JP7310436B2 - インプリントモールド用基板、インプリントモールド、およびインプリントモールド用基板の製造方法 - Google Patents
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Description
-0.1HM≦HM-WM≦0.1HM ・・・(1)
前記基部の前記第2面には窪み部が形成されており、前記窪み部は、前記基部の前記第1面側に前記窪み部を投影した投影領域内に前記凸構造部が包摂され得るように前記基部の前記第2面に形成されていてもよい。
前記インプリントモールド用基板は、石英ガラス基板であってもよい。
前記凸構造部の前記上面部から突出する1段以上の凸部をさらに備えていてもよい。
本開示の一実施形態として、上記インプリントモールド用基板の最上段に位置する前記凸部の上面に形成されている微細凹凸パターンを有するインプリントモールドが提供される。
-0.1HM≦HM-WM≦0.1HM ・・・(1)
前記基材は石英ガラスで構成されており、前記エッチング液はフッ酸を含んでいてもよい。
本明細書に添付した図面においては、理解を容易にするために、各部の形状、縮尺、縦横の寸法比等を、実物から変更したり、誇張したりしている場合がある。
また、本明細書等において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値のそれぞれを下限値及び上限値として含む範囲であることを意味する。
本明細書等において、「フィルム」、「シート」、「板」等の用語は、呼称の相違に基づいて相互に区別されない。例えば、「板」は、「シート」、「フィルム」と一般に呼ばれ得るような部材をも含む概念である。
-0.1H1≦H1-W1≦0.1H1 ・・・(1)
-0.1H2≦H2-W2≦0.1H2 ・・・(2)
-0.1H3≦H3-W3≦0.1H3 ・・・(3)
-0.1H4≦H4-W4≦0.1H4 ・・・(4)
-0.1H1≦H1-W1≦0.1H1 ・・・(1)
-0.1H2≦H2-W2≦0.1H2 ・・・(2)
-0.1H3≦H3-W3≦0.1H3 ・・・(3)
-0.1H4≦H4-W4≦0.1H4 ・・・(4)
インプリントモールド用基板を作製するための基材12’として、主面及びそれに対向する対向面を有する石英ガラス基板(152mm×152mm、厚さ6.35mm)を準備した。
エッチング液を循環させずに、石英ガラス基板をその主面の面内方向に沿って、エッチング槽の底面側からエッチング液の液面側に向かう方向と同一方向及びその逆方向に交互に連続して往復揺動させることで、石英ガラス基板のエッチング面に沿って相対的に双方向にエッチング液を流動させた以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液循環処理中に、石英ガラス基板をその主面の面内方向に沿って、エッチング槽の底面側からエッチング液の液面側に向かう方向と同一方向及びその逆方向に交互に連続して往復揺動させることで、石英ガラス基板のエッチング面に沿ってエッチング液を相対的に双方向に流動させる処理を行った以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液循環処理中に、石英ガラス基板をその主面の面内方向に沿って、エッチング槽の底面側からエッチング液の液面側に向かう方向と同一方向及びその逆方向に交互に連続して往復揺動させ、その後石英ガラス基板の主面の中心を通る厚さ方向の軸線を回転軸として当該石英ガラス基板を所定の角度、回転させてから往復揺動を繰り返した以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液を循環させずに、石英ガラス基板をその主面の面内方向に沿って、エッチング槽の底面側からエッチング液の液面側に向かう方向と同一方向及びその逆方向に交互に連続して往復揺動させる処理(第1の揺動処理)、並びにそれに直交する方向に往復揺動させる処理(第2の揺動処理)を繰り返し行うことで、石英ガラス基板のエッチング面に沿ってエッチング液を流動させる処理を行った以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液循環処理中に、石英ガラス基板をその主面の面内方向に沿って、エッチング槽の底面側からエッチング液の液面側に向かう方向と同一方向及びその逆方向に交互に連続して往復揺動させる処理(第1の揺動処理)、並びにそれに直交する方向に往復揺動させる処理(第2の揺動処理)を繰り返し行うことで、石英ガラス基板のエッチング面に沿ってエッチング液を流動させる処理を行った以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液循環処理中に、石英ガラス基板の主面の中心を通る厚さ方向の軸線を回転軸として当該石英ガラス基板を所定の角度、回転させた以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液循環処理中に、石英ガラス基板をその主面の面内方向に沿って、エッチング槽の底面側からエッチング液の液面側に向かう方向と同一方向及びその逆方向に交互に連続して往復揺動させる処理(第1の揺動処理)、並びにそれに直交する方向に往復揺動させる処理(第2の揺動処理)を繰り返し行うとともに、途中で石英ガラス基板の主面の中心を通る厚さ方向の軸線を回転軸として当該石英ガラス基板を所定の角度、回転させ、再び第1の揺動処理及び第2の揺動処理を繰り返し行うことで、石英ガラス基板のエッチング面に沿ってエッチング液を流動させる処理を行った以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液を循環させずに、石英ガラス基板の主面の中心を通る厚さ方向の軸線を回転軸として当該石英ガラス基板を所定の角度、回転させた以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液を循環させずに、石英ガラス基板をその主面の面内方向に沿って、エッチング槽の底面側からエッチング液の液面側に向かう方向と同一方向及びその逆方向に交互に連続して往復揺動させ、その後石英ガラス基板の主面の中心を通る厚さ方向の軸線を回転軸として当該石英ガラス基板を所定の角度、回転させてから往復揺動を繰り返した以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液を循環させずに、石英ガラス基板をその主面の面内方向に沿って、エッチング槽の底面側からエッチング液の液面側に向かう方向と同一方向及びその逆方向に交互に連続して往復揺動させる処理(第1の揺動処理)、並びにそれに直交する方向に往復揺動させる処理(第2の揺動処理)を繰り返し行うとともに、途中で石英ガラス基板の主面の中心を通る厚さ方向の軸線を回転軸として当該石英ガラス基板を所定の角度、回転させ、再び第1の揺動処理及び第2の揺動処理を繰り返し行うことで、石英ガラス基板のエッチング面に沿ってエッチング液を流動させる処理を行った以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板1を作製した。
エッチング液を循環させずに、石英ガラス基板をエッチング液に浸漬させた状態でエッチングした以外は、実施例1と同様にしてインプリントモールド用基板を作製した。
11…凸構造部
11A…上面部
11B…側壁部
12…基部
12A…第1面
12B…第2面
14…窪み部
20…インプリントモールド
21…微細凹凸パターン
Claims (12)
- インプリントモールド用基板を製造する方法であって、
前記インプリントモールド用基板は、第1面及び前記第1面に対向する第2面を有する基部と、前記第1面から突出する凸構造部とを備え、前記凸構造部は、第1~第N(Nは3以上の整数である。)の辺を有する略N角形状の上面部と、前記上面部の外周及び前記基部の前記第1面を接続するラウンド形状の側壁部とを有し、
前記製造方法は、
主面及び前記主面に対向する対向面を有し、前記上面部に対応するマスクが前記主面に形成されている基材を準備する基材準備工程と、
前記基材をエッチングするエッチング工程と
を含み、
前記エッチング工程において、前記基材の表面のうちのエッチング液が接触するすべての面に沿って前記エッチング液が一方向に相対的に流動するように前記基材をエッチングすることで、前記上面部の第M(Mは1以上N以下の整数である。)の辺における前記凸構造部の突出高さをHMとし、前記第1面側からの平面視における前記上面部の前記第Mの辺と前記側壁部及び前記第1面を接続する接続部との間の長さをWMとしたとき、前記突出高さHMと前記長さWMとが下記式(1)に示す関係を有するようにする
インプリントモールド用基板の製造方法。
-0.1HM≦HM-WM≦0.1HM ・・・(1) - 前記エッチング工程において、前記基材を前記エッチング液に浸漬させた状態で、前記エッチング液が前記基材の表面のうちの前記エッチング液が接触するすべての面に沿って一方向に相対的に流動するように前記基材をエッチングする
請求項1に記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 前記エッチング工程において、前記エッチング液に浸漬させた状態の前記基材を前記主面に略平行な一方向に揺動させながら前記基材をエッチングする
請求項1又は2に記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 前記エッチング工程において、所定の方向における一方側に位置する供給部と他方側に位置する排出部とを有するエッチング槽内にて前記エッチング液に前記基材を浸漬させ、前記供給部から前記エッチング液を供給させ、前記排出部から前記エッチング液を排出させることで前記基材をエッチングする
請求項1又は2に記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 前記供給部と前記排出部との間に循環経路が設けられ、前記エッチング液を循環させながら前記基材をエッチングする
請求項4に記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 前記基材は石英ガラスで構成されており、前記エッチング液はフッ酸を含む
請求項1~5のいずれかに記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 前記長さW M は、前記第Mの辺の中点における長さである
請求項1~6のいずれかに記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 前記長さW M は、前記第Mの辺上における任意に選択される複数の点における長さの算術平均値である
請求項1~6のいずれかに記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 前記基部の前記第2面には窪み部が形成されており、
前記窪み部は、前記基部の前記第1面側に前記窪み部を投影した投影領域内に前記凸構造部が包摂され得るように前記基部の前記第2面に形成されている
請求項1~8のいずれかに記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 前記エッチング工程後に、前記凸構造部の前記上面部から突出する1段以上の凸部を形成する
請求項1~9のいずれかに記載のインプリントモールド用基板の製造方法。 - 請求項1~9のいずれかに記載のインプリントモールド用基板の製造方法により製造された前記インプリントモールド用基板の前記凸構造部の前記上面部に微細凹凸パターンを形成する工程を有する
インプリントモールドの製造方法。 - 請求項10に記載のインプリントモールド用基板の製造方法により製造された前記インプリントモールド用基板の前記凸部の上面に微細凹凸パターンを形成する工程を有する
インプリントモールドの製造方法。
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