JP7295707B2 - プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法 - Google Patents
プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7295707B2 JP7295707B2 JP2019104559A JP2019104559A JP7295707B2 JP 7295707 B2 JP7295707 B2 JP 7295707B2 JP 2019104559 A JP2019104559 A JP 2019104559A JP 2019104559 A JP2019104559 A JP 2019104559A JP 7295707 B2 JP7295707 B2 JP 7295707B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- gas
- valve
- plasma
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B18/04—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating
- A61B18/042—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating using additional gas becoming plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
- H05H1/2418—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the electrodes being embedded in the dielectric
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B2018/00053—Mechanical features of the instrument of device
- A61B2018/00059—Material properties
- A61B2018/00071—Electrical conductivity
- A61B2018/00083—Electrical conductivity low, i.e. electrically insulating
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B2018/00571—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body for achieving a particular surgical effect
- A61B2018/00577—Ablation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B2018/00571—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body for achieving a particular surgical effect
- A61B2018/00589—Coagulation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B2018/00636—Sensing and controlling the application of energy
- A61B2018/00696—Controlled or regulated parameters
- A61B2018/00744—Fluid flow
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B2018/00636—Sensing and controlling the application of energy
- A61B2018/00696—Controlled or regulated parameters
- A61B2018/00767—Voltage
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B2018/00636—Sensing and controlling the application of energy
- A61B2018/00773—Sensed parameters
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2245/00—Applications of plasma devices
- H05H2245/30—Medical applications
- H05H2245/32—Surgery, e.g. scalpels, blades or bistoury; Treatments inside the body
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Surgery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Otolaryngology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Electrotherapy Devices (AREA)
- Surgical Instruments (AREA)
Description
放電用ガスを流す流路を備えるとともに前記流路の端部に放出口が設けられてなるガス誘導路と、
第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に介在する誘電体と、を備え、前記ガス誘導路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、
前記ガス誘導路へ前記放電用ガスを供給する経路となり、前記放電用ガスの流量制御を行うガス制御部よりも前記ガス誘導路側に設けられたガス供給路と、
を有し、
被対象物に相対的に移動する先端デバイスに設けられるプラズマ照射装置であって、
前記ガス誘導路又は前記ガス供給路に設けられ、前記放出口に向かって前記放電用ガスが流れることを許容し、逆方向に気体が流れることを防止する逆止弁を有する。
放電用ガスを流す流路を備えるとともに前記流路の端部に放出口が設けられてなるガス誘導路と、
第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に介在する誘電体と、を備え、前記ガス誘導路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、
前記ガス誘導路へ前記放電用ガスを供給する経路となるガス流通路と、
を有し、
被対象物に相対的に移動する先端デバイスに設けられるプラズマ照射装置であって、
前記ガス誘導路又は前記ガス流通路に設けられ、自身の開度に応じて前記放電用ガスの流量を変化させるバルブと、
前記放電部に前記プラズマ放電を行わせる放電制御部と、
前記バルブの開閉を制御するバルブ制御部と、
前記バルブ制御部は、少なくとも前記放電制御部が前記放電部に前記プラズマ放電を行わせる放電期間には前記バルブを開放し続けるものであり、
さらに、前記バルブ制御部は、前記放電制御部が前記放電部に前記プラズマ放電を行わせない前記放電期間前の所定の準備期間にも前記バルブを開放する。
このプラズマ照射装置は、準備期間の少なくとも一部期間にガス誘導路へと放電用ガスをより勢いよく流すことができる。よって、ガス誘導路内に入り込んだ不純ガスを準備期間の間により効果的に排出することができる。
このプラズマ照射装置は、放電期間の終了から次の準備期間の開始までの休止期間に放電用ガスを連続的又は断続的に流すことができる。よって、ガス誘導路内へ不純ガスが逆流して入り込むことを抑制する効果及び不純ガスがガス誘導路内に存在し続けることを抑制する効果を休止期間の一部又は全部にわたって継続することができる。ゆえに、休止期間後の放電期間の開始時点でガス誘導路内に不純ガスが多量に存在しているような事態がより一層生じにくくなる。
このプラズマ照射装置は、放電用ガスが流れるべき所定経路(ガス誘導路又はガス流通路におけるバルブよりも放出口側)での放電用ガスの濃度状態又は空気の濃度状態をより正確に特定することができる。よって、この所定領域の現在濃度(検出時点での濃度)に応じた制御を行うことが可能となる。
このプラズマ照射装置は、放電用ガスが流れるべき所定経路(ガス誘導路又はガス流通路におけるバルブよりも放出口側)において放電用ガスの濃度が相対的に低い場合(閾値未満である場合)に放電部にプラズマ放電を行わせることを禁止することができる。よって、放電用ガスの濃度が低すぎる状態で不安定なプラズマ放電がなされることを抑制することができる。
空気の濃度が大きくなるほど相対的に放電用ガスの濃度が小さくなるため、上記プラズマ照射装置は、放電用ガスの濃度が小さくなるほど第1電極と第2電極との間の最大電圧を大きくすることができる。よって、放電用ガスの濃度低下に起因してプラズマ放電がなされにくくなることを、濃度低下の度合いに応じて電圧を高めることで補うことができる。
放電用ガスを流す流路を備えるとともに前記流路の端部に放出口が設けられてなるガス誘導路と、第1電極と第2電極と前記第1電極と前記第2電極との間に介在する誘電体とを備えるとともに前記ガス誘導路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、前記ガス誘導路へ前記放電用ガスを供給する経路となるガス流通路と、を有するプラズマ照射装置を用いたプラズマ照射方法であって、
前記プラズマ照射装置を、被対象物に相対的に移動する先端デバイスに設け、
自身の開度に応じて前記放電用ガスの流量を変化させるバルブを、前記ガス誘導路又は前記ガス流通路に設け、
放電制御部は、前記放電部の前記プラズマ放電を制御し、
バルブ制御部は、少なくとも前記放電制御部が前記放電部に前記プラズマ放電を行わせる放電期間に前記バルブを開放し続け、かつ前記放電制御部が前記放電部に前記プラズマ放電を行わせない前記放電期間前の所定の準備期間にも前記バルブを開放する。
このプラズマ照射方法では、準備期間の少なくとも一部期間にガス誘導路へと放電用ガスをより勢いよく流すことができる。よって、準備期間に不純ガスがガス誘導路内へ入り込むこと及び準備期間に不純ガスがガス誘導路内に存在し続けることを、より一層抑制することができる。
このプラズマ照射方法では、放電期間の終了から次の準備期間の開始までの休止期間に放電用ガスを連続的又は断続的に流すことができる。よって、ガス誘導路内へ不純ガスが逆流して入り込むことを防ぐ効果及び不純ガスがガス誘導路内に存在し続けることを防ぐ効果を休止期間の一部又は全部にわたって継続することができる。ゆえに、休止期間後の放電期間の開始時点でガス誘導路内に不純ガスが多量に存在しているような事態がより一層生じにくくなる。
このプラズマ照射方法では、放電用ガスが流れるべき所定経路(ガス誘導路又はガス流通路におけるバルブよりも放出口側)において放電用ガスの濃度が相対的に低い場合(閾値未満である場合)に放電部にプラズマ放電を行わせることを禁止することができる。よって、放電用ガスの濃度が低すぎる状態で不安定なプラズマ放電がなされることを抑制することができる。
空気の濃度が大きくなるほど相対的に放電用ガスの濃度が小さくなるため、上記プラズマ照射方法では、放電用ガスの濃度が小さくなるほど第1電極と第2電極との間の最大電圧を大きくすることができる。よって、放電用ガスの濃度低下に起因してプラズマ放電がなされにくくなることを、濃度低下の度合いに応じて電圧を高めることで補うことができる。
1.手術用装置の全体構成
図1で示される手術用装置1は、施術対象の生体組織に対して切開、剥離又は止血を行い得る処置装置として構成されている。手術用装置1は、主に、先端デバイス3と、超音波振動部12(駆動部)を制御する装置である制御装置5と、先端デバイス3内のガス誘導路30(図5等参照)に対してガスを供給するガス供給装置7と、プラズマ照射装置20に対して電圧を印加し得る電源装置9とを備える。
次に、プラズマ照射装置20の構成を詳述する。
図1に示されるように、プラズマ照射装置20は先端デバイス3の一部として組み込まれ、先端デバイス3において誘電体バリア放電を生じさせる装置として構成されている。なお、図1の例では、プラズマ照射装置20の一部をなすプラズマ発生部20Aが保持部18によって保持された構成でケース体14に固定されている。プラズマ発生部20Aを収容する保持部18は、例えば金属製のケース本体に樹脂材料によってコーティングを施したケース体として構成してもよく、樹脂材料からなるケース本体に金属メッキを施したケース体として構成してもよい。このようにすれば、プラズマ発生部20Aからの意図しない放電や漏電を抑制することができる。プラズマ発生部20Aの内部で発生した低温プラズマは、作用部材16の先端部に設けられた作用部16A付近に照射される。
次に、本構成の特徴の一つである弁72に関する構成を詳述する。
図1のように、プラズマ照射装置20は、ガス供給路8の途中に弁72が設けられている。
プラズマ照射装置20は、ガス供給路8(放電用ガスの流量制御を行うガス制御部7Cよりもガス誘導路30側に設けられた経路)に逆止弁として機能する弁72が設けられている。そして、弁72(逆止弁)は、放出口に向かって放電用ガスが流れることを許容し逆方向に気体が流れることを防止する構成をなす。よって、弁72(逆止弁)よりも奥の配管(逆止弁よりもガス制御部側の配管)に放電用ガスとは異なる不純ガス(空気等)が外部から多量に入り込むことを防ぐことができ、ひいては、不純ガスが多量に混入することに起因する不安定な放電を抑制することができる。
次に、第2実施形態について説明する。
第2実施形態のプラズマ照射装置20は、弁72の具体的な機能を第1実施形態と異ならせた点、及び制御装置5に更なる機能を付加した点が第1実施形態と異なる。よって、以下の説明では、第1実施形態と同様の部分については詳細な説明は省略する。具体的には、上述した「1.手術用装置の全体構成」及び「2.プラズマ照射装置の基本構成」の内容については、第1実施形態と同一であるとする。図1~図6の構成については、第1実施形態と同様であるため、以下の説明では図1~図6を参照して説明する。
本構成のプラズマ照射装置20は、少なくとも放電制御部4が沿面放電部40(放電部)にプラズマ放電を行わせる「放電期間」には弁72(バルブ)を開放し続ける。一方で、放電制御部4が沿面放電部40(放電部)にプラズマ放電を行わせない「放電期間前の所定の準備期間」にも弁72(バルブ)を開放するように動作する。つまり、「放電期間前の所定の準備期間」にもガス誘導路30内に放電用ガスが流れ続けるため、外部から逆流してガス誘導路30内に入り込んだ不純ガスを準備期間の間に排出することができる。よって、上記準備期間の後に行われる放電期間の開始時点でガス誘導路30内に不純ガスが多量に存在しているような事態が生じにくくなり、ガス誘導路30内に不純ガスが多量に存在した状態でプラズマ放電がなされることを抑制することができる。
この構成によれば、放電用ガスが流れるべき経路(ガス流通路における弁72(バルブ)よりも放出口34側)で放電用ガスの濃度が相対的に低い場合(閾値未満である場合)に沿面放電部40(放電部)にプラズマ放電を行わせることを禁止することができる。よって、放電用ガスの濃度が低すぎる状態で不安定なプラズマ放電がなされることを抑制することができる。
具体的には、例えば、図7の制御において、「センサ74(濃度検出部)によって検出される放電用ガスの濃度が閾値未満となること」を放電終了条件の一つとしてもよい。この場合、制御装置5は、ステップS4の処理を最初に開始してから、次に何らかの放電終了条件が成立するまでの間(次にステップS5でYesとなるまでの間)にセンサ74(濃度検出部)によって検出される放電用ガスの濃度が閾値未満となった場合、放電終了条件が成立したと判定し、ステップS6にてプラズマ放電を停止させてもよい。
或いは、ステップS4の処理を最初に開始してから次に放電終了条件が成立するまでの間(次にステップS5でYesとなるまでの間)に、センサ74(濃度検出部)によって検出される放電用ガスの濃度が閾値未満となった場合には、プラズマ放電を一時的に中断し、次に放電終了条件が成立するまでの間にセンサ74(濃度検出部)によって検出される放電用ガスの濃度が閾値以上に復帰した場合には、プラズマ放電を再開するようにしてもよい。
なお、このような機能は、第1実施形態のプラズマ照射装置20に付加してもよい。
空気の濃度が大きくなるほど相対的に放電用ガスの濃度が小さくなるため、上記構成によれば、放電用ガスの濃度が小さくなるほど放電電極42(第1電極)と接地電極44(第2電極)との間の最大電圧を大きくすることができる。よって、放電用ガスの濃度低下に起因してプラズマ放電がなされにくくなることを、濃度低下の度合いに応じて電圧を高めることで補うことができる。
例えば、センサ74によって検出される酸素濃度が第1範囲である場合には、放電電極42(第1電極)と接地電極44(第2電極)との間に印加する高周波電圧の振幅(最大電圧)を第1電圧V1とする。そして、センサ74によって検出される酸素濃度が第1範囲よりも大きい第2範囲である場合には、放電電極42(第1電極)と接地電極44(第2電極)との間に印加する高周波電圧の振幅(最大電圧)を第1電圧V1よりも大きい第2電圧V2とする。更に、センサ74によって検出される酸素濃度が第2範囲よりも大きい第3範囲である場合には、放電電極42(第1電極)と接地電極44(第2電極)との間に印加する高周波電圧の振幅(最大電圧)を第2電圧V2よりも大きい第3電圧V3とする。このように最大電圧を段階的に切り替えることで、放電用ガスの濃度に合わせた最大電圧とすることができる。なお、ここでは最大電圧を3段階に切り替える例を示したが、2段階であってもよく、4段階以上であってもよい。
別例としては、センサ74によって検出される酸素濃度をXとし、高周波電圧の振幅(最大電圧)をYとした場合、Y=A×X+bなどの一次式、又はその他の演算式によって、特定ガスの濃度が大きいほど放電電極42(第1電極)と接地電極44(第2電極)との間の最大電圧を大きくするように高周波電圧の振幅(最大電圧)Yを決定してもよい。
なお、このような機能は、第1実施形態のプラズマ照射装置20に付加してもよい。
また、ここでは、センサ74を酸素センサとして構成する例を示したが、窒素センサとして構成してもよい。
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態の各態様に限定されるものではなく、例えば、矛盾しない範囲で、複数の実施形態の特徴を組み合わせることが可能である。また、次のような例も本発明の技術的範囲に含まれる。
4…放電制御部
5…制御装置(バルブ制御部)
7C…ガス制御部
8…ガス供給路(ガス流通路)
20…プラズマ照射装置
30…ガス誘導路
32…導入口
34…放出口
36…流路
40…沿面放電部(放電部)
42…放電電極(第1電極)
44…接地電極(第2電極)
51…第1誘電体層(誘電体)
72…弁(逆止弁、バルブ)
74…センサ(濃度検出部)
Claims (9)
- 放電用ガスを流す流路を備えるとともに前記流路の端部に放出口が設けられてなるガス誘導路と、
第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に介在する誘電体と、を備え、
前記ガス誘導路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、
前記ガス誘導路へ前記放電用ガスを供給する経路となり、前記放電用ガスの流量制御を行うガス制御部よりも前記ガス誘導路側に設けられたガス供給路と、
を有し、
被対象物に相対的に移動する先端デバイスに設けられるプラズマ照射装置であって、
前記ガス誘導路又は前記ガス供給路に設けられ、前記放出口に向かって前記放電用ガスが流れることを許容し、逆方向に気体が流れることを防止する逆止弁と、
前記放電部に前記プラズマ放電を行わせる放電制御部と、
前記ガス誘導路又は前記ガス流通路における前記逆止弁よりも前記放出口側の経路内での前記放電用ガス又は空気に含まれる特定ガスの濃度を検出する濃度検出部と、を有し、
前記濃度検出部は、前記特定ガスの濃度を検出し、
前記放電制御部は、前記濃度検出部によって検出される前記特定ガスの濃度が大きいほど前記第1電極と前記第2電極との間の最大電圧を大きくするように前記放電部を制御する
プラズマ照射装置。 - 放電用ガスを流す流路を備えるとともに前記流路の端部に放出口が設けられてなるガス誘導路と、
第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に介在する誘電体と、を備え、
前記ガス誘導路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、
前記ガス誘導路へ前記放電用ガスを供給する経路となるガス流通路と、
を有し、
被対象物に相対的に移動する先端デバイスに設けられるプラズマ照射装置であって、
前記ガス誘導路又は前記ガス流通路に設けられ、自身の開度に応じて前記放電用ガスの流量を変化させるバルブと、
前記放電部に前記プラズマ放電を行わせる放電制御部と、
前記バルブの開閉を制御するバルブ制御部と、
を有し、
前記バルブ制御部は、少なくとも前記放電制御部が前記放電部に前記プラズマ放電を行わせる放電期間には前記バルブを開放し続けるものであり、
さらに、前記バルブ制御部は、前記放電制御部が前記放電部に前記プラズマ放電を行わせない前記放電期間前の所定の準備期間にも前記バルブを開放し、
前記ガス誘導路又は前記ガス流通路における前記バルブよりも前記放出口側の経路内での前記放電用ガス又は空気に含まれる特定ガスの濃度を検出する濃度検出部を有し、
前記濃度検出部は、前記特定ガスの濃度を検出し、
前記放電制御部は、前記濃度検出部によって検出される前記特定ガスの濃度が大きいほど前記第1電極と前記第2電極との間の最大電圧を大きくするように前記放電部を制御する
プラズマ照射装置。 - 前記バルブ制御部は、前記準備期間における少なくとも一部期間において、前記放電期間のときよりも大きい開度で前記バルブを開放する
請求項2に記載のプラズマ照射装置。 - 前記バルブ制御部は、前記放電期間の終了から次の前記準備期間の開始までの休止期間において前記放電期間のときよりも小さい開度で前記バルブを連続的又は断続的に開放する
請求項2又は請求項3に記載のプラズマ照射装置。 - 前記濃度検出部は、前記経路内における前記放電用ガスの濃度を検出し、
前記放電制御部は、前記濃度検出部によって検出される前記放電用ガスの濃度が閾値以上である場合に前記放電部に前記プラズマ放電を行わせることを許容し、前記放電用ガスの濃度が閾値未満である場合に前記放電部に前記プラズマ放電を行わせることを禁止する
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置。 - 放電用ガスを流す流路を備えるとともに前記流路の端部に放出口が設けられてなるガス誘導路と、第1電極と第2電極と前記第1電極と前記第2電極との間に介在する誘電体とを備えるとともに前記ガス誘導路内でプラズマ放電を発生させる放電部と、前記ガス誘導路へ前記放電用ガスを供給する経路となるガス流通路と、を有するプラズマ照射装置を用いたプラズマ照射方法であって、
前記プラズマ照射装置を、被対象物に相対的に移動する先端デバイスに設け、
自身の開度に応じて前記放電用ガスの流量を変化させるバルブを、前記ガス誘導路又は前記ガス流通路に設け、
放電制御部は、前記放電部の前記プラズマ放電を制御し、
バルブ制御部は、少なくとも前記放電制御部が前記放電部に前記プラズマ放電を行わせる放電期間に前記バルブを開放し続け、かつ前記放電制御部が前記放電部に前記プラズマ放電を行わせない前記放電期間前の所定の準備期間にも前記バルブを開放し、
前記ガス誘導路又は前記ガス流通路における前記バルブよりも前記放出口側の経路内において空気に含まれる特定ガスの濃度を検出する濃度検出部を、前記プラズマ照射装置に設け、
前記放電制御部は、前記濃度検出部によって検出される前記特定ガスの濃度が大きいほど前記第1電極と前記第2電極との間の最大電圧を大きくするように前記放電部を制御する
プラズマ照射方法。 - 前記バルブ制御部は、前記準備期間における少なくとも一部期間において、前記放電期間のときよりも大きい開度で前記バルブを開放する
請求項6に記載のプラズマ照射方法。 - 前記バルブ制御部は、前記放電期間の終了から次の前記準備期間の開始までの休止期間において、前記放電期間のときよりも小さい開度で前記バルブを連続的又は断続的に開放する
請求項6又は請求項7に記載のプラズマ照射方法。 - 前記ガス誘導路又は前記ガス流通路における前記バルブよりも前記放出口側の経路内での前記放電用ガスの濃度を検出する濃度検出部を、前記プラズマ照射装置に設け、
前記放電制御部は、前記濃度検出部によって検出される前記放電用ガスの濃度が閾値以上である場合に前記放電部に前記プラズマ放電を行わせることを許容し、前記放電用ガスの濃度が閾値未満である場合に前記放電部に前記プラズマ放電を行わせることを禁止する
請求項6から請求項8のいずれか一項に記載のプラズマ照射方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019104559A JP7295707B2 (ja) | 2019-06-04 | 2019-06-04 | プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法 |
PCT/JP2020/021655 WO2020246436A1 (ja) | 2019-06-04 | 2020-06-01 | プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法 |
EP20819236.9A EP3982699A4 (en) | 2019-06-04 | 2020-06-01 | PLASMA IRRADIATION APPARATUS AND METHOD |
CN202080041582.1A CN113940145A (zh) | 2019-06-04 | 2020-06-01 | 等离子体照射装置及等离子体照射方法 |
US17/604,199 US20220192725A1 (en) | 2019-06-04 | 2020-06-01 | Plasma irradiation apparatus and plasma irradiation method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019104559A JP7295707B2 (ja) | 2019-06-04 | 2019-06-04 | プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020198252A JP2020198252A (ja) | 2020-12-10 |
JP7295707B2 true JP7295707B2 (ja) | 2023-06-21 |
Family
ID=73649249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019104559A Active JP7295707B2 (ja) | 2019-06-04 | 2019-06-04 | プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220192725A1 (ja) |
EP (1) | EP3982699A4 (ja) |
JP (1) | JP7295707B2 (ja) |
CN (1) | CN113940145A (ja) |
WO (1) | WO2020246436A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7386275B2 (ja) | 2022-02-18 | 2023-11-24 | 日本特殊陶業株式会社 | 溶液処理装置及び溶液処理方法 |
JP7386308B1 (ja) * | 2022-10-31 | 2023-11-24 | 日本特殊陶業株式会社 | プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101330794A (zh) | 2008-05-09 | 2008-12-24 | 西安交通大学 | 大气压介质阻挡放电产生低温等离子体的射流装置 |
JP2010244948A (ja) | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Panasonic Corp | プラズマ処理方法及び装置 |
WO2018193997A1 (ja) | 2017-04-19 | 2018-10-25 | 日本特殊陶業株式会社 | プラズマ照射装置、ハンドピース、及び手術用装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020083563A (ko) * | 2001-04-27 | 2002-11-04 | 주식회사 엘지이아이 | 고농도 유해가스 정화장치및 정화방법 |
GB0904198D0 (en) * | 2009-03-11 | 2009-04-22 | Linde Ag | Device for generating gaseous species |
GB0920124D0 (en) * | 2009-11-17 | 2009-12-30 | Linde Ag | Device for generating gaseous species |
GB201006389D0 (en) * | 2010-04-16 | 2010-06-02 | Linde Ag | Device for providing a flow of plasma |
JP2012018821A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-26 | Seiko Epson Corp | 大気圧プラズマ処理装置、大気圧プラズマ処理方法 |
KR101320291B1 (ko) * | 2011-08-11 | 2013-10-22 | 강원대학교산학협력단 | 국부소독 및 살균 가능한 핸드피스형 플라즈마 장치 |
GB2501933A (en) * | 2012-05-09 | 2013-11-13 | Linde Ag | device for providing a flow of non-thermal plasma |
DE102013109887A1 (de) * | 2013-09-10 | 2015-03-12 | Reinhausen Plasma Gmbh | Handgerät und Verfahren zur Plasmabehandlung |
GB201401137D0 (en) * | 2014-01-23 | 2014-03-12 | Linde Aktiengesellshcaft | A nozzle for a plasma generation device |
JP6278754B2 (ja) * | 2014-03-06 | 2018-02-14 | 大阪瓦斯株式会社 | ガス処理装置 |
WO2018037468A1 (ja) * | 2016-08-22 | 2018-03-01 | 富士機械製造株式会社 | プラズマ照射装置、および、プラズマ照射方法 |
EP3639891A4 (en) * | 2017-06-16 | 2021-03-10 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | ACTIVE GAS EXPOSURE DEVICE AND PROCESS FOR TREATMENT OF NON-HUMAN ANIMALS |
-
2019
- 2019-06-04 JP JP2019104559A patent/JP7295707B2/ja active Active
-
2020
- 2020-06-01 EP EP20819236.9A patent/EP3982699A4/en active Pending
- 2020-06-01 WO PCT/JP2020/021655 patent/WO2020246436A1/ja unknown
- 2020-06-01 US US17/604,199 patent/US20220192725A1/en active Pending
- 2020-06-01 CN CN202080041582.1A patent/CN113940145A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101330794A (zh) | 2008-05-09 | 2008-12-24 | 西安交通大学 | 大气压介质阻挡放电产生低温等离子体的射流装置 |
JP2010244948A (ja) | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Panasonic Corp | プラズマ処理方法及び装置 |
WO2018193997A1 (ja) | 2017-04-19 | 2018-10-25 | 日本特殊陶業株式会社 | プラズマ照射装置、ハンドピース、及び手術用装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3982699A1 (en) | 2022-04-13 |
US20220192725A1 (en) | 2022-06-23 |
JP2020198252A (ja) | 2020-12-10 |
EP3982699A4 (en) | 2023-11-08 |
CN113940145A (zh) | 2022-01-14 |
WO2020246436A1 (ja) | 2020-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109152592B (zh) | 控制将冷却流体递送至超声外科器械的端部执行器的特征和方法 | |
JP6523281B2 (ja) | 電気手術特徴を有する超音波外科用器具 | |
US8348947B2 (en) | Treatment system, and treatment method for living tissue using energy | |
US8388647B2 (en) | Apparatus for tissue sealing | |
EP1330200B1 (en) | Surgical tool for emitting energized inert gas atoms, and hand piece and control system thereof | |
US10004526B2 (en) | Ultrasonic dissection system | |
JP7295707B2 (ja) | プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法 | |
JP7418141B2 (ja) | プラズマ照射装置及び先端デバイス | |
WO2017018205A1 (ja) | エネルギー処置システム、エネルギー制御装置及びエネルギー処置具 | |
JP4679416B2 (ja) | 手術装置 | |
WO2013157408A1 (ja) | 手術装置 | |
JPH11318919A (ja) | 手術装置及び手術システム | |
JPH08322847A (ja) | 血管凝固止血装置 | |
US20140025051A1 (en) | Apparatus for optical surgery and method for controlling same | |
EP2913018B1 (en) | Surgical instrument | |
JP7391541B2 (ja) | 先端デバイス | |
JP7443171B2 (ja) | 先端デバイス | |
JP2022011605A (ja) | プラズマ照射装置 | |
JP7214580B2 (ja) | 先端デバイス | |
JP2022011543A (ja) | プラズマ照射装置 | |
JPWO2017195334A1 (ja) | エネルギ処置具 | |
JP2001000446A (ja) | 手術装置 | |
JP2001025468A (ja) | 超音波手術器具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230530 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230609 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7295707 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |