CN110824878A - 用于钟表的具有表面纹理结构的部件及其制造方法 - Google Patents
用于钟表的具有表面纹理结构的部件及其制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110824878A CN110824878A CN201910730557.3A CN201910730557A CN110824878A CN 110824878 A CN110824878 A CN 110824878A CN 201910730557 A CN201910730557 A CN 201910730557A CN 110824878 A CN110824878 A CN 110824878A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- grooves
- component
- friction
- series
- mould
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 claims 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 241000237503 Pectinidae Species 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 235000020637 scallop Nutrition 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B5/00—Devices comprising elements which are movable in relation to each other, e.g. comprising slidable or rotatable elements
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B13/00—Gearwork
- G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
- G04B13/021—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft
- G04B13/022—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft with parts made of hard material, e.g. silicon, diamond, sapphire, quartz and the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0002—Arrangements for avoiding sticking of the flexible or moving parts
- B81B3/0005—Anti-stiction coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0002—Arrangements for avoiding sticking of the flexible or moving parts
- B81B3/001—Structures having a reduced contact area, e.g. with bumps or with a textured surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00015—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
- B81C1/00023—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems without movable or flexible elements
- B81C1/00031—Regular or irregular arrays of nanoscale structures, e.g. etch mask layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00015—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
- B81C1/00023—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems without movable or flexible elements
- B81C1/00103—Structures having a predefined profile, e.g. sloped or rounded grooves
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00436—Shaping materials, i.e. techniques for structuring the substrate or the layers on the substrate
- B81C1/00555—Achieving a desired geometry, i.e. controlling etch rates, anisotropy or selectivity
- B81C1/00619—Forming high aspect ratio structures having deep steep walls
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- B81C99/0075—Manufacture of substrate-free structures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- B81C99/0075—Manufacture of substrate-free structures
- B81C99/0085—Manufacture of substrate-free structures using moulds and master templates, e.g. for hot-embossing
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B13/00—Gearwork
- G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B13/00—Gearwork
- G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
- G04B13/027—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots planar toothing: shape and design
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B15/00—Escapements
- G04B15/14—Component parts or constructional details, e.g. construction of the lever or the escape wheel
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B31/00—Bearings; Point suspensions or counter-point suspensions; Pivot bearings; Single parts therefor
- G04B31/06—Manufacture or mounting processes
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B31/00—Bearings; Point suspensions or counter-point suspensions; Pivot bearings; Single parts therefor
- G04B31/08—Lubrication
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0069—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/03—Microengines and actuators
- B81B2201/035—Microgears
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2203/00—Basic microelectromechanical structures
- B81B2203/03—Static structures
- B81B2203/0369—Static structures characterized by their profile
- B81B2203/0384—Static structures characterized by their profile sloped profile
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
- B81C2201/0101—Shaping material; Structuring the bulk substrate or layers on the substrate; Film patterning
- B81C2201/0128—Processes for removing material
- B81C2201/013—Etching
- B81C2201/0132—Dry etching, i.e. plasma etching, barrel etching, reactive ion etching [RIE], sputter etching or ion milling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/11—Treatments for avoiding stiction of elastic or moving parts of MEMS
- B81C2201/115—Roughening a surface
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Geometry (AREA)
- Micromachines (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
本发明涉及一种系统(1),其包括两个部件(2),所述两个部件用于在给定的摩擦方向上通过摩擦表面彼此摩擦接触,其中摩擦发生在功能区域中,所述系统(1)的特征在于,所述两个部件(2)中的至少一个在功能区域中包括带有纹理结构的表面,该纹理结构由一系列通过峰部(3b)分隔开的弧形的槽(3a)形成或由一系列通过槽(3a)分隔开的凸起(3c)形成,所述槽(3a)平行于所述给定的摩擦方向延伸,并允许排出由摩擦产生的碎屑(4)并用作润滑剂(5)的储存部。本发明还涉及通过DRIE(深反应离子蚀刻)工艺制造至少一个部件(2)或模具的方法,其中通过DRIE工艺加工的侧壁上的表面缺陷用于形成所述槽(3a)。
Description
技术领域
本发明涉及一种微机械部件,特别是在钟表领域中使用的微机械部件,用于在使用过程中与另一部件摩擦接触。本发明还涉及制造该部件的方法。
背景技术
许多钟表部件——如擒纵部件、跳动件、发条等——在使用过程中会受到摩擦。传统上,为了制造得好,这些部件必须具有非常光滑的接触/摩擦表面。然而,两个主体之间的摩擦通常会导致形成第三主体的磨损颗粒的形成。第三个主体并未被证明具有积极的效果,反而可能导致部件加速磨损,对其功能产生不利影响。为了防止这种磨损并减小导致某些功能损失的摩擦力,将润滑剂施加摩擦接触的部件表面。然而,在两个完全光滑的接触表面相互摩擦的结构中,润滑剂逐渐从接触/摩擦区域排出,导致摩擦接触条件的中长期退化。
发明内容
本发明的一个目的是通过提出一种具有摩擦接触的两个部件的系统来克服上述缺点,其中至少一个部件在将要经受摩擦的区域具有纹理/拓扑结构,这一方面有助于去除由摩擦产生的颗粒,另一方面形成润滑剂的储存部。
为此,所述部件在所述区域具有扇形结构。该扇形结构限定了一组沿摩擦方向延伸的槽,并形成尽可能多的通道,用于由摩擦产生的碎屑的排出和润滑剂的流动。本发明的系统由权利要求1限定。
根据本发明,扇形结构是在加工部件的步骤中形成的。使用的制造方法是DRIE(深度反应离子蚀刻)工艺。这个工艺导致在部件的蚀刻壁上形成扇形结构或波纹。根据现有技术,这种扇形结构是本领域技术人员希望消除的工艺的固有缺陷。为此,DRIE工艺之后通常是氧化和还原步骤,目的是消除扇形轮廓。相比之下,根据本发明,该步骤至少部分地被取消,以保持扇形轮廓,该轮廓允许排出磨损碎屑并用作润滑剂储存部。
因此,根据本发明的制造方法使得可以在单个步骤中加工部件和纹理化表面。此外,根据本发明的方法的优点是扇形纹理结构在经蚀刻的侧壁上沿摩擦方向自然对齐。本发明的方法由权利要求12限定。
本发明还涉及一种使用DRIE工艺加工的模具,以在模具的经蚀刻的侧壁上形成扇形结构。这些具有扇形纹理结构的模具形成了用于后续电铸部件产生的图案。电铸部件因此也具有与扇形互补形状的纹理结构,槽用作摩擦发生区域的碎屑排出通道和润滑剂储存部。该模具在权利要求9中限定。
根据本发明的其它有利变型:
·槽是纵向的并且彼此平行。
·所述槽的深度P大于或等于100纳米且小于或等于500纳米,优选小于或等于300纳米。
·一系列峰部和槽或一系列凸起和凹陷形成周期性结构。
·纹理结构存在于通过深度反应离子蚀刻加工的所述至少一个部件的一侧。
·两个部件中的每一个都在功能区域的表面上包括所述纹理结构,所述槽彼此面对地设置。
·所述至少一个部件中的仅一个在其表面上具有所述纹理结构,系统的另一个部件在功能区域具有光滑表面。
·所述至少一个部件由硅或金属制成。
·两个部件都是钟表部件。
附图说明
参考附图,本发明的其他特征和优点将出现在以下通过非限制性示例给出的优选实施例的描述中。
图1A和1B示意性地表示了具有两个部件的系统,其中根据本发明,两个部件中的一个在其摩擦表面上具有一系列彼此平行的扇形的纹理结构,该摩擦表面要与另一个部件部分接触。摩擦沿着平行于接收第三主体(图1A)和润滑剂(图1B)的槽的纵向方向发生。
图2A和2B示出了具有两个部件的系统的变型,其中两个部件中的一个具有与图1A和1B中示出的形状互补的纹理。
图3A是包括两个部件(擒纵轮/擒纵叉)的钟表系统的图示,这两个部件在齿和/或擒纵叉的边缘上具有根据本发明的纹理结构。图3B示意性地示出了经蚀刻的壁上的纹理结构。
图4示意性示出了以已知的方式的DRIE(深反应离子蚀刻)工艺的各个步骤。
具体实施方式
本发明涉及由金属或硅制成的部件,该部件包括用于在使用过程中经受摩擦的表面。因此,本发明更具体地涉及一种包括两个部件的系统,这两个部件具有在所谓的“功能”区域中经受摩擦的表面。在钟表领域,这可以例如是以下类型的系统:擒纵轮/擒纵叉、凸轮/传感器、棘爪/齿轮、跳动件/盘、耦合盘/发条、制动盘/制动杆,等等。本发明还涉及能够通过电铸生产这些部件的模具。本发明还涉及制造部件或模具的方法。
如图1A-2B中示意性示出的那样,系统1的两个部件2中的至少一个在其摩擦表面的功能区域中具有表面纹理/拓扑结构,该表面纹理结构一方面促进第三物体颗粒的排出,另一方面形成润滑剂的储存部。
参考图1A和1B,表面纹理由具有由峰部3b分隔开的弧形的槽3a(也被称为凹部)的相互平行的周期性扇形区构成。根据该变型,两个部件2之间的接触发生在表面纹理结构的峰部3b上。槽3a的纵向尺寸平行于功能区域中的摩擦方向延伸,并且槽用作润滑剂5的储存部和排出摩擦碎屑4的通道。根据本发明,槽的深度P——即槽的最低点和峰部的顶部之间的距离——通常大于或等于100纳米且小于或等于500纳米(图3B)。
在图2A和2B中,该拓扑结构具有由槽3a分隔开的一系列弧形凸起3c。这种纹理结构是通过在具有图1A和1B中的扇形结构的模具中电铸金属部件而获得的。因此,凹部的深度P在此对应于槽的低点和凸起的顶部之间的距离,并且显然等于前述的深度P。根据该变型,两个部件2之间的接触发生在纹理结构的凸起3c的顶部。
在图1A-2B所示的变型中,两个部件中仅一个部件包括槽,另一个部件在功能区域具有基本平坦的摩擦表面。根据未示出的另一变型,两个部件可以在该区域中具有彼此面对并且一起形成碎屑排出通道和润滑剂储存部的槽。
图3A示例性地示出了钟表系统1:擒纵轮6/擒纵叉杆7,其中两个部件6、7中的一个或两个至少在齿8和/或擒纵叉9的侧壁8a、9a上具有经受摩擦的根据本发明的纹理结构(图3B)。
这种表面纹理结构是在通过DRIE(深反应离子刻蚀)工艺加工部件或模具的过程中获得的,该工艺是等离子体蚀刻工艺,包括两个彼此相继的不同程序,即蚀刻程序和钝化程序。该方法示意性地表示在图4中。以已知的方式,提供硅坯料10。限定待加工沟槽的穿孔掩模11形成在坯料10的表面上(图4a)。然后,该方法包括在氟化气体(例如SF6)中蚀刻的步骤(图4b)和使用氟碳化合物气体(例如C4F8)钝化(层12)的一系列步骤,其中交替进行的蚀刻和钝化步骤在蚀刻后的侧壁上产生扇形结构。槽的周期性和深度可以用已知的方式通过改变蚀刻和钝化顺序次数等来调节(例如,6次蚀刻-2次钝化,或3次蚀刻-1次钝化)。优选地,蚀刻阶段持续时间大于钝化阶段持续时间。典型地,这些槽的深度P在100纳米和1000纳米之间,优选为大约几百纳米,槽的周期在1.5-6微米之间,优选为大约3微米。
可选地,为了减小槽的深度,而不会因此减小表面粗糙度,可以设想在氧化步骤之后是脱氧步骤(未示出)。该步骤包括在通常介于900℃和1200℃之间的温度下进行热氧化,然后通常在氢氟酸中进行化学还原。举例来说,在该步骤中,槽的深度P因此可以从300纳米减小到100-200纳米。
然后,当上述方法用于制造模具时,该方法还包括通过在模具的纹理化表面上电铸金属合金来制造在其表面上具有一系列凸起和凹槽的部件的沉积步骤。
附图标记一览表
1 系统
2 部件
3 扇形结构
a) 槽或凹部
b) 峰部
c) 凸起
4 碎屑
5 润滑剂
6 擒纵轮
7 擒纵叉杆
8 擒纵轮齿
a.边缘或侧壁
9 擒纵叉
a.边缘或侧壁
10 坯料
11 掩膜
12 钝化层。
Claims (15)
1.一种系统(1),该系统包括两个部件(2),所述两个部件用于在给定的摩擦方向上通过摩擦表面彼此摩擦接触,其中摩擦发生在“功能区域”中,该系统(1)的特征在于,所述两个部件(2)中的至少一个部件在功能区域中包括带有纹理结构的表面,该纹理结构由一系列通过峰部(3b)分隔开的弧形的槽(3a)形成或由一系列通过槽(3a)分隔开的弧形的凸起(3c)形成,所述槽(3a)平行于所述给定的摩擦方向延伸,并允许排出由摩擦产生的碎屑(4)并用作润滑剂(5)的储存部。
2.根据权利要求1所述的系统(1),其特征在于,所述槽(3a)是纵向的并且彼此平行。
3.根据权利要求1或2所述的系统(1),其特征在于,所述槽(3a)的深度P大于或等于100纳米且小于或等于1000纳米,并且优选地,小于或等于300纳米。
4.根据权利要求1所述的系统(1),其特征在于,一系列的槽(3a)和峰部(3b)或一系列的凸起(3c)和槽(3a)形成周期性结构。
5.根据权利要求1所述的系统(1),其特征在于,所述纹理结构位于通过深反应离子蚀刻加工的所述至少一个部件(2)的一个侧壁(8a,9b)上。
6.根据权利要求1所述的系统(1),其特征在于,所述两个部件(2)中的每一个部件在功能区域中的一个表面上均包括所述纹理结构,所述槽(3a)彼此面对面地设置。
7.根据权利要求1所述的系统(1),其特征在于,所述至少一个部件(2)中的仅一个在其表面上包括所述纹理结构,所述系统(1)的另一个部件(2)在所述功能区域中具有光滑表面。
8.根据权利要求1所述的系统(1),其特征在于,所述至少一个部件(2)由硅或金属制成。
9.根据权利要求1所述的系统(1),其特征在于,所述两个部件(2)都是钟表部件。
10.一种包括系统(1)的钟表,该系统包括两个部件(2),所述两个部件用于在给定的摩擦方向上通过摩擦表面彼此摩擦接触,其中摩擦发生在“功能区域”中,该系统(1)的特征在于,所述两个部件(2)中的至少一个部件在功能区域包括带有纹理结构的表面,该纹理结构由一系列通过峰部(3b)分隔开的弧形的槽(3a)形成或由一系列通过槽(3a)分隔开的弧形的凸起(3c)形成,所述槽(3a)平行于所述给定的摩擦方向延伸,并允许排出由摩擦产生的碎屑(4)并用作润滑剂(5)的储存部。
11.一种用于生产根据权利要求1所述的系统(1)的所述至少一个部件(2)的模具,所述部件包括一系列由槽(3a)分隔开的弧形的凸起(3c),其中所述模具在其一个面上包括具有由一系列通过峰部(3b)分隔开的弧形的槽(3a)形成的所述纹理结构的腔。
12.一种用于制造分别由硅制成的模具或部件(2)的方法,该方法包括以下步骤:
(a)提供由硅制成的坯料(10),
(b)通过深反应离子蚀刻工艺在所述坯料(10)上加工侧壁(8a,9a)以形成模具或部件(2),经加工侧壁(8a,9a)具有由深反应离子蚀刻工艺形成的扇形纹理结构,所述纹理结构在所述经加工侧壁(8a,9a)上限定一组深度为P的槽(3a),所述方法的特征在于,在该方法结束时,所述槽(3a)保持在模具或部件(2)的经加工侧壁(8a,9a)上,以在所述经加工侧壁(8a,9a)上形成能够收集碎屑(4)或接收润滑剂(5)的通道。
13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,在所述方法结束时,所述模具或所述部件(2)的经加工侧壁(8a,9a)上的所述槽(3a)的深度P大于或等于100纳米且小于或等于1000纳米,优选小于或等于300纳米。
14.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,在加工步骤(b)之后进行氧化和还原步骤(c),以减小所述槽(3a)的深度P,在所述氧化和还原步骤(c)结束时,深度P保持在大于或等于100纳米的值。
15.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,在步骤(b)或步骤(c)之后,所述方法包括通过在模具的经加工侧壁(8a,9a)上电铸金属合金的沉积步骤,以生产另一个部件(2)。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18188355.4 | 2018-08-09 | ||
EP18188355.4A EP3608727A1 (fr) | 2018-08-09 | 2018-08-09 | Composant notamment horloger avec une topologie de surface et son procédé de fabrication |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110824878A true CN110824878A (zh) | 2020-02-21 |
CN110824878B CN110824878B (zh) | 2022-01-25 |
Family
ID=63207673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910730557.3A Active CN110824878B (zh) | 2018-08-09 | 2019-08-08 | 用于钟表的具有表面纹理结构的部件及其制造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10981783B2 (zh) |
EP (1) | EP3608727A1 (zh) |
JP (2) | JP2020027105A (zh) |
KR (1) | KR102281705B1 (zh) |
CN (1) | CN110824878B (zh) |
CH (1) | CH715242A2 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113406875A (zh) * | 2020-03-16 | 2021-09-17 | 精工时计株式会社 | 钟表零件、机芯和钟表 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112259942B (zh) * | 2020-08-31 | 2021-09-07 | 中国空间技术研究院 | 一种用于毫米波段的双工器及其制备方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1236867A (zh) * | 1993-06-19 | 1999-12-01 | 卢克摩擦片和离合器有限公司 | 转矩传递装置 |
CN1835825A (zh) * | 2003-08-19 | 2006-09-20 | 球体抛光机工具有限公司 | 用于处理表面的柔性成形片 |
CN101178124A (zh) * | 2007-12-03 | 2008-05-14 | 周林 | 高润滑低摩擦活塞 |
US20100208555A1 (en) * | 2009-02-17 | 2010-08-19 | Hiraoka Masashi | Escapement governor, mechanical watch, pallet fork (incomplete) manufacturing method, and roller manufacturing method |
CN102471888A (zh) * | 2009-07-17 | 2012-05-23 | 原子能与替代能源委员会 | 纹理化dlc涂层的方法及由此纹理化的dlc涂层 |
JP2014051741A (ja) * | 2013-10-22 | 2014-03-20 | Seiko Instruments Inc | 機械部品の製造方法および時計 |
CN203730295U (zh) * | 2014-01-14 | 2014-07-23 | 无锡双鸟科技股份有限公司 | 一种汽车空调压缩机 |
CN105036056A (zh) * | 2015-06-02 | 2015-11-11 | 湘潭大学 | 一种以单晶硅为基底具有减摩抗磨和超疏水性能的材料及制备方法 |
CN204916948U (zh) * | 2015-09-06 | 2015-12-30 | 宁夏苏宁新能源设备有限公司 | 耐磨中部槽 |
CN105485167A (zh) * | 2016-01-07 | 2016-04-13 | 燕山大学 | 一种推力轴承的轴向支承垫 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009046647B4 (de) * | 2009-11-12 | 2015-05-21 | Lothar Schmidt | Uhr |
CH702431B1 (fr) * | 2009-12-21 | 2015-05-29 | Suisse Electronique Microtech | Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique. |
JP5596991B2 (ja) | 2010-02-02 | 2014-10-01 | セイコーインスツル株式会社 | 機械部品、機械部品の製造方法および時計 |
CH705299A2 (fr) * | 2011-07-21 | 2013-01-31 | Swatch Group Res & Dev Ltd | Ensemble fonctionnel de micromécanique. |
US9006109B2 (en) * | 2013-03-27 | 2015-04-14 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor devices and methods for manufacturing semiconductor devices |
EP3002637B1 (fr) * | 2014-09-29 | 2018-11-28 | Richemont International S.A. | Système horloger avec des propriétés tribologiques améliorées |
CH710846B1 (fr) * | 2015-03-13 | 2018-11-15 | Swatch Group Res & Dev Ltd | Pièce de micromécanique comportant un réservoir tribologique microstructuré pour une substance lubrifiante. |
EP3109199B1 (fr) * | 2015-06-25 | 2022-05-11 | Nivarox-FAR S.A. | Piece a base de silicium avec au moins un chanfrein et son procede de fabrication |
EP3109200B1 (fr) | 2015-06-25 | 2023-06-28 | Nivarox-FAR S.A. | Piece de micromecanique avec une surface de contact diminuee et son procede de fabrication |
EP3181939B1 (fr) * | 2015-12-18 | 2019-02-20 | CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement | Procede de fabrication d'un spiral d'une raideur predeterminee par ajout de matiere |
-
2018
- 2018-08-09 EP EP18188355.4A patent/EP3608727A1/fr active Pending
- 2018-08-09 CH CH00975/18A patent/CH715242A2/fr unknown
-
2019
- 2019-06-14 US US16/441,068 patent/US10981783B2/en active Active
- 2019-07-04 JP JP2019124946A patent/JP2020027105A/ja active Pending
- 2019-07-17 KR KR1020190086518A patent/KR102281705B1/ko active IP Right Grant
- 2019-08-08 CN CN201910730557.3A patent/CN110824878B/zh active Active
-
2021
- 2021-10-28 JP JP2021176163A patent/JP7245307B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1236867A (zh) * | 1993-06-19 | 1999-12-01 | 卢克摩擦片和离合器有限公司 | 转矩传递装置 |
CN1835825A (zh) * | 2003-08-19 | 2006-09-20 | 球体抛光机工具有限公司 | 用于处理表面的柔性成形片 |
CN101178124A (zh) * | 2007-12-03 | 2008-05-14 | 周林 | 高润滑低摩擦活塞 |
US20100208555A1 (en) * | 2009-02-17 | 2010-08-19 | Hiraoka Masashi | Escapement governor, mechanical watch, pallet fork (incomplete) manufacturing method, and roller manufacturing method |
CN102471888A (zh) * | 2009-07-17 | 2012-05-23 | 原子能与替代能源委员会 | 纹理化dlc涂层的方法及由此纹理化的dlc涂层 |
JP2014051741A (ja) * | 2013-10-22 | 2014-03-20 | Seiko Instruments Inc | 機械部品の製造方法および時計 |
CN203730295U (zh) * | 2014-01-14 | 2014-07-23 | 无锡双鸟科技股份有限公司 | 一种汽车空调压缩机 |
CN105036056A (zh) * | 2015-06-02 | 2015-11-11 | 湘潭大学 | 一种以单晶硅为基底具有减摩抗磨和超疏水性能的材料及制备方法 |
CN204916948U (zh) * | 2015-09-06 | 2015-12-30 | 宁夏苏宁新能源设备有限公司 | 耐磨中部槽 |
CN105485167A (zh) * | 2016-01-07 | 2016-04-13 | 燕山大学 | 一种推力轴承的轴向支承垫 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113406875A (zh) * | 2020-03-16 | 2021-09-17 | 精工时计株式会社 | 钟表零件、机芯和钟表 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH715242A2 (fr) | 2020-02-14 |
US20200048081A1 (en) | 2020-02-13 |
EP3608727A1 (fr) | 2020-02-12 |
JP7245307B2 (ja) | 2023-03-23 |
JP2020027105A (ja) | 2020-02-20 |
US10981783B2 (en) | 2021-04-20 |
JP2022009638A (ja) | 2022-01-14 |
KR102281705B1 (ko) | 2021-07-26 |
CN110824878B (zh) | 2022-01-25 |
KR20200018246A (ko) | 2020-02-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110824878B (zh) | 用于钟表的具有表面纹理结构的部件及其制造方法 | |
EP0543444B1 (en) | Die Coating | |
US8871105B2 (en) | Method for achieving smooth side walls after Bosch etch process | |
US20150309474A1 (en) | Process for manufacturing a strengthened timepiece component and corresponding timepiece component and timepiece | |
JP2007133153A (ja) | マイクロレンズ用型の製造方法 | |
CN110006347B (zh) | 刻度尺及其制造方法 | |
JP5508606B2 (ja) | 複雑な精密機械部品 | |
JP7074849B2 (ja) | 凹凸構造付き基体の製造方法 | |
JP4356515B2 (ja) | 回折光学格子の形成方法 | |
KR102340692B1 (ko) | 특히 표면 지형을 갖는 시계학을 위한 구성요소 및 상기 구성요소를 제조하기 위한 방법 | |
CN112117187A (zh) | 刻蚀方法和刻蚀系统 | |
JP7204761B2 (ja) | 微小機械時計部品 | |
RU2213650C2 (ru) | Способ восстановления зубчатых передач | |
JP4465887B2 (ja) | 成形金型の製造方法 | |
KR102414421B1 (ko) | 금형 및 그 금형의 제조 방법 | |
WO2009104585A1 (ja) | 成形型の再生方法 | |
JP2000233256A (ja) | 金型およびその製造方法 | |
JP2006018097A (ja) | 微細格子作製方法 | |
KR20050097708A (ko) | 커프 형성용 블레이드 | |
JP2009266869A (ja) | シリコン構造体の製造方法 | |
KR20160116237A (ko) | 반사 방지 필름 제조 방법 | |
JPS59136481A (ja) | 無端金属ベルトの内周面加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
REG | Reference to a national code |
Ref country code: HK Ref legal event code: DE Ref document number: 40021403 Country of ref document: HK |
|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |