JP7245307B2 - 面トポロジーが形成された、特に、計時器のための、部品 - Google Patents
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Description
* 前記トラフは互いに平行に長手方向に並んでいる。
* 前記トラフの深さPは、100~500nmであり、好ましくは、300nm以下である。
* 前記一連のピークとトラフ又は前記一連のバンプと窪みは、周期的構造を形成する。
* 前記少なくとも1つの部品の1つの側方に、前記深掘り反応性イオンエッチングによって機械加工されたテクスチャが形成されている。
* 前記2つの部品のそれぞれの前記機能的領域における面に、前記テクスチャが形成されており、前記トラフどうしが互いに対向するように配置される。
* 前記少なくとも1つの部品の面のみに、前記テクスチャが形成されており、当該システムの他方の部品の機能的領域には滑らかな面がある。
* 前記少なくとも1つの部品は、ケイ素又は金属によって形成されている。
* 前記2つの部品の両方の部品は、計時器用部品である。
2 部品
3 スカロップが形成された構造
3a トラフ又は窪み
3b ピーク
3c バンプ
4 砕片
5 潤滑剤
6 エスケープ車
7 パレットレバー
8 エスケープ車の歯
8a 縁部又は側壁
9 パレット
9a 縁部又は側壁
10 ブランク
11 マスク
12 不動態化層
Claims (11)
- 所与の摩擦方向に摩擦面を介して互いに摩擦接触するように意図された2つの部品(2)を有するシステム(1)であって、
この摩擦が機能的領域で発生し、
当該システム(1)においては、前記2つの部品(2)の少なくとも1つには、前記機能的領域に、ピーク(3b)によって分離される丸まった形の一連のトラフ(3a)又はトラフ(3a)によって分離される丸まった形の一連のバンプ(3c)によって形成されたテクスチャが形成された面があり、
前記トラフ(3a)どうしは、前記所与の方向に平行に延在しており、
前記トラフ(3a)が、摩擦によって発生する砕片(4)を排出できるようになり、潤滑剤(5)のための槽としてはたらくよう前記トラフ(3a)の深さPは、100~1000nmである
ことを特徴とするシステム(1)。 - 前記トラフ(3a)は互いに平行に長手方向に並んでいる
ことを特徴とする請求項1に記載のシステム(1)。 - 前記トラフ(3a)の深さPは、300nm以下である
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のシステム(1)。 - 前記一連のトラフ(3a)とピーク(3b)又は前記一連のバンプ(3c)とトラフ(3a)は、周期的構造を形成する
ことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載のシステム(1)。 - 前記少なくとも1つの部品(2)の1つの側壁(8a、9b)に、深掘り反応性イオンエッチングによって機械加工されたテクスチャが形成されている
ことを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載のシステム(1)。 - 前記2つの部品(2)のそれぞれの前記機能的領域における1つの面に、前記テクスチャが形成されており、
前記トラフ(3a)どうしが互いに対向するように配置される
ことを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載のシステム(1)。 - 前記2つの部品(2)のうちの前記少なくとも1つの部品(2)の面のみに、前記テクスチャが形成されており、
当該システム(1)の他方の部品(2)の機能的領域には滑らかな面がある
ことを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載のシステム(1)。 - 前記少なくとも1つの部品(2)は、ケイ素又は金属によって形成されている
ことを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載のシステム(1)。 - 前記2つの部品(2)の両方の部品(2)は、計時器用部品である
ことを特徴とする請求項1~8のいずれかに記載のシステム(1)。 - 請求項9に記載のシステム(1)を有する
ことを特徴とする計時器。 - 請求項1~9のいずれかに記載のシステムにおける、トラフ(3a)によって分離される丸まった形の一連のバンプ(3c)を有する前記少なくとも1つの部品(2)を作るための型であって、
面の1つにおいて、ピーク(3b)によって分離される丸まった形の一連のトラフ(3a)によって形成される前記テクスチャが形成された空洞が形成されている
ことを特徴とする型。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18188355.4 | 2018-08-09 | ||
EP18188355.4A EP3608727A1 (fr) | 2018-08-09 | 2018-08-09 | Composant notamment horloger avec une topologie de surface et son procédé de fabrication |
JP2019124946A JP2020027105A (ja) | 2018-08-09 | 2019-07-04 | 面トポロジーが形成された、特に、計時器のための、部品、及びその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019124946A Division JP2020027105A (ja) | 2018-08-09 | 2019-07-04 | 面トポロジーが形成された、特に、計時器のための、部品、及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022009638A JP2022009638A (ja) | 2022-01-14 |
JP7245307B2 true JP7245307B2 (ja) | 2023-03-23 |
Family
ID=63207673
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019124946A Pending JP2020027105A (ja) | 2018-08-09 | 2019-07-04 | 面トポロジーが形成された、特に、計時器のための、部品、及びその製造方法 |
JP2021176163A Active JP7245307B2 (ja) | 2018-08-09 | 2021-10-28 | 面トポロジーが形成された、特に、計時器のための、部品 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019124946A Pending JP2020027105A (ja) | 2018-08-09 | 2019-07-04 | 面トポロジーが形成された、特に、計時器のための、部品、及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10981783B2 (ja) |
EP (1) | EP3608727A1 (ja) |
JP (2) | JP2020027105A (ja) |
KR (1) | KR102281705B1 (ja) |
CN (1) | CN110824878B (ja) |
CH (1) | CH715242A2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP7428556B2 (ja) * | 2020-03-16 | 2024-02-06 | セイコーウオッチ株式会社 | 時計部品、ムーブメント及び時計 |
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- 2018-08-09 EP EP18188355.4A patent/EP3608727A1/fr active Pending
- 2018-08-09 CH CH00975/18A patent/CH715242A2/fr unknown
-
2019
- 2019-06-14 US US16/441,068 patent/US10981783B2/en active Active
- 2019-07-04 JP JP2019124946A patent/JP2020027105A/ja active Pending
- 2019-07-17 KR KR1020190086518A patent/KR102281705B1/ko active IP Right Grant
- 2019-08-08 CN CN201910730557.3A patent/CN110824878B/zh active Active
-
2021
- 2021-10-28 JP JP2021176163A patent/JP7245307B2/ja active Active
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JP2020027105A (ja) | 2020-02-20 |
CN110824878A (zh) | 2020-02-21 |
US10981783B2 (en) | 2021-04-20 |
JP2022009638A (ja) | 2022-01-14 |
KR102281705B1 (ko) | 2021-07-26 |
CN110824878B (zh) | 2022-01-25 |
KR20200018246A (ko) | 2020-02-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211028 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221108 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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