JP7421885B2 - 面材 - Google Patents
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1. 模様層と、当該模様層の表面を覆う透明層とを有する面材であって、
上記模様層は、凹凸模様を有し、さらに透湿性を有し、
連続した面を形成してなる第1模様層と、
上記第1模様層の表面を部分的に覆う、凸状の第2模様層とを有し、
上記第1模様層及び上記第2模様層は、それぞれ、無機質粒子を含む組成物によって形成されてなり、
上記第2模様層における無機質粒子の粒度は、上記第1模様層における無機質粒子の粒度よりも小さく、
上記透明層は、ガラス転移温度が30~80℃であり、反応性官能基を有する樹脂、当該反応性官能基と反応可能な架橋剤、及び界面活性剤を含む透明層用組成物によって形成されてなり、
上記反応性官能基を有する樹脂は、カルボキシル基を有する樹脂を含み、上記架橋剤は、カルボジイミド基を有する架橋剤を含み、
上記透明層用組成物によって形成される被膜の水に対する接触角が60~110°であることを特徴とする面材。
2.各模様層における無機質粒子の粒度Pが下記式で表わされる場合、
第1模様層における無機質粒子の粒度P1と、
第2模様層における無機質粒子の粒度P2が、
P1>P2を満たすことを特徴とする1.記載の面材。
<式>P=(当該模様層における粒径150μm以上の無機質粒子の重量)/(当該模様層における無機質粒子の総重量)
3.上記第2模様層の平均厚みが3mm以下であることを特徴とする1.または2.に記載の面材。
4.上記界面活性剤は、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤から選ばれる1種または2種以上であり、分子内にシリコン及び/またはフッ素を有する化合物を含むことを特徴とする1.に記載の面材。
2:第2模様層
A:模様領域A
B:模様領域B
3:透明層
(1)(メタ)アクリル酸アルキルエステル、及び反応性シリル基含有モノマーを含むモノマー群を共重合して得られる合成樹脂、
(2)(メタ)アクリル酸アルキルエステル、並びに、反応性シリル基含有モノマー、水酸基含有モノマー、及びカルボキシル基含有モノマーから選ばれる少なくとも1種以上のモノマーを含むモノマー群を共重合した樹脂に、シリコン化合物を付加させて得られる合成樹脂、
(3)アクリル樹脂中の官能基と、該官能基と反応可能な官能基を有するシランカップリング剤とを反応させて得られる合成樹脂、
(4)アクリル樹脂中の官能基と、該官能基と反応可能な官能基を有するシランカップリング剤とを反応させ、さらにシリコン化合物を付加させて得られる合成樹脂、
等が挙げられる。なお、本発明では、アクリル酸アルキルエステルとメタクリル酸アルキルエステルとを併せて(メタ)アクリル酸アルキルエステルと表記している。モノマーとは、重合性不飽和二重結合を有する化合物である。アクリル樹脂とは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含むモノマー群を重合して得られる合成樹脂である。
<式>P=(当該模様層における粒径150μm以上の無機質粒子の重量)/(当該模様層における無機質粒子の総重量)
着色無機質粒子の混合物(茶色珪砂と赤褐色珪砂の混合物、粒径32~600μm、光透過率1%未満)80重量部、透明性無機質粒子(寒水石;粒径106~425μm、光透過率16%)20重量部、樹脂1(アクリルシリコン樹脂エマルション、Tg0℃、固形分50重量%)30重量部、及び添加剤(増粘剤、消泡剤等)を混合して、茶色系の模様層用組成物aを得た。この模様層用組成物aのP値は0.76である。
着色無機質粒子の混合物(黄色珪砂と淡褐色珪砂の混合物、粒径32~425μm、光透過率1%未満)80重量部、透明性無機質粒子(寒水石;粒径32~300μm、光透過率16%)20重量部、樹脂1(同上)30重量部、及び添加剤(増粘剤、消泡剤等)を混合して、黄色系の模様層用組成物bを得た。この模様層用組成物bのP値は0.38である。
上記模様層用組成物bにおいて、着色無機質粒子の粒度を調整し、P値が0.46である黄色系の模様層用組成物cを用意した。
上記模様層用組成物bにおいて、着色無機質粒子の粒度を調整し、P値が0.25である黄色系の模様層用組成物dを用意した。
上記模様層用組成物bにおいて、着色無機質粒子の粒度を調整し、P値が0.78である黄色系の模様層用組成物eを用意した。
着色無機質粒子の混合物(茶色珪砂と赤褐色珪砂の混合物、粒径32~600μm、光透過率1%未満)80重量部、透明性無機質粒子(寒水石;粒径106~425μm、光透過率16%)20重量部、樹脂2(アクリルシリコン樹脂エマルション、Tg38℃、固形分50重量%)30重量部、及び添加剤(増粘剤、消泡剤等)を混合して、茶色系の模様層用組成物fを得た。この模様層用組成物fのP値は0.76である。
着色無機質粒子の混合物(黄色珪砂と淡褐色珪砂の混合物、粒径32~425μm、光透過率1%未満)80重量部、透明性無機質粒子(寒水石;粒径32~300μm、光透過率16%)20重量部、樹脂2(同上)30重量部、及び添加剤(増粘剤、消泡剤等)を混合して、黄色系の模様層用組成物gを得た。この模様層用組成物gのP値は0.38である。
樹脂3(カルボキシル基含有アクリルシリコン樹脂エマルション、Tg66℃、固形分50重量%)200重量部、造膜助剤18重量部、水20重量部、界面活性剤(含フッ素両性界面活性剤、固形分30重量%)0.2重量部、その他添加剤(紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、消泡剤等)4重量部を常法により均一に混合して、透明層用組成物1を得た。この透明層用組成物1の水に対する接触角は82°であった。なお、水に対する接触角は、透明層用組成物をアルミニウム板の上に150μmの厚みで塗付け、気温23℃、相対湿度50%の雰囲気下(以下「標準状態」ともいう)にて14日間乾燥養生して得られた試験体について、接触角計を用いて測定した値である(以下同様)。
樹脂3(同上)200重量部、造膜助剤18重量部、水20重量部、架橋剤(カルボジイミド基含有架橋剤、固形分40重量%)10重量部、その他添加剤(紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、消泡剤等)4重量部を常法により均一に混合して、透明層用組成物2を得た。この透明層用組成物2の水に対する接触角は84°であった。
樹脂3(同上)200重量部、造膜助剤18重量部、水20重量部、界面活性剤(同上)0.2重量部、架橋剤(同上)10重量部、その他添加剤(紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、消泡剤等)4重量部を常法により均一に混合して、透明層用組成物3を得た。この透明層用組成物3の水に対する接触角は81°であった。
樹脂4(カルボキシル基含有アクリルシリコン樹脂エマルション、Tg57℃、固形分50重量%)200重量部、造膜助剤18重量部、水20重量部、界面活性剤(同上)0.2重量部、架橋剤(同上)10重量部、その他添加剤(紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、消泡剤等)4重量部を常法により均一に混合して、透明層用組成物4を得た。この透明層用組成物4の水に対する接触角は82°であった。
樹脂5(カルボキシル基含有アクリルシリコン樹脂エマルション、Tg48℃、固形分50重量%)200重量部、造膜助剤18重量部、水20重量部、界面活性剤(同上)0.2重量部、架橋剤(同上)10重量部、その他添加剤(紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、消泡剤等)4重量部を常法により均一に混合して、透明層用組成物5を得た。この透明層用組成物5の水に対する接触角は84°であった。
樹脂6(アクリル樹脂エマルション、Tg28℃、固形分50重量%)200重量部、造膜助剤18重量部、水20重量部、その他添加剤(紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、消泡剤等)4重量部を常法により均一に混合して、透明層用組成物6を得た。この透明層用組成物6の水に対する接触角は86°であった。
樹脂7(コロイダルシリカ複合エマルション、固形分40重量%)250重量部、造膜助剤18重量部、界面活性剤(同上)4重量部、その他添加剤(紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、消泡剤等)4重量部を常法により均一に混合して、透明層用組成物7を得た。この透明層用組成物7の水に対する接触角は38°であった。
樹脂8(アクリル樹脂エマルション、Tg48℃、固形分50重量%)200重量部、撥水剤(ジメチルシロキサン化合物、固形分50重量%)50重量部、造膜助剤18重量部、水20重量部、その他添加剤(紫外線吸収剤、光安定剤、増粘剤、消泡剤等)4重量部を常法により均一に混合して、透明層用組成物8を得た。この透明層用組成物8の水に対する接触角は116°であった。
型枠として、複数の筋状の凹凸を有する方形の型枠を用意した。この型枠を内面が上を向くように置き、型枠内面の凹部に模様層用組成物bを充填し、次いで全体に模様層用組成物aを充填し、硬化後に脱型した。次いで、その表面に透明層用組成物1を塗付して透明層(単位面積当たりの重量40g/m2)を設けることにより、面材1を得た。この面材1は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物bが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は15であった。
実施例1の透明層用組成物1を透明層用組成物2に替え、それ以外は実施例1と同様の方法で面材2を得た。この面材2は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物bが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は15であった。
実施例1の透明層用組成物1を透明層用組成物3に替え、それ以外は実施例1と同様の方法で面材3を得た。この面材3は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物bが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は15であった。
実施例1の透明層用組成物1を透明層用組成物4に替え、それ以外は実施例1と同様の方法で面材4を得た。この面材4は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物bが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は15であった。
実施例1の透明層用組成物1を透明層用組成物5に替え、それ以外は実施例1と同様の方法で面材5を得た。この面材5は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物bが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は15であった。
上記実施例1と同じ型枠を用意し、型枠内面の凹部に模様層用組成物cを充填し、次いで全体に模様層用組成物aを充填し、硬化後に脱型した。次いで、その表面に透明層用組成物3を塗付して透明層(単位面積当たりの重量40g/m2)を設けることにより、面材6を得た。この面材6は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物cが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は14あった。
上記実施例1と同じ型枠を用意し、型枠内面の凹部に模様層用組成物dを充填し、次いで全体に模様層用組成物aを充填し、硬化後に脱型した。次いで、その表面に透明層用組成物3を塗付して透明層(単位面積当たりの重量40g/m2)を設けることにより、面材6を得た。この面材6は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物dが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は20であった。
上記実施例1と同じ型枠を用意し、型枠内面の凹部に模様層用組成物gを充填し、次いで全体に模様層用組成物fを充填し、硬化後に脱型した。次いで、その表面に透明層用組成物3を塗付して透明層(単位面積当たりの重量40g/m2)を設けることにより、面材8を得た。この面材8は、模様層用組成物fが第1模様層(凹部)、模様層用組成物gが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は18であった。
実施例1の透明層用組成物1を透明層用組成物6に替え、それ以外は実施例1と同様の方法で面材9を得た。この面材9は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物bが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は15であった。
実施例1の透明層用組成物1を透明層用組成物7に替え、それ以外は実施例1と同様の方法で面材10を得た。この面材10は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物bが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は15であった。
実施例1の透明層用組成物1を透明層用組成物8に替え、それ以外は実施例1と同様の方法で面材11を得た。この面材11は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物bが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は15であった。
上記実施例1と同じ型枠を用意し、型枠内面の凹部に模様層用組成物eを充填し、次いで全体に模様層用組成物aを充填し、硬化後に脱型した。次いで、その表面に透明層用組成物3を塗付して透明層(単位面積当たりの重量40g/m2)を設けることにより、面材12を得た。この面材12は、模様層用組成物aが第1模様層(凹部)、模様層用組成物eが非連続で筋状の第2模様層(凸部)を形成し、第1模様層の平均厚みは2mm、第2模様層の平均厚みは0.5mm、第1模様層と第2模様層との色差は18であった。
上記方法によって得られた各面材について、表面の外観を観察し、優れた立体感を有し、全体的な調和感、自然感にも優れるものを「A」、立体感に欠けるものを「C」とする3段階(優;A>B>C;劣)で評価した。試験結果を表1に示す。
上記方法によって得られた各面材について、JIS Z0208による透湿度を測定した。試験結果を表1に示す。
実施例1~8及び比較例1~3の各面材(面材1~11)について、6か月間屋外曝露を行い、面材表面の外観変化を観察し、汚れの程度が軽微であったものを「A」とする4段階(優;A>B>C>D;劣)で評価した。試験結果を表1に示す。
実施例1~8の面材(面材1~8)を、直径150mmの円柱に巻きつけた後、その表面のひび割れの発生状況を確認した。評価は、ひび割れ発生が認められなかったものを「A」とする4段階(優;A>B>C>D;劣)で評価した。試験結果を表1に示す。
Claims (4)
- 模様層と、当該模様層の表面を覆う透明層とを有する面材であって、
上記模様層は、凹凸模様を有し、さらに透湿性を有し、
連続した面を形成してなる第1模様層と、
上記第1模様層の表面を部分的に覆う、凸状の第2模様層とを有し、
上記第1模様層及び上記第2模様層は、それぞれ、無機質粒子を含む組成物によって形成されてなり、
上記第2模様層における無機質粒子の粒度は、上記第1模様層における無機質粒子の粒度よりも小さく、
上記透明層は、ガラス転移温度が30~80℃であり、反応性官能基を有する樹脂、当該反応性官能基と反応可能な架橋剤、及び界面活性剤を含む透明層用組成物によって形成されてなり、
上記反応性官能基を有する樹脂は、カルボキシル基を有する樹脂を含み、上記架橋剤は、カルボジイミド基を有する架橋剤を含み、
上記透明層用組成物によって形成される被膜の水に対する接触角が60~110°であることを特徴とする面材。 - 各模様層における無機質粒子の粒度Pが下記式で表わされる場合、
第1模様層における無機質粒子の粒度P1と、
第2模様層における無機質粒子の粒度P2が、
P1>P2を満たすことを特徴とする請求項1記載の面材。
<式>P=(当該模様層における粒径150μm以上の無機質粒子の重量)/(当該模様層における無機質粒子の総重量) - 上記第2模様層の平均厚みが3mm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の面材。
- 上記界面活性剤は、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤から選ばれる1種または2種以上であり、分子内にシリコン及び/またはフッ素を有する化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の面材。
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JP2002046199A (ja) | 2000-08-01 | 2002-02-12 | Yamamoto Yogyo Kako Kk | 建築物又は構築物用表面装飾材及びその製造方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2000135471A (ja) | 1998-11-02 | 2000-05-16 | Yamamoto Yogyo Kako Kk | 装飾材の形成方法及びそれに用いる塗材 |
JP2002046199A (ja) | 2000-08-01 | 2002-02-12 | Yamamoto Yogyo Kako Kk | 建築物又は構築物用表面装飾材及びその製造方法 |
JP2005255781A (ja) | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Nippon Bee Chemical Co Ltd | 積層フィルム |
JP2010168442A (ja) | 2009-01-21 | 2010-08-05 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | エマルジョン組成物及び多孔質皮膜 |
JP2017100435A (ja) | 2015-11-25 | 2017-06-08 | リケンテクノス株式会社 | 透明樹脂積層体 |
JP2018048546A (ja) | 2016-09-17 | 2018-03-29 | 株式会社エフコンサルタント | 面材 |
JP2018177844A (ja) | 2017-04-04 | 2018-11-15 | 関西ペイント株式会社 | 塗料組成物及び複層塗膜形成方法 |
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