JP7446854B2 - インク塗布装置、インク塗布装置の制御装置、及びインク塗布方法 - Google Patents
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Description
本発明は、インク塗布装置、インク塗布装置の制御装置、及びインク塗布方法に関する。
基板に種々の膜を形成する手法として、インクジェット法が知られている（例えば、特許文献１）。特許文献１に開示された方法では、インクジェットヘッドを用いて液晶表示装置用の配向材料を基板に塗布する。配向材料として、例えばポリイミド樹脂等の有機高分子材料が用いられる。特許文献１に開示された方法では、配向材料を基板に塗布する前に、基板に紫外線を照射することにより基板の表面を改質させる。この紫外線照射によって、基板の表面が、ポリイミド樹脂等の配向材料に対して親液性を有するものとなる。なお、塗布するインクとして、有機高分子材料以外のインクを用いる方法においても、紫外線照射によって基板や被印刷物の表面の改質が行われる場合がある。
基板の表面の改質を行っても、基板にインクを塗布したときに十分な改質効果が発揮されず、所望の形状のインクの膜を形成することができない場合がある。
本発明の目的は、表面の十分な改質効果が発揮されないことによるインクの塗布不良の発生を抑制することが可能なインク塗布装置、インク塗布装置の制御方法、及びインク塗布方法を提供することである。
本発明の一観点によると、
第１搬送装置と、
基板を保持して、相互に直交する２方向に移動させる移動機構と、
前記第１搬送装置で搬送された基板を前記移動機構まで搬送する第２搬送装置と、
前記第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質装置と、
前記移動機構で保持された基板に向かってインクを液滴化して吐出するインクジェットヘッドと、
前記表面改質装置及び前記インクジェットヘッドを制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記移動機構で保持された基板のうち、前記表面改質装置によって表面が改質されてからの経過時間が許容上限値を超えた基板に対しては、前記インクジェットヘッドからのインクの吐出を中止させるインク塗布装置が提供される。
第１搬送装置と、
基板を保持して、相互に直交する２方向に移動させる移動機構と、
前記第１搬送装置で搬送された基板を前記移動機構まで搬送する第２搬送装置と、
前記第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質装置と、
前記移動機構で保持された基板に向かってインクを液滴化して吐出するインクジェットヘッドと、
前記表面改質装置及び前記インクジェットヘッドを制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記移動機構で保持された基板のうち、前記表面改質装置によって表面が改質されてからの経過時間が許容上限値を超えた基板に対しては、前記インクジェットヘッドからのインクの吐出を中止させるインク塗布装置が提供される。
本発明の他の観点によると、
第１搬送装置と、
基板を保持して、相互に直交する２方向に移動させる移動機構と、
前記第１搬送装置で搬送された基板を前記移動機構まで搬送する第２搬送装置と、
前記第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質装置と、
前記移動機構で保持された基板に向かってインクを液滴化して吐出するインクジェットヘッドと
を有するインク塗布装置の制御装置であって、
前記移動機構で保持された基板のうち、前記表面改質装置によって表面が改質された基板のそれぞれについて、改質を行ったときからの経過時間を監視し、表面が改質されてからの経過時間が許容上限値を超えた基板に対しては、インクを液滴化して吐出する処理を中止させる制御装置が提供される。
第１搬送装置と、
基板を保持して、相互に直交する２方向に移動させる移動機構と、
前記第１搬送装置で搬送された基板を前記移動機構まで搬送する第２搬送装置と、
前記第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質装置と、
前記移動機構で保持された基板に向かってインクを液滴化して吐出するインクジェットヘッドと
を有するインク塗布装置の制御装置であって、
前記移動機構で保持された基板のうち、前記表面改質装置によって表面が改質された基板のそれぞれについて、改質を行ったときからの経過時間を監視し、表面が改質されてからの経過時間が許容上限値を超えた基板に対しては、インクを液滴化して吐出する処理を中止させる制御装置が提供される。
本発明のさらに他の観点によると、
第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質を行い、
前記第１搬送装置で搬送された基板を、相互に直交する２方向に移動させる移動機構まで第２搬送装置によって搬送し、
前記移動機構に搬送された前記基板の表面に、インクの液滴を着弾させてインクの塗布を行い、
前記基板の表面改質を行った時点からの経過時間を監視し、前記移動機構に搬送された基板のそれぞれについて、インクの塗布を行う前に表面改質を行った時点からの経過時間が許容上限値を超えたら、インクの塗布を中止するインク塗布方法が提供される。
第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質を行い、
前記第１搬送装置で搬送された基板を、相互に直交する２方向に移動させる移動機構まで第２搬送装置によって搬送し、
前記移動機構に搬送された前記基板の表面に、インクの液滴を着弾させてインクの塗布を行い、
前記基板の表面改質を行った時点からの経過時間を監視し、前記移動機構に搬送された基板のそれぞれについて、インクの塗布を行う前に表面改質を行った時点からの経過時間が許容上限値を超えたら、インクの塗布を中止するインク塗布方法が提供される。
同一の条件で基板の表面を改質しても、基板に付着したインクに対して所望の濡れ性が得られず、インクの塗布不良が生じる場合がある。本願の発明者による種々の評価実験によると、表面の改質を行ってインク塗布装置内に基板が滞留する時間が長くなると、塗布不良が発生しやすいことが判明した。本願の発明では、表面の改質を行ってからの経過時間が許容上限値を超えた基板に対してはインクの吐出を中止させるため、インクの塗布不良の発生を抑制することができる。
図１～図４を参照して、一実施例によるインク塗布装置について説明する。
図１は、本実施例によるインク塗布装置の概略図である。複数のローラからなる第１搬送装置５１のローラの上に基板６０が載せられて、保管場所から中継場所まで搬送される。第１搬送装置５１の上方に表面改質装置１０が配置されている。表面改質装置１０は、例えば紫外線ランプを含んでおり、第１搬送装置５１によって搬送される基板６０の表面に紫外線を照射する。この紫外線は、第１搬送装置５１による搬送方向に対して直交する方向に長い長尺形状の断面を有しており、搬送される基板６０の表面の全域に紫外線を照射することができる。
図１は、本実施例によるインク塗布装置の概略図である。複数のローラからなる第１搬送装置５１のローラの上に基板６０が載せられて、保管場所から中継場所まで搬送される。第１搬送装置５１の上方に表面改質装置１０が配置されている。表面改質装置１０は、例えば紫外線ランプを含んでおり、第１搬送装置５１によって搬送される基板６０の表面に紫外線を照射する。この紫外線は、第１搬送装置５１による搬送方向に対して直交する方向に長い長尺形状の断面を有しており、搬送される基板６０の表面の全域に紫外線を照射することができる。
第２搬送装置５２が、第１搬送装置５１によって中継場所まで搬送された基板６０を、インク塗布部２０の基板保持テーブル２２Ｔの上まで搬送する。第２搬送装置５２は、リニアガイド５４とリフタ５３とを備えている。第１搬送装置５１の中継場所まで搬送された基板６０をリフタ５３が保持して上昇する。基板６０を保持したリフタ５３がリニアガイド５４に案内されてインク塗布部２０まで移動した後、下降することにより、基板保持テーブル２２Ｔに基板６０を保持させる。
さらに、リフタ５３は、インクが塗布された基板６０を保持して、インク塗布部２０から搬出路５５まで搬送する。搬出路５５まで搬送された基板６０は、インク塗布済の基板６０の保管場所まで搬送される。
次に、インク塗布部２０の構成について説明する。基台２１の上に移動機構２２が支持されている。移動機構２２はＸ方向移動機構２２Ｘ、Ｙ方向移動機構２２Ｙ、及び基板保持テーブル２２Ｔを含む。ｘ軸及びｙ軸が水平方向を向き、ｚ軸が鉛直上方を向くｘｙｚ直交座標系を定義する。Ｘ方向移動機構２２Ｘは基台２１に対してＹ方向移動機構２２Ｙをｘ方向に移動させ、Ｙ方向移動機構２２Ｙは、基台２１に対して基板保持テーブル２２Ｔをｙ方向に移動させる。移動機構２２は、さらに、基板保持テーブル２２Ｔを、ｚ方向に平行な回転軸を回転中心として回転させることにより、ｘｙ面内に関して基板６０の回転方向の姿勢を変化させることができる。
基板保持テーブル２２Ｔの上面（保持面）に、インク塗布対象である基板６０が保持される。基板６０は、例えば真空チャックにより基板保持テーブル２２Ｔに固定される。基板保持テーブル２２Ｔの上方にインク吐出ユニット３０及び撮像装置３５が、例えば門型の支持部材２４によって支持されている。インク吐出ユニット３０は基台２１に対して昇降可能に支持されている。インク吐出ユニット３０は、基板６０に対向する複数のノズルを有する。各ノズルは、基板６０の表面に向かって光硬化性（例えば紫外線硬化性）のインクを吐出する。撮像装置３５は、基板６０の表面を撮像する。
図１では、基台２１に対してインク吐出ユニット３０及び撮像装置３５を静止させ、基板６０を移動させる構成を示したが、その逆に、基台２１に対して基板６０を静止させ、インク吐出ユニット３０及び撮像装置３５を移動させる構成を採用してもよい。
制御装置４０が、表面改質装置１０、第１搬送装置５１、第２搬送装置５２、移動機構２２、及びインク吐出ユニット３０を制御する。撮像装置３５で撮像された画像データが制御装置４０に入力される。
図２は、基板保持テーブル２２Ｔ、インク吐出ユニット３０、及び撮像装置３５の平面視における位置関係を示す図である。基板保持テーブル２２Ｔの保持面に基板６０が保持されている。基板６０の上方にインク吐出ユニット３０及び撮像装置３５が支持されている。
インク吐出ユニット３０は、インクジェットヘッド３１及び硬化用光源３３を含む。インクジェットヘッド３１の、基板６０に対向する面に、複数のノズル３２が設けられている。複数のノズル３２は、ｘ方向に関して等間隔に並んでいる。
硬化用光源３３は、ｙ方向に関してインクジェットヘッド３１の両側にそれぞれ配置されており、基板６０に付着したインクを硬化させる硬化装置として機能する。移動機構２２は、制御装置４０によって制御されることにより、基板保持テーブル２２Ｔに保持された基板６０をｘ方向及びｙ方向に移動させる。さらに、制御装置４０は、インクジェットヘッド３１の各ノズル３２からのインクの吐出を制御する。
基板６０をｙ方向に移動させながら、インクジェットヘッド３１からインクを吐出することにより、基板６０にインクの液滴を付着させることができる。基板６０に付着したインクは、基板６０の移動方向の下流側に位置する硬化用光源３３から放射される光により硬化される。本明細書において、基板６０をｙ方向に移動させながら、インクジェットヘッド３１から基板６０にインクを付着させる動作を、「スキャン動作」ということとする。基板６０に対するインクジェットヘッド３１のｘ方向の位置を異ならせて複数回のスキャン動作を行うことにより、基板６０の表面の全域の所望の位置にインクを付着させることができる。
基板６０に、複数のアライメントマーク６１が設けられている。例えば、基板６０の四隅にそれぞれアライメントマーク６１が設けられている。制御装置４０が移動機構２２を制御して、複数のアライメントマーク６１を順番に撮像装置３５の画角内に配置する。撮像装置３５によって撮像されたアライメントマーク６１の画像データを、制御装置４０が取得する。
制御装置４０は、アライメントマーク６１の画像データの解析を行うことにより、アライメントマーク６１の各々の位置情報を取得する。４つのアライメントマーク６１の位置情報から、基板６０のｘ方向及びｙ方向の位置、回転方向の姿勢、伸縮情報を求める。制御装置４０は、回転方向の姿勢の検出結果に基づいて移動機構２２を制御し、基板６０の回転方向の位置合わせを行う。
制御装置４０に、基板６０に形成すべきインクの膜の形状および位置を定義する画像データが記憶されている。制御装置４０は、この画像データに基づいて、インクジェットヘッド３１及び移動機構２２を制御するための描画データを生成する。例えば、基板６０の伸縮情報に基づいて、形成すべき膜の形状を伸縮させた描画データを生成する。
図３は、本実施例によるインク塗布装置を用いてインクの塗布を行う手順を示すフローチャートである。
まず、次に処理すべき基板６０を第１搬送装置５１（図１）で保管場所から中継場所まで搬送する（ステップＳ０１）。搬送の途中で、表面改質装置１０から基板６０の表面に紫外線を照射し、基板表面を改質する（ステップＳ０２）。制御装置４０は、基板６０の表面の全域の改質を行ったときからの経過時間の監視を開始する（ステップＳ０３）。例えば、基板６０の表面の全域の改質が終了した時点を、経過時間漢詩の開始時点とする。その後、第２搬送装置５２（図１）が基板６０を中継場所から搬出し、インク塗布部２０の基板保持テーブル２２Ｔまで搬送する。基板保持テーブル２２Ｔは、搬送されて来た基板６０をその上面に保持する（ステップＳ０４）。
続いて、基板６０のアライメントを行う（ステップＳ０５）。具体的には、制御装置４０が、基板６０に設けられたアライメントマーク６１の位置を検出し、基板６０の位置、回転方向の姿勢、伸縮情報を取得する。必要であれば、基板６０の回転方向の位置合わせを行う。アライメントが正常に終了したら（ステップＳ０６）、基板６０に形成すべき膜の形状及び位置を定義した画像データと、ステップＳ０５で取得したアライメント情報とに基づいて、描画データを生成する。描画データの生成が正常に終了したら（ステップＳ０７）、基板６０の改質を行ったときからの経過時間が許容上限値以下か否かを判定する（ステップＳ０８）。この許容上限値は基板種別ごとに定義されており、制御装置４０に記憶されている。
図４は、許容上限値の定義の一例を示す図表である。例えば、基板種別Ａ、Ｂ，Ｃ、Ｄに対して、それぞれの許容上限値として２時間、４時間、４時間、及び３時間が設定されている。
基板６０の改質を行ったときからの経過時間が許容上限値以下である場合、その基板６０に対してインク塗布を行う（ステップＳ１０）。インク塗布が終了したら、基板６０をインク塗布部２０から搬出し、搬出路５５に移送する（ステップＳ１０）。未処理の基板６０が残っている場合には、次に処理すべき未処理の基板６０に対して、ステップＳ０１からの処理を繰り返す（ステップＳ１１）。
なお、１枚の基板６０に対する処理が継続している期間に、次の基板６０に対する処理を開始してもよい。例えば、ステップＳ１０でインク塗布済の基板６０をインク塗布部２０から搬出した直後に、未処理の基板６０をインク塗布部２０に搬入するとよい。この場合には、インク塗布部２０に搬入されている基板６０へのインク塗布中（ステップＳ０９）に、次に処理すべき基板６０に対する改質処理（ステップＳ０２）を並行して行うことにより、インク塗布終了までに、次に処理する基板６０に対する改質処理を終了させておくとよい。
ステップＳ０６でアライメントが正常に終了しなかった場合には、制御装置４０はアライメントが正常に終了しなかったことをオペレータに報知する（ステップＳ１２）。例えば、アライメントマーク６１の検出ができなかった場合等に、アライメントが正常に終了しない。オペレータは、アライメント不良の原因や状況に応じて、処理を続行するか否かを判断する（ステップＳ１３）。例えば、４個のアライメントマーク６１のうち１個のアライメントマーク６１が検出できず、残りの３個のアライメントマーク６１が正常に検出できている場合は、処理を続行してもよい。このとき、制御装置４０は、３個のアライメントマーク６１の検出結果に基づいて基板６０のアライメントを行う。
処理を続行しない場合には、アライメントが不良であった基板６０をインク塗布装置から排除する。例えば、オペレータが制御装置４０に対して処理を続行しないというコマンドを与えると、制御装置４０は、基板保持テーブル２２Ｔから搬出路５５に、インクが塗布されていない基板６０を搬出する。アライメント不良の基板６０をインク塗布装置から排除したら、制御装置４０は、次に処理すべき基板に対してステップＳ０１からの手順を繰り返す。
描画データを正常に生成できなかった場合（ステップＳ０７）、または改質を行ったときからの経過時間が許容上限値を超えていた場合（ステップＳ０８）、制御装置４０は、描画データの生成不良、または経過時間の超過をオペレータに報知する（ステップＳ１４）。オペレータは、報知された内容を確認し、基板６０を排除するコマンドを制御装置４０に与える。制御装置４０は、基板保持テーブル２２Ｔから搬出路５５に基板６０を搬出する（ステップＳ１５）。基板６０をインク塗布装置から排除したら、制御装置４０は、次に処理すべき基板に対してステップＳ０１からの手順を繰り返す。
ステップＳ１５で排除された基板６０については、オペレータが排除原因に応じた処理を行うとよい。排除の原因が基板６０自体にある場合には、その基板６０は廃棄するとよい。排除の原因がインク塗布装置にあり、基板６０自体は正常である場合には、オペレータは、インク塗布装置のメンテナンスを行った後、その基板６０に対して、ステップＳ０１からの手順を再度実行するとよい。
次に、本実施例の優れた効果について説明する。
本願の発明者は、種々の評価実験により、基板表面の改質処理を行っても、改質処理終了からの経過時間が長くなると改質の効果が低減し、十分な親液性が得られなくなることを見出した。十分な親液性を持たない基板６０にインクジェットヘッド３１からインクを吐出してインク塗布を行うと、基板６０に付着したインクが表面上で広がらず、所望の形状の膜を形成できない場合がある。
本願の発明者は、種々の評価実験により、基板表面の改質処理を行っても、改質処理終了からの経過時間が長くなると改質の効果が低減し、十分な親液性が得られなくなることを見出した。十分な親液性を持たない基板６０にインクジェットヘッド３１からインクを吐出してインク塗布を行うと、基板６０に付着したインクが表面上で広がらず、所望の形状の膜を形成できない場合がある。
本実施例では、基板６０の表面の改質を行ったときからの経過時間を監視し、経過時間が許容上限値を超えたらインク塗布を中止している。このため、所望の形状の膜が形成されていない不良な基板６０の発生を抑制することができる。また、正常な形状の膜が形成できなくなる程度まで改質の効果が低減してしまう時間は、基板６０の表面の材質や、形成すべき膜の形状等に依存する。本実施例では、基板種別ごとに経過時間の許容上限値を設定しているため、基板６０にインクを塗布するか否かの判定の精度を高めることができる。
次に、上記実施例の変形例について説明する。
上記実施例では、表面改質装置１０として、紫外線を照射する紫外線ランプを用いたが、他の方法で表面の改質を行ってもよい。例えば、エキシマレーザの照射、プラズマの照射等を行ってもよい。
上記実施例では、表面改質装置１０として、紫外線を照射する紫外線ランプを用いたが、他の方法で表面の改質を行ってもよい。例えば、エキシマレーザの照射、プラズマの照射等を行ってもよい。
上記実施例では、ステップＳ０７（図３）で描画データを生成した後に、表面改質からの経過時間が許容上限値以下か否かの判定を行っているが、ステップＳ０３で経過時間の監視を開始した後、経過時間が許容上限値に達した時点でオペレータに報知（ステップＳ１３）するようにしてもよい。
次に、図５を参照して他の実施例について説明する。以下、図１～図４に示した実施例と共通の構成については説明を省略する。本実施例によるインク塗布装置においては、第１搬送装置５１の上方に表面改質装置１０（図１）が配置されていない。本実施例では、硬化用光源３３（図２）を表面改質装置の光源として用いる。
図５は、本実施例によるインク塗布装置を用いてインクの塗布を行う手順を示すフローチャートである。本実施例では、次に処理すべき基板６０を第１搬送装置５１での搬送中（ステップＳ０１）に基板６０の表面の改質を行うことなく、基板６０を基板保持テーブル２２Ｔに保持させる（ステップＳ０４）。
基板６０を撮像装置３５及び硬化用光源３３に対して移動させて、アライメントマーク６１の検出と、硬化用光源３３から基板６０への紫外線照射とを並行して行う（ステップＳ２１）。硬化用光源３３からの紫外線の照射によって、基板６０の表面が改質される。基板６０の表面の全域の改質が終了したら、改質処理終了からの経過時間の監視を開始する（ステップＳ２２）。ステップＳ０６以降の手順は、図３に示した手順と同一である。
次に、本実施例の優れた効果について説明する。
本実施例においても、図１～図４に示した実施例と同様に、所望の形状の膜が形成されていない不良な基板６０の発生を抑制することができる。さらに、本実施例では、硬化用光源３３を改質用光源としても利用するため、図１に示した表面改質装置１０に相当する光源が不要である。これにより、インク塗布装置の部品点数の削減、及び低価格化を図ることができる。
本実施例においても、図１～図４に示した実施例と同様に、所望の形状の膜が形成されていない不良な基板６０の発生を抑制することができる。さらに、本実施例では、硬化用光源３３を改質用光源としても利用するため、図１に示した表面改質装置１０に相当する光源が不要である。これにより、インク塗布装置の部品点数の削減、及び低価格化を図ることができる。
上述の各実施例は例示であり、異なる実施例で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。複数の実施例の同様の構成による同様の作用効果については実施例ごとには逐次言及しない。さらに、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
１０ 表面改質装置
２０ インク塗布部
２１ 基台
２２ 移動機構
２２Ｘ Ｘ方向移動機構
２２Ｙ Ｙ方向移動機構
２２Ｔ 基板保持テーブル
２４ 支持部材
３０ インク吐出ユニット
３１ インクジェットヘッド
３２ ノズル
３３ 硬化用光源
３５ 撮像装置
４０ 制御装置
５１ 第１搬送装置
５２ 第２搬送装置
５３ リフタ
５４ リニアガイド
５５ 搬出路
６０ 基板
６１ アライメントマーク
２０ インク塗布部
２１ 基台
２２ 移動機構
２２Ｘ Ｘ方向移動機構
２２Ｙ Ｙ方向移動機構
２２Ｔ 基板保持テーブル
２４ 支持部材
３０ インク吐出ユニット
３１ インクジェットヘッド
３２ ノズル
３３ 硬化用光源
３５ 撮像装置
４０ 制御装置
５１ 第１搬送装置
５２ 第２搬送装置
５３ リフタ
５４ リニアガイド
５５ 搬出路
６０ 基板
６１ アライメントマーク
Claims (7)
- 第１搬送装置と、
基板を保持して、相互に直交する２方向に移動させる移動機構と、
前記第１搬送装置で搬送された基板を前記移動機構まで搬送する第２搬送装置と、
前記第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質装置と、
前記移動機構で保持された基板に向かってインクを液滴化して吐出するインクジェットヘッドと、
前記表面改質装置及び前記インクジェットヘッドを制御する制御装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記移動機構で保持された基板のうち、前記表面改質装置によって表面が改質されてからの経過時間が許容上限値を超えた基板に対しては、前記インクジェットヘッドからのインクの吐出を中止させるインク塗布装置。 - 前記表面改質装置は、前記第１搬送装置を搬送される基板に紫外線を照射することにより、基板の表面の改質を行う請求項１に記載のインク塗布装置。
- さらに、前記移動機構に保持された基板が移動する範囲の一部の領域の上方に配置された撮像装置を有しており、
前記制御装置は、前記撮像装置で、前記移動機構に保持された基板のアライメントマークを検出し、基板の位置情報を取得する請求項１または２に記載のインク塗布装置。 - 前記制御装置は、前記アライメントマークの位置の検出結果から得られた基板の位置情報と、基板に形成すべき膜の形状及び位置を定義した画像データとに基づいて、描画データを形成し、前記描画データに基づいて、前記インクジェットヘッド及び前記移動機構を制御する請求項３に記載のインク塗布装置。
- 前記制御装置は、処理する基板の基板種別ごとに前記許容上限値を記憶しており、表面が改質された基板の基板種別に対応する前記許容上限値を用いて、インクの吐出を中止させるか否かを判定する請求項３または４に記載のインク塗布装置。
- 第１搬送装置と、
基板を保持して、相互に直交する２方向に移動させる移動機構と、
前記第１搬送装置で搬送された基板を前記移動機構まで搬送する第２搬送装置と、
前記第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質装置と、
前記移動機構で保持された基板に向かってインクを液滴化して吐出するインクジェットヘッドと
を有するインク塗布装置の制御装置であって、
前記移動機構で保持された基板のうち、前記表面改質装置によって表面が改質された基板のそれぞれについて、改質を行ったときからの経過時間を監視し、表面が改質されてからの経過時間が許容上限値を超えた基板に対しては、インクを液滴化して吐出する処理を中止させる制御装置。 - 第１搬送装置を搬送される基板の表面の親液性を変化させる表面改質を行い、
前記第１搬送装置で搬送された基板を、相互に直交する２方向に移動させる移動機構まで第２搬送装置によって搬送し、
前記移動機構に搬送された前記基板の表面に、インクの液滴を着弾させてインクの塗布を行い、
前記基板の表面改質を行った時点からの経過時間を監視し、前記移動機構に搬送された基板のそれぞれについて、インクの塗布を行う前に表面改質を行った時点からの経過時間が許容上限値を超えたら、インクの塗布を中止するインク塗布方法。
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| JP2020035024A JP7446854B2 (ja) | 2020-03-02 | 2020-03-02 | インク塗布装置、インク塗布装置の制御装置、及びインク塗布方法 |
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