JP7272671B2 - セラミックス積層膜及びセラミックス積層膜の作製方法 - Google Patents
セラミックス積層膜及びセラミックス積層膜の作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7272671B2 JP7272671B2 JP2020523078A JP2020523078A JP7272671B2 JP 7272671 B2 JP7272671 B2 JP 7272671B2 JP 2020523078 A JP2020523078 A JP 2020523078A JP 2020523078 A JP2020523078 A JP 2020523078A JP 7272671 B2 JP7272671 B2 JP 7272671B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- particles
- ceramic particles
- laminated film
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 111
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 82
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 38
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 345
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 167
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 157
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 51
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 24
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 claims description 10
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims description 10
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910008469 Li—Al—Ge—P—O Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 100
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 88
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 39
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 37
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 30
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 30
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 27
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 20
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 19
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 14
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 12
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 12
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 9
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 9
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 7
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 6
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 6
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 3
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 3
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002203 sulfidic glass Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000005621 ferroelectricity Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000002135 nanosheet Substances 0.000 description 1
- 239000007773 negative electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007774 positive electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000004549 pulsed laser deposition Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000005480 shot peening Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000003826 uniaxial pressing Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/10—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
- C04B35/111—Fine ceramics
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/02—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by a sequence of laminating steps, e.g. by adding new layers at consecutive laminating stations
- B32B37/025—Transfer laminating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/10—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B3/00—Producing shaped articles from the material by using presses; Presses specially adapted therefor
- B28B3/02—Producing shaped articles from the material by using presses; Presses specially adapted therefor wherein a ram exerts pressure on the material in a moulding space; Ram heads of special form
- B28B3/022—Producing shaped articles from the material by using presses; Presses specially adapted therefor wherein a ram exerts pressure on the material in a moulding space; Ram heads of special form combined with vibrating or jolting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B18/00—Layered products essentially comprising ceramics, e.g. refractory products
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/0008—Electrical discharge treatment, e.g. corona, plasma treatment; wave energy or particle radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/10—Removing layers, or parts of layers, mechanically or chemically
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
- B32B5/22—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed
- B32B5/30—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being formed of particles, e.g. chips, granules, powder
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/022—Mechanical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
- C04B35/4682—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates based on BaTiO3 perovskite phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/48—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates
- C04B35/49—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates containing also titanium oxides or titanates
- C04B35/491—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates containing also titanium oxides or titanates based on lead zirconates and lead titanates, e.g. PZT
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
- C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/10—Inorganic particles
- B32B2264/102—Oxide or hydroxide
- B32B2264/1023—Alumina
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/10—Inorganic particles
- B32B2264/107—Ceramic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/51—Elastic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/536—Hardness
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
- C04B2235/3234—Titanates, not containing zirconia
- C04B2235/3236—Alkaline earth titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3244—Zirconium oxides, zirconates, hafnium oxides, hafnates, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3248—Zirconates or hafnates, e.g. zircon
- C04B2235/3249—Zirconates or hafnates, e.g. zircon containing also titanium oxide or titanates, e.g. lead zirconate titanate (PZT)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5454—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof nanometer sized, i.e. below 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5463—Particle size distributions
- C04B2235/5472—Bimodal, multi-modal or multi-fraction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/602—Making the green bodies or pre-forms by moulding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/77—Density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/78—Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
- C04B2235/782—Grain size distributions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/80—Phases present in the sintered or melt-cast ceramic products other than the main phase
- C04B2235/85—Intergranular or grain boundary phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
酸化物セラミックスは、圧電性や誘電性などを利用した電子セラミックスとして広く応用されている。最近では、ウェアラブルデバイスへの適応に向けて、プラスチックなどの柔軟な有機物と電子セラミックスを複合化した「フレキシブルデバイス」の開発が求められている。
また、次世代蓄電池として注目を集めている「酸化物全固体リチウムイオン二次電池」については、酸化物セラミックスの活物質や固体電解質、導電性を補う助剤などを、隙間なく均一に金属箔上へ堆積した正極合材及び負極合材をそれぞれ用意し、さらに、酸化物の固体電解質でこれらの正極合材と負極合材を隙間なく接合すると言った、非常に高度な技術が要求されている。
そこで従来は、酸化物セラミックスの構造体を作製するに際し、添加剤を加えることで焼結温度を低温化させたり耐還元性を付与したりする手法や、スパッタ法、PLD法、CVD法、MOD法(ゾルゲル法)、水熱合成法、スクリーン印刷法、EPD法、Cold Sintering法などを応用することで、焼結温度より低温で酸化物セラミック膜を堆積できるように工夫した手法、ナノサイズのシート状やキューブ状に原料粒子の形状を整えて積層する手法、原料粒子を常温で基材に衝突させて固化するエアロゾルデポジション(AD)法などが採られてきた。
しかし、従来から採られているスパッタ法、PLD法、CVD法、MOD法(ゾルゲル法)、水熱合成法、スクリーン印刷法、EPD法、Cold Sintering法などの熱処理を伴った製造方法では、焼結温度より低い温度での堆積であっても、基材と酸化物セラミック膜の僅かな線膨張係数差が原因となって酸化物セラミック膜に残留応力が発生し、圧電性や誘電性の性能劣化に繋がることが知られている。
また、AD法などの常温で堆積したセラミック膜においても、ショットピーニング効果による内部圧縮応力が残留応力となって誘電性の劣化に繋がることが問題となっている。
酸化物全固体リチウムイオン二次電池では、活物質でのリチウムイオンの挿入離脱による膨張収縮が起因した内部応力の変化により、活物質そのものに割れが生じるなどして性能劣化に繋がることが問題となっている。
同様に、酸化物固体電解質でも、主に、結晶内に形成された伝導パスを伝ってリチウムイオンが移動するので、結晶性が不完全な部分や、リチウムイオンのイオン伝導性を示さない結着材が粒子間にあると、イオン伝導度の低下につながることから、高品質な結晶を得ることが求められる。
しかし、従来の技術であるスパッタ法、PLD法、CVD法、MOD法(ゾルゲル法)、水熱合成法、スクリーン印刷法、EPD法、Cold Sintering法など、結晶成長を促して高緻密な膜を得るこれらの手法で低温堆積を行うと、高い結晶性を得ることが非常に困難であり、さらに、適応できる基材もかなり限定されるなどの問題があった。
また、AD法は、品質の高い酸化物セラミックス原料微粒子を利用して膜を堆積できるが、AD法特有の原料微粒子の微細化は、圧電性や誘電性が低下するサイズ効果が表れ、酸化物固体電解質においてもリチウムイオンの移動で障壁になる粒界を多く形成しイオン伝導度が低下してしまうなどの問題がある。
さらに、水熱合成法やEPD法など、水溶液中でセラミック膜の堆積する手段では、粒界に水酸基などが残留し、強誘電体のリーク電流の増加や、リチウムイオン伝導の阻害の要因になることも問題として知られている。
AD法では、堆積した硫化物固体電解質を対向させて、さらに加圧することで、硫化物固体電解質層の高緻密化に伴った接合を実現しているが(特許文献1)、リチウムイオンが結晶内を移動する酸化物固体電解質に適応した場合、微細化に伴ってリチウムイオンの移動の障壁となる粒界を多く形成するため、原料微粒子を破砕せずに接合することが課題である。
一般的に、どのような酸化物セラミックスの微粒子であっても「凝集する結合力」を必ず備えており、微粒子が小さくなって比表面積が広くなると、その結合力が強く働くため、凝集しやすくなることが知られている。従来の加圧成形法は、微粒子が空隙を埋めきる前に、この凝集する結合力が働き、そこへ成形圧力に起因した強い摩擦力も加わるため、高緻密化した構造物を製造できなかった。相対密度が80%以上(空隙率にして20%以下)の構造物を加圧成形によって製造するためには、AD法と同様に、原料微粒子の粉砕を伴った手法が採られてきた(特許文献2)。
また、Cold Sintering法は、原料微粒子の周りに非晶質の層を設けて加圧することで、高緻密な酸化物セラミックスを製造する手法であるが、非熱処理では原料微粒子周辺に非晶質の層が残留し、圧電性、誘電性、イオン伝導性などが低下してしまう課題があり、結局、非晶質の層が品質の高い結晶に成長するだけの熱処理が必要になることも課題であり、加えて、非晶質の層が形成できる原料微粒子が限られていることも問題となっている。
酸化物を薄くはく離したナノシート(特許文献3)は、高緻密な酸化物の層を熱処理なく堆積できるが、厚さ数nmの酸化物シートを1層ずつ堆積するため、サブミクロン程度の厚さまで堆積することに課題がある。
同様に、最近ではキューブ状のナノ粒子を規則正しく3次元的に配列する技術が注目されているが(特許文献4)、実際のところ、キューブ状原料微粒子のごくわずかな大きさの差が起因して広範囲に亘った亀裂が生じてしまい、基材上へ隙間なく均一な膜を設けることに課題がある。
具体的には、転写板として、加圧転写の際に脆性材料が残存することのない程度に弾性率の高い金属板を用い、脆性材料からなる粒子を転写板上に付着させる際に、粒径サイズの大きい第1の粒子を最初に付着させ、その後、当該第1の粒子より粒径サイズの小さい第2の粒子をその上に付着させ、当該第2の粒子を付着させた面側に、加圧転写の際に脆性材料が付着するのに十分な程度に弾性率の低い金属あるいは炭素からなる基材を配置して、これらの粒子が破砕するより低い圧力で加圧することにより、転写板上に付着した脆性材料の薄層を基材上に転写し、続いて、同様の手法により、転写板上に第1の粒子と第2の粒子を付着させ、第2の粒子を付着させた面側に、上記脆性材料の薄層が転写された基板の脆性材料の薄層側を配置して、加圧することにより、上記基材上の薄層上に転写板上に付着した脆性材料の薄層を転写し、積層する工程を繰り返すことにより、所望の厚みを有する脆性材料の構造体を基材上に作製する。
上記転写板上の脆性材料の薄層の形成にあたっては、粒径サイズの大きい第1の粒子を最初に付着させ、その後、第1の粒子と当該第1の粒子より粒径サイズの小さい第2の粒子の混合物をその上に付着させ、さらに、第2の粒子をその上に付着させてもよい。
また、転写板上に付着した脆性材料の薄層を基材に加圧転写するにあたっては、横方向に振動を加えてもよい。
このようにして作製された脆性材料構造体は、脆性材料の粒子を熱処理することなく、粒子が破砕するより低い圧力で加圧凝集させることができ、また、緻密に配置された第1の粒子間になお存在する空隙を第2の粒子が埋めることにより、空隙率20%以下のきわめて緻密な、高密度の構造を備えることができる。
〈1〉脆性材料粒子を備える脆性材料構造体であって、前記脆性材料粒子間の接合界面を挟んで、幅40nm以下の脆性材料粒子の格子流動層を備えることを特徴とする、脆性材料構造体。
〈2〉前記脆性材料構造体は、前記脆性材料粒子格子流動層と脆性材料粒子格子整列層を備えることを特徴とする、〈1〉に記載の脆性材料構造体。
〈3〉前記脆性材料構造体は、20%以下の空隙率を備えることを特徴とする、〈1〉又は〈2〉に記載の脆性材料構造体。
〈4〉前記脆性材料構造体は、第1脆性材料粒子と第2脆性材料粒子とを備え、前記第2の粒子の占める体積と、前記第1の粒子と前記第2の粒子の占める体積との割合が15%~60%であり、前記第1の粒子に対する第2の粒子の大きさの比は0.75以下であり、ここで前記第1の粒子の大きさは、粒子サイズ100nm以上を有し、前記第2の粒子の大きさは3μm以下を備えることを特徴とする、〈1〉~〈3〉のいずれかに記載の脆性材料構造体。
〈5〉前記脆性材料構造体は、ビッカース硬度がHV250以下であることを特徴とする、〈1〉~〈4〉のいずれかに記載の脆性材料構造体。
〈6〉前記脆性材料構造体は、積層構造を有することを特徴とする、〈1〉~〈5〉のいずれかに記載の脆性材料構造体。
〈7〉脆性材料からなる粒子を転写板上に付着させ、これを基材に加圧転写させる工程を繰り返すことにより、基材上に脆性材料が凝集して形成した脆性材料構造体を製造する方法であって、
(i)転写板として、加圧転写の際に脆性材料が残存することのない程度に弾性率の高い金属板を用い、脆性材料からなる粒子を転写板上に付着させる際に、粒径サイズの大きい第1の粒子を最初に付着させ、その後、当該第1の粒子より粒径サイズの小さい第2の粒子をその上に付着させ、
(ii)当該第2の粒子を付着させた面側に、加圧転写の際に脆性材料が付着するのに十分な程度に弾性率の低い金属あるいは炭素からなる基材を配置して、これらの粒子が破砕するより低い圧力で加圧することにより、転写板上に付着した脆性材料の薄層を基材上に転写し、
(iii)続いて、同様の手法により、転写板上に第1の粒子と第2の粒子を付着させ、第2の粒子を付着させた面側に、上記脆性材料の薄層が転写された基板の脆性材料の薄層側を配置して、加圧することにより、上記基材上の薄層上に転写板上に付着した脆性材料の薄層を転写し、積層する工程を繰り返すことにより、所望の厚みを有し、脆性材料が凝集して形成した構造体を基材上に作製することを特徴とする方法。
〈8〉前記(i)及び(iii)の工程において、脆性材料からなる粒子を転写板上に付着させるにあたって、転写板に、粒径サイズの大きい第1の粒子を最初に付着させ、その後、第1の粒子と当該第1の粒子より粒径サイズの小さい第2の粒子の混合物をその上に付着させ、さらに、第2の粒子をその上に付着させることを特徴とする、〈7〉に記載の方法。
〈9〉前記(ii)及び(iii)の工程において、転写板上に付着した脆性材料の薄層を基材に加圧転写するにあたって、横方向に振動を加えることを特徴とする、〈7〉又は〈8〉に記載の方法。
本発明の脆性材料構造体は、原料微粒子の凝集により形成されているため、元の原料微粒子の有する高い結晶性を維持することができ、内部応力が発生することも少ない。
本発明によれば、従来、高密度の酸化物セラミックス構造体を作製するうえで必要とされた、焼結処理、原料微粒子の破砕、真空や減圧下におけるプロセス、結着剤の使用などが必要ではなく、これらに伴う、結晶内の欠陥生成や内部応力の発生を抑えることができる。
本発明の構造体は、高温で製造された高い結晶性を有する脆性材料の原料微粒子の粉体を薄く加圧成形することで、原料微粒子が空隙を埋めきる前に働く「凝集する結合力」や「摩擦力」のうち面垂直方向の力を抑制して原料微粒子の流動を促し、高緻密に原料微粒子を配置した構造体を形成して、さらにその構造体の上に、一体化するように、同様に高緻密に原料微粒子を配置した構造体を加圧成形で積層することで製造した、凝集により形成した脆性材料構造体であり、相対密度が80%以上(空隙率にして20%以下)、ビッカース硬度がHV250以下を備えることができる。
前記脆性材料構造体は、第1粒子と第1粒子間に形成された空隙と、空隙を埋める第2粒子を備えていることが好ましい。
前記脆性材料構造体に含まれる、第2粒子の混合割合(第2粒子の占める体積/第1粒子と第2粒子の占める体積)が、15%~60%の間である特徴を備えることが好ましい。
前記脆性材料構造体に含まれる、第1粒子に対する第2粒子の大きさの比(第2粒子の粒径サイズ/第1粒子の粒径サイズ)は、0.75以下を備えることが好ましい。また、第2粒子が異なる平均粒径の原料微粒子を含む場合、最も大きな粒径サイズの原料微粒子を第3粒子として、第3粒子が構造体に含まれる場合は、第1粒子に対する第3粒子の大きさの比が0.75以下を備えることが好ましい。
前記脆性材料構造体に含まれる第2粒子の大きさは3μm以下であることを備えることが好ましい。
前記脆性材料構造体に含まれる、第1粒子の粒径サイズは100nm以上を備えることが好ましい。
本発明の好ましい態様においては、前記脆性材料構造体の相対密度が80%以上(空隙率が20%以下)を備えることが好ましい。このような相対密度は、例えば、脆性材料構造体が、上述の第1粒子と第1粒子間に形成された空隙と、空隙を埋める第2粒子を備えることにより、得られる。
前記脆性材料構造体に含まれる、原料微粒子間が接合する主な力は、従来の加圧成形法において原料微粒子の流動を抑制し、空隙の充填を阻害する要因となっていた、酸化物セラミックスの微粒子が本来持ち合わせている凝集する結合力が支配的ではないかと考えられる。したがって、従来からある、熱処理による結晶成長を伴って製造された焼結体や、スパッタ法、PLD法、CVD法、MOD法(ゾルゲル法)、水熱合成法、スクリーン印刷法、EPD法などの熱処理を伴って製造されたセラミック膜、あるいは、AD法など、機械的衝撃力を付加して原料微粒子を破砕することで得られる高緻密化したセラミック膜などと比較して、本発明によって提供される前記脆性材料構造体は、相対密度(空隙率)が同じであるにも関わらず、低いビッカース硬度を示す特徴を備えることが考えられる。また、この弱い凝集する結合力で原料微粒子間を接合したことが、構造体の内部に発生する残留応力を蓄積しないように機能する特徴を備えることが好ましい。
前記脆性材料構造体は、加圧した際に脆性材料が付着するのに十分な程度に弾性率の低い金属あるいは炭素の基材の上に設けることが好ましく、この観点から、弾性率が180GPa以下の金属あるいは炭素の基材の上に設けられることが好ましい。基材の弾性率が180GPa以上であった場合は、その基材と前記構造物、の間に、弾性率が180GPa以下の金属あるいは炭素の層を挟むようにすることが好ましい。金属あるいは炭素の層の厚みは20nm以上を備えることが好ましい。
前記脆性材料構造体が2枚の金属あるいは炭素の間に設けられ、当該構造体により2枚の金属あるいは炭素を接合する場合は、2枚の金属あるいは炭素はそれぞれ弾性率が180GPa以下の金属あるいは炭素であることが好ましい。
次に、本発明の構造体の好ましい具体的な製造方法について説明する。図1(a)に示すように、弾性率が高い基材(以下、「転写板」と表記)の表面に第1粒子のみを付着させる。転写板にはSUS304(膜厚20μm)を用いて、第1粒子は住友化学製スミコランダムAA3(粒径サイズ:3μm)を用いた。第1粒子の量は製造しようとする構造体の厚みをもとに算出した。第1粒子をミクロ分析天秤(SHIMADZU, MODEL:AEM-5200)で秤量してエタノールを入れた50ccのガラス容器へ移し、超音波ホモジナイザー(SONIC & MATERIALS社製,MODEL:VCX750)により350W,20kHzの超音波で1分間の分散処理を行い、エアブラシ塗装システム(GSIクレオス製,PS311エアブラシセット)に溶液を移して、80℃に設定したホットプレートの上にあらかじめ用意しておいた転写板のSUS304へスプレー塗装した。図2(a)は転写板の表面、図2(b)は転写板の表面に第1粒子を付着させたSEM像である。上面から見て第1粒子が転写板の40%以上を覆う特徴を備えることが好ましい。
(重さ(1)-重さ(2))/(重さ(1)-重さ(3))×100(%)
として算出した。尚、後述のように1GPa以下のプレス圧でPZT、アルミナ、チタン酸バリウムなどの酸化物セラミック原料粒子はSUS304に密着せず、転写成膜後もウエスによって残留した原料微粒子を全て拭取ることができる。
その結果、第2粒子に5μmの粒子を用いた構造物はその殆どが吹き飛んでしまい、膜の構造を維持できなかったが、第2粒子に2μmの粒子を用いた構造物は膜の形状を維持した(図13)。第1粒子と第1粒子間に形成された空隙を埋める第2粒子の比表面積の大きさが、構造物の強度に関わることが考えられる。加えて、固化圧力である925MPaでは、アルミナ原料微粒子を破砕することができず、構造物を形成する微粒子に割れなども観察されなかった。従って、本発明による脆性材料構造体においては、第2粒子の大きさは3μm以下を備えることを特徴とすることが好ましいものと考えられる。
第1粒子に住友化学製スミコランダムAA3(粒径3μm),第2粒子に住友化学製スミコランダムAA03(粒径サイズ:300nm)、結着材には名古屋合成株式会社製のPTFE微粉末を用いた。第2粒子の混合割合は25%、PTFEは構造物中に重量比で100ppm含まれるように調整した。原料微粉末をエタノールに分散してスプレーにより転写板上に付着させた。固化圧力は925MPa、転写板はSUS304、基材に厚さ20μmのアルミ箔を用いた。転写成膜中、圧力を加えている間に超音波ホモジナイザーで横振動を3秒間与えた。
積層方法は次の3種類を試みた。(1)転写板にAA3を付着させ、その上にAA03を付着させ、その上に、PTFEを付着させ、転写成膜を繰り返し行った。(2)転写板にAA3を付着させ、その上にPTFEを担持したAA03を付着させ、転写成膜を繰り返し行った。(3)転写板にAA3を付着させ、その上にAA03を付着させ、転写成膜で得られた構造物の上にPTFEを付着させてから次の転写成膜を行い、繰り返した。図14に、それら3つの方法での様態が転写成膜の回数と転写率の関係に与える影響を示すグラフを示す。
どの方法も、転写成膜を繰り返すことで転写率が低下することが確認された。また、得られた構造物の相対密度も80%であり、PTFEを含めることで密度が低下した。一方で、エタノール中にアルミナ微粉末とPTFEを分散した溶液では、PTFEを加えなかった場合と比較してアルミナ微粉末が沈降しにくく、PTFEが分散材として機能することが確認された。このPTFEの分散材としての働きが構造物の密度低下と転写率低下を引き起こしたものと考えられる。
これらの結果から、本発明の製造方法では、結着材を100ppm含めても(おそらく0.1%以下含めても)、相対密度80%以上の構造物は得られるものと考えられ、結着材が製造中の分散材として機能することで微粒子の取扱いを容易にする効果が期待できる。さらに、第1粒子と第2粒子の表面電荷の極性が反対になるような2種類の結着材を選ぶことで、原料微粒子をエタノールなどの溶媒中に分散した時は結着材が分散材として機能し、原料微粒子の沈降を抑え、一方で転写成膜の時には凝集を促進して強固な膜にする凝集剤として機能させることも期待できる。
また、本発明で適応できる結着材は以下に限定するものではないが、PVA、PVB、PVC等のビニル樹脂や、EVA、PS、ABSなどのポリスチレン樹脂や、PMMA等のアクリル樹脂や、PVDF、PTFE、ETFEなどのフッ素樹脂等が挙げられる。
PZTの原料微粒子の製造方法を記す。堺化学製のPZT-LQと塩化ナトリウムおよび塩化カリウムを、アセトンを用いた湿式遊星ボールミル処理を行い粉砕混合し、1200℃4時間の熱処理によってPZTを粒成長させ、得られた試料に含まれる塩化ナトリウムと塩化カリウムは純水により溶かしてPZT粒子を洗浄した。得られたPZT粒子は800℃で1時間の乾燥処理を行った。このPZT原料微粒子を「PZT-A」と表記する。
図20に格子が変化した領域の模式図を示す。原料微粒子は高温で結晶化していることから、原料微粒子特有の格子が整列した層である「格子整列層」が備わっている。原料微粒子が流動することで接触した界面では、格子の規則性が流動に伴って変化したり、原子配列に乱れが生じたりする。これらの格子の規則性や原子配列の変化により形成された「格子流動層」が原料微粒子間の凝集や接合に寄与しているものと考えられる。
基材及び転写板に用いる素材の弾性率と転写成膜の可否について記す。表2に様々な基材候補の弾性率(ヤング率)と、PZT、チタン酸バリウム、アルミナを用いて転写成膜を試みた結果をまとめた。弾性率が180GPa以下の金属あるいは炭素の基材上には転写成膜が確認されたが、弾性率が180GPaよりも高い金属板には原料微粒子が付着しにくいことが明らかになった。原料微粒子が破砕しない低い圧力で基材がある程度の弾性変形をすることで、隙間なくセラミック原料微粒子と基材が接し、固着するものと考えられる。脆性材料構造体は、弾性率が180GPa以下の金属あるいは炭素の基材の上に設けられることが好ましい。また、弾性率が180GPaよりも高い金属板はこの転写板として利用することが好ましい。
2:転写板
3:第2粒子
4:基材
5:一軸加圧プレスを用いた製造装置
6:ロールプレスを用いた製造装置
7:金型を用いた加圧成形法における製造装置のうち円筒の部分
8:金型を用いた加圧成形法における製造装置のうちピンの部分
9:格子整列層
10:原料微粒子の流動方向
11:格子配列の規則性が変わった領域
12:原子配列が乱れた領域
13:格子流動層
Claims (15)
- 基材の上に、第1のセラミックス粒子と、前記第1のセラミックス粒子よりも平均粒径が小さい第2のセラミックス粒子とからなるセラミックス層が複数積層されたセラミックス積層膜であって、
20%以下の空隙率を備え、
前記セラミックス層は、前記第1のセラミックス粒子の間に形成された空隙に、前記第2のセラミックス粒子が埋められ、
前記第1のセラミックス粒子の平均粒径は、100nm以上であり、
前記第2のセラミックス粒子の平均粒径は、3μm以下であり、
前記第1のセラミックス粒子に対する前記第2のセラミックス粒子の大きさの比は0.43以下である、セラミックス積層膜。 - 前記第2のセラミックス粒子の占める体積と、前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子の占める体積との割合が15%~60%である、請求項1に記載のセラミックス積層膜。
- 前記セラミックス積層膜は、ビッカース硬度がHV250以下である、請求項1又は2に記載のセラミックス積層膜。
- 前記基材は、180GPa以下の弾性率を有する金属又は炭素の基材である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜。
- 前記複数のセラミックス層は、2以上20以下の層が積層される、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜。
- 前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子のそれぞれは、アルミナ、酸化ケイ素、PZT、チタン酸バリウム、酸化チタン、コバルト酸リチウム、チタン酸リチウム、及びLi-Al-Ge-P-Oから選択される、請求項1乃至5のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜。
- セラミックス積層膜を製造する方法であって、
転写板上に第1のセラミックス粒子を付着させた後、前記第1のセラミックス粒子の上に前記第1のセラミックス粒子よりも平均粒径が小さい第2のセラミックス粒子を付着させることと、
前記第2のセラミックス粒子を付着させた面側に基材を配置して加圧することにより、前記第1のセラミックス粒子の間に形成された空隙に、前記第2のセラミックス粒子が埋め込こまれ、前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子からなるセラミックス層を前記転写板から前記基材上に転写する第1転写工程を行い、
転写板上に前記第1のセラミックス粒子を付着させ、前記第1のセラミックス粒子の上に前記第2のセラミックス粒子を付着させた後、前記第2のセラミックス粒子を付着させた面側に、前記基材に転写され記セラミックス層側を配置して加圧することにより、前記基材に転写された前記セラミックス層の上に前記転写板からセラミックス層を転写する第2転写工程を繰り返すことにより、
所望の厚みを有し、前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子が凝集して形成された前記セラミックス層を複数回転写して前記基材上に作製し、
前記第1のセラミックス粒子の平均粒径は、100nm以上であり、
前記第2のセラミックス粒子の平均粒径は、3μm以下であり、
前記第1のセラミックス粒子に対する前記第2のセラミックス粒子の大きさの比は0.43以下である、セラミックス積層膜の作製方法。 - セラミックス積層膜を製造する方法であって、
転写板上に第1のセラミックス粒子を付着させ、前記第1のセラミックス粒子の上に、前記第1のセラミックス粒子と当該第1のセラミックス粒子よりも平均粒径が小さい第2のセラミックス粒子との混合物を付着させた後、前記混合物上に前記第2のセラミックス粒子を付着させることと、
前記第2のセラミックス粒子を付着させた面側に基材を配置して加圧することにより、前記第1のセラミックス粒子の間に形成された空隙に、前記第2のセラミックス粒子が埋め込まれ、前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子からなるセラミックス層を前記転写板から前記基材上に転写する第1転写工程を行い、
転写板上に第1のセラミックス粒子を付着させ、前記第1のセラミックス粒子の上に、前記第1のセラミックス粒子と前記第2のセラミックス粒子との混合物を付着させた後、前記混合物上に前記第2のセラミックス粒子を付着させた面側に、前記基材に転写されたセラミックス層側を配置して加圧することにより、前記基材に転写された前記セラミックス層の上に前記転写板からセラミックス層を転写する第2転写工程を繰り返すことにより、
所望の厚みを有し、前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子が凝集して形成された前記セラミックス層を複数回転写して前記基材上に作製し、
前記第1のセラミックス粒子の平均粒径は、100nm以上であり、
前記第2のセラミックス粒子の平均粒径は、3μm以下であり、
前記第1のセラミックス粒子に対する前記第2のセラミックス粒子の大きさの比は0.43以下である、セラミックス積層膜の作製方法。 - 前記第1転写工程及び前記第2転写工程において、前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子を前記基材に加圧している間、基材に対して超音波を用いて振動を加える、請求項7又は8に記載のセラミックス積層膜の作製方法。
- 前記第2のセラミックス粒子の占める体積と、前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子の占める体積との割合が15%~60%である、請求項7乃至9のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜の作製方法。
- 前記基材は、180GPa以下の弾性率を有する金属又は炭素の基材である、請求項7乃至10のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜の作製方法。
- 前記セラミックス層が転写される回数は、2回以上20回以下である、請求項7乃至11のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜の作製方法。
- 前記第1のセラミックス粒子及び前記第2のセラミックス粒子のそれぞれは、アルミナ、酸化ケイ素、PZT、チタン酸バリウム、酸化チタン、コバルト酸リチウム、チタン酸リチウム、及びLi-Al-Ge-P-Oから選択される、請求項7乃至12のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜の作製方法。
- 前記第2のセラミックス粒子を付着させた面側に前記基材を配置して加圧する際の圧力は、2GPa以下である、請求項7乃至13のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜の作製方法。
- 前記転写板は、180GPaより高い弾性率を有し、SUS303、鉄、ニッケル、クロム、及びタングステンから選択される、請求項7乃至14のいずれか一項に記載のセラミックス積層膜の作製方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018110527 | 2018-06-08 | ||
JP2018110527 | 2018-06-08 | ||
PCT/JP2019/021784 WO2019235385A1 (ja) | 2018-06-08 | 2019-05-31 | 脆性材料構造体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019235385A1 JPWO2019235385A1 (ja) | 2021-06-17 |
JP7272671B2 true JP7272671B2 (ja) | 2023-05-12 |
Family
ID=68770318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020523078A Active JP7272671B2 (ja) | 2018-06-08 | 2019-05-31 | セラミックス積層膜及びセラミックス積層膜の作製方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210114364A1 (ja) |
JP (1) | JP7272671B2 (ja) |
KR (1) | KR102556297B1 (ja) |
CN (1) | CN112638842A (ja) |
WO (1) | WO2019235385A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2024078507A (ja) * | 2022-11-30 | 2024-06-11 | キヤノン株式会社 | 固体粒子を含む線状パターンの形成方法ならびに転写版 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002143728A (ja) | 2000-08-29 | 2002-05-21 | Maresuke Kobayashi | 転写を利用した静電粉体塗装方法及び転写を利用した静電粉体塗装装置 |
JP2004261746A (ja) | 2003-03-03 | 2004-09-24 | Sony Corp | 微粒子配列構造体の製造方法、及び光学媒体の製造方法 |
JP2005028248A (ja) | 2003-07-09 | 2005-02-03 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 流体分離フィルタおよびその製造方法と燃料電池システム |
JP2006043993A (ja) | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Toto Ltd | 脆性材料構造物の形成方法および脆性材料構造物 |
WO2017199968A1 (ja) | 2016-05-16 | 2017-11-23 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 積層構造体及びその作製方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226705A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-29 | Ngk Insulators Ltd | プレス成形用セラミック質造粒体 |
JP3126194B2 (ja) * | 1991-12-06 | 2001-01-22 | 大日本印刷株式会社 | 艶消し転写箔 |
US6332964B1 (en) * | 1996-12-31 | 2001-12-25 | Praxair Technology, Inc. | Multi-phase solid ion and electron conducting membrane with low volume percentage electron conducting phase and methods for fabricating |
JP4208688B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2009-01-14 | 株式会社リコー | 三次元周期構造体の製造方法 |
CN1328218C (zh) * | 2005-09-06 | 2007-07-25 | 哈尔滨工业大学 | 一种薄陶瓷膜片的制备方法 |
JP5618087B2 (ja) | 2011-03-14 | 2014-11-05 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ナノ結晶の配列方法、ナノ結晶膜の作製方法、ナノ結晶膜被覆基板及びその製造方法 |
JP5885150B2 (ja) | 2011-05-19 | 2016-03-15 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 高誘電性ナノシート積層体、高誘電性ナノシート積層体、高誘電体素子、および高誘電体薄膜素子の製造方法 |
JP6446752B2 (ja) | 2014-11-18 | 2019-01-09 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | リチウム固体電池の製造方法 |
CN105693221B (zh) * | 2016-01-15 | 2018-12-18 | 汕头大学 | 一种超薄高纯陶瓷片及其制备工艺 |
US10132478B2 (en) * | 2016-03-06 | 2018-11-20 | Svv Technology Innovations, Inc. | Flexible solid-state illumination devices |
-
2019
- 2019-05-31 WO PCT/JP2019/021784 patent/WO2019235385A1/ja active Application Filing
- 2019-05-31 JP JP2020523078A patent/JP7272671B2/ja active Active
- 2019-05-31 KR KR1020207035631A patent/KR102556297B1/ko active IP Right Grant
- 2019-05-31 CN CN201980038371.XA patent/CN112638842A/zh active Pending
-
2020
- 2020-12-04 US US17/112,508 patent/US20210114364A1/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002143728A (ja) | 2000-08-29 | 2002-05-21 | Maresuke Kobayashi | 転写を利用した静電粉体塗装方法及び転写を利用した静電粉体塗装装置 |
JP2004261746A (ja) | 2003-03-03 | 2004-09-24 | Sony Corp | 微粒子配列構造体の製造方法、及び光学媒体の製造方法 |
JP2005028248A (ja) | 2003-07-09 | 2005-02-03 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 流体分離フィルタおよびその製造方法と燃料電池システム |
JP2006043993A (ja) | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Toto Ltd | 脆性材料構造物の形成方法および脆性材料構造物 |
WO2017199968A1 (ja) | 2016-05-16 | 2017-11-23 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 積層構造体及びその作製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102556297B1 (ko) | 2023-07-17 |
KR20210008078A (ko) | 2021-01-20 |
US20210114364A1 (en) | 2021-04-22 |
WO2019235385A1 (ja) | 2019-12-12 |
CN112638842A (zh) | 2021-04-09 |
JPWO2019235385A1 (ja) | 2021-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105683127B (zh) | 用于锂二次电池的石榴石材料和制造和使用石榴石材料的方法 | |
TWI334408B (en) | Brittle material formed of ultrafine particles | |
JP5511447B2 (ja) | 圧電材料、その製造方法及び圧電素子 | |
JP2023134522A (ja) | 構造体の作製方法 | |
JP5676910B2 (ja) | セラミクスの製造方法および圧電材料 | |
JP2009181872A (ja) | リチウムイオン二次電池およびその製造方法 | |
JP7272671B2 (ja) | セラミックス積層膜及びセラミックス積層膜の作製方法 | |
JP2011144100A (ja) | 圧電/電歪セラミックス焼結体 | |
JPH07297461A (ja) | 圧電セラミックス−高分子複合材料及びその製造方法 | |
JP5572703B2 (ja) | 圧電素子の製造方法 | |
CN107235724B (zh) | 压电陶瓷溅射靶材、无铅压电薄膜以及压电薄膜元件 | |
JP4918673B2 (ja) | 圧電変換シート | |
TW200949872A (en) | Process for producing dielectric film and process for producing capacitor layer forming material using the process for producing dielectric film | |
JP5345824B2 (ja) | 電池用セパレータ及びその製造方法 | |
JP2011032157A (ja) | 圧電/電歪セラミックス焼結体 | |
Lee et al. | Effects of polarity on grain‐boundary migration in ZnO | |
JP5044437B2 (ja) | 圧電/電歪磁器焼結体の製造方法 | |
Panda et al. | Tape Casting Technique for Fabrication of Piezoelectric Ceramics and Other Multilayered Devices-A Review | |
WO2019022096A1 (ja) | 構造体、その積層体、それらの製造方法及び製造装置 | |
KR101006958B1 (ko) | 유기물을 함유하는 센서용 압전 후막 및 이의 제조방법 | |
Priya et al. | Recent advances in piezoelectric and magnetoelectric materials phenomena | |
JP2008222528A (ja) | セラミックスおよびその製造方法 | |
KR101059750B1 (ko) | 고밀도의 압전 후막의 제조 방법 | |
JP6260982B2 (ja) | 粒子配向セラミックス | |
JPS6114679B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210702 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220830 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221024 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221223 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230328 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230420 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7272671 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |