JP7413369B2 - 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法、シリカ系被膜の形成方法、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 - Google Patents
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Description
含ケイ素ポリマーにおいて、ケイ素原子上に、下記式(1):
-R1-S-R2-(CO-O-R3)n・・・(1)
(式(1)において、R1、及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1以上10以下の炭化水素基であり、R3は、水素原子、又はC-O結合により酸素原子に結合する炭素原子数1以上20以下の有機基であり、nは1又は2である。)
で表される基が1以上結合している、含ケイ素ポリマーである。
前述の膜形成用組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成する工程と、
塗布膜を乾燥する工程と、を含む、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法である。
塗布膜を乾燥して含ケイ素ポリマー被膜を形成した後に、含ケイ素ポリマー被膜を焼成するか、塗布膜を焼成する工程と、を含む、シリカ系被膜の形成方法である。
分子鎖中にポリシロキサン鎖又はオリゴシロキサン鎖と、ポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖との少なくとも一方を含み、且つケイ素原子上に下記式(2-I):
-R4-CR5=CH2・・・(2-I)
(式(2-I)において、R4は、単結合、又は炭素原子数1以上8以下の炭化水素基であり、R5は、水素原子、又は炭素原子数1以上8以下炭化水素基であり、R4及びR5がともに炭化水素基ある場合、R4としての炭化水素基の炭素原子数と、R5としての炭化水素基の炭素原子数との合計が2以上8以下である。)
で表される不飽和炭化水素基、又は下基式(2-II):
-R1-SH・・・(2-II)
(式(2-II)において、R1は、式(1)におけるR1と同様である。)
で表されるメルカプト基含有基が結合している前駆ポリマーと、下記式(1-I):
HS-R2-(CO-O-R3)n・・・(1-I)
(式(1-I)において、R2、R3、及びnは、式(1)におけるR2、R3、及びnと同様である。)
で表されるカルボン酸誘導体、又は下記式(1-II):
CH2=CR7-R6-(CO-O-R3)n・・・(1-II)
(式(1-II)において、R3、及びnは、式(1)におけるR3、及びnと同様であり、R6は、単結合、又は炭素原子数1以上8以下の炭化水素基であり、R7は、水素原子、又は炭素原子数1以上8以下の炭化水素基であり、R6及びR7がともに炭化水素基ある場合、R6としての炭化水素基の炭素原子数と、R7としての炭化水素基の炭素原子数との合計が2以上8以下である。)
で表される不飽和基含有化合物との間で、エンチオール反応を生じさせることを含む、製造方法である。
含ケイ素ポリマーは、分子鎖中にポリシロキサン鎖又はオリゴシロキサン鎖と、ポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖との少なくとも一方を含む。
含ケイ素ポリマーにおいて、ケイ素原子上に、下記式(1)で表される基が1以上結合している。式(1)は、下記式:
-R1-S-R2-(CO-O-R3)n・・・(1)
で表される。
なお、含ケイ素ポリマーは、分子鎖の構造が異なる分子を組み合わせて含んでいてもよい。例えば、含ケイ素ポリマーは、直鎖状の分子と、分岐鎖状の分子とを組み合わせて含んでいてもよい。
含ケイ素ポリマー中の、ポリシロキサン鎖又はオリゴシロキサン鎖の構造は、含ケイ素ポリマーが上記の式(1)で表される基を有する限り特に限定されない。
ポリシロキサン鎖又はオリゴシロキサン鎖としては、例えば下式(A1)で表されるシラン化合物から選択される少なくとも1種を加水分解縮合して得られるポリシロキサン鎖又はオリゴシロキサン鎖が好ましい。
R4-mSi(OR’)m・・・(A1)
Rとしての脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ビニル基、及びアリル基等が好ましい。
式(A1)におけるmが4の場合のシラン化合物(i)は下式(A2)で表される。
Si(ORA1)a(ORA2)b(ORA3)c(ORA4)d・・・(A2)
RA5Si(ORA6)e(ORA7)f(ORA8)g・・・(A3)
RA9RA10Si(ORA11)h(ORA12)i・・・(A4)
トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリペンチルオキシシラン、トリフェニルオキシシラン、ジメトキシモノエトキシシラン、ジエトキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシモノメトキシシラン、ジペンチルオキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシモノプロポキシシラン、ジフェニルオキシモノメトキシシラン、ジフェニルオキシモノエトキシシラン、ジフェニルオキシモノプロポキシシラン、メトキシエトキシプロポキシシラン、モノプロポキシジメトキシシラン、モノプロポキシジエトキシシラン、モノブトキシジメトキシシラン、モノペンチルオキシジエトキシシラン、及びモノフェニルオキシジエトキシシラン等のヒドロシラン化合物;
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリペンチルオキシシラン、メチルトリフェニルオキシシラン、メチルモノメトキシジエトキシシラン、メチルモノメトキシジプロポキシシラン、メチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、メチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、メチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びメチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のメチルシラン化合物;
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリペンチルオキシシラン、エチルトリフェニルオキシシラン、エチルモノメトキシジエトキシシラン、エチルモノメトキシジプロポキシシラン、エチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、エチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、エチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びエチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のエチルシラン化合物;
プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、プロピルトリペンチルオキシシラン、及びプロピルトリフェニルオキシシラン、プロピルモノメトキシジエトキシシラン、プロピルモノメトキシジプロポキシシラン、プロピルモノメトキシジペンチルオキシシラン、プロピルモノメトキシジフェニルオキシシラン、プロピルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びプロピルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン、等のプロピルシラン化合物;
ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン、ブチルトリペンチルオキシシラン、ブチルトリフェニルオキシシラン、ブチルモノメトキシジエトキシシラン、ブチルモノメトキシジブロポキシシラン、ブチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ブチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ブチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びブチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のブチルシラン化合物;
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリペンチルオキシシラン、フェニルトリフェニルオキシシラン、フェニルモノメトキシジエトキシシラン、フェニルモノメトキシジプロポキシシラン、フェニルモノメトキシジペンチルオキシシラン、フェニルモノメトキシジフェニルオキシシラン、フェニルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びフェニルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のフェニルシラン化合物;
ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、ヒドロキシフェニルトリエトキシシラン、ヒドロキシフェニルトリプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルトリペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルトリフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジエトキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びヒドロキシフェニルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のヒドロキシフェニルシラン化合物;
ナフチルトリメトキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、ナフチルトリプロポキシシラン、ナフチルトリペンチルオキシシラン、ナフチルトリフェニルオキシシラン、ナフチルモノメトキシジエトキシシラン、ナフチルモノメトキシジプロポキシシラン、ナフチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ナフチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ナフチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びナフチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のナフチルシラン化合物;
ベンジルトリメトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、ベンジルトリプロポキシシラン、ベンジルトリペンチルオキシシラン、ベンジルトリフェニルオキシシラン、ベンジルモノメトキシジエトキシシラン、ベンジルモノメトキシジプロポキシシラン、ベンジルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ベンジルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ベンジルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びベンジルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のベンジルシラン化合物;
ヒドロキシベンジルトリメトキシシラン、ヒドロキシベンジルトリエトキシシラン、ヒドロキシベンジルトリプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルトリペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルトリフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジエトキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びヒドロキシベンジルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のヒドロキシベンジルシラン化合物;
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、ビニルトリペンチルオキシシラン、ビニルトリフェニルオキシシラン、ビニルモノメトキシジエトキシシラン、ビニルモノメトキシジプロポキシシラン、ビニルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ビニルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ビニルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びビニルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のビニルシラン化合物;
アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリプロポキシシラン、アリルトリペンチルオキシシラン、アリルトリフェニルオキシシラン、アリルモノメトキシジエトキシシラン、アリルモノメトキシジプロポキシシラン、アリルモノメトキシジペンチルオキシシラン、アリルモノメトキシジフェニルオキシシラン、アリルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びアリルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のアリルシラン化合物;
が挙げられる。
ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、ジプロポキシシラン、ジペンチルオキシシラン、ジフェニルオキシシラン、メトキシエトキシシラン、メトキシプロポキシシラン、メトキシペンチルオキシシラン、メトキシフェニルオキシシラン、エトキシプロポキシシラン、エトキシペンチルオキシシラン、及びエトキシフェニルオキシシラン等のヒドロシラン化合物;
メチルジメトキシシラン、メチルメトキシエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルメトキシプロポキシシラン、メチルメトキシペンチルオキシシラン、メチルエトキシプロポキシシラン、メチルジプロポキシシラン、メチルジペンチルオキシシラン、メチルジフェニルオキシシラン、メチルメトキシフェニルオキシシラン等のメチルヒドロシラン化合物;
エチルジメトキシシラン、エチルメトキシエトキシシラン、エチルジエトキシシラン、エチルメトキシプロポキシシラン、エチルメトキシペンチルオキシシラン、エチルエトキシプロポキシシラン、エチルジプロポキシシラン、エチルジペンチルオキシシラン、エチルジフェニルオキシシラン、エチルメトキシフェニルオキシシラン等のエチルヒドロシラン化合物;
プロピルジメトキシシラン、プロピルメトキシエトキシシラン、プロピルジエトキシシラン、プロピルメトキシプロポキシシラン、プロピルメトキシペンチルオキシシラン、プロピルエトキシプロポキシシラン、プロピルジプロポキシシラン、プロピルジペンチルオキシシラン、プロピルジフェニルオキシシラン、プロピルメトキシフェニルオキシシラン等のプロピルヒドロシラン化合物;
ブチルジメトキシシラン、ブチルメトキシエトキシシラン、ブチルジエトキシシラン、ブチルメトキシプロポキシシラン、ブチルメトキシペンチルオキシシラン、ブチルエトキシプロポキシシラン、ブチルジプロポキシシラン、ブチルジペンチルオキシシラン、ブチルジフェニルオキシシラン、ブチルメトキシフェニルオキシシラン等のブチルヒドロシラン化合物;
フェニルジメトキシシラン、フェニルメトキシエトキシシラン、フェニルジエトキシシラン、フェニルメトキシプロポキシシラン、フェニルメトキシペンチルオキシシラン、フェニルエトキシプロポキシシラン、フェニルジプロポキシシラン、フェニルジペンチルオキシシラン、フェニルジフェニルオキシシラン、フェニルメトキシフェニルオキシシラン等のフェニルヒドロシラン化合物;
ヒドロキシフェニルジメトキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシエトキシシラン、ヒドロキシフェニルジエトキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルエトキシプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルジプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルジペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルジフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシフェニルオキシシラン等のヒドロキシフェニルヒドロシラン化合物;
ナフチルジメトキシシラン、ナフチルメトキシエトキシシラン、ナフチルジエトキシシラン、ナフチルメトキシプロポキシシラン、ナフチルメトキシペンチルオキシシラン、ナフチルエトキシプロポキシシラン、ナフチルジプロポキシシラン、ナフチルジペンチルオキシシラン、ナフチルジフェニルオキシシラン、ナフチルメトキシフェニルオキシシラン等のナフチルヒドロシラン化合物;
ベンジルジメトキシシラン、ベンジルメトキシエトキシシラン、ベンジルジエトキシシラン、ベンジルメトキシプロポキシシラン、ベンジルメトキシペンチルオキシシラン、ベンジルエトキシプロポキシシラン、ベンジルジプロポキシシラン、ベンジルジペンチルオキシシラン、ベンジルジフェニルオキシシラン、ベンジルメトキシフェニルオキシシラン等のベンジルヒドロシラン化合物;
ヒドロキシベンジルジメトキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシエトキシシラン、ヒドロキシベンジルジエトキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルエトキシプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルジプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルジペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルジフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシフェニルオキシシラン等のヒドロキシベンジルヒドロシラン化合物;
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシエトキシシラン、ジメチルメトキシプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジペンチルオキシシラン、ジメチルジフェニルオキシシラン、ジメチルエトキシプロポキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン等のジメチルシラン化合物;
ジエチルジメトキシシラン、ジエチルメトキシエトキシシラン、ジエチルメトキシプロポキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジペンチルオキシシラン、ジエチルジフェニルオキシシラン、ジエチルエトキシプロポキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン等のジエチルシラン化合物;
ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルメトキシエトキシシラン、ジプロピルメトキシプロポキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジプロピルジペンチルオキシシラン、ジプロピルジフェニルオキシシラン、ジプロピルエトキシプロポキシシラン、ジプロピルジプロポキシシラン等のジプロピルシラン化合物;
ジブチルジメトキシシラン、ジブチルメトキシエトキシシラン、ジブチルメトキシプロポキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジブチルジペンチルオキシシラン、ジブチルジフェニルオキシシラン、ジブチルエトキシプロポキシシラン、ジブチルジプロポキシシラン等のジブチルシラン化合物;
ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルメトキシエトキシシラン、ジフェニルメトキシプロポキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジペンチルオキシシラン、ジフェニルジフェニルオキシシラン、ジフェニルエトキシプロポキシシラン、ジフェニルジプロポキシシラン等のジフェニルシラン化合物;
ジ(ヒドロキシフェニル)ジメトキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)メトキシエトキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)メトキシプロポキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)ジエトキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)ジペンチルオキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)ジフェニルオキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)エトキシプロポキシシラン、ジ(ヒドロキシフェニル)ジプロポキシシラン等のジ(ヒドロキシフェニル)シラン化合物;
ジナフチルジメトキシシラン、ジナフチルメトキシエトキシシラン、ジナフチルメトキシプロポキシシラン、ジナフチルジエトキシシラン、ジナフチルジペンチルオキシシラン、ジナフチルジフェニルオキシシラン、ジナフチルエトキシプロポキシシラン、ジナフチルジプロポキシシラン等のジナフチルシラン化合物;
ジベンジルジメトキシシラン、ジベンジルメトキシエトキシシラン、ジベンジルメトキシプロポキシシラン、ジベンジルジエトキシシラン、ジベンジルジペンチルオキシシラン、ジベンジルジフェニルオキシシラン、ジベンジルエトキシプロポキシシラン、ジベンジルジプロポキシシラン等のジベンジルシラン化合物;
ジ(ヒドロキシベンジル)ジメトキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)メトキシエトキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)メトキシプロポキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)ジエトキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)ジペンチルオキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)ジフェニルオキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)エトキシプロポキシシラン、ジ(ヒドロキシベンジル)ジプロポキシシラン等のジ(ヒドロキシベンジル)シラン化合物;
メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルメトキシエトキシシラン、メチルエチルメトキシプロポキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジペンチルオキシシラン、メチルエチルジフェニルオキシシラン、メチルエチルエトキシプロポキシシラン、メチルエチルジプロポキシシラン等のメチルエチルシラン化合物;
メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルメトキシエトキシシラン、メチルプロピルメトキシプロポキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルプロピルジペンチルオキシシラン、メチルプロピルジフェニルオキシシラン、メチルプロピルエトキシプロポキシシラン、メチルプロピルジプロポキシシラン等のメチルプロピルシラン化合物;
メチルブチルジメトキシシラン、メチルブチルメトキシエトキシシラン、メチルブチルメトキシプロポキシシラン、メチルブチルジエトキシシラン、メチルブチルジペンチルオキシシラン、メチルブチルジフェニルオキシシラン、メチルブチルエトキシプロポキシシラン、メチルブチルジプロポキシシラン等のメチルブチルシラン化合物;
メチル(フェニル)ジメトキシシラン、メチル(フェニル)メトキシエトキシシラン、メチル(フェニル)メトキシプロポキシシラン、メチル(フェニル)ジエトキシシラン、メチル(フェニル)ジペンチルオキシシラン、メチル(フェニル)ジフェニルオキシシラン、メチル(フェニル)エトキシプロポキシシラン、メチル(フェニル)ジプロポキシシラン等のメチル(フェニル)シラン化合物;
メチル(ヒドロキシフェニル)ジメトキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)メトキシエトキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)メトキシプロポキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)ジエトキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)ジペンチルオキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)ジフェニルオキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)エトキシプロポキシシラン、メチル(ヒドロキシフェニル)ジプロポキシシラン等のメチル(ヒドロキシフェニル)シラン化合物;
メチル(ナフチル)ジメトキシシラン、メチル(ナフチル)メトキシエトキシシラン、メチル(ナフチル)メトキシプロポキシシラン、メチル(ナフチル)ジエトキシシラン、メチル(ナフチル)ジペンチルオキシシラン、メチル(ナフチル)ジフェニルオキシシラン、メチル(ナフチル)エトキシプロポキシシラン、メチル(ナフチル)ジプロポキシシラン等のメチル(ナフチル)シラン化合物;
メチル(ベンジル)ジメトキシシラン、メチル(ベンジル)メトキシエトキシシラン、メチル(ベンジル)メトキシプロポキシシラン、メチル(ベンジル)ジエトキシシラン、メチル(ベンジル)ジペンチルオキシシラン、メチル(ベンジル)ジフェニルオキシシラン、メチル(ベンジル)エトキシプロポキシシラン、メチル(ベンジル)ジプロポキシシラン等のメチル(ベンジル)シラン化合物;
メチル(ヒドロキシベンジル)ジメトキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)メトキシエトキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)メトキシプロポキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)ジエトキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)ジペンチルオキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)ジフェニルオキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)エトキシプロポキシシラン、メチル(ヒドロキシベンジル)ジプロポキシシラン等のメチル(ヒドロキシベンジル)シラン化合物;
エチルプロピルジメトキシシラン、エチルプロピルメトキシエトキシシラン、エチルプロピルメトキシプロポキシシラン、エチルプロピルジエトキシシラン、エチルプロピルジペンチルオキシシラン、エチルプロピルジフェニルオキシシラン、エチルプロピルエトキシプロポキシシラン、エチルプロピルジプロポキシシラン等のエチルプロピルシラン化合物;
エチルブチルジメトキシシラン、エチルブチルメトキシエトキシシラン、エチルブチルメトキシプロポキシシラン、エチルブチルジエトキシシラン、エチルブチルジペンチルオキシシラン、エチルブチルジフェニルオキシシラン、エチルブチルエトキシプロポキシシラン、エチルブチルジプロポキシシラン等のエチルブチルシラン化合物;
エチル(フェニル)ジメトキシシラン、エチル(フェニル)メトキシエトキシシラン、エチル(フェニル)メトキシプロポキシシラン、エチル(フェニル)ジエトキシシラン、エチル(フェニル)ジペンチルオキシシラン、エチル(フェニル)ジフェニルオキシシラン、エチル(フェニル)エトキシプロポキシシラン、エチル(フェニル)ジプロポキシシラン等のエチル(フェニル)シラン化合物;
エチル(ヒドロキシフェニル)ジメトキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)メトキシエトキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)メトキシプロポキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)ジエトキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)ジペンチルオキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)ジフェニルオキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)エトキシプロポキシシラン、エチル(ヒドロキシフェニル)ジプロポキシシラン等のエチル(ヒドロキシフェニル)シラン化合物;
エチル(ナフチル)ジメトキシシラン、エチル(ナフチル)メトキシエトキシシラン、エチル(ナフチル)メトキシプロポキシシラン、エチル(ナフチル)ジエトキシシラン、エチル(ナフチル)ジペンチルオキシシラン、エチル(ナフチル)ジフェニルオキシシラン、エチル(ナフチル)エトキシプロポキシシラン、エチル(ナフチル)ジプロポキシシラン等のエチル(ナフチル)シラン化合物;
エチル(ベンジル)ジメトキシシラン、エチル(ベンジル)メトキシエトキシシラン、エチル(ベンジル)メトキシプロポキシシラン、エチル(ベンジル)ジエトキシシラン、エチル(ベンジル)ジペンチルオキシシラン、エチル(ベンジル)ジフェニルオキシシラン、エチル(ベンジル)エトキシプロポキシシラン、エチル(ベンジル)ジプロポキシシラン等のエチル(ベンジル)シラン化合物;
エチル(ヒドロキシベンジル)ジメトキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)メトキシエトキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)メトキシプロポキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)ジエトキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)ジペンチルオキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)ジフェニルオキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)エトキシプロポキシシラン、エチル(ヒドロキシベンジル)ジプロポキシシラン等のエチル(ヒドロキシベンジル)シラン化合物;
プロピルブチルジメトキシシラン、プロピルブチルメトキシエトキシシラン、プロピルブチルメトキシプロポキシシラン、プロピルブチルジエトキシシラン、プロピルブチルジペンチルオキシシラン、プロピルブチルジフェニルオキシシラン、プロピルブチルエトキシプロポキシシラン、プロピルブチルジプロポキシシラン等のプロピルブチルシラン化合物;
プロピル(フェニル)ジメトキシシラン、プロピル(フェニル)メトキシエトキシシラン、プロピル(フェニル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(フェニル)ジエトキシシラン、プロピル(フェニル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(フェニル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(フェニル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(フェニル)ジプロポキシシラン等のプロピル(フェニル)シラン化合物;
プロピル(ヒドロキシフェニル)ジメトキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)メトキシエトキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)ジエトキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(ヒドロキシフェニル)ジプロポキシシラン等のプロピル(ヒドロキシフェニル)シラン化合物;
プロピル(ナフチル)ジメトキシシラン、プロピル(ナフチル)メトキシエトキシシラン、プロピル(ナフチル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(ナフチル)ジエトキシシラン、プロピル(ナフチル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(ナフチル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(ナフチル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(ナフチル)ジプロポキシシラン等のプロピル(ナフチル)シラン化合物;
プロピル(ベンジル)ジメトキシシラン、プロピル(ベンジル)メトキシエトキシシラン、プロピル(ベンジル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(ベンジル)ジエトキシシラン、プロピル(ベンジル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(ベンジル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(ベンジル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(ベンジル)ジプロポキシシラン等のプロピル(ベンジル)シラン化合物;
プロピル(ヒドロキシベンジル)ジメトキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)メトキシエトキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)メトキシプロポキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)ジエトキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)ジペンチルオキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)ジフェニルオキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)エトキシプロポキシシラン、プロピル(ヒドロキシベンジル)ジプロポキシシラン等のプロピル(ヒドロキシベンジル)シラン化合物;
ジビニルジメトキシシラン、ジビニルメトキシエトキシシラン、ジビニルメトキシプロポキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジペンチルオキシシラン、ジビニルジフェニルオキシシラン、ジビニルエトキシプロポキシシラン、ジビニルジプロポキシシラン等のジビニルシラン化合物;
ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルメトキシエトキシシラン、ビニルメチルメトキシプロポキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジペンチルオキシシラン、ビニルメチルジフェニルオキシシラン、ビニルメチルエトキシプロポキシシラン、ビニルメチルジプロポキシシラン等のビニルメチルシラン化合物;
ビニルエチルジメトキシシラン、ビニルエチルメトキシエトキシシラン、ビニルエチルメトキシプロポキシシラン、ビニルエチルジエトキシシラン、ビニルエチルジペンチルオキシシラン、ビニルメチルジフェニルオキシシラン、ビニルエチルエトキシプロポキシシラン、ビニルエチルジプロポキシシラン等のビニルエチルシラン化合物;
ビニル(フェニル)ジメトキシシラン、ビニル(フェニル)メトキシエトキシシラン、ビニル(フェニル)メトキシプロポキシシラン、ビニル(フェニル)ジエトキシシラン、ビニル(フェニル)ジペンチルオキシシラン、ビニル(フェニル)ジフェニルオキシシラン、ビニル(フェニル)エトキシプロポキシシラン、ビニル(フェニル)ジプロポキシシラン等のビニル(フェニル)シラン化合物;
ジアリルジメトキシシラン、ジアリルメトキシエトキシシラン、ジアリルメトキシプロポキシシラン、ジアリルジエトキシシラン、ジアリルジペンチルオキシシラン、ジアリルジフェニルオキシシラン、ジアリルエトキシプロポキシシラン、ジアリルジプロポキシシラン等のジアリルシラン化合物;
アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルメトキシエトキシシラン、アリルメチルメトキシプロポキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、アリルメチルジペンチルオキシシラン、アリルメチルジフェニルオキシシラン、アリルメチルエトキシプロポキシシラン、アリルメチルジプロポキシシラン等のアリルメチルシラン化合物;
アリルエチルジメトキシシラン、アリルエチルメトキシエトキシシラン、アリルエチルメトキシプロポキシシラン、アリルエチルジエトキシシラン、アリルエチルジペンチルオキシシラン、アリルメチルジフェニルオキシシラン、アリルエチルエトキシプロポキシシラン、アリルエチルジプロポキシシラン等のアリルエチルシラン化合物;
アリル(フェニル)ジメトキシシラン、アリル(フェニル)メトキシエトキシシラン、アリル(フェニル)メトキシプロポキシシラン、アリル(フェニル)ジエトキシシラン、アリル(フェニル)ジペンチルオキシシラン、アリル(フェニル)ジフェニルオキシシラン、アリル(フェニル)エトキシプロポキシシラン、アリル(フェニル)ジプロポキシシラン等のアリル(フェニル)シラン化合物;
が挙げられる。
-(SiRA13O3/2)-・・・(A3-1)
-(SiRA14RA15O2/2)-・・・(A4-1)
式(A3-1)及び式(A4-1)中、RA13、RA14、及びRA15は、それぞれ独立に、上記式(1)で表される基、炭素原子数1以上4以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基、又はフェニル基である。
含ケイ素ポリマー中のポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖の構造は、含ケイ素ポリマーが上記の式(1)で表される基を有する限り特に限定されない。ポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖は、シラノール基及び/又はアルコキシ基を含有していてもよい。
ポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖は、例えば、下式(A5)~(A9)で表される単位の少なくとも1つから構成されるのが好ましい。
Ra3及びRa4について、有機基としては、前述の式(1)で表される基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基や、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基等が挙げられる。
これらの基の中では、前述の式(1)で表される基、アルキル基、アリール基、及びアラルキル基が好ましい。アルキル基、アリール基、及びアラルキル基の好適な例は、前述の式(A1)中のRがアルキル基、アリール基、又はアラルキル基である場合の例と同様である。
ポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖は、下記(A10)~(A13)の単位を含むのが好ましい。
a、b、及びcは、それぞれ、3以上500以下が好ましく、10以上500以下がより好ましく、10以上100以下がさらに好ましい。各ユニット中の構成単位は、ユニット中に、ランダムに含まれていても、ブロック化された状態で含まれていてもよい。
含ケイ素ポリマーは、式(1)で表される基を有することにより、アルカリ可溶性であるか、加熱等によりアルカリ性の水溶液に対して可溶化する。
-CH2-S-CH2CH2-CO-O-R3・・・(1a)
-CH2CH2-S-CH2CH2-CO-O-R3・・・(1b)
-CH2CH2CH2-S-CH2CH2-CO-O-R3・・・(1c)
-CH2CH2-S-CH2CH2CH2-CO-O-R3・・・(1d)
-CH2CH2CH2-S-CH2CH2CH2-CO-O-R3・・・(1e)
-CH2CH2-S-CH2-CO-O-R3・・・(1f)
-CH2CH2CH2-S-CH2-CO-O-R3・・・(1g)
R3としての有機基としては、例えば、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、アルコキシアルキル基、及びヘテロアリール基等が挙げられる。これらの中では、炭化水素基が好ましい。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、及びイコシル基が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、アリル基、3-ブテニル基、4-ペンテニル基、5-ヘキセニル基、6-ヘプテニル基、7-オクテニル基、8-ノネニル基、及び9-ドデセニル基が挙げられる。
シクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、及びシクロデシル基が挙げられる。
アラルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフタレン-2-イルメチル基、及びナフタレン-1-イルメチル基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフタレン-1-イル基、ナフタレン-2-イル基、4-フェニルフェニル基、3-フェニルフェニル基、及び2-フェニルフェニル基等が挙げられる。
R3としての有機基が酸解離性溶解抑制基である場合、含ケイ素ポリマーを、周知の光酸発生剤と組み合わせることにより、アルカリ現像可能なポジ型の感光性組成物を得ることができる。
このような含ケイ素ポリマーを含む感光性組成物を用いる場合、フォトリソグラフィー法によりパターニングされた含ケイ素ポリマー含有膜を形成可能である。パターニングされた含ケイ素ポリマー含有膜の用途は特に限定されない。例えば、パターニングされた含ケイ素ポリマー含有膜を焼成すると、パターニングされたシリカ系被膜を形成することができる。
上記式(a2)中、R04は、炭素原子数1以上6以下の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基であり、oは0又は1である。
分散度は、1以上4.5以下が好ましく、2以上4以下がより好ましい。
膜形成用組成物は、前述の含ケイ素ポリマー(A)と、溶剤(S)とを含む。かかる膜形成組成物を塗布することにより、含ケイ素ポリマー(A)を主体する膜を形成することができる。含ケイ素ポリマー(A)を主体とする膜の用途は特に限定されない。例えば、含ケイ素ポリマー(A)を主体とする膜を焼成することによりシリカ系被膜を形成することができる。
含ケイ素ポリマー(A)については、前述の通りである。膜形成用組成物における含ケイ素ポリマー(A)の含有量は特に限定されず、所望の膜厚に応じて設定すればよい。製膜性の点からは、膜形成用組成物における含ケイ素ポリマー(A)の含有量は、1質量%以上50質量%以下が好ましく、5質量%以上40質量%以下がより好ましく、10質量%以上35質量%以下が特に好ましい。
膜形成用組成物は、硬化剤(B)を含んでいてもよい。膜形成用組成物が硬化剤(B)を含む場合、低誘電率であって、N-メチル-2-ピロリドン等の有機溶剤により、溶解、膨潤、変形したりしにくい、有機溶剤耐性に優れるシリカ系被膜を形成しやすい。
熱により塩基成分を発生する硬化剤としては、従来から熱塩基発生剤として使用されている化合物を特に限定なく用いることができる。
例えば、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オンを、熱により塩基成分を発生する効果剤として用いることができる。なお、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オンは光の作用によっても塩基を発生させる。
膜形成用組成物中の、硬化剤(B)の含有量は、典型的には、組成物全体の質量に対して、0.01質量%以上40質量%以下が好ましく、0.1質量%以上20質量%以下がより好ましく、1質量%以上10質量%以下が特に好ましい。
膜形成用組成物は、ニトロキシ化合物(C)を含んでいてもよい。膜形成用組成物がニトロキシ化合物(C)を含む場合、より誘電率の低いシリカ系被膜を形成できるので好ましい。また、膜形成用組成物がニトロキシ化合物(C)を含む場合、シリカ系被膜を形成する際の焼成温度が、例えば250℃以下(例えば200℃以上250℃以下の範囲)の低い温度であっても、シリカ系被膜の膜中残渣(シリカ系被膜由来の不純物)を低減できるので好ましい。シリカ系被膜の膜中残渣が少ないと、シリカ系被膜が高温雰囲気や減圧雰囲気におかれる場合でも、シリカ系被膜からの、膜中残渣そのものや膜中残渣の分解物に由来するガス発生が抑制される。
膜形成用組成物が、ニトロキシ化合物(C)として上記式(c1)で表される構造を含む化合物を含有すると、より誘電率の低いシリカ系被膜を形成しやすい。
式(c1)において、Rc1、Rc2、Rc3、及びRc4は、それぞれ独立に、アルキル基又はヘテロ原子で置換されたアルキル基であるのが好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、及びイソプロピル基が好ましい。ヘテロ原子の好適な例としては、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子等が挙げられる。
中でも、より誘電率の低いシリカ系被膜を形成しやすい点で、下記式(c2)、(c3)、又は(c4)で表される化合物がより好ましい。
Rc6は、2価又は3価の有機基を表す。
n1及びn2は、1≦n1+n2≦2を満たす整数である。
n3及びn4は、1≦n3+n4≦2を満たす整数である。
n5及びn6は、1≦n5+n6≦2を満たす整数である。
n7は、2又は3である。
Rc5としてのエーテル結合、エステル結合、アミド結合、若しくはウレタン結合を介して結合した1価の有機基に含まれる有機基、及びRc6としての2価又は3価の有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、1以上の炭素原子、並びに、H、O、S、Se、N、B、P、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の原子からなる基がより好ましい。
ニトロキシ化合物(C)は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、膜形成用組成物中のニトロキシ化合物(C)の含有量は、膜形成用組成物の溶剤(S)以外の成分の質量の合計に対して、2質量%以下が好ましく、1質量%以下がより好ましい。
膜形成用組成物は、溶剤(S)を含有する。溶剤(S)は、含ケイ素ポリマー(A)がが可溶である限り特に限定されない。
メタノール、エタノール、プロパノール、n-ブタノール等のアルコール類;
エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等の多価アルコール類;
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチル-n-アミルケトン、メチルイソアミルケトン、2-ヘプタノン等のケトン類;
γ-ブチロラクトン等のラクトン環含有有機溶媒;
エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、又はジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル結合を有する化合物、前記多価アルコール類又は前記エステル結合を有する化合物のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のモノアルキルエーテル又はモノフェニルエーテル等のエーテル結合を有する化合物等の多価アルコール類の誘導体;
ジオキサンのような環式エーテル類や、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類;
アニソール、エチルベンジルエーテル、クレジルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、アミルベンゼン、イソプロピルベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、メシチレン等の芳香族系有機溶剤;
N,N,N’,N’-テトラメチルウレア、N,N,2-トリメチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチルピロリドン、N-エチルピロリドン等の窒素含有有機溶媒;
が挙げられる。これらの溶剤は、2種以上組み合わせて使用してもよい。
これらの中では、入手が容易であり、クラックの発生を抑制しやすいことから、シクロオクチルアセテートが好ましい。
溶剤(S)は、式(S1)で表されるシクロアルキルアセテートを2種以上組み合わせて含んでいてもよい。
膜形成用組成物の水分は、溶剤(S)に由来する場合が多い。このため、膜形成用組成物の水分量が上記の量となるように、溶剤(S)が脱水されているのが好ましい。
膜形成用組成物は、含ケイ素ポリマー(A)、及び溶剤(S)以外に、従来から種々の用途に使用されている膜形成用組成物に添加されている、種々の成分を含んでいてもよい。
その他の成分の例としては、光重合開始剤、酸発生剤、塩基発生剤、触媒、シランカップリング剤、密着増強剤、分散剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、消泡剤、粘度調整剤、及び着色剤等が挙げられる。
これらの成分は、それぞれ、通常使用される量に従って、膜形成用組成物に配合される。
膜形成用組成物の製造方法は特に限定されない。典型的には、それぞれ所定量の以上説明した成分を均一に混合し、固形分を溶剤(S)に溶解させることにより膜形成用組成物が製造される。微小な不溶物を除去するため、膜形成用組成物を所望の孔径のフィルターを用いてろ過してもよい。
含ケイ素ポリマー被膜の形成方法は、
前述の膜形成用組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成する工程と、
塗布膜を乾燥する工程と、を含む。
塗布膜の膜厚は特に限定されない。典型的には、塗布膜は、好ましくは0.1nm以上20μm以下、より好ましくは0.5nm以上1000nm以下、さらに好ましくは、0.5nm以上500nm以下、特に好ましくは1nm以上10nm以下の膜厚の含ケイ素ポリマー被膜を形成できるような厚さで形成される。
シリカ系被膜の形成方法は、
前述の膜形成用組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成する工程と、
塗布膜をして含ケイ素ポリマー被膜を形成した後に、含ケイ素ポリマー被膜を焼成するか、塗布膜を焼成する工程と、を含む。
膜形成用組成物を基板上に塗布して、塗布膜を形成する工程と、
所定のパターンの凹凸構造が形成されたモールドを塗布膜に対し押圧する工程と、
露光する工程と、を含む方法が挙げられる。
露光する工程は、モールドが塗布膜に押圧された状態で、膜形成用組成物からなる塗布膜に対して行われる。露光による硬化後、モールドを剥離した後に焼成を行うことで、モールドの形状に応じてパターニングされたシリカ系被膜を得ることができる。
塗布膜の膜厚は特に限定されない。典型的には、塗布膜は、好ましくは0.01μm以上20μm以下、より好ましくは2.0μm以上20μm以下、5.0μm以上10μm以下の膜厚のシリカ系被膜を形成できるような厚さで形成される。
乾燥方法としては、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法について説明した通りである。
焼成方法は特に限定されないが、典型的には電気炉等を用いて焼成が行われる。焼成温度は、典型的には200℃以上が好ましく、300℃以上がより好ましく、350℃以上がさらに好ましい。上限は特に限定されないが、例えば、1000℃以下であり、500℃以下が好ましく、400℃以下がより好ましい。膜形成用組成物が硬化剤(B)及び/又はニトロキシ化合物(C)を含む場合、焼成温度の下限値を200℃に下げてもより誘電率の低いシリカ系被膜を形成することができ、シリカ系被膜の膜中残渣(シリカ系被膜由来の不純物)を低減できる。焼成雰囲気は特に限定されず、窒素雰囲気又はアルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲下、真空下、又は減圧下であってもよい。大気下であってもよいし、酸素濃度を適宜コントロールしてもよい。乾燥工程と焼成工程を両方行う場合は一連の流れで続けて処理が行われてもよいし、間に別の基板処理工程があってもよい。
以下、前述の含ケイ素ポリマーの製造方法の好ましい一例について説明する。
前述の含ケイ素ポリマーの好ましい製造方法としては
分子鎖中にポリシロキサン鎖又はオリゴシロキサン鎖と、ポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖との少なくとも一方を含み、且つケイ素原子上に下記式(2-I)で表される不飽和炭化水素基、又は下記式(2-II)で表されるメルカプト基含有基が結合している前駆ポリマーと、下記式(1-I)で表されるカルボン酸誘導体、又は下記式(1-II)で表される不飽和基含有化合物との間で、エンチオール反応を生じさせることを含む方法が挙げられる。
-R4-CR5=CH2・・・(2-I)
-R1-SH・・・(2-II)
HS-R2-(CO-O-R3)n・・・(1-I)
CH2=CR7-R6-(CO-O-R3)n・・・(1-II)
式(2-I)で表される不飽和炭化水素基としては、ビニル基、及びアリル基が好ましい。
式(1-I)で表されるカルボン酸誘導体としては、3-メルカプトプロピオン酸、3-メルカプトプロピオン酸メチル、3-メルカプトプロピオン酸エチル、3-メルカプトプロピン酸フェニル、4-メルカプト酪酸、4-メルカプト酪酸メチル、4-メルカプト酪酸エチル、及び4-メルカプト酪酸フェニルが好ましい。
式(2-II)で表されるメルカプト基含有基としては、メルカプトメチル基,2-メルカプトエチル基、及び3-メルカプトプロピル基が好ましい。
式(1-II)で表される不飽和基含有化合物としては、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸、メタクリル酸エチル、及びメタクリル酸フェニルが好ましい。
エンチオール反応を行う際には、反応を促進させる目的でラジカル発生剤を用いてもよい。ラジカル発生剤の具体例としては、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、1,1’-アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート、及びジメチル-2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)等のアゾ系ラジカル発生剤があげられる。これらのラジカル発生剤は、1種を単独、又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
溶媒は、極性溶媒であっても非極性溶媒であってもよいが、非極性溶媒が好ましい。
エンチオール反応に用いることができる溶媒の好適な具体例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、デカリン、及びノルボルナン等の脂肪族炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、及びシクロヘキサノン等のケトン系溶媒;ジクロロメタン、及びジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、n-プロパノール、及びイソプロパノール等のアルコール系溶媒;水等が挙げられる。これらの溶媒は、1種を単独、又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
溶媒の使用量は特に限定されない。典型的には、原料化合物の質量の合計100質量部に対して、10質量部以上5000質量部以下が好ましく、50質量部以上2000質量部以下がより好ましい。
反応時間は、所望する程度までエンチオール反応が進行するように適宜調整されればよい。反応時間は、典型的には、1時間以上96時間以下が好ましく、2時間以上48時間以下がより好ましく、3時間以上48時間以下がさらに好ましい。
(前駆ポリマー(メチルビニルシラン重合体)の合成)
三方コックを装着した内容積1000mlの丸型フラスコに、粒状(粒径20μm以上1000μm以下)のマグネシウム43.45gと、触媒としてのトリス(アセチルアセトナト)鉄(III)5.26gと、無水塩化リチウム1.26gとを仕込んだ。反応器内の雰囲気を50℃とし、且つ1mmHg(=133Pa)に減圧して、反応器(フラスコ)内部を乾燥した。その後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、予めナトリウム-ベンゾフェノンケチルで乾燥したテトラヒドロフラン(THF)132.13mlを反応器内に加えた。次いで、反応器内の内容物を、25℃で約60分間撹拌した。次いで、この反応器内に、予め蒸留により精製したメチルビニルジクロロシラン42.0g(0.3mol)をシリンジで加え、反応器内の反応混合物を25℃で約24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に1N(=1モル/L)の塩酸1000mlを投入した後、さらにトルエン500mlで生成した前駆ポリマーを抽出した。トルエン相を純水200mlで10回洗浄した後、トルエン相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。その後、トルエン相からトルエンを留去することにより、直鎖状のメチルビニルシラン重合体(質量平均分子量(Mw)4000)を35.81g得た。
メチルビニルジクロロシラン添加後の撹拌時間を12時間に変更することの他は合成例1と同様にして、前駆ポリマーとしてのメチルビニルシラン重合体を得た。得られたメチルビニルシラン重合体の質量平均分子量(Mw)は1900であった。
メチルビニルジクロロシラン添加後の撹拌時間を48時間に変更することの他は合成例1と同様にして、前駆ポリマーとしてのメチルビニルシラン重合体を得た。得られたメチルビニルシラン重合体の質量平均分子量(Mw)は7000であった。
表1に記載の前駆ポリマー3.2gと、チオグリコール酸2.4gと、AIBN0.32gと、テトラヒドロフラン(THF)76mlを300mlフラスコに入れ。フラスコ内の混合物を、撹拌しながら、湯浴80℃につけて6h程度還流を実施した。その後、エバポレータにて乾燥させて目的物質である2-(カルボキシメチルチオ)エチル基を有する含ケイ素ポリマーを得た。IRにより、ビニル基が消失しカルボキシ基が生成していることを確認した。得られた含ケイ素ポリマーの質量平均分子量(Mw)を表1に記す。
Claims (11)
- 分子鎖がポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖を含む含ケイ素ポリマーであって、
前記含ケイ素ポリマーにおいて、ケイ素原子上に、下記式(1):
-R1-S-R2-(CO-O-R3)n・・・(1)
(式(1)において、R1、及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1以上10以下の炭化水素基であり、R3は、水素原子、又はC-O結合により酸素原子に結合する炭素原子数1以上20以下の有機基であって、前記有機基は、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、アルコキシアルキル基、及びヘテロアリール基からなる群より選択され;nは1又は2である)
で表される基が1以上結合している、含ケイ素ポリマー。 - 前記分子鎖が、ポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖のみからなる、請求項1に記載の含ケイ素ポリマー。
- 前記式(1)で表される基のモル数が、前記含ケイ素ポリマー中のケイ素原子1モルに対して、0.05モル以上2.0モル以下である、請求項1又は2に記載の含ケイ素ポリマー。
- 前記式(1)で表される基のモル数が、前記含ケイ素ポリマー中のケイ素原子1モルに対して、0.2モル以上1.0モル以下である、請求項3に記載の含ケイ素ポリマー。
- 前記分子鎖が直鎖状である、請求項1~4のいずれか1項に記載の含ケイ素ポリマー。
- 前記R1がエタン-1,2-ジイル基である、請求項1~5のいずれか1項に記載の含ケイ素ポリマー。
- 請求項1~6のいずれか1項に記載の含ケイ素ポリマー(A)と、溶剤(S)とを含む、膜形成用組成物。
- 請求項7に記載の膜形成用組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成する工程と、
前記塗布膜を乾燥する工程と、を含む、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法。 - 請求項7に記載の膜形成用組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成する工程と、
前記塗布膜を乾燥して含ケイ素ポリマー被膜を形成した後に、前記含ケイ素ポリマー被膜を焼成するか、前記塗布膜を焼成する工程と、を含む、シリカ系被膜の形成方法。 - 請求項1~6のいずれか1項に記載される含ケイ素ポリマーの製造方法であって、
分子鎖中にポリシラン鎖又はオリゴシラン鎖を含み、且つケイ素原子上に下記式(2-I):
-R4-CR5=CH2・・・(2-I)
(式(2-I)において、R4は、単結合、又は炭素原子数1以上8以下の炭化水素基であり、R5は、水素原子、又は炭素原子数1以上8以下の炭化水素基であり、R4及びR5がともに炭化水素基である場合、R4としての炭化水素基の炭素原子数と、R5としての炭化水素基の炭素原子数との合計が2以上8以下である。)
で表される不飽和炭化水素基、又は下記式(2-II):
-R1-SH・・・(2-II)
(式(2-II)において、R1は、前記式(1)におけるR1と同様である。)
で表されるメルカプト基含有基が結合している前駆ポリマーと、下記式(1-I):
HS-R2-(CO-O-R3)n・・・(1-I)
(式(1-I)において、R2、R3、及びnは、前記式(1)におけるR2、R3、及びnと同様である。)
で表されるカルボン酸誘導体、又は下記式(1-II):
CH2=CR7-R6-(CO-O-R3)n・・・(1-II)
(式(1-II)において、R3、及びnは、前記式(1)におけるR3、及びnと同様であり、R6は、単結合、又は炭素原子数1以上8以下の炭化水素基であり、R7は、水素原子、又は炭素原子数1以上8以下の炭化水素基であり、R6及びR7がともに炭化水素基である場合、R6としての炭化水素基の炭素原子数と、R7としての炭化水素基の炭素原子数との合計が2以上8以下である。)
で表される不飽和基含有化合物との間で、エンチオール反応を生じさせることを含む、製造方法。 - 前記前駆ポリマーにおいて、ケイ素原子上に前記式(2-I)で表される前記不飽和炭化水素基が結合している前記前駆ポリマーと、前記式(1-I)で表される前記カルボン酸誘導体との間にエンチオール反応を生じさせる、請求項10に記載の含ケイ素ポリマーの製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008508406A (ja) | 2004-08-04 | 2008-03-21 | フォスフォニックス リミテッド | 置換有機ポリシロキサン類及びそれらの使用 |
WO2016111210A1 (ja) | 2015-01-09 | 2016-07-14 | Jsr株式会社 | シリコン含有膜形成用組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
JP2017092433A (ja) | 2015-11-06 | 2017-05-25 | Jsr株式会社 | ケイ素含有膜除去方法 |
WO2020235325A1 (ja) | 2019-05-17 | 2020-11-26 | 東京応化工業株式会社 | 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、被処理体の表面に金属化合物を担持させる方法、金属化合物を担持する被膜を備える物品、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2515857A (en) * | 1946-11-26 | 1950-07-18 | Du Pont | Compounds having a carboxyalkylthio or a carbalkoxyalkylthio group bonded to siliconthrough hydrocarbon |
FR1022468A (fr) * | 1949-08-18 | 1953-03-05 | Thomson Houston Comp Francaise | Composés organosiliciés |
BE754332A (fr) * | 1969-08-05 | 1971-02-03 | Dow Corning | Copolymeres de siloxanes a fonctionnalite carboxyle utiles comme agent d'encollage et papier encolle a l'aide de ces copolymeres |
US3635887A (en) | 1969-12-29 | 1972-01-18 | Dow Corning | Room temperature vulcanizable silicone rubber with unprimed adhesi |
US3884860A (en) * | 1974-04-15 | 1975-05-20 | Dow Corning | Carboxy-functional silicones |
JPS55139390A (en) * | 1979-04-12 | 1980-10-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Production of sulfur atom-containing silanols |
US5412133A (en) * | 1987-07-31 | 1995-05-02 | General Electric Company | Radiation active silicon compounds having thioether linked functional groups |
JPH06287533A (ja) | 1993-03-31 | 1994-10-11 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | ウレタン樹脂用プライマー組成物 |
EP2105454B1 (de) * | 2008-03-28 | 2012-09-12 | Schill + Seilacher "Struktol" GmbH | Thioether-funktionalisierte Organopolysiloxane |
JP6347597B2 (ja) | 2013-12-05 | 2018-06-27 | 東京応化工業株式会社 | シリカ系被膜形成用組成物及びこれを用いたシリカ系被膜の製造方法 |
JP6462876B2 (ja) | 2015-07-09 | 2019-01-30 | 東京応化工業株式会社 | ケイ素含有樹脂組成物 |
CN105601928A (zh) * | 2016-02-27 | 2016-05-25 | 北京化工大学 | 一种亲水性巯基改性硅橡胶及其制备方法 |
-
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Patent Citations (4)
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JP2008508406A (ja) | 2004-08-04 | 2008-03-21 | フォスフォニックス リミテッド | 置換有機ポリシロキサン類及びそれらの使用 |
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