JP7381820B2 - モリブデン層における傾斜した終端及び製造方法 - Google Patents
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Claims (17)
- モリブデン層の傾斜した終端を製造する方法であって、
前記モリブデン層を形成することと、
フォトレジスト材料を前記モリブデン層につけることと、
レジストマスクを生成するために前記フォトレジスト材料を±11μmと±22μmとの間のデフォーカス状態下に露出することであって、前記露出されるフォトレジスト材料の端部が前記傾斜した終端に対応する、前記露出することと、
前記モリブデン層をエッチング材料でエッチングすることであって、前記エッチング材料が、前記デフォーカス状態下に露出される前記フォトレジスト材料を少なくとも部分的にエッチングし、前記エッチングが30度より小さい終端角度を有する前記傾斜した終端をもたらす、前記エッチングすることと、
を含み、
前記エッチングすることが、酸素対塩素の比が3:1と5:1の間である塩素と酸素とを含むガスに前記モリブデン層と前記フォトレジスト材料とを露出することを含む、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記モリブデン層を形成することが、酸化物層上にモリブデン層を形成することを含む、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
酸素対塩素の比が約4:1である、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記エッチングすることが、275ワット~400ワットの低トランス結合プラズマを印加することを含む、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記エッチングすることが、約300ワットで低トランス結合プラズマを印加することを含む、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記エッチングすることが、-125ピークボルト~-175ピークボルトのバイアスRFを印加することを含む、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記エッチングすることが、約-150ボルトのバイアスRFを印加することを含む、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記デフォーカス状態が約±17μmである、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記エッチング材料が、100:1より大きいモリブデン対アルミニウム窒化物の選択比を有する、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記エッチング材料が、100:1より大きいモリブデン対酸化物の選択比を有する、方法。 - モリブデン層の傾斜した終端を有するブラッグミラーを製造する方法であって、
シード層上に前記モリブデン層を形成することと、
フォトレジスト材料を前記モリブデン層につけることと、
レジストマスクを生成するために前記フォトレジスト材料を±11μmと±22μmとの間のデフォーカス状態下に露出することであって、前記露出されるフォトレジスト材料の端部が前記傾斜した終端に対応する、前記露出することと、
エッチング材料で前記モリブデン層をエッチングすることであって、前記エッチング材料が、前記デフォーカス状態下に露出される前記フォトレジスト材料を少なくとも部分的にエッチングし、前記エッチングが30度より小さい終端角度を有する前記傾斜した終端をもたらす、前記エッチングすることと、
を含む、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記シード層がアルミニウム窒化物シード層である、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記シード層が酸化物である、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記エッチングすることが、前記モリブデン層と前記フォトレジスト材料とを3:1と5:1との間の酸素対塩素の比の酸素と塩素ガスとを含むガスに露出することを含む、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記エッチングすることが、275ワット~400ワットの低トランス結合プラズマを印加することを含む、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記エッチングすることが、-125ピークボルト~-175ピークボルトのバイアスRFを印加することを含む、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記エッチング材料が、100:1より大きいモリブデン対アルミニウム窒化物の選択比と100:1より大きいモリブデン対酸化物の選択比とを有する、方法。
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