JP7434233B2 - センサ及び電気装置 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、センサ及び電気装置に関する。

例えば、電流を検出するセンサがある。実用的なセンサ及び電気装置が望まれる。

特開２０２０－１８０８９５号公報

実施形態は、実用的なセンサ及び電気装置を提供する。

実施形態によれば、センサは、第１面を含む基体と、前記第１面に固定された第１構造体と、を含む。前記第１構造体は、第１支持部、第２支持部、第１可動部及び第１固定電極を含む。前記第１支持部は、前記第１面に固定される。前記第１支持部は、１つまたは複数の第１支持領域を含む。前記１つの第１支持領域は環状である。前記複数の第１支持領域は、環状に並ぶ。前記第２支持部は、前記第１面に固定され、前記第１支持部の周りに設けられる。前記第２支持部は、１つまたは複数の第２支持領域を含む。前記１つの第２支持領域は環状である。前記複数の第２支持領域は、環状に並ぶ。前記第１可動部は、前記第１支持部及び前記第２支持部に支持され、前記第１面と交差する第１方向において前記基体から離れる。前記第１固定電極は、前記第１面に固定され環状である。前記第１可動部は、環状の第１可動電極と、第１導電部材を含む。前記第１導電部材に第１電流が流れることが可能である。前記第１電流は、前記第１支持部から前記第２支持部への第１放射方向に沿い、前記第１支持部から前記第２支持部への第１向き、および、前記第２支持部から前記第１支持部への第２向きの少なくともいずれかの向きを有する。前記第１固定電極は、前記第１可動電極と対向する。前記第１固定電極と前記第１構造体との間に第１間隙が設けられる。

図１（ａ）及び図１（ｂ）は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式図である。 図２は、第１実施形態に係るセンサを例示する平面図である。 図３（ａ）～図３（ｃ）は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。 図４は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。 図５（ａ）及び図５（ｂ）は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。 図６（ａ）及び図６（ｂ）は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。 図７は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。 図８は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。 図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２実施形態に係る電気装置を例示する模式図である。 図１０は、第２実施形態に係る電気装置を例示する模式的断面図である。 図１１は、第２実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。

以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。

（第１実施形態）
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式図である。
図２は、第１実施形態に係るセンサを例示する平面図である。
図１（ａ）は、図１（ｂ）の矢印ＡＲからみた透過平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ１－Ａ２線断面図である。

図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、実施形態に係るセンサ１１０は、基体５０ｓ及び第１構造体ＳＢ１を含む。

基体５０ｓは、第１面５０ｆを含む。この例では、基体５０ｓは、基部材５０ａ及び基絶縁層５０ｉを含む。基部材５０ａの上に基絶縁層５０ｉが設けられる。第１面５０ｆは、例えば、基絶縁層５０ｉの上面である。

第１面５０ｆに対して垂直な方向をＺ軸方向とする。Ｚ軸方向に対して垂直な１つの方向をＸ軸方向とする。Ｚ軸方向及びＸ軸方向に対して垂直な方向をＹ軸方向とする。

第１構造体ＳＢ１は、第１面５０ｆに固定される。例えば、第１構造体ＳＢ１は、第１面５０ｆの上に設けられる。

第１構造体ＳＢ１は、第１支持部１１、第２支持部１２、第１可動部１０Ａ及び第１固定電極４１を含む。

図１（ｂ）に示すように、第１支持部１１は、第１面５０ｆに固定される。図１（ａ）に示すように、第１支持部１１は、１つまたは複数の第１支持領域１１Ｒを含む。この例では、１つの第１支持領域１１Ｒが設けられている。例えば、この１つの第１支持領域１１Ｒは環状である。後述するように、複数の第１支持領域１１Ｒが設けられる場合、複数の第１支持領域１１Ｒは、環状に並ぶ。

図１（ｂ）に示すように、第２支持部１２は、第１面５０ｆに固定される。図１（ａ）に示すように、第２支持部１２は、第１支持部１１の周りに設けられる。第２支持部１２は、１つまたは複数の第２支持領域１２Ｒを含む。この例では、１つの第２支持領域１２Ｒが設けられている。この１つの第２支持領域１２Ｒは環状である。後述するように、複数の第２支持領域１２Ｒが設けられる場合、複数の第２支持領域１２Ｒは、環状に並ぶ。

例えば、環状の第１支持部１１の周りに、環状の第２支持部１２が設けられる。第１支持部１１及び第２支持部１２は、例えば、同心円状に設けられる。第１支持部１１及び第２支持部１２は、例えば、同心または同軸である。

図１（ｂ）に示すように、第１可動部１０Ａは、第１支持部１１及び第２支持部１２に支持される。第１可動部１０Ａは、第１方向Ｄ１において基体５０ｓから離れる。第１方向Ｄ１は、第１面５０ｆと交差する。第１方向Ｄ１は、例えば、Ｚ軸方向である。

図１（ｂ）に示すように、第１固定電極４１は、第１面５０ｆに設けられる。図１（ａ）に示すように、第１固定電極４１は、環状である。Ｘ－Ｙ平面において、第１固定電極４１は、第１支持部１１と第２支持部１２との間にある。

図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、第１可動部１０Ａは、第１可動電極２１及び第１導電部材３１を含む。第１可動電極２１は、例えば、環状である。

例えば、第１方向Ｄ１において、第１可動電極２１は、第１固定電極４１と第１導電部材３１との間にある。第１固定電極４１と第１可動電極２１との間に、目的とする静電容量が効果的に形成される。

図１（ｂ）に示すように、第１構造体ＳＢ１は、絶縁部材１０ｉを含んでも良い。絶縁部材１０ｉの一部は、第１可動部１０Ａに含まれて良い。絶縁部材１０ｉの少なくとも一部は、第１可動電極２１と第１導電部材３１との間にある。絶縁部材１０ｉの一部は、第１固定電極４１と第１可動電極２１との間に設けられて良い。絶縁部材１０ｉの一部は、第１支持部１１及び第２支持部１２に含まれて良い。

図２に示すように、第１導電部材３１に第１電流ｉ１が流れることが可能である。第１電流ｉ１は、第１支持部１１から第２支持部１２への第１放射方向Ｄｘ１に沿う。第１電流ｉ１は、第１支持部１１から第２支持部１２への第１向き、および、第２支持部１２から第１支持部１１への第２向きの少なくともいずれかの向きを有する。この例では、第１電流ｉ１は、第１支持部１１から第２支持部１２への第１向きを有する。

図１（ｂ）に示すように、第１固定電極４１は、第１可動電極２１と対向する。第１固定電極４１と第１構造体ＳＢ１との間に第１間隙ｇ１が設けられる。第１固定電極４１と第１可動電極２１との間に第１間隙ｇ１が設けられる。

図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、検出対象配線８５が設けられる。検出対象配線８５は、第１支持部１１で囲まれた第１空間ＳＰ１を通過する。検出対象配線８５の少なくとも一部は、第１方向Ｄ１の成分を含む方向に沿っている。検出対象配線８５に検出対象電流ｉＤが流れる。検出対象電流ｉＤは、第１支持部１１で囲まれた第１空間ＳＰ１を通過する。検出対象電流ｉＤは、第１方向Ｄ１の成分を含む。

図２に示すように、検出対象電流ｉＤにより磁界ＨＤが生じる。磁界ＨＤは、第１支持部１１の中心を軸とした第１周方向Ｄｃ１に沿う。第１電流ｉ１の方向は、磁界ＨＤの方向と実質的に交差（例えば直交）する。これにより、第１可動部１０Ａにローレンツ力が生じる。ローレンツ力の方向は、第１方向Ｄ１の成分を有する。これにより、第１可動部１０Ａが第１方向Ｄ１に沿って変位する。検出対象電流ｉＤの大きさに応じてローレンツ力の大きさが変化する。検出対象電流ｉＤの向き（極性）に応じてローレンツ力の向きが変化する。

生じたローレンツ力により、第１固定電極４１と第１可動電極２１との間の距離が変化する。例えば、第１固定電極４１と第１可動部１０Ａとの間の第１距離ｄ１が変化する。第１距離ｄ１の変化に伴い、第１固定電極４１と第１可動電極２１との間の第１静電容量が変化する。すなわち、検出対象電流ｉＤに応じて、第１固定電極４１と第１可動電極２１との間の第１静電容量が変化する。第１静電容量の変化を検出することで、検出対象電流ｉＤが検出できる。

実施形態によれば、簡単な構成により、検出対象電流ｉＤを検出できる。検出対象電流ｉＤは、ＤＣ電流またはＡＣ電流で良い。

例えば、磁気抵抗体を用いて電流を検出する参考例がある。この参考例において、磁気抵抗体を含む検出素子の製造プロセスは、複雑である。実施形態では、複雑な製造プロセスが不要である。実施形態においては、簡単な構成により電流を検出できる。実用的なセンサが提供できる。

図１（ｂ）に示すように、センサ１１０は、制御部７０を含んでも良い。制御部７０は、第１回路７１を含む。制御部７０（例えば第１回路７１）は、第１導電部材３１に、第１電流ｉ１を供給可能である。

例えば、第１構造体ＳＢ１は、第１端子Ｔ１及び第２端子Ｔ２を含む。第１端子Ｔ１は、第１導電部材３１の一端と電気的に接続される。第２端子Ｔ２は、第１導電部材３１の他端と電気的に接続される。制御部７０は、第１端子Ｔ１及び第２端子Ｔ２を介して、第１導電部材３１に、第１電流ｉ１を供給可能である。

例えば、第１構造体ＳＢ１は、第１導電部材３１と電気的に接続された導電部３１Ａ及び導電部３１Ｂを含む。導電部３１Ａの少なくとも一部は、第１支持部１１を通過する。導電部３１Ｂの少なくとも一部は、第２支持部１２を通過する。例えば、第１端子Ｔ１、配線７８ａ及び導電部３１Ａを介して、制御部７０が第１導電部材３１の一端と電気的に接続される。例えば、第２端子Ｔ２、配線７８ｂ及び導電部３１Ｂを介して、制御部７０が第１導電部材３１の他端と電気的に接続される。配線７８ａ、配線７８ｂ、導電部３１Ａ及び導電部３１Ｂを介して、第１導電部材３１に第１電流ｉ１が供給される。

制御部７０（例えば第１回路７１）は、第１固定電極４１と第１可動電極２１との間の第１静電容量の変化を検出可能である。

例えば、第１構造体ＳＢ１は、第３端子Ｔ３及び第４端子Ｔ４を含む。第３端子Ｔ３は、第１固定電極４１と電気的に接続される。第４端子Ｔ４は、第１可動電極２１と電気的に接続される。制御部７０は、第３端子Ｔ３及び第４端子Ｔ４を介して、第１静電容量の変化を検出して良い。

例えば、第１構造体ＳＢ１は、配線７８ｃ及び配線７８ｄを含んで良い。配線７８ｃは、第１固定電極４１と電気的に接続される。配線７８ｄは、第１可動電極２１と電気的に接続される。配線７８ｄは、例えば、第１支持部１１及び第２支持部１２の少なくともいずれかを通過して良い。例えば、第３端子Ｔ３、第４端子Ｔ４、配線７８ｃ及び配線７８ｄを介して、制御部７０は、第１固定電極４１と第１可動電極２１との間の第１静電容量の変化を検出可能である。制御部７０は、信号Ｓ１を出力可能である。信号Ｓ１は、例えば第１静電容量の変化に対応する。

上記のように、第１静電容量は、検出対象電流ｉＤに応じて変化する。既に説明したように、検出対象電流ｉＤは、第１支持部１１で囲まれた第１空間ＳＰ１を通過する。検出対象電流ｉＤは、第１方向Ｄ１の成分を含む。

図３（ａ）～図３（ｃ）は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。
図３（ａ）は、第１支持部１１、第２支持部１２及び第１導電部材３１を例示している。図３（ｂ）は、第１可動電極２１を例示している。図３（ｃ）は、第１支持部１１、第２支持部１２及び第１固定電極４１を例示している。

図３（ａ）に示すように、この例では、第１導電部材３１は、第１導電部３１ａ及び第２導電部３１ｂを含む。第１導電部３１ａは、第１導電部端３１ａｅ及び第１導電部他端３１ａｆを含む。第１導電部端３１ａｅは、第１支持部１１と接続される。第１導電部他端３１ａｆは、第２支持部１２と接続される。

第２導電部３１ｂは、第２導電部端３１ｂｅ及び第２導電部他端３１ｂｆを含む。第２導電部端３１ｂｅは、第１支持部１１と接続される。第２導電部他端３１ｂｆは、第２支持部１２と接続される。

図３（ａ）に示すように、この例では、第１導電部材３１は、第３導電部３１ｃ及び第４導電部３１ｄを含む。第３導電部３１ｃは、第３導電部端３１ｃｅ及び第３導電部他端３１ｃｆを含む。第３導電部端３１ｃｅは、第１支持部１１と接続される。第３導電部他端３１ｃｆは、第２支持部１２と接続される。

第４導電部３１ｄは、第４導電部端３１ｄｅ及び第４導電部他端３１ｄｆを含む。第４導電部端３１ｄｅは、第１支持部１１と接続される。第４導電部他端３１ｄｆは、第２支持部１２と接続される。

この例では、第１導電部端３１ａｅから第１導電部他端３１ａｆへの方向は、第２導電部他端３１ｂｆから第２導電部端３１ｂｅへの方向に沿う。例えば、これらの方向は、Ｘ軸方向に沿う。

例えば、第３導電部端３１ｃｅから第３導電部他端３１ｃｆへの方向は、第４導電部他端３１ｄｆから第４導電部端３１ｄｅへの方向に沿う。例えば、これらの方向は、Ｙ軸方向に沿う。

このように、第１導電部端３１ａｅから第１導電部他端３１ａｆへの方向は、第３導電部他端３１ｃｆから第３導電部端３１ｃｅへの方向と交差する。

図３（ａ）に示すように、第１導電部材３１は、第５導電部３１ｅ、第６導電部３１ｆ、第７導電部３１ｇ及び第８導電部３１ｈなどを含んでも良い。複数の導電部（第１～第８導電部３１ａ～３１ｈなど）は、第１周方向Ｄｃ１と交差する方向に沿って延びる。複数の導電部の数は、任意である。

例えば、第３導電部３１ｃが「第２導電部」とみなされても良い。この場合、第１導電部端３１ａｅから第１導電部他端３１ａｆへの方向は、「第２導電部端」から「第２導電部他端」への方向と交差する。

図４は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。
図４は、第１支持部１１、第２支持部１２及び第１導電部材３１を例示している。

図４に示すように、例えば、第１導電部３１ａは、第１導電線３１ａｐと、第１端可撓部３１ａｑと、第１他端可撓部３１ａｒと、を含む。第１端可撓部３１ａｑは、第１導電線３１ａｐの端部を第１支持部１１と接続する。第１他端可撓部３１ａｒは、第１導電線３１ａｐの他端部を第２支持部１２と接続する。

例えば、第２導電部３１ｂは、第２導電線３１ｂｐと、第２端可撓部３１ｂｑと、第２他端可撓部３１ｂｒと、を含む。第２端可撓部３１ｂｑは、第２導電線３１ｂｐの端部を第１支持部１１と接続する。第２他端可撓部３１ｂｒは、第２導電線３１ｂｐの他端部を第２支持部１２と接続する。

例えば、第３導電部３１ｃは、第３導電線３１ｃｐと、第３端可撓部３１ｃｑと、第３他端可撓部３１ｃｒと、を含む。第３端可撓部３１ｃｑは、第３導電線３１ｃｐの端部を第１支持部１１と接続する。第３他端可撓部３１ｃｒは、第３導電線３１ｃｐの他端部を第２支持部１２と接続する。

例えば、第４導電部３１ｄは、第４導電線３１ｄｐと、第４端可撓部３１ｄｑと、第４他端可撓部３１ｄｒと、を含む。第４端可撓部３１ｄｑは、第４導電線３１ｄｐの端部を第１支持部１１と接続する。第４他端可撓部３１ｄｒは、第４導電線３１ｄｐの他端部を第２支持部１２と接続する。

１つの例において、第１端可撓部３１ａｑ及び第１他端可撓部３１ａｒの剛性は、第１導電線３１ａｐの剛性よりも低くて良い。第１端可撓部３１ａｑ及び第１他端可撓部３１ａｒは、例えば、ばね部である。第１端可撓部３１ａｑ及び第１他端可撓部３１ａｒの剛性は、第１支持部１１及び第２支持部１２の剛性よりも低くて良い。

１つの例において、第２端可撓部３１ｂｑ及び第２他端可撓部３１ｂｒの剛性は、第２導電線３１ｂｐの剛性よりも低くて良い。第２端可撓部３１ｂｑ及び第２他端可撓部３１ｂｒは、例えば、ばね部である。第２端可撓部３１ｂｑ及び第２他端可撓部３１ｂｒの剛性は、第１支持部１１及び第２支持部１２の剛性よりも低くて良い。

１つの例において、第３端可撓部３１ｃｑ及び第３他端可撓部３１ｃｒの剛性は、第３導電線３１ｃｐの剛性よりも低くて良い。第３端可撓部３１ｃｑ及び第３他端可撓部３１ｃｒは、例えば、ばね部である。第３端可撓部３１ｃｑ及び第３他端可撓部３１ｃｒの剛性は、第１支持部１１及び第２支持部１２の剛性よりも低くて良い。

１つの例において、第４端可撓部３１ｄｑ及び第４他端可撓部３１ｄｒの剛性は、第４導電線３１ｄｐの剛性よりも低くて良い。第４端可撓部３１ｄｑ及び第４他端可撓部３１ｄｒは、例えば、ばね部である。第４端可撓部３１ｄｑ及び第４他端可撓部３１ｄｒの剛性は、第１支持部１１及び第２支持部１２の剛性よりも低くて良い。

端可撓部及び他端可撓部が設けられることで、導電部は変形し易くなる。例えば、第１可動部１０Ａが変位し易くなる。より高い感度が得易い。

図５（ａ）及び図５（ｂ）は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。
図５（ａ）に示すように、実施形態に係るセンサ１１１において、第１導電部材３１の形状は、センサ１１０におけるそれとは異なる。センサ１１１におけるこれを除く構成は、センサ１１０における構成と同様で良い。

図５（ａ）に示すように、センサ１１１においては、第１可動部１０Ａは環状である。第１導電部材３１は環状である。第１構造体ＳＢ１は、複数の内側可撓部３８ａと、複数の外側可撓部３８ｂと、を含む。複数の内側可撓部３８ａのそれぞれの一端３８ａｅは、第１支持部１１と接続される。複数の内側可撓部３８ａのそれぞれの他端３８ａｆは、第１可動部１０Ａと接続される。複数の外側可撓部３８ｂのそれぞれの一端３８ｂｅは、第２支持部１２と接続される。複数の外側可撓部３８ｂのそれぞれの他端３８ｂｆは、第１可動部１０Ａと接続される。

複数の内側可撓部３８ａは、第１支持部１１を中心とする第１周方向Ｄｃ１（図２参照）に沿って並ぶ。複数の外側可撓部３８ｂは、第１周方向Ｄｃ１（図２参照）に沿って並ぶ。

複数の内側可撓部３８ａ及び複数の外側可撓部３８ｂにより、第１可動部１０Ａが支持される。これにより、例えば、第１可動部１０Ａが変位し易くなる。より高い感度が得易い。

図６（ａ）及び図６（ｂ）は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。
図６（ａ）は、実施形態に係るセンサ１１２を例示している。図６（ｂ）は、実施形態に係るセンサ１１３を例示している。センサ１１２及びセンサ１１３における第１支持部１１及び第２支持部１２の構成は、センサ１１０及びセンサ１１１におけるそれらとは異なる。これを除くセンサ１１２及びセンサ１１３における構成は、センサ１１０及びセンサ１１１における構成と同様で良い。

センサ１１２において、第１支持部１１は、１つの連続した第１支持領域１１Ｒを含む。第１支持領域１１Ｒは環状または弧状である。第２支持部１２は、１つの連続した第２支持領域１２Ｒを含む。第２支持領域１２Ｒは環状または弧状である。センサ１１２においては、第１支持領域１１Ｒは、閉じていないオープン形状の環状または弧状である。第２支持領域１２Ｒは、閉じていないオープン形状の環状または弧状である。第１支持部１１及び第２支持部１２は、このような形状を有しても良い。例えば、第１支持部１１及び第２支持部１２が１８０度を超える角度の弧状でも良い。例えば、第１支持部１１及び第２支持部１２が２７０度以上の角度の弧状でも良い。

センサ１１３において、第１支持部１１は、複数の第１支持領域１１Ｒを含む。複数の第１支持領域１１Ｒは、環状または弧状に並ぶ。例えば、複数の第１支持領域１１Ｒは、第１周方向Ｄｃ１に沿って並ぶ。第２支持部１２は、複数の第２支持領域１２Ｒを含む。複数の第２支持領域１２Ｒは、環状または弧状に並ぶ。例えば、複数の第２支持領域１２Ｒは、第１周方向Ｄｃ１に沿って並ぶ。このように、複数の支持領域が環状または弧状に並んでも良い。

第１支持部１１及び第２支持部１２の少なくともいずれかの平面形状（Ｘ－Ｙ平面における形状）は、円形（扁平円形状を含む）、または、多角形状で良い。第１支持部１１及び第２支持部１２の少なくともいずれかは、閉じた（連続した）形状でも良く、閉じていないオープン形状の環状（例えば弧状）でも良い。

図７は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。
図８は、第１実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。
図８は、図７のＢ１－Ｂ２線断面図である。

図７に示すように、実施形態に係るセンサ１１４は、基体５０ｓ、第１構造体ＳＢ１、及び、第２構造体ＳＢ２を含む。センサ１１４における、基体５０ｓ及び第１構造体ＳＢ１の構成は、センサ１１０～１１３におけるそれらの構成と同様で良い。

図８に示すように、第２構造体ＳＢ２は、基体５０ｓの第１面５０ｆに固定される。図７及び図８に示すように、第２構造体ＳＢ２は、第３支持部１３、第４支持部１４、第２可動部１０Ｂ及び第２固定電極４２を含む。

第３支持部１３は、第１面５０ｆに固定される。第３支持部１３は、１つまたは複数の第３支持領域１３Ｒを含む。例えば、１つの第３支持領域１３Ｒは環状（または弧状）である。複数の第３支持領域１３Ｒは、環状（または弧状）に並ぶ。第３支持部１３には、第１支持部１１の構成が適用されて良い。

第４支持部１４は、第１面５０ｆに固定される。第４支持部１４は、第３支持部１３の周りに設けられる。第４支持部１４は、１つまたは複数の第４支持領域１４Ｒを含む。例えば、１つの第４支持領域１４Ｒは環状（または弧状）である。複数の第４支持領域１４Ｒは、環状（または弧状）に並ぶ。第４支持部１４には、第２支持部１２の構成が適用されて良い。

図８に示すように、第２可動部１０Ｂは、第３支持部１３及び第４支持部１４に支持される。第２可動部１０Ｂは、第１方向Ｄ１において、基体５０ｓから離れる。第２固定電極４２は、第１面５０ｆに固定される。

第２可動部１０Ｂは、環状（または弧状）の第２可動電極２２と、第２導電部材３２と、を含む。第２固定電極４２は、第２可動電極２２と対向する。第２固定電極４２と第２可動部１０Ｂとの間に、第２間隙ｇ２が設けられる。

図７に示すように、第２導電部材に、第２電流ｉ２が流れることが可能である。第２電流ｉ２は、第３支持部１３から第４支持部１４への第２放射方向Ｄｘ２に沿っている。第２電流ｉ２は、第３支持部１３から第４支持部１４への第３向き、および、第４支持部１４から第３支持部１３への第４向きの少なくともいずれかの向きを有する。

第２電流ｉ２は、制御部７０から供給されて良い。例えば、制御部７０は、第２回路７２を含む。例えば、第２回路７２は、第２導電部材３２に、第２電流ｉ２を供給可能である。

図８に示すように、例えば、第２構造体ＳＢ２は、第５～第８端子Ｔ５～Ｔ８を含む。例えば、第５端子Ｔ５、配線７９ａ及び導電部３２Ａを介して、制御部７０（第２回路７２）が第２導電部材３２の一端と電気的に接続される。例えば、第６端子Ｔ６、配線７９ｂ及び導電部３２Ｂを介して、制御部７０(第２回路７２）が第２導電部材３２の他端と電気的に接続される。第５端子Ｔ５及び第６端子Ｔ６を介して、第２導電部材３２に第２電流ｉ２が供給される。

制御部７０（例えば第２回路７２）は、第２固定電極４２と第２可動電極２２との間の第２静電容量の変化を検出可能である。

制御部７０（例えば第２回路７２）は、例えば、第７端子Ｔ７及び配線７９ｃを介して、第２固定電極４２と電気的に接続される。制御部７０（例えば第２回路７２）は、例えば、第８端子Ｔ８及び配線７９ｄを介して、第２可動電極２２と電気的に接続される。制御部７０は、これらの端子及びこれらの配線を介して第２静電容量を検出する。

第２構造体ＳＢ２の構造は、第１構造体ＳＢ１の構造と同様で良い。第２可動部１０Ｂの構造は、第１可動部１０Ａの構造と同様で良い。第２可動部１０Ｂの温度は、第１可動部１０Ａの温度と実質的に同じになる。

検出対象電流ｉＤは、第１可動部１０Ａを通過可能である。検出対象電流ｉＤは、第２可動部１０Ｂを通過しない。第１可動部１０Ａから得られる第１静電容量の変化と、第２可動部１０Ｂから得られる第２静電容量の変化と、の差を検出することで、温度特性を補正した結果が得られる。

図８に示すように、センサ１１４は、制御部７０を含んで良い。制御部７０は、第１固定電極４１と第１可動電極２１との間の第１静電容量（第１信号Ｓｇ１）と、第２固定電極４２と第２可動電極２２との間の第２静電容量（第２信号Ｓｇ２）と、の差に応じた信号Ｓ１を出力可能である。例えば、制御部７０は、第３回路７３を含む。第３回路７３は、差動増幅器を含む。第３回路７３に第１信号Ｓｇ１及び第２信号Ｓｇ２が供給される。第３回路７３は、これらの信号の差に対応する信号Ｓ１を出力する。

既に説明したように、第１静電容量（第１信号Ｓｇ１）は、検出対象電流ｉＤに応じて変化する。検出対象電流ｉＤは、第１支持部１１で囲まれた第１空間ＳＰ１を通過する。検出対象電流ｉＤは、第１方向Ｄ１の成分を含む。検出対象電流ｉＤは、第３支持部１３で囲まれた第２空間ＳＰ２を通過しない。

センサ１１４において、より高い精度で検出対象電流ｉＤを検出できる。

（第２実施形態）
図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２実施形態に係る電気装置を例示する模式図である。 図９（ａ）は、図９（ｂ）の矢印ＡＲからみた透過平面図である。図９（ｂ）は、図９（ａ）のＣ１－Ｃ２線断面図である。

図９（ａ）及び図９（ｂ）に示すように、実施形態に係る電気装置１２０は、第１実施形態に係るセンサ（例えばセンサ１１０）と、電気回路５０Ｃと、を含む。電気回路５０Ｃは、検出対象配線８５を含む。検出対象配線８５（電気回路５０Ｃ）に検出対象電流ｉＤが流れる。検出対象電流ｉＤは、第１支持部１１で囲まれた第１空間ＳＰ１を通過する。検出対象電流ｉＤは、第１方向Ｄ１の成分を含む。

例えば、検出対象電流ｉＤに応じて第１固定電極４１と第１可動電極２１との間の第１静電容量が変化する。電気装置１２０においては、検出対象電流ｉＤを検出できる。例えば、電流の異常などが検出されることが可能である。

図１０は、第２実施形態に係る電気装置を例示する模式的断面図である。
図１０に示すように、実施形態に係る電気装置１２１において、電気回路５０Ｃは、第１導電層５１と、第１導電層５１と電気的に接続された検出対象配線８５と、を含む。第１導電層５１と第１可動部１０Ａとの間に第１固定電極４１がある。検出対象配線８５は、第１空間ＳＰ１を通過する。検出対象配線８５の少なくも一部は、第１方向Ｄ１の成分を有する方向に沿っている。検出対象配線８５は、例えば、ボンディングワイヤである。

この例では、電気回路５０Ｃは、第２導電層５２、第３導電層５３、半導体部材５５を含む。第１導電層５１は、例えば、ソース電極である。第２導電層５２は、例えば、ドレイン電極である。第３導電層５３は、例えば、ゲート電極である。第１導電層５１、第２導電層５２、第３導電層５３及び半導体部材５５は、例えば、絶縁性の基部材５０ａの中に設けられても良い。半導体部材５５と第３導電層５３との間に、基部材５０ａの一部が設けられて良い。

例えば、電気回路５０Ｃは、トランジスタである。実施形態において、電気回路５０Ｃは、２端子素子でも良い。電気回路５０Ｃは、例えば、電力制御用の回路（例えば半導体装置）を含んでも良い。電気回路５０Ｃは、例えば、ダイオードまたはパワートランジスタなどを含んで良い。パワートランジスタは、例えば、パワーＭＯＳＥＴ、または、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ（ＩＧＢＴ）を含んで良い。電気回路５０Ｃは、例えば、サイリスタ、ゲートターンオフサイリスタ（ＧＴＯ）、または、トライアックなどを含んで良い。

図１１は、第２実施形態に係るセンサを例示する模式的断面図である。
図１１に示すように、実施形態に係る電気装置１２２は、第１実施形態に係るセンサ（例えばセンサ１１０）、電気回路５０Ｃ、及び、第１部材６１～第４部材６４を含む。第１部材６１と第２部材６２との間に基体５０ｓ及び第１構造体ＳＢ１が設けられる。第１部材６１及び第２部材６２の少なくともいずれかは、磁気シールドとして機能する。第１部材６１及び第２部材６２の少なくともいずれかは、外部の磁界を減衰させる。磁気シールドが設けられることで、より安定して高い精度の検出が可能になる。

この例では、第１部材６１から第２部材６２への方向は、第１方向（Ｚ軸方向）に沿う。

第３部材６３と第４部材６４との間に、基体５０ｓ及び第１構造体ＳＢ１が設けられる。第３部材６３及び第４部材６４の少なくともいずれかは、磁気シールドとして機能する。第３部材６３及び第４部材６４の少なくともいずれかは、外部の磁界を減衰させる。磁気シールドが設けられることで、より安定して高い精度の検出が可能になる。この例では、第１部材６１から第２部材６２への方向は、Ｘ－Ｙ平面に沿う。

実施形態は、以下の構成（例えば、技術案）を含む。
（構成１）
第１面を含む基体と、
前記第１面に固定された第１構造体と、
を備え、
前記第１構造体は、
前記第１面に固定された第１支持部であって、前記第１支持部は、１つまたは複数の第１支持領域を含み、前記１つの第１支持領域は環状であり、前記複数の第１支持領域は、環状に並ぶ、前記第１支持部と、
前記第１面に固定され、前記第１支持部の周りに設けられた第２支持部であって、前記第２支持部は、１つまたは複数の第２支持領域を含み、前記１つの第２支持領域は環状であり、前記複数の第２支持領域は、環状に並ぶ、前記第２支持部と、
前記第１支持部及び前記第２支持部に支持され、前記第１面と交差する第１方向において前記基体から離れた第１可動部と、
前記第１面に固定され環状の第１固定電極と、
を含み、
前記第１可動部は、
環状の第１可動電極と、
第１電流が流れることが可能な第１導電部材であって、前記第１電流は、前記第１支持部から前記第２支持部への第１放射方向に沿い、前記第１支持部から前記第２支持部への第１向き、および、前記第２支持部から前記第１支持部への第２向きの少なくともいずれかの向きを有する、前記第１導電部材と、
を含み、
前記第１固定電極は、前記第１可動電極と対向し、
前記第１固定電極と前記第１構造体との間に第１間隙が設けられた、センサ。

（構成２）
前記第１方向において、前記第１可動電極は、前記第１固定電極と前記第１導電部材との間にある、構成１に記載のセンサ。

（構成３）
前記第１構造体は、
複数の内側可撓部と、
複数の外側可撓部と、
を含み、
前記複数の内側可撓部のそれぞれの一端は、前記第１支持部と接続され、前記複数の内側可撓部のそれぞれの他端は、前記第１可動部と接続され、
前記複数の外側可撓部のそれぞれの一端は、前記第２支持部と接続され、前記複数の外側可撓部のそれぞれの他端は、前記第１可動部と接続された、構成１または２に記載のセンサ。

（構成４）
前記複数の内側可撓部は、前記第１支持部を中心とする第１周方向に沿って並び、
前記複数の外側可撓部は、前記第１周方向に沿って並ぶ、構成３に記載のセンサ。

（構成５）
前記第１導電部材は、第１導電部及び第２導電部を含み、
前記第１導電部は、第１導電部端及び第１導電部他端を含み、前記第１導電部端は、前記第１支持部と接続され、前記第１導電部他端は、前記第２支持部と接続され、
前記第２導電部は、第２導電部端及び第２導電部他端を含み、前記第２導電部端は、前記第１支持部と接続され、前記第２導電部他端は、前記第２支持部と接続された、構成１または２に記載のセンサ。

（構成６）
前記第１導電部端から前記第１導電部他端への方向は、前記第２導電部他端から前記第２導電部端への方向に沿っている、構成５に記載のセンサ。

（構成７）
前記第１導電部端から前記第１導電部他端への方向は、前記第２導電部端から前記第２導電部他端への方向と交差する、構成５に記載のセンサ。

（構成８）
前記第１導電部材は、第３導電部及び第４導電部を含み、
前記第３導電部は、第３導電部端及び第３導電部他端を含み、前記第３導電部端は、前記第１支持部と接続され、前記第３導電部他端は、前記第２支持部と接続され、
前記第４導電部は、第４導電部端及び第４導電部他端を含み、前記第４導電部端は、前記第１支持部と接続され、前記第４導電部他端は、前記第２支持部と接続され、
前記第１導電部端から前記第１導電部他端への方向は、前記第２導電部他端から前記第２導電部端への方向に沿い、
前記第３導電部端から前記第３導電部他端への方向は、前記第４導電部他端から前記第４導電部端への方向に沿い、
前記第１導電部端から前記第１導電部他端への前記方向は、前記第３導電部他端から前記第３導電部他端への前記方向と交差した、構成５に記載のセンサ。

（構成９）
前記第３導電部は、第３導電線と、第３端可撓部と、第３他端可撓部と、を含み、
前記第３端可撓部は、前記第３導電線の端部を前記第１支持部と接続し、
前記第３他端可撓部は、前記第３導電線の他端部を前記第２支持部と接続し、
前記第４導電部は、第４導電線と、第４端可撓部と、第４他端可撓部と、を含み、
前記第４端可撓部は、前記第４導電線の端部を前記第１支持部と接続し、
前記第４他端可撓部は、前記第４導電線の他端部を前記第２支持部と接続する、構成８に記載のセンサ。

（構成１０）
前記第１導電部は、第１導電線と、第１端可撓部と、第１他端可撓部と、を含み、
前記第１端可撓部は、前記第１導電線の端部を前記第１支持部と接続し、
前記第１他端可撓部は、前記第１導電線の他端部を前記第２支持部と接続し、
前記第２導電部は、第２導電線と、第２端可撓部と、第２他端可撓部と、を含み、
前記第２端可撓部は、前記第２導電線の端部を前記第１支持部と接続し、
前記第２他端可撓部は、前記第２導電線の他端部を前記第２支持部と接続する、構成５～９のいずれか１つに記載のセンサ。

（構成１１）
検出対象電流に応じて前記第１固定電極と前記第１可動部との間の第１距離が変化し、
前記検出対象電流は、前記第１支持部で囲まれた第１空間を通過し、前記検出対象電流は、前記第１方向の成分を含む、構成１～１０のいずれか１つに記載のセンサ。

（構成１２）
検出対象電流に応じて前記第１固定電極と前記第１可動電極との間の第１静電容量が変化し、
前記検出対象電流は、前記第１支持部で囲まれた第１空間を通過し、前記検出対象電流は、前記第１方向の成分を含む、構成１～１１のいずれか１つに記載のセンサ。

（構成１３）
前記第１導電部材に前記第１電流を供給可能な制御部をさらに備えた、構成１～１１のいずれか１つに記載のセンサ。

（構成１４）
前記制御部は、前記第１固定電極と前記第１可動電極との間の第１静電容量の変化を検出可能である、構成１３に記載のセンサ。

（構成１５）
前記第１静電容量は、検出対象電流に応じて変化し、
前記検出対象電流は、前記第１支持部で囲まれた第１空間を通過し、前記検出対象電流は、前記第１方向の成分を含む、構成１４に記載のセンサ。

（構成１６）
前記第１面に固定された第２構造体をさらに備え、
前記第２構造体は、
前記第１面に固定された第３支持部であって、前記第３支持部は、１つまたは複数の第３支持領域を含み、前記１つの第３支持領域は環状であり、前記複数の第３支持領域は、環状に並ぶ、前記第３支持部と、
前記第１面に固定され、前記第３支持部の周りに設けられた第４支持部であって、前記第４支持部は、１つまたは複数の第４支持領域を含み、前記１つの第４支持領域は環状であり、前記複数の第４支持領域は、環状に並ぶ、前記第２支持部と、
前記第３支持部及び前記第４支持部に支持され、前記第１方向において前記基体から離れた第２可動部と、
前記第１面に固定され環状の第２固定電極と、
を含み、
前記第２可動部は、
環状の第２可動電極と、
第２導電部材と、
を含み、
前記第２固定電極は、前記第２可動電極と対向し、
前記第２固定電極と前記第２可動部との間に第２間隙が設けられた、構成１～１１のいずれか１つに記載のセンサ。

（構成１７）
前記第２導電部材に、第２電流が流れることが可能であり、
前記第２電流は、前記第３支持部から前記第４支持部への第２放射方向に沿い、前記第３支持部から前記第４支持部への第３向き、および、前記第４支持部から前記第３支持部への第４向きの少なくともいずれかの向きを有する、構成１６に記載のセンサ。

（構成１８）
制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記第１固定電極と前記第１可動電極との間の第１静電容量と、前記第２固定電極と前記第２可動電極との間の第２静電容量と、の差に応じた信号を出力可能であり、
前記第１静電容量は、検出対象電流に応じて変化し、
前記検出対象電流は、前記第１支持部で囲まれた第１空間を通過し、前記検出対象電流は、前記第１方向の成分を含む、構成１６または１７に記載のセンサ。

（構成１９）
構成１～１０のいずれか１つに記載のセンサと、
電気回路と、
を備え、
前記電気回路に検出対象電流が流れることが可能であり、
前記検出対象電流は、前記第１支持部で囲まれた第１空間を通過し、前記検出対象電流は、前記第１方向の成分を含む、電気装置。

（構成２０）
前記電気回路は、
第１導電層と、
前記第１導電層と電気的に接続された検出対象配線と、
を含み、
前記第１導電層と前記第１可動部との間に前記第１固定電極があり、
前記検出対象配線は、前記第１空間を通過し、
前記検出対象配線の少なくも一部は、前記第１方向の成分を有する方向に沿っている、構成１９に記載の電気装置。

（構成２１）
第１面を含む基体と、
前記第１面に固定された第１構造体と、
を備え、
前記第１構造体は、
前記第１面に固定された第１支持部であって、前記第１支持部は、１つまたは複数の第１支持領域を含む、前記第１支持部と、
前記第１面に固定され、前記第１支持部の周りに設けられた第２支持部であって、前記第２支持部は、１つまたは複数の第２支持領域を含む、前記第２支持部と、
前記第１支持部及び前記第２支持部に支持され、前記第１面と交差する第１方向において前記基体から離れた第１可動部と、
前記第１面に固定された第１固定電極と、
を含み、
前記第１可動部は、
第１可動電極と、
第１電流が流れることが可能な第１導電部材であって、前記第１電流は、前記第１支持部から前記第２支持部への第１放射方向に沿い、前記第１支持部から前記第２支持部への第１向き、および、前記第２支持部から前記第１支持部への第２向きの少なくともいずれかの向きを有する、前記第１導電部材と、
を含み、
前記第１固定電極は、前記第１可動電極と対向し、
前記第１固定電極と前記第１構造体との間に第１間隙が設けられた、センサ。

実施形態によれば、実用的なセンサ及び電気装置が提供できる。

以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、センサに含まれる基体、支持部、可動部、固定電極及び制御部などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。

また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。

その他、本発明の実施の形態として上述したセンサ及び電気装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全てのセンサ及び電気装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。

その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１０Ａ、１０Ｂ…第１、第２可動部、 １０ｉ…絶縁部材、 １１～１４…第１～第４支持部、 １１Ｒ～１４Ｒ…第１～第４支持領域、 ２１、２２…第１、第２可動電極、 ３１、３２…第１、第２導電部材、 ３１Ａ、３１Ｂ、３２Ａ、３２Ｂ…導電部、 ３１ａ～３１ｈ…第１～第８導電部、 ３１ａｅ～３１ｄｅ…第１～第４導電部端、 ３１ａｆ～３１ｄｆ…第１～第４導電部他端、 ３１ａｐ～３１ｄｐ…第１～第４導電線、 ３１ａｑ～３１ｄｑ…第１～第４端可撓部、 ３１ａｒ～３１ｄｒ…第１～第４他端可撓部、 ３８ａ…内側可撓部、 ３８ａｅ…一端、 ３８ａｆ…他端、 ３８ｂ…外側可撓部、 ３８ｂｅ…一端、 ３８ｂｆ…他端、 ４１、４２…第１、第２固定電極、 ５０Ｃ…電気回路、 ５０ａ…基部材、 ５０ｆ…第１面、 ５０ｉ…基絶縁層、 ５０ｓ…基体、 ５１～５３…第１～第３導電層、 ５５…半導体部材、 ６１～６４…第１～第４部材、 ７０…制御部、 ７１～７３…第１～第３回路、 ７８ａ～７８ｄ、７９ａ～７９ｄ…配線、 ８５…検出対象配線、 １１０～１１４…センサ、 １２０～１２２…電気装置、 ＡＲ…矢印、 Ｄ１…第１方向、 Ｄｃ１…第１周方向、 Ｄｘ１、Ｄｘ２…第１、第２放射方向、 ＨＤ…磁界、 Ｓ１…信号、 ＳＢ１、ＳＢ２…第１、第２構造体、 ＳＰ１、ＳＰ２…第１、第２空間、 Ｓｇ１、Ｓｇ２…第１、第２信号、 Ｔ１～Ｔ８…第１～第８端子、 ｄ１…第１距離、 ｇ１、ｇ２…第１、第２間隙、 ｉ１、ｉ２…第１、第２電流、 ｉＤ…検出対象電流

Claims (8)

1. 第１面を含む基体と、
   前記第１面に固定された第１構造体と、
   を備え、
   前記第１構造体は、
   前記第１面に固定された第１支持部であって、前記第１支持部は、１つまたは複数の第１支持領域を含み、前記１つの第１支持領域は環状であり、前記複数の第１支持領域は、環状に並ぶ、前記第１支持部と、
   前記第１面に固定され、前記第１支持部の周りに設けられた第２支持部であって、前記第２支持部は、１つまたは複数の第２支持領域を含み、前記１つの第２支持領域は環状であり、前記複数の第２支持領域は、環状に並ぶ、前記第２支持部と、
   前記第１支持部及び前記第２支持部に支持され、前記第１面と交差する第１方向において前記基体から離れた第１可動部と、
   前記第１面に固定され環状の第１固定電極と、
   を含み、
   前記第１可動部は、
   環状の第１可動電極と、
   第１電流が流れることが可能な第１導電部材であって、前記第１電流は、前記第１支持部から前記第２支持部への第１放射方向に沿い、前記第１支持部から前記第２支持部への第１向き、および、前記第２支持部から前記第１支持部への第２向きの少なくともいずれかの向きを有する、前記第１導電部材と、
   を含み、
   前記第１固定電極は、前記第１可動電極と対向し、
   前記第１固定電極と前記第１構造体との間に第１間隙が設けられ、
   検出対象電流は、前記第１支持部で囲まれた第１空間を通過し、前記検出対象電流は、前記第１方向の成分を含み、
   前記検出対象電流に応じたローレンツ力により前記第１固定電極と前記第１可動部との間の第１距離が変化し、前記検出対象電流に応じて変化する、前記第１固定電極と前記第１可動電極との間の第１静電容量を検出することで前記検出対象電流を検出する、センサ。
2. 前記第１導電部材は、第１導電部及び第２導電部を含み、
   前記第１導電部は、第１導電部端及び第１導電部他端を含み、前記第１導電部端は、前記第１支持部と接続され、前記第１導電部他端は、前記第２支持部と接続され、
   前記第２導電部は、第２導電部端及び第２導電部他端を含み、前記第２導電部端は、前記第１支持部と接続され、前記第２導電部他端は、前記第２支持部と接続された、請求項１に記載のセンサ。
3. 前記第１導電部材は、第３導電部及び第４導電部を含み、
   前記第３導電部は、第３導電部端及び第３導電部他端を含み、前記第３導電部端は、前記第１支持部と接続され、前記第３導電部他端は、前記第２支持部と接続され、
   前記第４導電部は、第４導電部端及び第４導電部他端を含み、前記第４導電部端は、前記第１支持部と接続され、前記第４導電部他端は、前記第２支持部と接続され、
   前記第１導電部端から前記第１導電部他端への方向は、前記第２導電部他端から前記第２導電部端への方向に沿い、
   前記第３導電部端から前記第３導電部他端への方向は、前記第４導電部他端から前記第４導電部端への方向に沿い、
   前記第１導電部端から前記第１導電部他端への前記方向は、前記第３導電部他端から前記第３導電部他端への前記方向と交差した、請求項２に記載のセンサ。
4. 前記第１導電部は、第１導電線と、第１端可撓部と、第１他端可撓部と、を含み、
   前記第１端可撓部は、前記第１導電線の端部を前記第１支持部と接続し、
   前記第１他端可撓部は、前記第１導電線の他端部を前記第２支持部と接続し、
   前記第２導電部は、第２導電線と、第２端可撓部と、第２他端可撓部と、を含み、
   前記第２端可撓部は、前記第２導電線の端部を前記第１支持部と接続し、
   前記第２他端可撓部は、前記第２導電線の他端部を前記第２支持部と接続する、請求項２または３に記載のセンサ。
5. 前記第１面に固定された第２構造体をさらに備え、
   前記第２構造体は、
   前記第１面に固定された第３支持部であって、前記第３支持部は、１つまたは複数の第３支持領域を含み、前記１つの第３支持領域は環状であり、前記複数の第３支持領域は、環状に並ぶ、前記第３支持部と、
   前記第１面に固定され、前記第３支持部の周りに設けられた第４支持部であって、前記第４支持部は、１つまたは複数の第４支持領域を含み、前記１つの第４支持領域は環状であり、前記複数の第４支持領域は、環状に並ぶ、前記第２支持部と、
   前記第３支持部及び前記第４支持部に支持され、前記第１方向において前記基体から離れた第２可動部と、
   前記第１面に固定され環状の第２固定電極と、
   を含み、
   前記第２可動部は、
   環状の第２可動電極と、
   第２導電部材と、
   を含み、
   前記第２固定電極は、前記第２可動電極と対向し、
   前記第２固定電極と前記第２可動部との間に第２間隙が設けられた、請求項１～４のいずれか１つに記載のセンサ。
6. 制御部をさらに備え、
   前記制御部は、前記第１固定電極と前記第１可動電極との間の第１静電容量と、前記第２固定電極と前記第２可動電極との間の第２静電容量と、の差に応じた信号を出力可能である、請求項５に記載のセンサ。
7. 請求項１～６のいずれか１つに記載のセンサと、
   電気回路と、
   を備え、
   前記電気回路に前記検出対象電流が流れることが可能であり、
   前記検出対象電流は、前記第１支持部で囲まれた第１空間を通過し、前記検出対象電流は、前記第１方向の成分を含む、電気装置。
8. 第１面を含む基体と、
   前記第１面に固定された第１構造体と、
   を備え、
   前記第１構造体は、
   前記第１面に固定された第１支持部であって、前記第１支持部は、１つまたは複数の第１支持領域を含む、前記第１支持部と、
   前記第１面に固定され、前記第１支持部の周りに設けられた第２支持部であって、前記第２支持部は、１つまたは複数の第２支持領域を含む、前記第２支持部と、
   前記第１支持部及び前記第２支持部に支持され、前記第１面と交差する第１方向において前記基体から離れた第１可動部と、
   前記第１面に固定された第１固定電極と、
   を含み、
   前記第１可動部は、
   第１可動電極と、
   第１電流が流れることが可能な第１導電部材であって、前記第１電流は、前記第１支持部から前記第２支持部への第１放射方向に沿い、前記第１支持部から前記第２支持部への第１向き、および、前記第２支持部から前記第１支持部への第２向きの少なくともいずれかの向きを有する、前記第１導電部材と、
   を含み、
   前記第１固定電極は、前記第１可動電極と対向し、
   前記第１固定電極と前記第１構造体との間に第１間隙が設けられ、
   検出対象電流は、前記第１支持部で囲まれた第１空間を通過し、前記検出対象電流は、前記第１方向の成分を含み、
   前記検出対象電流に応じたローレンツ力により前記第１固定電極と前記第１可動部との間の第１距離が変化し、前記検出対象電流に応じて変化する、前記第１固定電極と前記第１可動電極との間の第１静電容量を検出することで前記検出対象電流を検出する、センサ。

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