃｍ^３以上、好ましくは、２０×１０^１９／ｃｍ^３以上、より好ましくは、３０×１０^１９／ｃｍ^３以上、さらに好ましくは、３２×１０^１９／ｃｍ^３以上であり、また、例えば、７０×１０^１９／ｃｍ^３以下、好ましくは、６０×１０^１９／ｃｍ^３以下、好ましくは、５０×１０^１９／ｃｍ^３以下である。被加熱光透過性導電層３αのキャリア密度Ｘｃは、光透過性導電層３のキャリア密度Ｘａと同様の測定により求められる。

被加熱光透過性導電層３αの、短辺１７に沿う方向長さにおける複数点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３のキャリア密度の標準偏差は、例えば、１０×１０^１９（／ｃｍ^３）以下、好ましくは、５×１０^１９（／ｃｍ^３）以下、より好ましくは、３×１０^１９（／ｃｍ^３）以下、さらに好ましくは、２×１０^１９（／ｃｍ^３）以下であり、また、例えば、０．００１×１０^１９（／ｃｍ^３）以上である。標準偏差が上記した上限以下であれば、被加熱光透過性導電層３αの幅方向におけるキャリア密度Ｘｃを均一に設定でき、そのため、幅方向における熱特性のばらつきを低減して、熱安定性を向上させることができる。

光透過性導電層３の熱安定性の観点から、好ましくは、被加熱光透過性導電層３αのキャリア密度の標準偏差は、光透過性導電層３のキャリア密度の標準偏差と同値以下である。光透過性導電層３が前記特徴を有することで光透過性導電層３の熱安定性がより向上する。

［２］ホール移動度（Ｙａ、Ｙｃ）
光透過性導電層３における、加熱前のホール移動度（Ｙａ ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）は、例えば、１０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上、好ましくは、２０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上、より好ましくは、３０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上であり、また、例えば、７０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、好ましくは、５０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、より好ましくは、４０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下である。なお、光透過性導電層３のホール移動度Ｙａは、短辺１７に沿う方向（ＴＤ方向、短手方向）に沿う３点の複数点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３でホール移動度Ｙａを測定し、それらの平均値として求められる。

光透過性導電層３の、短辺１７に沿う方向長さにおける複数点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３のホール移動度の標準偏差は、例えば、５ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、好ましくは、３ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、より好ましくは、２ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、さらに好ましくは、１ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下であり、また、例えば、０．００１ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上である。標準偏差が上記した上限以下であれば、光透過性導電層３の短辺１７に沿う方向におけるホール移動度Ｙａを均一に設定でき、そのため、幅方向における熱特性のばらつきを低減して、熱安定性を向上させることができる。

被加熱光透過性導電層３αのホール移動度（Ｙｃ ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）は、例えば、１０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上、好ましくは、２０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上、より好ましくは、３０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上であり、また、例えば、７０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、好ましくは、５０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、より４５ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下である。なお、被加熱光透過性導電層３αのホール移動度Ｙｃは、ホール移動度Ｙａと同様の測定により求められる。

また、被加熱光透過性導電層３αの、短辺１７に沿う方向長さにおける複数点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３のホール移動度の標準偏差は、例えば、５ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、好ましくは、３ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、より好ましくは、２ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下、さらに好ましくは、１ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以下であり、また、例えば、０．００１ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上である。標準偏差が上記した上限以下であれば、被加熱光透過性導電層３αの幅方向におけるホール移動度Ｙｃを均一に設定でき、そのため、幅方向における熱特性のばらつきを低減して、熱安定性を向上させることができる。

被加熱光透過性導電層３αのホール移動度Ｙｃの標準偏差は、好ましくは、光透過性導電層３のホール移動度Ｙａの標準偏差と同値以下である。これによって、光透過性導電層３の熱安定性がより向上する。

なお、ホール移動度は、ホール効果に基づいており、電気伝導率とホール定数との積である。

＜光透過性導電層および被加熱光透過性導電層のキャリア密度およびホール移動度に関する式（１）～（４）＞
そして、光透過性導電層３のキャリア密度（Ｘａ×１０^１９／ｃｍ^３）および被加熱光透過性導電層のキャリア密度（Ｘｃ×１０^１９／ｃｍ^３）と、光透過性導電層３のホール移動度（Ｙａ ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）および被加熱光透過性導電層とのホール移動度（Ｙａｃｍ^２／Ｖ・ｓ）とは、下記式（１）および式（２）の両方を満たす。

０．５≦（Ｘｃ／Ｘａ）×（Ｙｃ／Ｙａ）≦１．８ （１）
Ｙｃ＞Ｙａ （２）
上記式（１）を満たさなければ、光透過性導電層３における加熱による表面抵抗の変化を抑制できず、そのため、熱安定性が低下する。

なお、（Ｘｃ／Ｘａ）は、被加熱光透過性導電層３αのキャリア密度Ｘｃの、光透過性導電層３のキャリア密度Ｘａに対する比であり、（Ｙｃ／Ｙａ）は、被加熱光透過性導電層３αのホール移動度Ｙｃの、光透過性導電層３のホール移動度Ｙａに対する比であって、ともに、１あるいは１に近似する値であれば、上記した式（１）を満足する。また、（Ｘｃ／Ｘａ）が１に近似しなくても、具体的には、１に対して顕著に大きい場合でも、（Ｘｃ／Ｘａ）が１に対して顕著に小さければ、上記した式（１）を満足する。さらに、上記した大小関係は、その逆であってもよい。

（Ｘｃ／Ｘａ）×（Ｙｃ／Ｙａ）は、好ましくは、０．８０以上、より好ましくは、０．９０以上、さらに好ましくは、０．９５以上、とりわけ好ましくは、１．０００以上である。また、（Ｘｃ／Ｘａ）×（Ｙｃ／Ｙａ）は、好ましくは、１．７以下、より好ましくは、１．６以下、さらに好ましくは、１．５以下、さらには、１．３以下、１．２以下、１．１５以下、１．１０以下が好適である。（Ｘｃ／Ｘａ）×（Ｙｃ／Ｙａ）が上記した下限以上であれば、あるいは、上記した上限以下であれば、光透過性導電層３における加熱による表面抵抗の変化を抑制でき、そのため、熱安定性に優れる。

式（２）を満足すれば、Ｙｃ／Ｙａが１を超過する。

Ｙｃ／Ｙａは、１．０００超、好ましくは、１．００１以上、より好ましくは、１．０１以上であり、また、例えば、１．７以下、好ましくは、１．５以下、より好ましくは、１．３以下、さらに好ましくは、１．２以下、とりわけ好ましくは、１．１以下である。
式（２）を満足する光透過性導電層３は、良好な導電性を発現し易い。一方、式（２）を満足すれば、加熱により、非晶質の光透過性導電層３が結晶化（抵抗変化）する傾向にあるが、この光透過性導電層３は、式（１）および式（２）の両方を満たすため、さらに、Ｙｃ／Ｙａが上記した上記した下限以上であれば、あるいは、上記した上限以下であれば、フィルム基材２の幅方向（ＴＤ方向）における表面抵抗の公差を小さくすることができる。さらに、Ｙｃ／Ｙａが上記した上限以下であれば、加熱前後の光透過性導電層３の表面抵抗の差を低減することができる。

また、Ｘａ、Ｘｃ、ＹａおよびＹｃは、好ましくは、下記式（３）または下記式（４）を満たす。

Ｘｃ＜Ｘａ、かつ、Ｙｃ＞Ｙａ （３）
Ｘｃ≧Ｘａ、かつ、Ｙｃ＞Ｙａ （４）
式（３）を満たす場合には、Ｘｃ／Ｘａが１未満であり、かつ、Ｙｃ／Ｙａが１超過である。詳しくは、Ｘｃ／Ｘａが、好ましくは、１．０００未満、より好ましくは、０．９９以下であり、また、好ましくは、０．７以上、より好ましくは、０．８以上、さらに好ましくは、０．８５以上、とりわけ好ましくは、０．９０以上である。Ｙｃ／Ｙａの好適な範囲は、上記式（２）で詳述した範囲と同一である。Ｘｃ／Ｘａが上記した下限以上であれば、光透過性導電層３の表面抵抗の公差を小さくすることができる。Ｘｃ／Ｘａが上記した上限以下であれば、光透過性導電層３の加熱前後での表面抵抗の変化率および／または差を小さくすることができる。

式（４）を満たす場合には、Ｘｃ／Ｘａが１以上であり、かつ、Ｙｃ／Ｙａが１超過である。詳しくは、Ｘｃ／Ｘａが、好ましくは、１．０００以上、より好ましくは、１．０１以上、さらに好ましくは、１．０２以上であり、また、例えば、１．７以下、好ましくは、１．５以下、より好ましくは、１．３以下、さらに好ましくは、１．２以下、とりわけ好ましくは、１．１以下である。Ｙｃ／Ｙａの好適な範囲は、上記式（２）で詳述した範囲と同一である。Ｘｃ／Ｘａが上記した下限以上であれば、加熱により光透過性導電層３の表面抵抗が大きく増加することを抑制し易い。Ｘｃ／Ｘａが上記した上限以下であれば、加熱に伴う光透過性導電層３の結晶化を抑制し易い。

これによって、フィルム基材２と、光透過性導電層３とを備えるタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１（加熱前のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１）を得る。

タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１の総厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下である。

なお、光透過性導電層３が形成されたタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、産業上利用可能なデバイスであるが、被加熱光透過性導電層３αが形成されたタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、必ずしも市場で流通させる目的ではなく、光透過性導電層３の熱安定性の指標を測るためのフィルムである。

なお、このタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１では、必要に応じてエッチングを実施して、光透過性導電層３を、所定形状にパターニングすることができる。

また、上記した製造方法を、ロールトゥロール方式で実施、また、バッチ方式で実施する。好ましくは、ロールトゥロール方式で実施する。

ロールトゥロール方式でタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造する場合には、長辺１６に沿う方向がＭＤ方向（長手方向）となり、短辺１７に沿う方向がＴＤ方向（短手方向、幅方向）となる。

その後、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、その用途および目的に応じて、所望の寸法に外形加工される。

例えば、図２Ｂに示すように、長辺１６に沿う方向がＭＤ方向となり、短辺１７に沿う方向がＴＤ方向となるように、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を、例えば、ＭＤ方向に沿って切断して、複数のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を得る。この場合には、複数のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１のそれぞれの短辺１７の長さＷ（幅方向長さ、短手方向長さ、ＴＤ方向長さ）は、例えば、３０ｃｍ以上、好ましくは、０．５０ｍ以上、より好ましくは、１．０ｍ以上、さらに好ましくは、１．２ｍ以上であり、また、例えば、４ｍ以下、好ましくは、２ｍ以下である。短辺１７の長さＷが上記した下限以上であれば、次に説明する光透過性導電層付き偏光フィルム４およびタッチパネル表示装置１５の製造効率を向上させるとともに、大型の光透過性導電層付き偏光フィルム４およびタッチパネル表示装置１５を製造することができる。

一方、図２Ｃに示すように、長辺１６に沿う方向がＴＤ方向となり、短辺１７に沿う方向がＭＤ方向となるように、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を、例えば、ＭＤ方向に沿って切断して、複数のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を得ることもできる。この場合には、複数のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１のそれぞれの長辺１６の長さＬ（長手方向長さ、ＴＤ方向長さ）は、例えば、３０ｃｍ以上、好ましくは、０．５０ｍ以上、より好ましくは、１．０ｍ以上、さらに好ましくは、１．２ｍ以上であり、また、例えば、４ｍ以下、好ましくは、２ｍ以下である。長辺１６の長さＬが上記した下限以上であれば、長手方向に十分に長いタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１として、種々の用途に用いることができる。

なお、例えば、所定の平面視形状を有するタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１において、その製造方法（ロールトゥロール方式）におけるＭＤ方向およびＴＤ方向が不明である場合、本願では、光透過性導電層３の表面抵抗を測定し、その数値の公差（３点のうち、最大と最小の差）を求めることによりＭＤ方向およびＴＤ方向を判断することとする（測定位置は、［１］キャリア密度（Ｘａ、Ｘｃ）項に記載の測定位置に準ずる）。表面抵抗の測定にあたっては、任意の測定軸を０°と設定し、４５°、９０°、１３５°方向の４軸方向で、それぞれ表面抵抗を求め、公差が最も小さい方向が、ＭＤ方向であり、ＭＤ方向に直交する方向が、ＴＤ方向であると定義する。

次に、上記したタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を備える光透過性導電層付き偏光フィルム４、および、タッチパネル表示装置１５について図３を参照して説明する。

図３に示すように、光透過性導電層付き偏光フィルム４は、本発明の光透過性導電層付き偏光フィルムの一実施形態であって、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、面方向に延び、平坦な一方面および平坦な他方面（２つの主面）を有する。

また、この光透過性導電層付き偏光フィルム４は、例えば、タッチパネル表示装置１５（仮想線参照）などの一部品であり、つまり、タッチパネル表示装置１５ではない。すなわち、光透過性導電層付き偏光フィルム４は、例えば、タッチパネル表示装置１５などを作製するための部品であり、液晶層１１および光源２０（後述、仮想線）を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。

具体的には、光透過性導電層付き偏光フィルム４は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１と、光透過性感圧接着剤層５と、１／４波長層６と、第２光透過性接着剤層７と、偏光子８と、第３光透過性接着剤層９と、光透過性基材フィルム１０とを、厚み方向他方側に向かって、順に備える。詳しくは、光透過性導電層付き偏光フィルム４は、光タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１と、その他方面に配置される光透過性感圧接着剤層５と、その他方面に配置される１／４波長層６と、その他方面に配置される第２光透過性接着剤層７と、その他方面に配置される偏光子８と、その他方面に配置される第３光透過性接着剤層９と、その他方面に配置される光透過性基材フィルム１０とを備える。好ましくは、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１と、光透過性感圧接着剤層５と、１／４波長層６と、第２光透過性接着剤層７と、偏光子８と、第３光透過性接着剤層９と、光透過性基材フィルム１０とのみからなる。

タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、光透過性導電層付き偏光フィルム４における最一方層である。タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１は、一方側に露出している。

光透過性感圧接着剤層５は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１と１／４波長層６とを厚み方向に感圧接着するための層である。光透過性感圧接着剤層５は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１の他方面に接触している。具体的には、光透過性感圧接着剤層５は、フィルム基材２の他方面全面に接触している。光透過性感圧接着剤層５は、フィルム形状（シート形状を含む）を有している。

光透過性感圧接着剤層５は、例えば、光学等方性を有する。つまり、光透過性感圧接着剤層５は、複屈折性を実質的に有しない。

光透過性感圧接着剤層５の材料は、光透過性および感圧接着性を有する材料であれば特に限定されず、例えば、光学透明接着剤（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）などが挙げられる。具体的には、光透過性感圧接着剤層５の材料として、例えば、アクリル系感圧接着剤、ゴム系感圧接着剤（ブチルゴムなど）、シリコーン系感圧接着剤、ポリエステル系感圧接着剤、ポリウレタン系感圧接着剤、ポリアミド系感圧接着剤、エポキシ系感圧接着剤、ビニルアルキルエーテル系感圧接着剤、フッ素樹脂系感圧接着剤などが挙げられ、好ましくは、感圧接着性、透湿性の観点から、アクリル系感圧接着剤が挙げられる。光透過性感圧接着剤層５の厚みは、例えば、１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上、より好ましくは、１０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下、より好ましくは、５０μｍ以下である。

１／４波長層６は、λ／４板であって、液晶セル２１（後述）を通過した自然光を直線偏光に変換するための層（位相差板）である。１／４波長層６は、光透過性感圧接着剤層５の他方面に接触（感圧接着）している。

なお、１／４波長層６は、光透過性感圧接着剤層５および第２光透過性接着剤層７を介して、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１および偏光子８の間に配置されている。すなわち、１／４波長層６は、光透過性導電層付き偏光フィルム４の光透過性導電層３と、偏光子８との間に配置されている。

１／４波長層６は、フィルム形状（シート形状を含む）を有している。１／４波長層６としては、具体的には、樹脂フィルムを延伸した延伸フィルム、液晶ポリマーを配向処理したフィルムなどが挙げられる。樹脂フィルムの材料としては、シクロオレフィンポリマーなどの環状ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂などが挙げられる。１／４波長層６として、好ましくは、延伸フィルムが挙げられる。

第２光透過性接着剤層７は、１／４波長層６の他方面に接触している。第２光透過性接着剤層７は、フィルム形状（シート形状を含む）を有している。第２光透過性接着剤層７の材料としては、特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール系接着剤などが挙げられる。第２光透過性接着剤層７の寸法などは、光透過性感圧接着剤層５のそれと同様である。

偏光子８は、光を直線偏光に変換するための層（偏光板）である。偏光子８は、第２光透過性接着剤層７の他方面に接触している。偏光子８は、フィルム形状（シート形状または板形状を含む）を有している。偏光子８としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルム（ＰＶＡ）、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性樹脂フィルムに、二色性物質（ヨウ素、二色性染料）を吸着させて、一軸延伸させたフィルムなどが挙げられる。また、ポリビニルアルコールの脱水処理物、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物などのポリエチレン系フィルムなども挙げられる。偏光子８の厚みは、例えば、１μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上、より好ましくは、５μｍ以上であり、また、例えば、２００μｍ以下、好ましくは、１００μｍ以下、より好ましくは、５０μｍ以下、さらに好ましくは、３０μｍ以下である。

第３光透過性接着剤層９は、偏光子８の他方面に接触している。第３光透過性接着剤層９は、フィルム形状（シート形状を含む）を有している。第３光透過性接着剤層９の材料、寸法などは、第２光透過性接着剤層７のそれらと同様である。

光透過性基材フィルム１０は、光透過性導電層付き偏光フィルム４における最他方層である。光透過性基材フィルム１０は、他方側に露出している。光透過性基材フィルム１０は、フィルム形状（シート形状を含む）を有している。光透過性基材フィルム１０の材料、物性、寸法などは、上記したフィルム基材２のそれらと同様である。光透過性基材フィルム１０の材料として、好ましくは、セルロース樹脂、より好ましくは、ＴＡＣが挙げられる。

なお、１／４波長層６、偏光子８、および、光透過性基材フィルム１０は、例えば、円偏光板１８を構成する。円偏光板１８は、光学等方性を有しており、円偏光板１８の可視光透過率は、例えば、８０％以上、好ましくは、９０％以上であり、また、例えば、１００％以下である。円偏光板１８の詳細は、例えば、特開２０１８－１５１６５１号公報などに記載されている。

この光透過性導電層付き偏光フィルム４の厚みは、例えば、１０μｍ以上、好ましくは、１００μｍ以上、より好ましくは、１０００μｍ以上であり、また、例えば、５００μｍ以下である。

この光透過性導電層付き偏光フィルム４は、例えば、タッチパネル表示装置１５に備えられる。

図３の実線および仮想線で示されるように、タッチパネル表示装置１５は、光源２０と、液晶セル２１と、光透過性導電層付き偏光フィルム４とを、厚み方向他方側（視認側に相当）に向かって、順に備える。

光源２０は、タッチパネル表示装置１５において厚み方向最一方側（視認側に対する逆側）に位置する。光源２０としては、例えば、ＬＥＤなど、公知の光源が挙げられる。

液晶セル２１は、光源２０に対する厚み方向一方側（視認側）に配置されている。また、液晶セル２１は、光源２０および光透過性導電層付き偏光フィルム４の間に介在される。液晶セル２１としては、公知の画像表示素子が挙げられる。

光透過性導電層付き偏光フィルム４は、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１（より具体的には、光透過性導電層３）が液晶セル２１に対向する（面する）ように、液晶セル２１の厚み方向一方側に配置されている。

なお、光透過性導電層付き偏光フィルム４における光透過性導電層３は、タッチ検知装置（図示せず）などに電気的に接続される。このような光透過性導電層３は、図４において描画していないが、例えば、所定のパターンに形成（パターニング）されている。

そして、このタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１では、光透過性導電層３および被加熱光透過性導電層３αは、ともに、非晶質であるため、耐クラック性に優れる。

また、光透過性導電層３および被加熱光透過性導電層３αが上記式（１）および（２）の両方を満たすため、熱による光透過性導電層３の表面抵抗の変化を抑制することができ、熱安定性に優れる。

図２Ａおよび図２Ｂに示すように、フィルム基材２の短辺１７の長さＷが３０ｃｍ以上と長ければ、光透過性導電層付き偏光フィルム４およびタッチパネル表示装置１５の製造効率を向上させるとともに、大型の光透過性導電層付き偏光フィルム４およびタッチパネル表示装置１５を製造することができる。

また、従来の非晶質性の光透過性導電層３は、加熱により非晶質を維持した場合であっても、タッチパネル表示装置１５におけるタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１内で膜質のばらつきがあり、その結果、特にフィルム基材２の幅方向で表面抵抗のばらつきを生じることがある。

具体的には、フィルム基材２において幅方向長さである短辺１７の長さＷが３０ｃｍ以上と長ければ、幅方向におけるＸｃおよびＹｃの標準偏差が大きくなり易い。つまり、幅方向におけるＸｃおよびＹｃがばらつき易い。

しかし、このタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１では、光透過性導電層３および被加熱光透過性導電層３αが上記式（１）および式（２）の両方を満たすように、光透過性導電層３が形成されるので、幅方向におけるＸｃおよびＹｃの標準偏差を小さく、つまり、幅方向におけるＸｃおよびＹｃのばらつきを抑制でき、具体的には、Ｘｃの標準偏差を１０×１０^１９（／ｃｍ^３）以下、Ｙｃの標準偏差を５（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）以下に設定できる。そのため、幅方向における熱安定性により一層優れる。

また、図２Ｃに示すように、フィルム基材２においてＴＤ方向に沿う長辺１６の長さＬが３０ｃｍ以上と長ければ、ＴＤ方向におけるＸｃおよびＹｃの標準偏差が大きくなり易い。つまり、ＴＤ方向におけるＸｃおよびＹｃがばらつき易い。

しかし、このタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１では、光透過性導電層３および被加熱光透過性導電層３αが上記式（１）を満たすように、光透過性導電層３が形成されるので、ＴＤ方向におけるＸｃおよびＹｃの標準偏差を小さく、つまり、ＴＤ方向におけるＸｃおよびＹｃのばらつきを抑制でき、具体的には、Ｘｃの標準偏差を１０×１０^１９（／ｃｍ^３）以下、Ｙｃの標準偏差を５（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）以下に設定できる。そのため、ＴＤ方向における熱安定性により一層優れる。

また、光透過性導電層３は、インジウム系酸化物を含有すれば、低表面抵抗および光透過性に優れる。

図３に示す光透過性導電層付き偏光フィルム４は、耐クラック性に優れるため、加工性が良好であり、意匠性（外観）に優れる。

また、光透過性導電層付き偏光フィルム４は、熱安定性に優れているため、これを備えるタッチパネル表示装置１５は、信頼性に優れる。

＜変形例＞
変形例において、一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、一実施形態およびその変形例を適宜組み合わせることができる。

図３に示すように、一実施形態の光透過性導電層付き偏光フィルム４では、フィルム基材２および光透過性導電層３が直接接触しているが、例えば、図４に示すように、フィルム基材２および光透過性導電層３の間に、機能層２５を介在させることができる。

具体的には、機能層２５として、例えば、１／４波長層６および偏光子８が挙げられる。つまり、図４の変形例の光透過性導電層付き偏光フィルム４では、フィルム基材２と、偏光子８と、１／４波長層６と、光透過性導電層３とが、厚み方向一方側に向かって、順に配置される。

偏光子８は、フィルム基材２の一方面に接触している。

１／４波長層６は、偏光子８の一方側に接触している。１／４波長層６は、光透過性導電層３の他方面に接触している。

なお、図４に示す変形例では、光透過性導電層付き偏光フィルム４は、１／４波長層６を備えるが、例えば、図示しないが、１／４波長層６を備えず、光透過性導電層付き偏光フィルム４を、フィルム基材２、偏光子８および光透過性導電層３から構成することもできる。

好ましくは、図３に示す一実施形態のように、光透過性導電層付き偏光フィルム４は、１／４波長層６を、光透過性導電層３と偏光子８との間に備える。これにより、視認側（図３の他方側）から、光透過性導電層付き偏光フィルム４に入射した可視光領域の反射光を抑制することができる。具体的には、１／４波長層６が光透過性導電層付き偏光フィルム４に設けられていない場合には、光透過性導電層３が可視光領域の光を一部反射（例えば、１０％程度）している。しかし、１／４波長層６が、光透過性導電層付き偏光フィルム４の光透過性導電層３と、偏光子８との間に配置されている場合には、光透過性導電層３において反射されて、視認側に戻る外光は、偏光子８で吸収され、視認側に殆ど出射されない。そのため、光透過性導電層３の反射光由来の色味を大幅に低減できる。

図１に示すタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１、および、図３に示す光透過性導電層付き偏光フィルム４では、光透過性導電層３は、フィルム基材２の一方面のみに配置されているが、例えば、図示しないが、フィルム基材２の一方面および他方面の両方に配置されていてもよい。

また、図３に示す光透過性導電層付き偏光フィルム４は、第２光透過性接着剤層７および第３光透過性接着剤層９を備えるが、例えば、図示しないが、いずれか一方、あるいは、両方を備えずに、光透過性導電層付き偏光フィルム４を構成することができる。

他方、図４に示す変形例の光透過性導電層付き偏光フィルム４は、フィルム基材２と偏光子８とが、それらの間に第３光透過性接着剤層９などを介在させず、直接接触しているが、例えば、図示しないが、それらの間に、第３光透過性接着剤層９を介在させることができる。この場合において、さらに、フィルム基材２と、第３光透過性接着剤層９との間に易接着層を設けてもよい。易接着層を設けることにより、フィルム基材２と第３光透過性接着剤層９との間の所望の接着力の実現が促進され得る。

また、図４に示す変形例の光透過性導電層付き偏光フィルム４は、偏光子８と１／４波長層６とが直接接触しているが、例えば、図示しないが、それらの間に、第２光透過性接着剤層７を介在させることができる。この場合において、さらに、第２光透過性接着剤層７と１／４波長層６との間に易接着層を設けても良い。易接着層を設けることにより、偏光子８と１／４波長層６との間の所望の接着力の実現が促進され得る。

図４に示す変形例の光透過性導電層付き偏光フィルム４では、光透過性導電層３は、フィルム基材２の一方側のみに配置されているが、例えば、フィルム基材２の一方側および他方側（より具体的に、他方面）の両側に配置されていてもよい。

以下、本発明に関し、実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、実施例に限定されるものではなく、本発明の技術思想に基づいて各種の変形および変更が可能である。

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。

実施例１
長さ５００ｍ、幅１３００ｍｍ（１３０ｃｍ）、厚み１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを準備し、フィルム基材２とした。フィルム基材２の水分含有量は、７５μｇ／ｃｍ^２であった。

フィルム基材２をロールトゥロール型スパッタリング装置に設置し、真空排気した。その後、ＡｒおよびＯ_２を導入して気圧０．４Ｐａとした真空雰囲気において、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、搬送速度９ｍ／ｍｉｎとして、厚み３２ｎｍのＩＴＯからなる光透過性導電層３を製造した。ＩＴＯは、非晶質であった。これにより、光透過性基材２および光透過性導電層３を順に備えるタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造した。

なお、ターゲットとして、１２質量％の酸化スズと８８質量％の酸化インジウムとの焼結体（ＩＴＯ）を用い、マグネットの水平磁場は３０ｍＴに調節した。

スパッタリング装置では、フィルム基材２の幅方向を４分割した領域のそれぞれにおいて、４本の酸素ガス配管を配置した。そして、スパッタリング時には、左右両端部の２本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量を、中央の２本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量に対して、０．９４倍に設定した。具体的には、左右両端部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０３０に設定し、中央部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０３２に設定した。

スパッタリング時おけるフィルム基材２の温度を、０℃に設定した。

実施例２
搬送速度を４．５ｍ／ｍｉｎとして、光透過性導電層３の厚みを６５ｎｍとし、左右両端部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０３０に設定し、中央部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）の設定を０．０３１に変更した以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造した。

実施例３
左右両端部の２本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量を、中央の２本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量に対して、０．９２倍に設定した以外は、実施例２と同様にしてタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造した。具体的には、左右両端部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０２２に設定し、中央部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０２４に設定した。

実施例４
ロールトゥロール型スパッタリング装置におけるフィルム基材２の搬送速度を１．０５倍に設定し、光透過性導電層３の厚みを６２ｎｍとした以外は、実施例２と同様にしてタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造した。

実施例５
左右両端部の２本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量を、中央の２本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量に対して、０．９５倍に設定した以外は、実施例２と同様にしてタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造した。具体的には、左右両端部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０３５に設定し、中央部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０３７に設定した。

実施例６
長さ５００ｍ、幅１３００ｍｍ（１３０ｃｍ）、厚み１００μｍのシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムを準備し、フィルム基材２とした。なお、フィルム基材２の水分含有量は、定量限界（５μｇ／ｃｍ^２）未満であった。

左右両端部の２本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量を、中央の２本の酸素ガス配管の酸素ガス供給量に対して、０．９８倍に設定した以外は、実施例２と同様にしてタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造した。具体的には、左右両端部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０４０に設定し、中央部の２本の酸素ガス配管において、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０４１に設定した。

比較例１
フィルム基材２として、長さ１５００ｍ、幅１３００ｍｍ（１３０ｃｍ）、厚み５０μｍの熱硬化樹脂層（アンダーコート層）付きポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（フィルム基材２の水分含有量は、１８μｇ／ｃｍ^２）を準備し、ターゲットとして１０質量％の酸化スズと９０質量％の酸化インジウムとの焼結体（ＩＴＯ）を用いた。また、Ａｒ流量に対するＯ_２流量の比（Ｏ_２／Ａｒ）を０．０１１に設定して、酸素導入量をＴＤ方向（図２Ｂ参照）に均一に導入しながら、厚み２５ｎｍのＩＴＯからなる光透過性導電層３を形成した。前記の項目以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造した。

比較例２
フィルム基材２として、長さ３０００ｍ、幅１３００ｍｍ（１３０ｃｍ）、厚み１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用い、Ａｒ流量に対するＯ２流量の比（Ｏ２／Ａｒ）を０．０３３とし、酸素導入量をＴＤ方向（図２Ｂ参照）に均一に導入しながら、厚み６５ｎｍのＩＴＯからなる光透過性導電層３を形成した以外は、実施例２と同様にしてタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を製造した。

各実施例および各比較例で得られたタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１について下記の測定を実施した。結果を表１に示す。

（評価）
（１）フィルム基材の厚みおよび水分含有量
フィルム基材２の厚みは、膜厚計（尾崎製作所社製、装置名「デジタルダイアルゲージ
ＤＧ－２０５」）を用いて測定した。光透過性導電層３の厚みは、透過型電子顕微鏡（日立製作所製、装置名「ＨＦ－２０００」）を用いた断面観察により測定した。

フィルム基材２の水分含有量は、ＪＩＳ Ｋ ７２５１－Ｂ法（水分気化法）により求めた。

（２）光透過性導電層のキャリア密度、ホール移動度およびそれらの標準偏差
ホール効果測定システム（バイオラッド製、商品名「ＨＬ５５００ＰＣ」）を用いて測定を実施した。キャリア密度は、上記（１）で求めた光透過性導電層３の厚みを用いて算出した。

具体的には、各実施例および各比較例において、幅１３００ｍｍのＴＤ方向において、８０ｍｍ位置（Ｐ１）、６５０ｍｍ位置（Ｐ２）、１２２０ｍｍ位置の（Ｐ３）の３点でキャリア密度およびホール移動度のそれぞれを求めた。ＸａおよびＹａのそれぞれを、上記した複数点における平均値として求めるとともに、標準偏差も求めた。

（３）被加熱光透過性導電層のキャリア密度、ホール移動度およびそれらの標準偏差
まず、各タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１を、８０℃、５００時間加熱して、光透過性導電層３を被加熱光透過性導電層３αとした。

各被加熱光透過性導電層３αについて、上記（３）と同様にして、ホール効果測定システム（バイオラッド製、商品名「ＨＬ５５００ＰＣ」）を用いて、キャリア密度およびホール移動度を測定した。なお、各例のキャリア密度およびホール移動度の測定位置は上記（３）と同一である。次いで、ＸｃおよびＹｃのそれぞれを、上記した複数点における平均値として求めるとともに、標準偏差も求めた。

（４）光透過性導電層および被加熱光透過性導電層の膜質
各光透過性導電層３および各被加熱光透過性導電層３αを、塩酸（濃度：５質量％）に１５分間浸漬した後、水洗・乾燥し、各光透過性導電層３の１５ｍｍ程度の間の二端子間抵抗を測定した。１５ｍｍ間の二端子間抵抗が１０ｋΩを超過した場合を、非晶質と判断し、１０ｋΩを超過しなかった場合を、結晶質と判断した。

（５）表面抵抗の変化率および差の評価
各タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１の光透過性導電層３のＴＤ方向（図２Ｂ参照）の表面抵抗（各実施例および比較例の抵抗測定点はホール効果測定実施点と同位置）を、ＪＩＳ Ｋ７１９４（１９９４年）に準じて四端子法により求め、表面抵抗の平均値を算出した。すなわち、まず、各タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１の光透過性導電層３の表面抵抗のＴＤ方向における平均値（Ｒａ）を測定した。次いで、１４０℃、１時間加熱後の被加熱光透過性導電層３αの表面抵抗のＴＤ方向における平均値（Ｒｃ）を測定した。加熱前の表面抵抗に対する加熱後の表面抵抗の抵抗変化率（Ｒｃ／Ｒａ）を求め、下記基準にて評価を実施した。
○：表面抵抗の変化率が０．８以上、１．２５以下
×：表面抵抗の変化率が０．８未満、または、１．２５超過
併せて、加熱前後の表面抵抗の差（｜Ｒｃ－Ｒａ｜）を求めた。

（６）幅方向（ＴＤ方向）における表面抵抗の公差
「表面抵抗の変化率および差の評価」と同様にして、各タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム１の１４０℃、１時間加熱後の被加熱光透過性導電層３αのＴＤ方向の表面抵抗を測定した。ＴＤ方向で最も大きい抵抗（最大抵抗：Ｒｍａｘ）と最も小さい抵抗（最小抵抗：Ｒｍｉｎ）を求め、その差分（Ｒｍａｘ－Ｒｍｉｎ）を表面抵抗の公差とし、下記基準にて評価した。
○：表面抵抗の公差が０Ω／□以上、１０Ω／□以下
×：表面抵抗の公差が１０Ω／□超過
（７）光透過性導電層および被加熱光透過性導電層の比抵抗
（５）「表面抵抗の変化率および差の評価」に記載の方法で求めた光透過性導電層３（加熱前）および被加熱光透過性導電層３α（加熱後）のそれぞれの表面抵抗の平均値と、光透過性導電層３の厚みとの積を求めることにより、光透過性導電層３（加熱前）および被加熱光透過性導電層３α（加熱後）のそれぞれの比抵抗を得た。

なお、上記発明は、本発明の例示の実施形態として提供したが、これは単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。当該当技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記請求の範囲に含まれる。

タッチパネル用光透過性導電層付きフィルムは、光透過性導電層付き偏光フィルムに備えられる。

１ タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム
２ フィルム基材
３ 光透過性導電層
３α 被加熱光透過性導電層
４ 光透過性導電層付き偏光フィルム
６ １／４波長層
８ 偏光子
１５ タッチパネル表示装置
Ｘａ 光透過性導電層のキャリア密度
Ｙａ 光透過性導電層のホール移動度
Ｘｃ 被加熱光透過性導電層のキャリア密度、
Ｙｃ 被加熱光透過性導電層のホール移動度
Ｗ 幅（ＴＤ方向長さ）

Claims (9)

1. フィルム基材と、光透過性導電層とを備え、
   前記光透過性導電層、および、前記光透過性導電層を８０℃で、５００時間加熱した後の被加熱光透過性導電層は、ともに、非晶質であり、
   前記光透過性導電層のキャリア密度をＸａ×１０^１９（／ｃｍ^３）、ホール移動度をＹ
   ａ（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）とし、
   前記被加熱光透過性導電層のキャリア密度をＸｃ×１０^１９（／ｃｍ^３）、ホール移動
   度をＹｃ（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）としたときに、
   下記（１）式および式（２）の両方を満たすことを特徴とする、タッチパネル用光透過性導電層付きフィルム。
   ０．５≦（Ｘｃ／Ｘａ）×（Ｙｃ／Ｙａ）≦１．８ （１）
   １．０１≦Ｙｃ／Ｙａ≦１．３ （２）
2. 前記フィルム基材は、長尺形状を有し、
   前記フィルム基材は、３０ｃｍ以上の幅方向長さを有することを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム。
3. 前記被加熱光透過性導電層の前記幅方向に沿う３点の位置でＸｃおよびＹｃのそれぞれを測定し、
   前記Ｘｃの標準偏差が、１０×１０^１９（／ｃｍ^３）以下であり、
   前記Ｙｃの標準偏差が、５（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）以下であることを特徴とする、請求項２に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム。
4. 前記フィルム基材は、前記幅方向がＴＤ方向であることを特徴とする、請求項２に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム。
5. 前記被加熱光透過性導電層の前記ＴＤ方向に沿う３点の位置でＸｃおよびＹｃのそれぞれを測定し、
   前記Ｘｃの標準偏差が、１０×１０^１９（／ｃｍ^３）以下であり、
   前記Ｙｃの標準偏差が、５（ｃｍ^２／Ｖ・ｓ）以下であることを特徴とする、請求項４に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム。
6. 前記光透過性導電層は、インジウム系酸化物を含有することを特徴とする、請求項１に
   記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルム。
7. 請求項１に記載のタッチパネル用光透過性導電層付きフィルムと、
   偏光子とを備え、
   前記タッチパネル用光透過性導電層付きフィルムにおいて、前記光透過性導電層、前記フィルム基材が、厚さ方向の一方側から他方側に順に配置されており、
   前記偏光子が、前記タッチパネル用光透過性導電層付きフィルムの厚さ方向において、前記フィルム基材の他方側に配置されていることを特徴とする、光透過性導電層付き偏光フィルム。
8. 前記光透過性導電層および前記偏光子の間に配置される１／４波長層をさらに備えることを特徴とする、請求項７に記載の光透過性導電層付き偏光フィルム。
9. 請求項７に記載のタッチパネル用光透過性導電層付き偏光フィルムを備えることを特徴とする、タッチパネル表示装置。
   

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