JP7238546B2 - 圧電体積層シートおよび圧電体積層シートの製造方法、圧電センサーおよび圧電センサーの製造方法 - Google Patents

圧電体積層シートおよび圧電体積層シートの製造方法、圧電センサーおよび圧電センサーの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、圧電体積層シートとそれを用いた圧電センサー、およびそれらの製造方法に関するものである。
有機圧電材料は、低誘電率かつ高い圧電定数を有しており、またインク化が可能で塗布/印刷により形成が可能であること、化学的な安定性や柔軟性を有しているなどの特徴から、可撓性を持つ圧力センサーや振動センサー、エネルギーハーベスト素子、アクチュエーターなどへの応用が検討されている。
有機圧電材料としては、フッ素系の高分子半導体材料であるポリフルオロビニリデン(PVDF)が良く知られており、これにトリフルオロエチレン(TrFE)を共重合させたポリフルオロビニリデン-トリフルオロエチレン共重合体(P(VDF-TrFE))が特に良く知られている。またその他にもポリ乳酸やポリアミノ酸などがある。
これらの有機圧電材料をフィルム状および薄膜(有機圧電体層)として電極に挟むことで、圧力や振動、熱、赤外線などに反応するセンサー(有機圧電素子)に応用する検討が進められている(非特許文献1)。また、このような有機圧電素子を薄膜トランジスタなどの回路と接続することで、高感度なセンサー素子を作製することが可能になるという報告もある(非特許文献2)。また、有機圧電体層を有する感圧素子については特許文献1に開示がある。
特開2017-219336号公報
S.Hannah,A.Davidson,I.Glesk,D.Uttamchandani,R.Dahiya,"Multifunctional Sensor based on organic field-effect transistor and ferroelectric poly(vinylidene fluoride trifluoroethylene)"Organic Electronics,56,170-171(2018). Y.Tsuji,H.Sakai,L.Feng,X.Guo,H.Murata,"Dual-gate low-voltage organic transistor for puressure sensing",Applied Physics Express,10,021601(2017).
有機圧電材料の圧電効果を得るためには分子内の双極子の向きを揃えて自発分極が発生した状態である必要がある。そのため、ポーリング処理(分極処理)と呼ばれる処理により、双極子の向きを揃える処理が実施される。
このようなポーリング処理による自発分極の発生には、数kV/mmの高い電界を印加する必要がある。したがって、有機圧電材料をセンサーとして制御用回路や薄膜トランジスタと組み合わせた後にポーリング処理を実施すると、回路を破壊する恐れがある。
本発明は、これらの点を鑑みてなされたものであり、容易に圧電センサー素子を作製可能な圧電体積層シートとその製造方法を提供すること、および圧電体積層シートを用いたセンサー素子とその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための本発明の一局面は、第1の導電層と、該第1の導電層に接触している圧電体層と、粘着層と、剥離層と第2の導電層とを少なくとも有しており、粘着層は導電性を有し、該剥離層および該第2の導電層は粘着層から剥離可能な圧電体積層物であることを特徴とする圧電体積層シートである。
また、粘着層は導電性を有していてもよい。
また、圧電体層が自発分極を有していてもよい。
また、圧電体層が有機圧電材料であってもよい。
また、圧電体層が有機エレクトレット材料であってもよい。
また、本発明の他の局面は、第1の導電層、圧電体層、粘着層、剥離層および第2の導電層がこの順に積層された積層物を形成する工程と、第1の導電層と第2の導電層間に電界を印加して圧電体層の分極処理を実施する工程とを含む圧電体積層シートの製造方法である。
また、本発明の他の局面は、圧電センサーであり、第1の導電層と、該第1の導電層に接触している圧電体層と、粘着層と、該粘着層と接触するように貼り合わせられたセンサー電極層とを少なくとも有していてもよい。
また、上述の圧電センサーの粘着層が導電性を有していてもよい。
また、本発明の他の局面は、製造した圧電体積層シートの剥離層および第2の導電層を粘着層から剥離する工程と、第2の導電層を剥離した圧電体積層シートをセンサー基板の電極に貼り付ける工程とを含む圧電センサーの製造方法である。
本発明によれば、予め圧電性を付与された圧電体積層シートをセンサー回路基板に粘着層により貼り付けることで、容易に圧電センサー素子を作製可能な圧電体積層シートとその製造方法、および圧電体積層シートを用いたセンサー素子とその製造方法を提供することが可能となる。
本発明の第1の実施の形態に係る圧電体積層シートの概略断面図 本発明の第2の実施の形態に係る圧電体積層シートの概略断面図 本発明の第3の実施の形態に係る圧電体積層シートの概略断面図 本発明の第4の実施の形態に係る圧電体積層シートの概略断面図 本発明の薄膜トランジスタを用いた圧電センサーの概略断面図 本発明の薄膜トランジスタを用いた圧電センサーの概略断面図 本発明の比較例に係る薄膜トランジスタを用いた圧電センサーの概略断面図
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ、説明する。なお各実施の形態において、同一または対応する構成要素については同一の符号を付け、実施の形態の間において重複する説明は省略する。
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る圧電体積層シート100を示す概略断面図である。図2は本発明の第2の実施の形態に係る圧電体積層シート101を示す概略断面図である。図3は本発明の第3の実施の形態に係る圧電体積層シート102を示す概略断面図である。図4は本発明の第4の実施の形態に係る圧電体積層シート103を示す概略断面図である。
圧電体積層シート100、101、102、103は、第1の導電層1と、圧電体層2と、粘着層3と、剥離層4と、第2の導電層5とを少なくとも備えている。
図1に示すように、圧電体積層シート100は、第1の基板6上に、第1の導電層1と、圧電体層2が形成されており、圧電体層2上に粘着層3、剥離層4、第2の導電層5、第2の基材7が形成されている。
図2に示すように、圧電体積層シート101は、第1の基板6上に、第1の導電層1と、圧電体層2が形成されており、圧電体層2上に粘着層3、剥離層4、第2の導電層5が形成されている。
図3に示すように、圧電体積層シート102は、第1の導電層1と、圧電体層2が形成されており、圧電体層2上に粘着層3、剥離層4、第2の導電層5が形成されている。
本発明の実施の形態に係る圧電体積層シートは、圧電体層2上に粘着層3が形成されており、その上に剥離層4、第2の導電層5が形成されている。圧電体層2は第1の導電層1と第2の導電層5に挟まれており、第1の導電層1および第2の導電層5の間に電界を印加することにより、圧電体層2の分極処理を実施することができる。
また、粘着層3と第2の導電層5の間に剥離層4を設けることにより、粘着層3から第2の導電層5を容易に剥離することができる。したがって、本発明の圧電体積層シートを用いて圧電センサーを作製する際には、圧電体積層シートから第2の導電層5を剥離し、電子回路などの形成された圧電センサー基板の電極上に粘着層3により圧電体層2を容易に貼付することが可能である。また、第1の導電層1については、圧電センサーの共通電極としてそのまま用いることもできる。なお、圧電体積層シートは剥離層4および第2の導電層5を剥離する前に、第1の導電層1と第2の導電層5を用いて、圧電体層2の圧電特性を検査することが可能であり、圧電センサーを作製前に検査を行い、不良品を除くことにより、圧電センサー作製の歩留まりを向上させることが可能である。
本発明の圧電体積層シートには、図1に示すように、第1の基材6および第2の基材7を設けても良い。圧電体積層シート100と圧電体積層シート101との相違点は、第2の導電層2を第2の基材5上に形成するか、第2の導電層2自体を基材として利用するかの違いである。また、圧電体積層シート102は、第1の導電層1および第2の導電層5をそれぞれ圧電体積層シートの基材として用いている。
さらに、本発明の圧電体積層シートを用いて、圧電センサーとする際には、図示しないセンサー回路などを設けることにより圧力センサー、赤外線センサー、生体センサーなどの電子装置とすることができるが、作製する電子装置の種類により、これらの構造は適宜変更することができる。
以下、圧電体積層シート100、圧電体積層シート101および圧電体積層シート102の各構成要素について、圧電体積層シート100の製造方法を例にして説明する。
初めに、第1の導電層1を形成する。第1の導電層は、第1の基材6の上に形成しても良いし、第1の導電層自体を基材として用いても良い。第1の基材6上に第1の導電層1を形成する場合は、第1の基材6の材料としては、ポリカーボネート、ポリエチレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、シクロオレフィンポリマー、トリアセチルセルロース、ポリビニルフルオライドフィルム、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合樹脂、耐候性ポリエチレンテレフタレート、耐候性ポリプロピレン、ガラス繊維強化アクリル樹脂フィルム、ガラス繊維強化ポリカーボネート、ポリイミド、フッ素系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ガラス、石英ガラスなどを使用することができる。第1の基材6は、これらに限定されるものではないが、可撓性を有する材料を用いることが好ましい。また、これらは単独で使用してもよいが、2種以上を積層した複合材料として使用することもできる。
第1の基材6が有機物フィルムである場合は、圧電体積層シートの耐久性を向上させるために透明のガスバリア層(図示せず)を形成することもできる。ガスバリア層の材料としては酸化アルミニウム(Al)、酸化珪素(SiO)、窒化珪素(SiN)、酸化窒化珪素(SiON)、炭化珪素(SiC)およびダイヤモンドライクカーボン(DLC)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、これらのガスバリア層は2層以上積層して使用することもできる。ガスバリア層は有機物フィルムを用いた第1の基材6の片面だけに形成してもよいし、両面に形成しても構わない。ガスバリア層は真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、レーザーアブレーション法、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法、ホットワイヤーCVD法およびゾル-ゲル法などを用いて形成することができるが本発明ではこれらに限定されるものではない。また、第1の基材6と第1の導電層1との密着性を向上させるために、第1の基材6上に高密着層を設けたり、プラズマ処理やコロナ処理により密着性を向上させたりすることも可能である。
第1の導電層1の材料には、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、チタン(Ti)、タングステン(W)、マンガン(Mn)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)などの金属材料や、酸化インジウム(InO)、酸化スズ(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)などの導電性金属酸化物材料を用いることができるが、これらに限定されるものではない。これらの材料は単層で用いても構わないし、積層および合金として用いても構わない。
第1の導電層1の形成には、真空蒸着法、スパッタ法などの真空成膜法や、導電性材料の前駆体などを使用するゾル-ゲル法やナノ粒子を使用する方法、それらをインク化して、スクリーン印刷、凸版印刷、インクジェット法などのウェット成膜法で形成する方法などが使用できるが、これらに限定されず、公知一般の方法を用いることができる。
また、第1の導電層1自体を基材として用いる場合には、アルミニウム箔、銅箔、ステンレス箔のような材料を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
次に、第1の導電層1上に圧電体層2を形成する。圧電体層2の材料には、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)やポリフッ化ビニリデントリフルオロエチレン共重合体(P(VDF-TrFE))、ポリ乳酸、ポリアミノ酸などの圧電有機高分子材料やチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸バリウム(BTO)、チタン酸鉛(PTO)などの圧電セラミックス材料、さらにこれらの圧電セラミックスの微粒子を有機高分子材料などに分散させたものや、多孔質ポリプロピレンやフッ素樹脂に電荷をトラップさせた有機エレクトレット材料などを使用することができるが、これらに限定されるものではない。
特に圧電センサー素子を可撓性のものとして使用する際には、圧電体層2の材料に可撓性の高い圧電性有機高分子材料や、圧電セラミックスを有機材料に分散させたもの、または有機エレクトレット材料が好適に用いられる。
圧電体層2は、圧電有機高分子材料やエレクトレット材料のもととなる有機高分子材料を溶媒に溶解させたインクや圧電セラミックスの微粒子を分散させたインクなどを塗布して形成しても良いし、圧電高分子材料やエレクトレット材料を押出法や延伸法によりフィルム化したものを用いることもできる。延伸法については、一軸延伸法により分子鎖を配向制御させたものも好適に用いられる。また、圧電セラミックス材料によって圧電体層2を形成する場合については、スパッタリング法のような真空成膜法やゾル-ゲル法などのウェット成膜法を用いることが可能であるが、この限りではない。
圧電体層2の膜厚については特に指定は無いが、圧電有機高分子材料のインクとして塗布する場合は、2μm~40μm程度の膜厚で成膜することがこのましい。また、圧電セラミックス材料を用いる場合は、100nm~5μm程度が好ましい。
圧電体層2は分極処理が行われることにより、圧電性が付与される。分極処理の方法については、圧電体層2に電界を印加する方法や、圧電体層2の材料がエレクトレット材料の場合はコロナ処理などにより、電荷をトラップさせる方法などを用いることができる。
次に粘着層3を形成する。粘着層3については、加熱活性型接着剤または感圧型接着剤を用いることができる。それらの材料としては、ゴム系、アクリル系、シリコーン系およびウレタン系などのエラストマー材料であり、それぞれ添加剤が導入され、その粘着性を適宜調整されたものを使用することが可能である。また、粘着層3については、導電性を付与したものも好適に用いることができる。例えば、金属の微粒子やカーボン微粒子、カーボンファイバー、導電性高分子などを粘着層3に添加することにより導電性の粘着層3とすることができる。
圧電体層2と粘着層3の接合については、圧電体層2上に粘着層3の材料を塗布しても良いし、予め粘着層3および剥離層4を形成した第2の導電層5を貼り合せて形成しても良い。
本発明の剥離層4は、粘着層3から第2の導電層5を剥離するために設けられるものであり、シリコーン系材料および非シリコーン系材料などの公知一般のものを使用することが可能である。
剥離層4は第2の導電層5上に上述の剥離剤を塗布することにより形成することが可能であるが、公知一般の方法により形成することができる。
第2の導電層5は、第2の基材7の上に形成しても良いし、第2の導電層5自体を基材として用いても良い。第2の基材7上に第2の導電層5を形成する場合は、第1の基材6上に第1の導電層1を形成する場合と同様の材料および手法を用いることができる。
また、第2の導電層5自体を基材として用いる場合には、第1の導電層1を基材として用いる場合と同様に、アルミニウム箔、銅箔、ステンレス箔のような材料を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
上述のように作製した本発明の実施の形態に係る圧電体積層シートは、第1の導電層1および第2の導電層5の間に電界を印加することにより圧電体層2を分極処理することが可能である。
分極処理としては、第1の導電層1および第2の導電層5間に、100V/μm程度の電界を印加することで、分極処理を行うことが可能である。また電界は直流電源を用いて実施しても良いし、交流電源を用いても良い。
分極処理の確認方法としては、ソーヤ・タワー回路を用いて、第1の導電層1および第2の導電層5間に電界を印加し、ヒステリシス曲線を観察することで、抗電界(EC)および残留分極(Pr)を測定する方法がある。また、ヒステリシス曲線は、分極処理と同時に測定することも可能である。
また、本発明の圧電体積層シートは、図4に示すように、第1の導電層1上に第2の剥離層8および第2の粘着層9を設ける圧電体積層シート103のような構成としても良い。
圧電体積層シート103のように、圧電体層2の両面にそれぞれ設置される粘着層3および粘着層9から第1の導電層1および第2の導電層5を剥離可能な構成とすることで、圧電センサー作製において、まず片面の導電層を剥離して、圧電センサー回路基板に貼り付けた後、もう一方の導電層を剥離して別の回路基板もしくは電極付き基板と貼り合せることが可能となるため、より複雑な構成の圧電センサーであっても容易に形成することが可能となる。
本発明の圧電体積層シートは、圧電体層2から出力される信号を検出する回路に接続することで、印加された圧力、振動、曲げ、赤外線などを検出することが可能であり、特に薄膜トランジスタを用いてアクティブ型のセンサー素子とすることで、大面積かつ高感度での検出が可能となる。
また、本発明の圧電センサーを、可撓性を有するフレキシブル圧電センサーとするためには、薄膜トランジスタも可撓性を有するフレキシブル薄膜トランジスタを用いることが好ましい。この点において、フレキシブル薄膜トランジスタとしては、高い可撓性を有する有機半導体材料を用いたフレキシブル有機薄膜トランジスタが好適に用いられる。
本発明の実施の形態における圧電センサーについて、圧電体積層シートと薄膜トランジスタを組み合わせた例について図面を参照しつつ、説明する。
図5は本発明の圧電体積層シート100と薄膜トランジスタとを組み合わせて作製した圧電センサー200である。また、図6は本発明の圧電体積層シート100と薄膜トランジスタを組み合わせて作製した圧電センサー201である。図5と図6の相違点は、圧電体積層シートと接続される薄膜トランジスタの電極が異なる点である。
本発明の圧電センサーは、ゲート電圧に任意の電圧を印加して薄膜トランジスタの半導体層からなるチャンネル部位の導電性を調整して用いる。したがって、本発明の圧電センサーにおける薄膜トランジスタの構造は、ボトムゲート構造であることが好ましい。
本発明の薄膜トランジスタの基材21は、ポリカーボネート、ポリエチレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、シクロオレフィンポリマー、トリアセチルセルロース、ポリビニルフルオライドフィルム、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合樹脂、耐候性ポリエチレンテレフタレート、耐候性ポリプロピレン、ガラス繊維強化アクリル樹脂フィルム、ガラス繊維強化ポリカーボネート、ポリイミド、フッ素系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ガラス、石英ガラスなどを使用することができるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で使用してもよいが、2種以上を積層して基板21として使用することもできる。本発明の圧電センサーをフレキシブルセンサーとして利用する場合は、薄膜トランジスタの基材21には可撓性を有する基材を用いることが好ましい。
基板21が有機物フィルムである場合は、有機薄膜トランジスタ100、101の耐久性を向上させるために透明のガスバリア層(図示せず)を形成することもできる。ガスバリア層の材料としては酸化アルミニウム(Al)、酸化珪素(SiO)、窒化珪素(SiN)、酸化窒化珪素(SiON)、炭化珪素(SiC)およびダイヤモンドライクカーボン(DLC)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、これらのガスバリア層は2層以上積層して使用することもできる。ガスバリア層は有機物フィルムを用いた基板1の片面だけに形成してもよいし、両面に形成しても構わない。ガスバリア層は真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、レーザーアブレーション法、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法、ホットワイヤーCVD法およびゾル-ゲル法などを用いて形成することができるが本発明ではこれらに限定されるものではない。
次に、基板21上に、ゲート電極22を形成する。ゲート電極22、ソース電極24、ドレイン電極25は、電極部分と配線部分とが明確に分かれている必要はなく、以下では特に各薄膜トランジスタの構成要素として電極と呼称している。
ゲート電極22には、金(Au)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、チタン(Ti)、タングステン(W)、マンガン(Mn)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)などの金属材料や、酸化インジウム(InO)、酸化スズ(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)などの導電性金属酸化物材料を用いることができるが、これらに限定されるものではない。これらの材料は単層で用いても構わないし、積層および合金として用いても構わない。
ゲート電極22の形成には、真空蒸着法、スパッタ法などの真空成膜法や、導電性材料の前駆体などを使用するゾル-ゲル法やナノ粒子を使用する方法、それらをインク化して、スクリーン印刷、凸版印刷、インクジェット法などのウェット成膜法で形成する方法などが使用できるが、これらに限定されず、公知一般の方法を用いることができる。パターニングは、例えばフォトリソグラフィ法を用いてパターン形成部分をレジストなどにより保護し、エッチングによって不要部分を除去して行うこともできるし、印刷法などを用いて直接パターニングすることもできるが、これについてもこれらの方法に限定されず、公知一般のパターニング方法を用いることができる。
次に、ゲート電極22上にゲート絶縁層23を形成する。ゲート絶縁層23は、ゲート電極22と、ソース電極24およびドレイン電極25などの電極とを電気的に絶縁するために、少なくともゲート電極22上に設けられるが、ゲート電極22の外部およびその他の電極との接続に使用される配線部を除いて基板21上の全面に設けても良い。
ゲート絶縁層23には、酸化珪素(SiO)、酸化アルミニウム(AlO)、酸化タンタル(TaO)、酸化イットリウム(YO)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化ハフニウム(HfO)などの酸化物系絶縁材料や窒化珪素(SiN)、酸化窒化珪素(SiON)や、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のポリアクリレート、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルフェノール(PVP)などの有機系絶縁材料などを使用することができるが、これらに限定されるものではない。これらは単層または2層以上積層してもよいし、無機系-有機系のハイブリッド薄膜としても良いし、成長方向に向けて組成を傾斜したものでも構わない。また、ゲート絶縁層23の表面に自己組織化単分子膜などによる表面処理を施し、ゲート絶縁層23の表面エネルギーを制御することもできる。
ゲート絶縁層23は、有機薄膜トランジスタにおけるリーク電流を抑えるために、その抵抗率が1011Ωcm以上、より好ましくは1014Ωcm以上であることが望ましい。
次に、ソース電極24およびドレイン電極25を形成する。ソース電極24およびドレイン電極25は、それぞれ離間して形成されており、ソース電極24とドレイン電極25とはそれぞれ別の工程および別の材料で形成しても良いが、ゲート絶縁層23上の同層に形成される場合には、ソース電極24およびドレイン電極25を同時に形成することが好ましい。
ソース電極24およびドレイン電極25には、ゲート電極22と同様の材料および形成方法を使用することができるが、半導体層26との接触抵抗を鑑みて、その仕事関数が半導体層26のHOMOレベルと同程度であることが好ましい。なおソース電極24およびドレイン電極25の仕事関数は表面処理などを利用して適宜調整することが可能である。
ソース電極24およびドレイン電極25の仕事関数の測定については、紫外光電子分光法(UPS)や大気中光電子分光法など公知一般の方法を用いることが可能であるが、本発明の実施の形態にかかるパターニング済のソース電極24およびドレイン電極25はパターンサイズが小さく、仕事関数を直接測定することが困難な場合があるため、その際は別途同様の構成を有する測定用基板を用いて測定を実施し、その代替とすることができる。
次に、ソース電極24およびドレイン電極25を接続するように、ソース電極24とドレイン電極25との間に半導体層26が形成される。ソース電極24およびドレイン電極25を半導体層26で接続し、有機薄膜トランジスタとして機能する半導体層26の領域をチャンネル領域と呼称することが一般的であり、本発明においてもこのような名称を使用することがある。
半導体層26には、ペンタセン、およびそれらの誘導体のような低分子半導体やポリチオフェン、ポリアリルアミン、フルオレンビチオフェン共重合体、およびそれらの誘導体のような高分子有機半導体材料などを用いることがきるが、これらに限定されるものではない。
半導体層26は、有機半導体材料を溶解または分散させた溶液をインクとして用いる凸版印刷、スクリーン印刷、インクジェット法、ノズルプリンティングなどのウェット成膜方法で形成することもできるし、有機半導体材料の粉末や結晶を真空状態で蒸着する方法などで形成することもできる。半導体層26は、これらに限定されるものではなく、公知一般の方法を使用することも可能である。
有機薄膜トランジスタの素子特性を外界の影響から保護し良好に保つために、半導体層26上には、半導体保護層27を形成することができる。
半導体保護層27は、薄膜トランジスタ素子の動作に影響を及ぼさないよう前記ゲート絶縁層23で示したような絶縁性の材料を用いて形成することが好ましい。具体的には、その抵抗率が1011Ωcm以上、より好ましくは1014Ωcm以上であることが望ましい。
さらに、ソース電極24およびドレイン電極25、半導体層26、または半導体保護層27上には、層間絶縁膜28を設けることができる。層間絶縁膜28は後に設ける上部電極29とソース電極24またはドレイン電極25との絶縁のために設けることができる。したがって、その抵抗率は、1011Ωcm以上、より好ましくは1014Ωcm以上であることが望ましい。
なお、図6のように上部電極29とドレイン電極25を接続する構成の場合には、ドレイン電極25上の層間絶縁膜28にスルーホール35を設けて導通を取ることが可能である。
圧電体層2の電荷の状態変化を半導体層26に及ぼすための上部電極29は層間絶縁膜28上に形成することができる。上部電極29はゲート電極22と同様の材料および形成方法によって形成することが可能である。
上部電極29はドレイン電極25と接続させても良く、圧電センサーの用途およびその構成によって適宜選択することが可能である。
本発明の圧電体積層シート100と薄膜トランジスタは、圧電体積層シート100の第2の導電層5および剥離層4の形成された第2の基材7を剥離して取り除き、圧電体積層シートの粘着層3と薄膜トランジスタの上部電極29が接するように貼り合わせることで、圧電センサーを作製することができる。
圧電体積層シートと薄膜トランジスタは、ローラー等を用いてラミネートして貼り合わせても良いし、互いに平板に配置してからプレスするように貼り合わせても良い。貼り合せについては大気中で実施することも可能であるが、外気の影響を排除するために不活性雰囲気または減圧下で実施することも可能である。また、加熱しながら貼り合わせることで、より良好に貼合することが可能である。
さらに貼合後の圧電センサーを外部の影響から保護するために、その端部を封止剤を用いて封止しても良いし、その片面もしくは両面にバリアフィルムを貼り付けて保護しても良い。
(実施例1)
実施例1として、図1に示す圧電体積層シート100を作製した。
第1の導電層1を積層した第1の基材6として、アルミニウムを成膜したポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムを使用した。PENフィルムの厚みは50μmであり、アルミニウムは蒸着法により約100nmの厚みで成膜した。
第1の導電層1上に、圧電体層2としてポリフッ化ビニリデントリフルオロエチレン共重合体(P(VDF-TrFE))をシクロペンタノンに濃度15wt%で溶解させたインクをバーコート法により成膜した。その後、120℃に加熱したオーブンで3時間焼成した。焼成後の圧電体層2の膜厚は約20μmとした。
さらに圧電体層2上にアクリル系の粘着剤を塗布、乾燥し、粘着層3を形成した。
第2の導電層5を積層した第2の基材7として、アルミニウムを成膜したポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。PETフィルムの厚みは50μmであり、アルミニウムは蒸着法により約100nmの厚みで成膜した。
第2の導電層5上にシリコーン樹脂からなる離型剤を含有するインクを塗布・乾燥して剥離層4を形成した。
その後、第1の導電層1、圧電体層2、粘着層3の形成された第1の基材6と第2の導電層5と剥離層4の形成された第2の基材7をラミネートして接合した。
さらに第1の導電層1と第2の導電層5の間に約100V/μmの電界、すなわち2kVの電圧を印加して圧電体層2の分極処理を実施して本発明の第1の実施の形態に係る圧電体積層シート100を形成した。
(実施例2)
(圧電センサーの作製)
本発明の圧電センサー200を作製するために、薄膜トランジスタを作製した。基材21にはポリイミドを用いた。具体的には、0.7mmの無アルカリガラスを支持基材として、ポリイミドワニスを塗布し、乾燥、焼成を行い、支持基材上にポリイミドからなる基材21を形成した。基材21の膜厚は20μmとした。
基材21上に、DCマグネトロンスパッタ法を用いてアルミニウム-ネオジウム(0.2at%)合金(Al-Nd)を100nmの膜厚で成膜し、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングを行った。具体的には、成膜したAl-Nd合金に感光性ポジ型フォトレジストを塗布後、マスク露光、アルカリ現像液による現像を行い、所望の形状のレジストパターンを形成した。さらにエッチング液によりエッチングを行い、不要なAl-Nd合金を溶解させた。その後、レジスト剥離液によりフォトレジストを除去し、所望の形状のゲート電極22を形成した(以下、このようなパターニング方法をフォトリソグラフィ法として省略する)。
ゲート電極22を形成した基材21上に、スリットコート法を用いて光硬化性アクリル樹脂を塗布し、マスク露光、アルカリ現像液による現像を行い、その後150℃で焼成し、ゲート絶縁層23を形成した。焼成後におけるゲート絶縁層23の膜厚は、1μmとした。
ゲート絶縁層23を形成した基材21上に、インクジェット法により、Agナノ粒子インクを所望の形状になるよう滴下し、150℃で焼成し、ソース電極24およびドレイン電極25を形成した。ソース電極24およびドレイン電極25の膜厚は約100nmである。
その後、ソース電極24およびドレイン電極25を形成した基材21を濃度1mmol/Lに調整したペンタフルオロベンゼンチオールのイソプロピルアルコール(IPA)溶液に浸漬した後、IPAで洗浄し、ソース電極24およびドレイン電極25上に自己集積化膜による表面処理を行った。
続いて、ソース電極24およびドレイン電極25を形成した基材21に、有機半導体材料として6,13-ビス(トリイソプロピルシリルエチニル)ペンタセン(TIPS-ペンタセン)を濃度0.1wt%で溶解させたメシチレン溶液をインクジェット法により塗布、パターニングし、半導体層26を形成した。
さらに、半導体層26を覆うように、フッ素樹脂材料Cytop(AGC製)を塗布し、半導体保護層27を形成した。
その後、感光性アクリル樹脂を用いてゲート絶縁層23と同様に層間絶縁層28を形成した後に上部電極29をゲート電極22と同様の方法で形成し、本発明の実施の形態に係る薄膜トランジスタを作製した。
圧電体積層シート100と薄膜トランジスタを貼合するため、第2の導電層5および剥離層4の形成された第2の基材7を剥離した。第2の基材7を剥離した圧電体積層シートを薄膜トランジスタにラミネートロールを80℃に加熱したラミネーターを用いて貼合し、本発明の実施の形態に係る圧電センサー200を作製した。なお、圧電センサー200においては、圧電体積層シートの第1の導電層1は、上部電極29に対応する対向電極として機能する。
(比較例)
比較例として、図7に示す圧電センサー300を作製した。
本発明の比較例に係る圧電センサー300に用いる薄膜トランジスタは、上部電極29までは、実施例2と同様の方法で作製した。
その後、上部電極29上に圧電体層30としてポリフッ化ビニリデントリフルオロエチレン共重合体(P(VDF-TrFE))をシクロペンタノンに濃度15wt%で溶解させたインクをバーコート法により成膜した。その後、120℃に加熱したオーブンで3時間焼成した。焼成後の圧電体層2の膜厚は約20μmとした。
さらに圧電体層30上にDCマグネトロンスパッタによりAl-Nd合金を成膜し、対向電極31を形成した。
現時点において、圧電センサー300の圧電体層30は分極処理がなされていないため、圧電センサーとして機能するためには圧電体層30が自発分極を有する状態になるよう分極処理を施す必要がある。
圧電体層30に100V/μm相当の電界をかけるために、上部電極29および対向電極31に2kVの直流電圧を印加した。
以上の工程により実施例1に係る圧電体積層シートと実施例2および比較例に係る有機薄膜トランジスタを用いた圧電センサーを作製した。
実施例1に係る圧電体積層シート100においては、その作製工程中に圧電体層2の分極処理を行うことで、粘着層3を用いて薄膜トランジスタに貼り付けるだけで圧電センサーとして利用可能な状態となっている。
また、実施例2に係る圧電センサー200は、薄膜トランジスタに実施例1の圧電体積層シートを貼り付けて作製しており、貼付後の分極処理の必要はない。
一方、比較例に係る圧電センサー300は、圧電体積層シートを使用せずに、薄膜トランジスタ上に圧電体層30を直接形成し、分極処理を実施した点が実施例2の圧電センサー200との相違点である。
圧電センサー200と圧電センサー300を比較したところ、比較例に係る圧電センサー300においては、圧電センサー上に圧力を印加したところ、薄膜トランジスタの特性の十分な変化が観察されず、薄膜トランジスタが正常な動作を示さなかった。これは比較例に係る圧電センサーの圧電体層の分極処理時に大きな電圧が薄膜トランジスタに印加されたため、素子が破壊されたためである。一方、圧電センサー200においては、圧電センサー上に圧力を印加したところ、薄膜トランジスタの特性の変化が観察された。具体的には、圧力を印加することにより、薄膜トランジスタの電流伝達特性におけるしきい値がシフトし、所定のゲート電流におけるドレイン電流値の変化が観察された。したがって、本発明の実施例1に係る圧電体積層シート100を用いて作製した実施例2の圧電センサー200が動作することを確認した。
本発明の圧電体積層シートを用いることにより、分極処理の電圧によって圧電センサーの回路を破壊することなく、圧電体積層シートをセンサー回路の電極に貼り付けるだけで容易に圧電センサーとすることが可能となる。さらに本発明の圧電体積層シートは粘着層3を有しておりセンサー回路と圧電体層2を確実に接合することが可能であり、圧電体層2とトランジスタを静電気力のみで固定する場合(特許文献1)と比較して作製途中で剥離することが無く、歩留まり良く圧電センサーを形成することが可能である。
さらに本発明の圧電体積層シートは、圧電体層2を塗布およびラミネートを用いて作製可能であるため、生産性の高いロール・ツー・ロールでの作製も可能である。また、分極処理を施した後でもそのまま保管することが可能であり、圧電センサー作製時に、必要な分だけ所望のサイズに切り出して使用することができ、様々なサイズの圧電センサーに対応可能で利用効率が高いと言える。
1 第1の導電層
2 圧電体層
3 粘着層
4 剥離層
5 第2の導電層
6 第1の基材
7 第2の基材
8 第2の剥離層
9 第2の粘着層

Claims (6)

  1. 第1の導電層と、該第1の導電層に接触している圧電体層と、粘着層と、剥離層と、第2の導電層とを少なくとも有しており、
    前記粘着層は導電性を有し、
    前記剥離層および前記第2の導電層が前記粘着層から剥離可能な圧電体積層物であることを特徴とする圧電体積層シート。
  2. 前記圧電体層が自発分極を有することを特徴とする請求項1に記載の圧電体積層シート。
  3. 前記圧電体層が有機高分子材料であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の圧電体積層シート。
  4. 前記圧電体層が有機エレクトレット材料であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の圧電体積層シート。
  5. 第1の導電層、圧電体層、導電性を有する粘着層、剥離層、および第2の導電層がこの順に積層された積層物を形成する工程と、前記第1の導電層と前記第2の導電層間に電界を印加して前記圧電体層の分極処理を実施する工程とを含む圧電体積層シートの製造方法。
  6. 請求項に記載の製造方法により圧電体積層シートを製造する工程と、
    製造した圧電体積層シートの前記剥離層および第2の導電層を前記粘着層から剥離する工程と、
    前記第2の導電層を剥離した前記圧電体積層シートをセンサー基板の電極に貼り付ける工程とを含む圧電センサーの製造方法。
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