JP7214300B2 - 遷移金属化合物、触媒組成物およびそれを用いたポリプロピレンの製造方法 - Google Patents
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関連出願との相互引用
本出願は、２０１９年３月１３日付韓国特許出願第１０－２０１９－００２８８６６号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。
本出願は、２０１９年３月１３日付韓国特許出願第１０－２０１９－００２８８６６号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、新規の遷移金属化合物、触媒組成物、およびそれを用いたポリプロピレンの製造方法に関する。
オレフィン重合触媒系はチーグラーナッタおよびメタロセン触媒系に分類することができる。この二つの高活性触媒系はそれぞれの特徴に合わせて発展してきた。
チーグラーナッタ触媒は５０年代に発明されて以来既存の商業プロセスに広く適用されてきたが、活性点がいくつか混在するマルチサイト触媒（ｍｕｌｔｉ－ｓｉｔｅ ｃａｔａｌｙｓｔ）であるため、重合体の分子量分布が広いことが特徴であり、共単量体の組成分布が均一でなく、所望する物性確保に限界がある問題がある。
一方、メタロセン触媒は遷移金属化合物が主成分である主触媒とアルミニウムが主成分である有機金属化合物である助触媒の組み合わせからなる。このような触媒は均一系錯体触媒としてシングルサイト触媒（ｓｉｎｇｌｅ ｓｉｔｅ ｃａｔａｌｙｓｔ）の特性を示すが、シングルサイト特性により分子量分布が狭く、共単量体の組成分布が均一な高分子が得られ、触媒のリガンド構造変形および重合条件の変更によって高分子の立体規則度、共重合特性、分子量、結晶化度などを変化させ得る特性を有している。
最近、環境に関する認識変化により多くの製品群において揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の発生減少を追求している。しかし、ポリプロピレン（Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）の製造に使用されるチーグラ－ナッタ触媒（Ｚ／Ｎ、ｚｉｅｇｌｅｒ－ｎａｔｔａ）の場合、高いＴＶＯＣ（ｔｏｔａｌ ＶＯＣ）を発生させる問題があった。特に、商用化された多様なポリプロピレンの場合はチーグラ－ナッタ触媒を適用した製品が主流をなしているが最近の臭いが少なく低溶出特性を示すメタロセン触媒を適用した製品への転換が加速化されている。
そこでメタロセン系触媒を利用して優れた物性を有するポリプロピレンを製造できる方法の開発が求められる。
本発明は、プロピレン重合に優れた触媒活性と共に高い水素反応性を示し、狭い分子量分布および低い溶融点を有するポリプロピレン製造に有用な新規遷移金属化合物を提供する。
また、本発明は前記遷移金属化合物を含む触媒組成物を提供する。
また、本発明は前記触媒組成物を利用したポリプロピレンの製造方法を提供する。
本発明は、下記化学式１で表される、遷移金属化合物を提供する。
前記化学式１において、
Ｍは４族遷移金属であり、
Ｘ１およびＸ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲンであり、
Ｒ１およびＲ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキル、Ｃ２～２０アルケニル、Ｃ２～２０アルコキシアルキル、Ｃ６～２０アリール、Ｃ７～４０アルキルアリール、またはＣ７～４０アリールアルキルであり、
Ｒ３～Ｒ６は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキルであり、
Ｒ７は水素、Ｃ１～２０アルキル、およびＣ１～２０アルキルシリルからなる群より選ばれた一つ以上の官能基で置換されたＣ６～２０アリールであり、
Ｒ８およびＲ９は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキルである。
Ｍは４族遷移金属であり、
Ｘ１およびＸ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲンであり、
Ｒ１およびＲ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキル、Ｃ２～２０アルケニル、Ｃ２～２０アルコキシアルキル、Ｃ６～２０アリール、Ｃ７～４０アルキルアリール、またはＣ７～４０アリールアルキルであり、
Ｒ３～Ｒ６は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキルであり、
Ｒ７は水素、Ｃ１～２０アルキル、およびＣ１～２０アルキルシリルからなる群より選ばれた一つ以上の官能基で置換されたＣ６～２０アリールであり、
Ｒ８およびＲ９は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキルである。
この時、前記化学式１において、Ｍはジルコニウム（Ｚｒ）またはハフニウム（Ｈｆ）であることが好ましい。
そして、前記化学式１において、Ｒ１およびＲ２はそれぞれＣ１～８直鎖または分枝鎖アルキル、またはＣ２～１２直鎖または分枝鎖アルコキシアルキルであり得、具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ－ブチル、ヘキシル、またはｔ－ブトキシヘキシルであり得る。
そして、前記化学式１において、Ｒ３～Ｒ６はそれぞれＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルまたはＣ１～３直鎖または分枝鎖アルキルであり得、具体的にはメチル、エチル、プロピル、またはイソプロピルであり得、好ましくはメチルであり得る。
そして、前記化学式１において、Ｒ７はフェニル、Ｃ１～６直鎖または分枝鎖アルキルで置換されたフェニル、Ｃ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルで置換されたフェニル、ナフチル、Ｃ１～６直鎖または分枝鎖アルキルで置換されたナフチル、Ｃ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルで置換されたナフチルであり得、具体的には前記フェニルまたはナフチルは水素置換基のうちの一つまたは二つ以上がそれぞれＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルまたはＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルで置換されたものであり得る。一例として、前記フェニルまたはナフチルは水素置換基のうちの一つまたは二つ以上がそれぞれメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ－ブチル、またはトリメチルシリルで置換されたものであり得る。
そして、前記化学式１において、Ｒ８およびＲ９はそれぞれＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルまたはＣ１～３直鎖または分枝鎖アルキルであり得、具体的にはメチル、エチル、またはプロピルであり得、好ましくはメチルであり得る。
そして、前記化学式１で表される化合物は、具体的には例えば、下記化学式１－１または化学式１－２で表される。
前記化学式１－１および１－２において、Ｍ、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２は化学式１において定義したとおりであり、Ｒ１０～Ｒ１４、およびＲ１５～Ｒ２１は互いに同一または相異し、それぞれ独立して水素、またはＣ１～２０アルキル、およびＣ１～２０アルキルシリルからなる群より選ばれた官能基である。
この時、前記化学式１－１および１－２において、Ｒ１０～Ｒ１４、およびＲ１５～Ｒ２１はそれぞれ水素、またはＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキル、またはＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルであり得、具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ－ブチル、またはトリメチルシリルであり得る。
また、前記化学式１で表される化合物は、具体的には例えば、下記構造式で表される化合物のいずれか一つであり得る。
一方、本発明は、上述した遷移金属化合物を含む、触媒組成物を提供する。
この時、前記触媒組成物は、前記遷移金属化合物および担体を含む形態で、前記遷移金属化合物が担体に担持された形態であり得る。
そして、前記触媒組成物は、下記化学式２～４で表される化合物からなる群より選ばれた１種以上の助触媒をさらに含むこともできる。
［化学式２］
－［Ａｌ（Ｒ２２）－Ｏ］ｍ－
－［Ａｌ（Ｒ２２）－Ｏ］ｍ－
前記化学式２において、
Ｒ２２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
ｍは２以上の整数であり；
Ｒ２２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
ｍは２以上の整数であり；
［化学式３］
Ｊ（Ｒ２３）３
Ｊ（Ｒ２３）３
前記化学式３において、
Ｒ２３は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
Ｊはアルミニウムまたはホウ素であり；
Ｒ２３は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
Ｊはアルミニウムまたはホウ素であり；
［化学式４］
［Ｅ－Ｈ］＋［ＺＱ４］－
［Ｅ－Ｈ］＋［ＺＱ４］－
前記化学式４において、
Ｅは中性またはカチオン性ルイス塩基であり；
Ｈは水素原子であり；
Ｚは１３族元素であり；
Ｑは、互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルであり、ここで前記Ｃ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルは非置換かまたはハロゲン、Ｃ１～２０アルキル、Ｃ１～２０アルコキシおよびＣ６～２０フェノキシで構成される群より選ばれる一つ以上の置換基で置換される。
Ｅは中性またはカチオン性ルイス塩基であり；
Ｈは水素原子であり；
Ｚは１３族元素であり；
Ｑは、互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルであり、ここで前記Ｃ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルは非置換かまたはハロゲン、Ｃ１～２０アルキル、Ｃ１～２０アルコキシおよびＣ６～２０フェノキシで構成される群より選ばれる一つ以上の置換基で置換される。
一方、本発明は、前記触媒組成物の存在下で、プロピレン単量体を重合する段階を含む、ポリプロピレンの製造方法を提供する。
前記重合段階は、プロピレン単量体含有量を基準として水素ガス１５００ｐｐｍ以下を投入して行うことができる。
この時、製造される前記ポリプロピレンはホモ重合体であり得る。また、前記ポリプロピレンの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が約２．３５以下または約２．１～約２．３５であり得、溶融指数（ＭＩ２．１６，２３０℃，２．１６ｋｇ荷重で測定した溶融指数）が約１０００ｇ／１０ｍｉｎ～約１５００ｇ／１０ｍｉｎであり得、溶融点（Ｔｍ）が約１４８℃以下または約１３０℃～約１４８℃であり得る。
本明細書で使用される用語は単に例示的な実施例を説明するために使用されたものであり、本発明を限定することを意図しない。
単数の表現は文脈上明白に異なる意味を示さない限り、複数の表現を含む。
本明細書で、「含む」、「備える」または「有する」などの用語は実施された特徴、数字、段階、構成要素またはこれらを組み合わせを説明するためのものであり、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、構成要素、これらの組み合わせまたは付加の可能性を排除するものではない。
また、本明細書において、各層または要素が各層または要素「の上に」または「上に」形成されると言及される場合には各層または要素が直接各層または要素の上に形成されることを意味したり、他の層または要素が各層の間、対象体、基材上に追加的に形成され得ることを意味する。
本発明は多様な変更を加えることができ、様々な形態を有することができるため、特定の実施例を例示して下記で詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の開示形態に限定するものではなく、本発明の思想および技術範囲に含まれるすべての変更、均等物ないし代替物を含むものとして理解しなければならない。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の一側面によれば、下記化学式１で表される、遷移金属化合物が提供される。
前記化学式１において、
Ｍは４族遷移金属であり、
Ｘ１およびＸ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲンであり、
Ｒ１およびＲ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキル、Ｃ２～２０アルケニル、Ｃ２～２０アルコキシアルキル、Ｃ６～２０アリール、Ｃ７～４０アルキルアリール、またはＣ７～４０アリールアルキルであり、
Ｒ３～Ｒ６は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキルであり、
Ｒ７は水素、Ｃ１～２０アルキル、およびＣ１～２０アルキルシリルからなる群より選ばれた一つ以上の官能基で置換されたＣ６～２０アリールであり、
Ｒ８およびＲ９は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキルである。
Ｍは４族遷移金属であり、
Ｘ１およびＸ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲンであり、
Ｒ１およびＲ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキル、Ｃ２～２０アルケニル、Ｃ２～２０アルコキシアルキル、Ｃ６～２０アリール、Ｃ７～４０アルキルアリール、またはＣ７～４０アリールアルキルであり、
Ｒ３～Ｒ６は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキルであり、
Ｒ７は水素、Ｃ１～２０アルキル、およびＣ１～２０アルキルシリルからなる群より選ばれた一つ以上の官能基で置換されたＣ６～２０アリールであり、
Ｒ８およびＲ９は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキルである。
本明細書で特に制限がない限り、次の用語は下記のように定義される。
ハロゲン（ｈａｌｏｇｅｎ）は、フッ素（Ｆ）、塩素（Ｃｌ）、臭素（Ｂｒ）、またはヨウ素（Ｉ）であり得る。
炭素数１～２０（Ｃ１～２０）のアルキルは直鎖、分枝鎖または環状アルキルであり得る。具体的には、炭素数１～２０のアルキルは炭素数１～２０の直鎖アルキル；炭素数１～１５の直鎖アルキル；炭素数１～５の直鎖アルキル；炭素数３～２０の分枝鎖または環状アルキル；炭素数３～１５の分枝鎖または環状アルキル；または炭素数３～１０の分枝鎖または環状アルキルであり得る。一例として、前記炭素数１～２０（Ｃ１～２０）のアルキルはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
炭素数２～２０（Ｃ２～２０）のアルケニルとしては直鎖または分枝鎖のアルケニルを含み、具体的にはアリル、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニルなどが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
炭素数１～２０（Ｃ１～２０）のアルコキシとしてはメトキシ基、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、フェニルオキシ、シクロヘキシルオキシ基などが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
炭素数２～２０（Ｃ２－２０）のアルコキシアルキル基は、上述したアルキルの１個以上の水素がアルコキシで置換された官能基であり、具体的にはメトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、ｉｓｏ－プロポキシメチル、ｉｓｏ－プロポキシエチル、ｉｓｏ－プロポキシプロピル、ｉｓｏ－プロポキシヘキシル、ｔｅｒｔ－ブトキシメチル、ｔｅｒｔ－ブトキシエチル、ｔｅｒｔ－ブトキシプロピル、ｔｅｒｔ－ブトキシヘキシルなどのアルコキシアルキル；またはフェノキシヘキシルなどのアリールオキシアルキルが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
炭素数１～２０（Ｃ１～２０）のアルキルシリルまたは炭素数１～２０（Ｃ１～２０）のアルコキシシリル基は－ＳｉＨ３の１～３個の水素が１～３個の上述したようなアルキルまたはアルコキシで置換された官能基であり、具体的にはメチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、ジメチルエチルシリル、ジエチルメチルシリル基またはジメチルプロピルシリルなどのアルキルシリル；メトキシシリル、ジメトキシシリル、トリメトキシシリルまたはジメトキシエトキシシリルなどのアルコキシシリル；メトキシジメチルシリル、ジエトキシメチルシリルまたはジメトキシプロピルシリルなどのアルコキシアルキルシリルが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
炭素数１～２０（Ｃ１～２０）のシリルアルキルは、上述したようなアルキルの１以上の水素がシリルで置換された官能基であり、具体的には－ＣＨ２－ＳｉＨ３、メチルシリルメチルまたはジメチルエトキシシリルプロピルなどが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
また、炭素数１～２０（Ｃ１～２０）のアルキレンとしては２価置換基であることを除いては上述したアルキルと同じものであり、具体的にはメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレンなどが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
炭素数６～２０（Ｃ６～２０）のアリールは単環式、二環式または三環式芳香族炭化水素であり得る。一例として、前記炭素数６～２０（Ｃ６～２０）のアリールは、フェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル、フルオレニルなどが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
炭素数７～２０（Ｃ７～２０）のアルキルアリールは、芳香族環の水素のうちの一つ以上の水素が上述したアルキルによって置換された置換基を意味する。一例として、前記炭素数７～２０（Ｃ７～２０）のアルキルアリールは、メチルフェニル、エチルフェニル、メチルビフェニル、メチルナフチルなどが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記炭素数７～２０（Ｃ７～２０）のアリールアルキルは、上述したアルキルの１以上の水素が上述したアリールによって置換された置換基を意味する。一例として、前記炭素数７～２０（Ｃ７～２０）のアリールアルキルは、フェニルメチル、フェニルエチル、ビフェニルメチル、ナフチルメチルなどが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
また、炭素数６～２０（Ｃ６～２０）のアリーレンは２価置換基であることを除いては上述したアリールと同じものであり、具体的にはフェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アントラセニレン、フェナントレニレン、フルオレニレンなどが挙げられるが、これらにのみ限定されるものではない。
そして、４族遷移金属は、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、またはラザホージウム（Ｒｆ）であり得、具体的にはチタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、またはハフニウム（Ｈｆ）であり得、より具体的にはジルコニウム（Ｚｒ）、またはハフニウム（Ｈｆ）であり得、これらにのみ限定されるものではない。
また、１３族元素は、ホウ素（Ｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、またはタリウム（Ｔｌ）であり得、具体的にはホウ素（Ｂ）、またはアルミニウム（Ａｌ）であり得、これらにのみ限定されるものではない。
上述した置換基は目的とする効果と同一ないし類似の効果を発揮する範囲内で任意にヒドロキシ基；ハロゲン；アルキルまたはアルケニル、アリール、アルコキシ；１４族～１６族のヘテロ原子中の一つ以上のヘテロ原子を含むアルキルまたはアルケニル、アリール、アルコキシ；シリル；アルキルシリルまたはアルコキシシリル；ホスフィン基；フォスファイド基；スルホネート基；およびスルホン基からなる群より選ばれた１以上の置換基で置換され得る。
一方、本発明の遷移金属化合物は、前記化学式１に示すようにリガンドとして上下に互いに相異するシクロペンタジエニル系グループが、ブリッジによって連結された非対称構造を有する。
具体的には、前記化学式１において、リガンドの上側はアルキル基が置換されたシクロペンタジエニルグループがブリッジに連結され、前記化学式１において、リガンドの下側は特定置換基を有するインデニル構造がブリッジに連結される。
前記のような特有の構造により、互いに相異する二つのシクロペンタジエニル系環の多様な特徴を有するかまたは選択的な長所を取ることができるため、より優れた触媒活性を示すことができる。
具体的には、前記化学式１のリガンドのうちのシクロペンタジエニル構造は水素官能基がアルキル基で置換されることによって、プロピレン重合時重要なタクティシティー（ｔａｃｔｉｃｉｔｙ）の維持に重要な役割をする。バルキーな構造が存在する場合のみプロピレンでの－ＣＨ３枝を片方に誘導、すなわち、アイソタクチック（ｉｓｏｔａｃｔｉｃ）にポリマーが育つようにする。水素でのみ置換されたシクロペンタジエニル（Ｃｐ）の場合、バルキーな部分がないのでプロピレンが挿入（ｉｎｓｅｒｔｉｏｎ）する時に触媒が完全開放された状態で対向するのでタクティシティー（ｔａｃｔｉｃｉｔｙ）が崩れてアタクチックポリプロピレン（ａｔａｃｔｉｃ ＰＰ）を形成する。
また、プロピレン（Ｃ３）とＨ２を共に反応させる場合、競争的に反応が起きるが、前記化学式１のリガンドのうちのインデニル構造の２番位置にバルキーな構造が置換されている場合、例えば、Ｒ８～Ｒ９がＣ１～２０アルキルで置換された場合、金属中心に一定の立体的空間配置（ｓｔｅｒｉｃ）が与えられ、Ｃ３に対して大きさが小さいＨ２の反応性が良くなる。したがって、インデン（Ｉｎｄｅｎｅ）の位置にイソプロピル（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）などの形態でＲ８～Ｒ９がＣ１～２０アルキルで置換されたバルキーな構造が結合された場合、重合工程で水素反応性を増加させることができる。
これと共に、前記インデニル構造の４番位置に電子を豊富に与え得るアリール置換基、例えば、Ｒ７が水素、Ｃ１～２０アルキル、およびＣ１～２０アルキルシリルのうちの一つ以上の官能基で置換されたＣ６～２０アリール置換基を含むことによって、前記化学式１のブリッジ構造に含まれた金属（ｍｅｔａｌ）原子に電子を豊富に与え、さらに高い触媒活性を確保することができる。
また、上述した遷移金属化合物は、二つのリガンドがブリッジグループによって連結されている形態で、遷移金属に電子を供給するので、構造的に高い安定性を有することができ、担体に担持時にも高い重合活性を示すことができる。
この時、前記化学式１において、Ｍはジルコニウム（Ｚｒ）またはハフニウム（Ｈｆ）であることが好ましい。
そして、前記化学式１において、Ｒ１およびＲ２はそれぞれＣ１～８直鎖または分枝鎖アルキル、Ｃ２～１２直鎖または分枝鎖アルコキシアルキル、またはＣ６～１２アリールであり得、具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ヘキシル、ｔｅｒｔ－ブトキシヘキシル、またはフェニルであり得る。
そして、前記化学式１において、Ｒ３～Ｒ６はそれぞれＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルまたはＣ１～３直鎖または分枝鎖アルキルであり得、具体的にはメチル、エチル、プロピル、またはイソプロピルであり得、好ましくはメチルであり得る。
そして、前記化学式１において、Ｒ７はフェニル、Ｃ１～６直鎖または分枝鎖アルキルで置換されたフェニル、Ｃ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルで置換されたフェニル、ナフチル、Ｃ１～６直鎖または分枝鎖アルキルで置換されたナフチル、Ｃ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルで置換されたナフチルであり得、具体的には前記フェニルまたはナフチルは水素置換基のうちの一つまたは二つ以上がそれぞれＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルやＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルで置換されたものであり得る。一例として、前記フェニルまたはナフチルは水素置換基のうちの一つまたは二つ以上がそれぞれメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、またはトリメチルシリルで置換されたものであり得る。
このような芳香族基の各位置の置換基は、誘発効果（ｉｎｄｕｃｔｉｖｅ ｅｆｆｅｃｔ）により芳香族基に十分な電子を供給することができ、遷移金属化合物の全体サイズを増加させ、可用角度を大きくすることによって、単量体の接近を容易にしてより優れた触媒活性を示すことができる。
そして、前記化学式１において、Ｒ８およびＲ９はそれぞれＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルまたはＣ１～３直鎖または分枝鎖アルキルであり得、具体的にはメチル、エチル、またはプロピルであり得、好ましくはメチルであり得る。
そして、前記化学式１で表される化合物は、具体的には例えば、下記化学式１－１または化学式１－２で表されるものであり得る。
前記化学式１－１および１－２において、Ｍ、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２は化学式１において定義したとおりであり、Ｒ１０～Ｒ１４、およびＲ１５～Ｒ２１は互いに同一または相異し、それぞれ独立して水素、またはＣ１～２０アルキル、およびＣ１～２０アルキルシリルからなる群より選ばれた官能基である。
この時、前記化学式１－１および１－２において、Ｒ１０～Ｒ１４、およびＲ１５～Ｒ２１はそれぞれ水素、またはＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキル、またはＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルであり得る。具体的には、前記Ｒ１０～Ｒ１４、およびＲ１５～Ｒ２１すべてが水素であるか、あるいは前記Ｒ１０～Ｒ１４、およびＲ１５～Ｒ２１の各水素置換基のうちの一つまたは二つ以上がそれぞれＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルまたはＣ１～６直鎖または分枝鎖アルキルシリルであり得る。一例として、前記Ｒ１０～Ｒ１４、およびＲ１５～Ｒ２１の各水素置換基のうちの一つまたは二つ以上がそれぞれメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチルで置換されたものであり得る。
また、前記化学式１で表される化合物は、具体的には例えば、下記構造式で表される化合物のいずれか一つであり得る。
そして、前記リガンド化合物および遷移金属化合物を製造するための一連の反応は、下記反応式１のとおりである。ただし、下記反応式１は本発明を説明するための一つの例示であり、本発明は必ずしもこれに限定されるものではない。
以下反応式１を参照して説明すると、発明の一実施形態による前記遷移金属化合物は、Ｒ３～Ｒ６が置換されたシクロペンタジエニル化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ １）をＲ１およびＲ２が置換されたハロゲン化シラン化合物（Ｓｉｌａｎｅ）と反応させてケイ素ブリッジグループが連結されたシクロペンタジエニル化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ２）を製造する段階（Ｓｔｅｐ １）；前記ケイ素ブリッジが連結されたシクロペンタジエニル化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ２）をＲ７、Ｒ８、およびＲ９が置換されたインデン化合物と反応させてシクロペンタジエニルとインデニルがケイ素ブリッジグループに連結されたリガンド化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ３）を製造する段階（Ｓｔｅｐ ２）；前記リガンド化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ３）を４族遷移金属Ｍにハロゲン元素であるＸ１、Ｘ２が置換された４族遷移金属のハロゲン塩（Ｍｅｔａｌ ｈａｌｉｄｅ）と反応させ、前記化学式１の遷移金属化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ４）を製造する段階（Ｓｔｅｐ ３）；を含む方法によって製造されることができる。
前記反応式１で各置換基は先立って定義したとおりであり、Ｘはハロゲンである。そして、前記各段階での反応は公知の反応を応用して行われ、より詳細な合成方法は後述する実施例を参照することができる。
具体的には、発明の一実施形態による前記遷移金属化合物の製造方法は、テトラメチルシクロペンタジエニルなどの前駆体化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ １）をブチルリチウム（ｎ－ＢｕＬｉ）などのアルキルリチウムの存在下で、ハロゲン化シラン（Ｓｉｌａｎｅ）などのブリッジグループ提供化合物と反応させ、ケイ素ブリッジが結合されたシクロペンタジエニル化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ２）を製造する段階（Ｓｔｅｐ １）；前記ケイ素ブリッジが結合されたシクロペンタジエニル化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ２）を、ブチルリチウム（ｎ－ＢｕＬｉ）などのアルキルリチウムおよびＣｕＣＮの存在下で、２番位置と４番位置にそれぞれ特定置換基Ｒ８、Ｒ９およびＲ７を有するインデン化合物と反応させてシクロペンタジエニルとインデニルがケイ素ブリッジグループに連結されたリガンド化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ３）を製造する段階（Ｓｔｅｐ ２）；および前記リガンド化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ３）を、ＺｒＣｌ４などの４族遷移金属のハロゲン塩（Ｍｅｔａｌ ｈａｌｉｄｅ）と反応させ、前記化学式１の遷移金属化合物（ｃｏｍｐｏｕｎｄ ４）を製造する段階（Ｓｔｅｐ ３）；を含み得る。
本発明の遷移金属化合物を製造する方法において、当量（ｅｑ）はモル当量（ｅｑ／ｍｏｌ）を意味する。
一方、本発明の他の一側面によれば、上述した遷移金属化合物を含む、触媒組成物が提供される。
具体的には発明の一実施形態による触媒組成物は、前記化学式１の遷移金属化合物を単一触媒として含み得る。
この時、前記触媒組成物は、前記遷移金属化合物を単一成分で含むこともでき、前記遷移金属化合物および担体を含む、担持メタロセン触媒形態であり得る。担持メタロセン触媒を使用する場合、製造されるポリプロピレンのモルフォロジーおよび物性に優れ、従来のスラリー重合またはバルク重合、気相重合工程に適して使用することができる。
具体的には前記担体としては表面に反応性が大きいヒドロキシ基、シラノール基またはシロキサン基を有する担体を使用し得、これのためにか焼（ｃａｌｃｉｎａｔｉｏｎ）により表面改質されたり、または乾燥によって表面に水分が除去されたものが使用される。例えば、シリカゲルをか焼して製造したシリカ、高温で乾燥したシリカ、シリカ－アルミナ、およびシリカ－マグネシアなどが使用され得、これらは通常Ｎａ２Ｏ、Ｋ２ＣＯ３、ＢａＳＯ４、およびＭｇ（ＮＯ３）２などの酸化物、炭酸塩、硫酸塩、および硝酸塩成分を含有することができる。
前記担体に対するか焼または乾燥時の温度は約２００℃～約７００℃、または約２５０℃～約６５０℃であり得る。前記担体に対するか焼または乾燥温度が低い場合には担体に残留する水分が過度に多いため表面の水分と助触媒が反応する恐れがあり、また、過量存在するヒドロキシル基によって助触媒担持率が相対的に高くなり得るが、これによって多量の助触媒が求められる。また、乾燥またはか焼温度が過度に高い場合には担体表面の気孔が合わさって表面積が減少し、表面に多くのヒドロキシ基またはシラノール基がなくなり、シロキサン基のみ残るようになり助触媒との反応サイトが減少する恐れがある。
一例として担体表面のヒドロキシ基の量は０．１～１０ｍｍｏｌ／ｇまたは０．５～５ｍｍｏｌ／ｇであり得る。前記担体表面にあるヒドロキシ基の量は担体の製造方法および条件または乾燥条件、例えば温度、時間、真空または噴霧乾燥などによって調節することができる。前記ヒドロキシ基の量が過度に低いと助触媒との反応サイトが少なく、過度に多いと担体粒子表面に存在するヒドロキシ基以外に水分に起因したものである可能性がある。
上記した担体の中でもシリカ、特にシリカゲルをか焼して製造したシリカの場合、シリカ担体と前記化学式１の化合物の官能基が化学的に結合して担持されるので、プロピレン重合工程で担体表面から遊離して出る触媒が殆どなく、その結果スラリーまたは気相重合によりポリプロピレンを製造する時反応器の壁面や重合体粒子同士が固まるファウリングを最小化することができる。
また、担体に担持される場合、前記化学式１の化合物は担体重量当たり、例えば、シリカ約１ｇを基準として約１０μｍｏｌ以上、または約３０μｍｏｌ以上であり、約１００μｍｏｌ以下、または約８０μｍｏｌ以下の含有量の範囲で担持され得る。前記含有量の範囲で担持される時、適切な担持触媒活性を示して触媒の活性維持および経済性の側面から有利である。
そして、前記触媒組成物は、上述した遷移金属化合物および担体とともに一つ以上の助触媒をさらに含み得る。
具体的には、前記助触媒としては下記化学式２で表される化合物中の１種以上を含み得る。
［化学式２］
－［Ａｌ（Ｒ２２）－Ｏ］ｍ－
－［Ａｌ（Ｒ２２）－Ｏ］ｍ－
前記化学式２において、
Ｒ２２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
ｍは２以上の整数である。
Ｒ２２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
ｍは２以上の整数である。
前記化学式２で表される化合物の例としては、メチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン、またはブチルアルミノキサンなどのアルミノキサン系化合物が挙げられ、これらのうちのいずれか一つまたは二つ以上の混合物が使用され得る。
また、前記助触媒としては下記化学式３で表される化合物中の１種以上を含み得る。
［化学式３］
Ｊ（Ｒ２３）３
Ｊ（Ｒ２３）３
前記化学式３において、
Ｒ２３は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
Ｊはアルミニウムまたはホウ素である。
Ｒ２３は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
Ｊはアルミニウムまたはホウ素である。
前記化学式３で表される化合物の例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、ジメチルクロロアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ－ｓ－ブチルアルミニウム、トリシクロペンチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリイソペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、エチルジメチルアルミニウム、メチルジエチルアルミニウム、トリフェニルアルミニウム、トリ－ｐ－トリルアルミニウム、ジメチルアルミニウムメトキシド、ジメチルアルミニウムエトキシド、トリメチルホウ素、トリエチルホウ素、トリイソブチルホウ素、トリプロピルホウ素、トリブチルホウ素などが含まれ、より具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、およびトリイソブチルアルミニウムの中から選択され得る。
また、前記助触媒としては下記化学式４で表される化合物中の１種以上を含み得る。
［化学式４］
［Ｅ－Ｈ］＋［ＺＱ４］－
［Ｅ－Ｈ］＋［ＺＱ４］－
前記化学式４において、
Ｅは中性またはカチオン性ルイス塩基であり；
Ｈは水素原子であり；
Ｚは１３族元素であり；
Ｑは、互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルであり、ここで前記Ｃ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルは非置換かまたはハロゲン、Ｃ１～２０アルキル、Ｃ１～２０アルコキシおよびＣ６～２０フェノキシで構成される群より選ばれる一つ以上の置換基で置換される。
Ｅは中性またはカチオン性ルイス塩基であり；
Ｈは水素原子であり；
Ｚは１３族元素であり；
Ｑは、互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルであり、ここで前記Ｃ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルは非置換かまたはハロゲン、Ｃ１～２０アルキル、Ｃ１～２０アルコキシおよびＣ６～２０フェノキシで構成される群より選ばれる一つ以上の置換基で置換される。
前記化学式４で表される化合物の例としては、トリエチルアンモニウムテトラフェニルホウ素、トリブチルアンモニウムテトラフェニルホウ素、トリメチルアンモニウムテトラフェニルホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｐ－トリル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｏ，ｐ－ジメチルフェニル）ホウ素、トリブチルアンモニウムテトラ（ｐ－トリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｐ－トリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリブチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルホウ素、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリニウムテトラフェニルホウ素、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリニウムテトラペンタフルオロフェニルホウ素、ジエチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルホウ素、トリフェニルホスホニウムテトラフェニルホウ素、トリメチルホスホニウムテトラフェニルホウ素、トリエチルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリブチルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリメチルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルアルミニウム、トリメチルアンモニウムテトラ（ｐ－トリル）アルミニウム、トリプロピルアンモニウムテトラ（ｐ－トリル）アルミニウム、トリエチルアンモニウムテトラ（ｏ，ｐ－ジメチルフェニル）アルミニウム、トリブチルアンモニウムテトラ（ｐ－トリフルオロメチルフェニル）アルミニウム、トリメチルアンモニウムテトラ（ｐ－トリフルオロメチルフェニル）アルミニウム、トリブチルアンモニウムテトラペンタフルオロフェニルアルミニウム、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリニウムテトラフェニルアルミニウム、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリニウムテトラペンタフルオロフェニルホウ素、ジエチルアンモニウムテトラペンタテトラフェニルアルミニウム、トリフェニルホスホニウムテトラフェニルアルミニウム、トリメチルホスホニウムテトラフェニルアルミニウム、トリプロピルアンモニウムテトラ（ｐ－トリル）ホウ素、トリエチルアンモニウムテトラ（ｏ，ｐ－ジメチルフェニル）ホウ素、トリブチルアンモニウムテトラ（ｐ－トリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリフェニルカルボニウムテトラ（ｐ－トリフルオロメチルフェニル）ホウ素、またはトリフェニルカルボニウムテトラペンタフルオロフェニルホウ素などが挙げられ、これらのうちのいずれか一つまたは二つ以上の混合物が使用され得る。
上記した助触媒の中で、前記化学式１の化合物との使用時より優れた触媒活性を示し得ることを考慮すると、前記化学式２の化合物を使用することができる。より具体的には、前記助触媒としてメチルアルミノキサンなどのアルキルアルミノキサンを追加して使用することができる。前記アルキルアルミノキサン系助触媒は担体表面に存在するヒドロキシル基のスカベンジャー（ｓｃａｖｅｎｇｅｒ）として作用して活性を向上させ、触媒前駆体のハロゲン基をメチル基に転換させてポリプロピレン鎖の成長を促進させる。
前記助触媒は担体重量当たり、例えば、シリカ１ｇを基準として約３ｍｍｏｌ以上または約５ｍｍｏｌ以上の含有量で担持され得、また、約２０ｍｍｏｌ以下、または約１５ｍｍｏｌ以下の含有量で担持され得る。上記した含有量の範囲で含む時助触媒使用に伴う触媒活性改善効果を奏することができる。
一方、本発明は、前記触媒組成物の存在下で、プロピレン単量体を重合する段階を含む、ポリプロピレンの製造方法を提供する。
前記重合反応は一つの連続式スラリー重合反応器、ループスラリー反応器、気相反応器または溶液反応器を利用してプロピレンを単一重合して行うことができる。
そして、前記重合温度は約２５℃～約５００℃、好ましくは約２５℃～約２００℃、より好ましくは約５０℃～約１５０℃であり得る。また、重合圧力は約１ｋｇｆ／ｃｍ２～約１００ｋｇｆ／ｃｍ２、好ましくは約１ｋｇｆ／ｃｍ２～約５０ｋｇｆ／ｃｍ２、より好ましくは約５ｋｇｆ／ｃｍ２～約３０ｋｇｆ／ｃｍ２であり得る。
前記担持メタロセン触媒は、炭素数５～１２の脂肪族炭化水素溶媒、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ノナン、デカン、およびこれらの異性体とトルエン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン、クロロベンゼンなどの塩素原子で置換された炭化水素溶媒などに溶解したり希釈して注入することができる。ここに使用される溶媒は少量のアルキルアルミニウム処理することによって触媒毒として作用する少量の水または空気などを除去して使用することが好ましく、助触媒をさらに使用して実施することもできる。
特に、本発明による遷移金属化合物は、ポリプロピレン製造のための重合触媒として使用時優れた触媒活性と共に水素反応性が向上し、少量の水素を投入しても高い溶融指数（ｈｉｇｈ ＭＩ）の製品、例えば、溶融指数（ＭＩ２．１６，２３０℃，２．１６ｋｇ荷重で測定した溶融指数）が約１０００ｇ／１０ｍｉｎ以上または約１１００ｇ／１０ｍｉｎ以上の製品を生産することができる。一般的に高溶融指数（Ｈｉｇｈ ＭＩ）の製品にするためには水素ガス（Ｈ２）を多く投入しなければならないが、本発明の遷移金属化合物は水素反応性が良いので、少ないＨ２を投入しても所望する分子量に合わせることができ、工程安定性の側面だけでなく原価の側面からも有利な長所がある。
一例として、前記重合段階は、プロピレン単量体含有量を基準として水素ガス約１５００ｐｐｍ以下または約２００ｐｐｍ～約１５００ｐｐｍ、約１０００ｐｐｍ以下または約２５０ｐｐｍ～約１０００ｐｐｍ、あるいは約７００ｐｐｍ以下または約３００ｐｐｍ～約７００ｐｐｍで投入して行う。
また、前記重合段階は、プロピレン単量体を単独で重合するホモ重合反応であり得る。
このように本発明によるポリプロピレンは、上述した担持メタロセン触媒を使用してプロピレンを重合して製造することができる。
この時、製造される前記ポリプロピレンはホモ重合体であり得る。
また、前記ポリプロピレンの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が約２．３５以下または約２．１～約２．３５、または約２．３以下または約２．１～約２．３であり得る。
一例として、前記ポリプロピレンの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ，ｇｅｌ ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ，Ｗａｔｅｒ社製）を利用して重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）を測定し、重量平均分子量を数平均分子量で除して求めることができる。
具体的には、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置としてはＷａｔｅｒｓ ＰＬ－ＧＰＣ２２０機器を利用し、ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ ＰＬｇｅｌ ＭＩＸ－Ｂ ３００ｍｍ長さのカラムを用いることができる。この時、測定温度は１６０℃であり、１，２，４－トリクロロベンゼン（１，２，４－Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｅｎｅ）を溶媒として使用し得、流速は１ｍＬ／ｍｉｎを適用し得る。ポリプロピレンのサンプルはそれぞれＧＰＣ分析機器（ＰＬ－ＧＰ２２０）を利用してＢＨＴ０．０１２５％含まれたトリクロロベンゼン（１，２，４－Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｅｎｅ）で１６０℃、１０時間の間溶かして前処理し、１０ｍｇ／１０ｍＬの濃度に調剤した後、２００μＬの量で供給して測定することができる。また、ポリスチレン標準試験片を利用して形成された検定曲線を利用してＭｗおよびＭｎの値を誘導することができる。ポリスチレン標準試験片の重量平均分子量は、２０００ｇ／ｍｏｌ、１００００ｇ／ｍｏｌ、３００００ｇ／ｍｏｌ、７００００ｇ／ｍｏｌ、２０００００ｇ／ｍｏｌ、７０００００ｇ／ｍｏｌ、２００００００ｇ／ｍｏｌ、４００００００ｇ／ｍｏｌ、１０００００００ｇ／ｍｏｌの９種を使用することができる。
また、前記ポリプロピレンは、米国材料試験学会規格ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に従い２３０℃で２．１６ｋｇ荷重で測定した溶融指数（ＭＩ２．１６）が約１０００ｇ／１０ｍｉｎ～約１５００ｇ／１０ｍｉｎ、または約１１００ｇ／１０ｍｉｎ～約１４５０ｇ／１０ｍｉｎであり得る。
前記ポリプロピレンの溶融点（Ｔｍ）は、約１４８℃以下または約１３０℃～約１４８℃、あるいは約１４５℃以下または約１３３℃～約１４５℃であり得る。
一例として、前記ポリプロピレンの溶融点（Ｔｍ）は、示差走査熱量計（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ，ＤＳＣ、装置名：ＤＳＣ ２９２０，製造会社：ＴＡ ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ）を利用して測定することができる。具体的には、温度を上昇させてポリプロピレン重合体を２２０℃まで加熱した後５分間その温度を維持し、その後、２０℃まで下げ、再び温度を増加させてＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ，ＴＡ社製）曲線の頂点に該当する温度を溶融点（Ｔｍ）とする。この時、温度の上昇と下降の速度は１０℃／ｍｉｎで適用し得、溶融点は二番目の温度が上昇する区間で測定した結果で示したものである。
一方、本発明のポリプロピレンは、前述したように特定の置換基と構造を有する遷移金属化合物を触媒として使用して重合工程で少ない水素を投入しても高い溶融指数を確保することができ、これと共に狭い分子量分布および低い溶融点を同時に実現することができる。
このような特性を有するポリプロピレンは、高い溶融指数製品で約２．３５以下または約２．３以下の狭い分子量分布を確保できるので、高速紡糸により生産されるマルチフィラメント繊維（ｍｕｌｔｉ ｆｉｌａｍｅｎｔｓ ｆｉｂｅｒ）用に適したポリプロピレン樹脂を生産できるようにする。また、前記ポリプロピレンはホモ重合体であるにもかかわらず約１４８℃以下、または約１４５℃以下の低い溶融点（Ｔｍ）を確保できることにより繊維（Ｆｉｂｅｒ）を製造する場合、プロピレン共重合体、例えば、プロピレンランダム共重合体製品を適用したものと類似のソフトネス（ｓｏｆｔｎｅｓｓ）を付与できる長所がある。
本発明による遷移金属化合物は、ポリプロピレン製造のための重合触媒として使用時優れた触媒活性と共に水素反応性が向上し、少量の水素投入によっても溶融指数（ＭＩ２．１６，２３０℃，２．１６ｋｇ荷重で測定した溶融指数）が約１０００ｇ／１０ｍｉｎ以上の高い溶融指数の製品を生産できるだけでなく、このように水素投入量が減少することによって高い溶融指数の製品の製造時工程原価を大きく節減し、かつ全体工程の安定性を向上させることができる優れた効果がある。
以下、発明の具体的な実施例により、発明の作用および効果をより詳細に説明する。ただし、このような実施例は発明の例示として提示するものに過ぎず、発明の権利範囲はこれによって定まらない。
＜実施例＞
＜転移急速化合物の製造＞
実施例１
＜転移急速化合物の製造＞
実施例１
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－フェニル）インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－ｐｈｅｎｙｌ） ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－フェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－ｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／テトラヒドロフラン（Ｔｏｌｕｅｎｅ／ＴＨＦ）の混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－フェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－ｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／テトラヒドロフラン（Ｔｏｌｕｅｎｅ／ＴＨＦ）の混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル－４－フェニル）インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－ｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.21 (6H, s), 0.86 (6H, d), 1.79 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 6.36 (1H, s), 7.41-7.51 (7H, m), 8.29 (1H, m).
実施例２
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－（４’－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチル）フェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチル）フェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル－４－（４’－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.21 (6H, s), 0.86 (6H, d), 1.33 (9H, s), 1.79 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 6.36 (1H, s), 7.30 (2H, d), 7.38-7.49 (4H, m), 8.29 (1H, m).
実施例３
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.21 (6H, s), 0.86 (6H, d), 1.32 (18H, s), 1.79 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 6.36 (1H, s), 7.42-7.49 (2H, m), 7.73 (2H, s), 8.29 (1H, m).
実施例４
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－ナフチル）インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－ｎａｐｈｔｈｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－ナフチル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－ｎａｐｈｔｈｙｌ）ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－ナフチル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－ｎａｐｈｔｈｙｌ）ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル－４－ナフチル）インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－ｎａｐｈｔｈｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.21 (6H, s), 0.86 (6H, d), 1.79 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 6.36 (1H, s), 6.36-7.46 (4H, m), 7.77 (1H, t), 8.09 (1H, m), 8.20(1H, d), 8.29 (1H, d), 8.50 (1H, d), 8.95 (1H, d).
実施例５
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－（２，５－ジメチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（２，５－ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－ナフチル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（２，５－ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－ナフチル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（２，５－ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル－４－（２，５－ジメチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（２，５－ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.21 (6H, s), 0.86 (6H, d), 1.79 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.33 (3H, s), 2.39 (1H, m), 2.46 (3H, s), 6.36 (1H, s), 7.11 (1H, d), 7.30 (1H, d), 7.42-7.49 (2H, m), 7.73 (1H, s), 8.29 (1H, d).
実施例６
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジエチル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジエチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジエチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジエチルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3):0.66 (4H, q), 0.86 (6H, d), 0.94 (6H, t), 1.32 (18H, s), 1.79 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 6.36 (1H, s), 7.42-7.49 (2H, m), 7.73 (2H, s), 8.29 (1H, d).
実施例７
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジヘキシル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｈｅｘｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジヘキシルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジヘキシルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジヘキシルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｈｅｘｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.60 (4H, t), 0.86 (6H, d), 0.88 (6H, t), 1.23-1.28 (16H, m), 1.32 (18H, s), 1.79 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 6.36 (1H, s), 7.42-7.50 (2H, m), 7.73 (2H, s), 8.25 (1H, d).
実施例８
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル６－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）ヘキシル）メチル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ６－（ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後６－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）ヘキシル）メチルシラン（６－（ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後６－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）ヘキシル）メチルシラン（６－（ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル６－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）ヘキシル）メチルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ６－（ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.19 (3H, s), 0.62 (2H, t), 0.84 (6H, d), 1.29-1.31 (4H, m), 1.35 (18H, s), 1.43 (2H, t), 1.50 (2H, t), 1.70 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 3.35 (2H, t), 6.36 (1H, s), 7.40-7.51 (2H, m), 7.80 (2H, m), 8.31 (1H, d).
実施例９
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルフェニル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルフェニルシラン（ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルフェニルシラン（ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルフェニルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ ｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.26 (3H, s), 0.84 (6H, d), 1.35 (18H, s), 1.74 (6H, s), 2.15 (6H, s), 2.42 (1H, m), 6.29 (1H, s), 7.25-7.42 (7H, m), 7.85 (2H, s), 8.25 (1H, d).
実施例１０
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルヘキシル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルヘキシルシラン（ｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルヘキシルシラン（ｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルヘキシルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.25 (3H, s), 0.62 (2H, t), 0.84 (6H, d), 0.88 (3H, t), 1.29-1.30 (8H, m), 1.38 (18H, s), 1.72 (6H, s), 2.18 (6H, s), 2.42 (1H, m), 6.40 (1H, s), 7.32-7.35 (2H, m), 7.70 (2H, s), 8.15 (1H, m).
実施例１１
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルプロピル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルプロピルシラン（ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルプロピルシラン（ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルプロピルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ ｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.22 (3H, s), 0.64 (2H, t), 0.90 (3H, d), 0.94 (3H, t), 1.29 (2H, m), 1.34 (18H, s), 1.75 (6H, s), 2.14 (6H, s), 2.42 (1H, m), 6.43 (1H, s), 7.38-7.41 (2H, m), 7.72 (2H, s), 8.22 (1H, m).
実施例１２
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルハフニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｈａｆｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／Ｅｔｈｅｒ（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／Ｅｔｈｅｒ（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.24 (6H, s), 0.96 (6H, d), 1.42 (18H, s), 1.82 (6H, s), 2.24 (6H, s), 2.49 (1H, m), 6.42 (1H, s), 7.52-7.56 (2H, m), 7.78 (2H, s), 8.33 (1H, m).
実施例１３
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジエチル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジエチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジエチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジエチルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルハフニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｈａｆｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.68 (4H, q), 091 (6H, d), 0.98 (6H, t), 1.52 (18H, s), 1.85 (6H, s), 2.33 (6H, s), 2.46 (1H, m), 6.42 (1H, s), 7.47-7.51 (2H, m), 7.83 (2H, s), 8.39 (1H, d).
実施例１４
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジヘキシル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｈｅｘｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジヘキシルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジヘキシルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジヘキシルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルハフニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｈｅｘｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｈａｆｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４ （１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４ （１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.70 (4H, t), 0.93 (6H, d), 1.08 (6H, t), 1.53-1.58 (16H, m), 1.72 (18H, s), 1.89 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 6.46 (1H, s), 7.42-7.50 (2H, m), 7.73 (2H, s), 8.36 (1H, d).
実施例１５
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル６－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）ヘキシル）メチル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ６－（ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後（６－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）ヘキシル）メチルシラン（（６－（ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後（６－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）ヘキシル）メチルシラン（（６－（ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニル６－（ｔｅｒｔ－ブトキシ）ヘキシル）メチルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルハフニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ６－（ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｈａｆｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.21 (3H, s), 0.68 (2H, t), 0.92 (6H, d), 1.39-1.41 (4H, m), 1.45 (18H, s), 1.51 (2H, t), 1.60 (2H, t), 1.82 (6H, s), 2.42 (6H, s), 2.59 (1H, m), 3.48 (2H, t), 6.44 (1H, s), 7.52-7.59 (2H, m), 7.83 (2H, m), 8.35 (1H, d).
実施例１６
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルフェニル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルフェニルシラン（ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルフェニルシラン（ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルフェニルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルハフニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ ｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｈａｆｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.31 (3H, s), 0.94 (6H, d), 1.54 (18H, s), 1.74 (6H, s), 2.15 (6H, s), 2.72 (1H, m), 6.33 (1H, s), 7.28-7.32 (7H, m), 775 (2H, s), 8.48 (1H, d).
実施例１７
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルヘキシル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルヘキシルシラン（ｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルヘキシルシラン（ｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルヘキシルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルハフニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｈａｆｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.27 (3H, s), 0.71 (2H, t), 0.85 (6H, d), 0.92 (3H, t), 1.39-1.44 (8H, m), 1.48 (18H, s), 1.72 (6H, s), 2.18 (6H, s), 2.42 (1H, m), 6.58 (1H, s), 7.47-7.51 (2H, m), 7.78 (2H, s), 8.18 (1H, m).
実施例１８
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルプロピル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルプロピルシラン（ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後メチルプロピルシラン（ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ ｓｉｌａｎｅ，１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルメチルプロピルシリル（２－イソプロピル－４－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルハフニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｙｌ ｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（３’，５’－ｄｉ－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｈａｆｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＨｆＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.33 (3H, s), 0.84 (2H, t), 1.10 (3H, d), 1.24 (3H, t), 1.89 (2H, m), 1.94 (18H, s), 1.99 (6H, s), 2.25 (6H, s), 2.51 (1H, m), 6.43 (1H, s), 7.41-7.48 (2H, m), 7.78 (2H, s), 8.02 (1H, m).
実施例１９
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－（４’－トリメチルシラニル－フェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｙｌ－ｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（４’－トリメチルシラニル）フェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｙｌ－ｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－イソプロピル－４－（４’－トリメチルシラニル）フェニル）インデン（（２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｙｌ－ｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル－４－（４’－トリメチルシラニル－フェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｙｌ－ｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.21 (6H, s), 0.29 (9H, s), 0.88 (6H, d), 1.81 (6H, s), 2.12 (6H, s), 2.39 (1H, m), 6.41 (1H, s), 7.38-7.49 (2H, m), 7.62 (1H,s), 7.75(2H, d), 8.29 (1H, m).
比較例１
遷移金属化合物ジメチルシランジイルビス（２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチル－フェニル）インデニル）ジルコニウムジクロリドの製造
室温で１４３ｇ（０．５４ｍｏｌ）の２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１－インデンを２．４Ｌのトルエンに入れた後、１４３ｍＬのテトラヒドロフランと２３４ｍＬのｎ－ブチルリチウム溶液（トルエン２．５Ｍ）を連続して添加した。このような添加が完了した後に、この混合物を８０℃まで加熱し、この温度で１時間の間攪拌した。４０℃に冷却させた後、３３．６ｇ（０．２６ｍｍｏｌ）のジメチルジクロロシランをこの反応溶液に滴下した。この反応溶液を６０℃で３時間の間攪拌した。室温まで冷却した後２１８ｍＬのｎ－ブチルリチウム溶液（トルエン２．５Ｍ）を滴加した。このような添加が完了した後にこの溶液を８０℃まで加熱し、この温度で１時間の間攪拌した。室温まで冷却するようにした後、７１．１ｇ（０．３０５ｍｏｌ）のジルコニウムテトラクロリドを少しずつ添加した。この溶液を４５℃で２時間の間攪拌し、形成された沈殿物をＧ３焼結ガラスフィルタを介した濾過によって分離し、７００ｍＬのＴＨＦで注意深く洗浄した。その後、残留物をオイルポンプ真空で乾燥させ、ラセミ：メソ比率が１：１である生成物を１５５ｇ（８０％）の収率で得た。
室温で１４３ｇ（０．５４ｍｏｌ）の２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１－インデンを２．４Ｌのトルエンに入れた後、１４３ｍＬのテトラヒドロフランと２３４ｍＬのｎ－ブチルリチウム溶液（トルエン２．５Ｍ）を連続して添加した。このような添加が完了した後に、この混合物を８０℃まで加熱し、この温度で１時間の間攪拌した。４０℃に冷却させた後、３３．６ｇ（０．２６ｍｍｏｌ）のジメチルジクロロシランをこの反応溶液に滴下した。この反応溶液を６０℃で３時間の間攪拌した。室温まで冷却した後２１８ｍＬのｎ－ブチルリチウム溶液（トルエン２．５Ｍ）を滴加した。このような添加が完了した後にこの溶液を８０℃まで加熱し、この温度で１時間の間攪拌した。室温まで冷却するようにした後、７１．１ｇ（０．３０５ｍｏｌ）のジルコニウムテトラクロリドを少しずつ添加した。この溶液を４５℃で２時間の間攪拌し、形成された沈殿物をＧ３焼結ガラスフィルタを介した濾過によって分離し、７００ｍＬのＴＨＦで注意深く洗浄した。その後、残留物をオイルポンプ真空で乾燥させ、ラセミ：メソ比率が１：１である生成物を１５５ｇ（８０％）の収率で得た。
比較例２
リガンド化合物ジメチルテトラメチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（Ｄｉｍｅｔｈｙｌ Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ２－ｍｅｔｈｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２Ｌフラスコにテトラヒドロフラン（６００ｍＬ）とテトラメチルシクロペンタジエン（５０ｇ）を入れ、窒素雰囲気下－１０℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、１７０ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた。前記反応溶液の温度を再び－１０℃に下げた後、ジメチルジクロロシラン（１７０ｇ）を添加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた後、反応物を真空乾燥した。ここにｎ－ヘキサン（５００ｍＬ）を投入して反応物を溶かした後セライトフィルタで濾過した後、濾過した溶液を真空乾燥して黄色オイル形態のジメチルテトラメチルシクロペンタジエニルクロロシラン（Ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｃｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ） ７０ｇを得た（収率：８０％）。
２Ｌフラスコにテトラヒドロフラン（６００ｍＬ）とテトラメチルシクロペンタジエン（５０ｇ）を入れ、窒素雰囲気下－１０℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、１７０ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた。前記反応溶液の温度を再び－１０℃に下げた後、ジメチルジクロロシラン（１７０ｇ）を添加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた後、反応物を真空乾燥した。ここにｎ－ヘキサン（５００ｍＬ）を投入して反応物を溶かした後セライトフィルタで濾過した後、濾過した溶液を真空乾燥して黄色オイル形態のジメチルテトラメチルシクロペンタジエニルクロロシラン（Ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｃｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ） ７０ｇを得た（収率：８０％）。
トルエン（２００ｍＬ）、テトラヒドロフラン（４０ｍＬ）と２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデン（５０ｇ）を投入したフラスコを－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、７６ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌した。前記反応物の温度を再び－１０℃に下げた後、先立って合成したジメチルテトラメチルシクロペンタジエニルクロロシラン（３８ｇ）を投入して常温で１２時間の間攪拌して反応させた。反応が完了すると、水（４００ｍＬ）を投入して再び常温で１．５時間の間攪拌させた後、トルエンで抽出して真空乾燥して黄色オイル形態のジメチルテトラメチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン８０ｇを得た（収率９５％）。
遷移金属化合物テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）インデニルＺｒジクロリド（Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ２－ｍｅｔｈｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ Ｚｒ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
先立って製造したリガンド化合物、ジメチルテトラメチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（５０ｇ）、トルエン（３００ｍＬ）およびジエチルエーテル（１００ｍＬ）をフラスコに入れて－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、９０ｍＬ）をゆっくり滴加した。滴加が完了すると反応温度を常温に上げて４８時間の間攪拌させた後、濾過した。得られたろ過液を真空乾燥して固体形態でテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩４０ｇ（収率８０％）を収得し、精製せずすぐに次の反応に使用した。前記テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩（４０ｇ）、トルエン（４０ｍＬ）およびエーテル（１０ｍＬ）をフラスコに入れて攪拌した。別のフラスコにはトルエン（３０ｍＬ）とＺｒＣｌ４（２０ｇ）の混合液を準備した。カニューレ（ｃａｎｎｕｌａ）でＺｒＣｌ４を含むフラスコの混合液を、前記リガンド化合物のジリチウム塩を含むフラスコにゆっくり滴加した後、常温で２４時間の間攪拌させた。攪拌が完了すると真空乾燥させた後、メチレンクロライド（５００ｍＬ）で抽出してセライトフィルタで濾過した後ろ過液を真空乾燥した。得られた固体をメチレンクロライドとｎ－ヘキサンの１：３混合液（５０ｍＬ）を使用して洗浄した後、真空乾燥して黄色固体形態のテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジルコニウムジクロリド３２ｇを収得した（収率６０％）。
先立って製造したリガンド化合物、ジメチルテトラメチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（５０ｇ）、トルエン（３００ｍＬ）およびジエチルエーテル（１００ｍＬ）をフラスコに入れて－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、９０ｍＬ）をゆっくり滴加した。滴加が完了すると反応温度を常温に上げて４８時間の間攪拌させた後、濾過した。得られたろ過液を真空乾燥して固体形態でテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩４０ｇ（収率８０％）を収得し、精製せずすぐに次の反応に使用した。前記テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩（４０ｇ）、トルエン（４０ｍＬ）およびエーテル（１０ｍＬ）をフラスコに入れて攪拌した。別のフラスコにはトルエン（３０ｍＬ）とＺｒＣｌ４（２０ｇ）の混合液を準備した。カニューレ（ｃａｎｎｕｌａ）でＺｒＣｌ４を含むフラスコの混合液を、前記リガンド化合物のジリチウム塩を含むフラスコにゆっくり滴加した後、常温で２４時間の間攪拌させた。攪拌が完了すると真空乾燥させた後、メチレンクロライド（５００ｍＬ）で抽出してセライトフィルタで濾過した後ろ過液を真空乾燥した。得られた固体をメチレンクロライドとｎ－ヘキサンの１：３混合液（５０ｍＬ）を使用して洗浄した後、真空乾燥して黄色固体形態のテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジルコニウムジクロリド３２ｇを収得した（収率６０％）。
比較例３
リガンド化合物２，４－ジメチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（２，４－ｄｉｍｅｔｈｙｌｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ２－ｍｅｔｈｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２Ｌフラスコにテトラヒドロフラン（６００ｍＬ）と１，３－ジメチルシクロペンタジエン（５０ｇ）を入れ、窒素雰囲気下－１０℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ｈｅｘａｎｅ溶液、１７０ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた。前記反応溶液の温度を再び－１０℃に下げた後、ジメチルジクロロシラン（１７０ｇ）を添加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた後、反応物を真空乾燥した。ここにｎ－ヘキサン（５００ｍＬ）を投入して反応物を溶かした後セライトフィルタで濾過した後、濾過した溶液を真空乾燥して黄色オイル形態のジメチル２，４－ジメチルシクロペンタジエニルクロロシラン７０ｇを得た（収率：７０％）。
２Ｌフラスコにテトラヒドロフラン（６００ｍＬ）と１，３－ジメチルシクロペンタジエン（５０ｇ）を入れ、窒素雰囲気下－１０℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ｈｅｘａｎｅ溶液、１７０ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた。前記反応溶液の温度を再び－１０℃に下げた後、ジメチルジクロロシラン（１７０ｇ）を添加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた後、反応物を真空乾燥した。ここにｎ－ヘキサン（５００ｍＬ）を投入して反応物を溶かした後セライトフィルタで濾過した後、濾過した溶液を真空乾燥して黄色オイル形態のジメチル２，４－ジメチルシクロペンタジエニルクロロシラン７０ｇを得た（収率：７０％）。
トルエン（２００ｍＬ）、テトラヒドロフラン（４０ｍＬ）と２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデン（５０ｇ）を投入したフラスコを－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、７６ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌した。前記反応物の温度を再び－１０℃に下げた後、ジメチル２，４－ジメチルシクロペンタジエニルクロロシラン（３８ｇ）を投入して常温で１２時間の間攪拌して反応させた。反応が完了すると水（４００ｍＬ）を投入して再び常温で１．５時間の間攪拌させた後、トルエンで抽出して真空乾燥して黄色オイル形態のジメチル２，４－ジメチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン８０ｇを得た（収率９５％）。
遷移金属化合物２，４－ジメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）インデニルＺｒジクロリド（２，４－ｄｉｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ２－ｍｅｔｈｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌＺｒ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
先立って製造したリガンド化合物、ジメチル２，４－ジメチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（５０ｇ）、トルエン（３００ｍＬ）およびジエチルエーテル（１００ｍＬ）をフラスコに入れて－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、９０ｍＬ）をゆっくり滴加した。滴加が完了すると反応温度を常温に上げて４８時間の間攪拌させた後、濾過した。得られたろ過液を真空乾燥して固体形態で２，４－ジメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩４０ｇ（収率８０％）を収得し、精製せずすぐに次の反応に使用した。前記２，４－ジメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩（４０ｇ）、トルエン（４０ｍＬ）およびエーテル（１０ｍＬ）をフラスコに入れて攪拌した。別のフラスコにはトルエン（３０ｍＬ）とＺｒＣｌ４（２０ｇ）の混合液を準備した。カニューレ（ｃａｎｎｕｌａ）でＺｒＣｌ４を含むフラスコの混合液を、前記リガンド化合物のジリチウム塩を含むフラスコにゆっくり滴加した後、常温で２４時間の間攪拌させた。攪拌が完了すると真空乾燥させた後、メチレンクロライド（５００ｍＬ）で抽出してセライトフィルタで濾過した後ろ過液を真空乾燥した。得られた固体をメチレンクロライドとｎ－ヘキサンの１：３混合液（５０ｍＬ）を使用して洗浄した後、真空乾燥して黄色固体形態の２，４－ジメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジルコニウムジクロリド３２ｇを収得した（収率６０％）。
先立って製造したリガンド化合物、ジメチル２，４－ジメチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（５０ｇ）、トルエン（３００ｍＬ）およびジエチルエーテル（１００ｍＬ）をフラスコに入れて－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、９０ｍＬ）をゆっくり滴加した。滴加が完了すると反応温度を常温に上げて４８時間の間攪拌させた後、濾過した。得られたろ過液を真空乾燥して固体形態で２，４－ジメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩４０ｇ（収率８０％）を収得し、精製せずすぐに次の反応に使用した。前記２，４－ジメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩（４０ｇ）、トルエン（４０ｍＬ）およびエーテル（１０ｍＬ）をフラスコに入れて攪拌した。別のフラスコにはトルエン（３０ｍＬ）とＺｒＣｌ４（２０ｇ）の混合液を準備した。カニューレ（ｃａｎｎｕｌａ）でＺｒＣｌ４を含むフラスコの混合液を、前記リガンド化合物のジリチウム塩を含むフラスコにゆっくり滴加した後、常温で２４時間の間攪拌させた。攪拌が完了すると真空乾燥させた後、メチレンクロライド（５００ｍＬ）で抽出してセライトフィルタで濾過した後ろ過液を真空乾燥した。得られた固体をメチレンクロライドとｎ－ヘキサンの１：３混合液（５０ｍＬ）を使用して洗浄した後、真空乾燥して黄色固体形態の２，４－ジメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジルコニウムジクロリド３２ｇを収得した（収率６０％）。
比較例４
リガンド化合物ジメチル４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（Ｄｉｍｅｔｈｙｌ ４－ｂｕｔｙｌ－２－ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ２－ｍｅｔｈｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２Ｌフラスコにテトラヒドロフラン（６００ｍＬ）と１－ブチル－３－メチルシクロペンタジエン（５０ｇ）を入れ、窒素雰囲気下－１０℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、１７０ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた。前記反応溶液の温度を再び－１０℃に下げた後、ジメチルジクロロシラン（１７０ｇ）を添加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた後、反応物を真空乾燥した。ここにｎ－ヘキサン（５００ｍＬ）を投入して反応物を溶かした後セライトフィルタで濾過した後、濾過した溶液を真空乾燥して黄色オイル形態のジメチル４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルクロロシラン７０ｇを得た（収率：７０％）。
２Ｌフラスコにテトラヒドロフラン（６００ｍＬ）と１－ブチル－３－メチルシクロペンタジエン（５０ｇ）を入れ、窒素雰囲気下－１０℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、１７０ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた。前記反応溶液の温度を再び－１０℃に下げた後、ジメチルジクロロシラン（１７０ｇ）を添加した後常温で１２時間の間攪拌して反応させた後、反応物を真空乾燥した。ここにｎ－ヘキサン（５００ｍＬ）を投入して反応物を溶かした後セライトフィルタで濾過した後、濾過した溶液を真空乾燥して黄色オイル形態のジメチル４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルクロロシラン７０ｇを得た（収率：７０％）。
トルエン（２００ｍＬ）、テトラヒドロフラン（４０ｍＬ）と２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデン（５０ｇ）を投入したフラスコを－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、７６ｍＬ）をゆっくり滴加した後常温で１２時間の間攪拌した。前記反応物の温度を再び－１０℃に下げた後、ジメチル４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルクロロシラン（３８ｇ）を投入して常温で１２時間の間攪拌して反応させた。反応が完了すると水（４００ｍＬ）を投入して再び常温で１．５時間の間攪拌させた後、トルエンで抽出して真空乾燥して黄色オイル形態のジメチル４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン８０ｇを得た（収率９５％）。
遷移金属化合物４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）インデニルＺｒジクロリド（４－ｂｕｔｙｌ－２－ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ２－ｍｅｔｈｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ Ｚｒ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
先立って製造したリガンド化合物、ジメチル４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（５０ｇ）、トルエン（３００ｍＬ）およびジエチルエーテル（１００ｍＬ）をフラスコに入れて－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、９０ｍＬ）をゆっくり滴加した。滴加が完了すると反応温度を常温に上げて４８時間の間攪拌させた後、濾過した。得られたろ過液を真空乾燥して固体形態で４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩４０ｇ（収率８０％）を収得し、精製せずすぐに次の反応に使用した。前記４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩（４０ｇ）、トルエン（４０ｍＬ）およびエーテル（１０ｍＬ）をフラスコに入れて攪拌した。別のフラスコにはトルエン（３０ｍＬ）とＺｒＣｌ４（２０ｇ）の混合液を準備した。カニューレ（ｃａｎｎｕｌａ）でＺｒＣｌ４を含むフラスコの混合液を、前記リガンド化合物のジリチウム塩を含むフラスコにゆっくり滴加した後、常温で２４時間の間攪拌させた。攪拌が完了すると真空乾燥させた後、メチレンクロライド（５００ｍＬ）で抽出してセライトフィルタで濾過した後ろ過液を真空乾燥した。得られた固体をメチレンクロライドとｎ－ヘキサンの１：３混合液（５０ｍＬ）を使用して洗浄した後、真空乾燥して黄色固体形態の４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジルコニウムジクロリド３２ｇを収得した（収率６０％）。
先立って製造したリガンド化合物、ジメチル４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルシラン（５０ｇ）、トルエン（３００ｍＬ）およびジエチルエーテル（１００ｍＬ）をフラスコに入れて－１０℃に冷却させた後、ｎ－ＢｕＬｉ（２．５Ｍ ヘキサン（ｈｅｘａｎｅ）溶液、９０ｍＬ）をゆっくり滴加した。滴加が完了すると反応温度を常温に上げて４８時間の間攪拌させた後、濾過した。得られたろ過液を真空乾燥して固体形態で４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩４０ｇ（収率８０％）を収得し、精製せずすぐに次の反応に使用した。前記４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジリチウム塩（４０ｇ）、トルエン（４０ｍＬ）およびエーテル（１０ｍＬ）をフラスコに入れて攪拌した。別のフラスコにはトルエン（３０ｍＬ）とＺｒＣｌ４（２０ｇ）の混合液を準備した。カニューレ（ｃａｎｎｕｌａ）でＺｒＣｌ４を含むフラスコの混合液を、前記リガンド化合物のジリチウム塩を含むフラスコにゆっくり滴加した後、常温で２４時間の間攪拌させた。攪拌が完了すると真空乾燥させた後、メチレンクロライド（５００ｍＬ）で抽出してセライトフィルタで濾過した後ろ過液を真空乾燥した。得られた固体をメチレンクロライドとｎ－ヘキサンの１：３混合液（５０ｍＬ）を使用して洗浄した後、真空乾燥して黄色固体形態の４－ブチル－２－メチルシクロペンタジエニルジメチルシリル２－メチル－４－（４’－ｔ－ブチルフェニル）インデニルジルコニウムジクロリド３２ｇを収得した（収率６０％）。
比較例５
リガンド化合物シクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－（４’－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（Ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
インデン（Ｉｎｄｅｎｅ）をＴＨＦに溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後シラン（Ｓｉｌａｎｅ） （２ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩攪拌した。真空乾燥をした後ＴＨＦに溶かす。ＣＰＮａ／ＴＨＦ 溶液（ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（１ｅｑ．）を－２５℃でゆっくり滴加する。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥する。シリカゲルカラム（Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ｃｏｌｕｍｎ）を用いてリガンドを収得した。
インデン（Ｉｎｄｅｎｅ）をＴＨＦに溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後シラン（Ｓｉｌａｎｅ） （２ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩攪拌した。真空乾燥をした後ＴＨＦに溶かす。ＣＰＮａ／ＴＨＦ 溶液（ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（１ｅｑ．）を－２５℃でゆっくり滴加する。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥する。シリカゲルカラム（Ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ｃｏｌｕｍｎ）を用いてリガンドを収得した。
遷移金属化合物シクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル－４－（４’－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（Ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
リガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（２／１）に溶かして－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後常温で５時間の間攪拌した。フラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエンにスラリー（Ｓｌｕｒｒｙ）を作って投入した後常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してＤＣＭを再投入してフィルタ（ｆｉｌｔｅｒ）などによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させる。黄色固体形態（Ｙｅｌｌｏｗ ｓｏｌｉｄ）の触媒前駆体を確保した。
リガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（２／１）に溶かして－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後常温で５時間の間攪拌した。フラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエンにスラリー（Ｓｌｕｒｒｙ）を作って投入した後常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してＤＣＭを再投入してフィルタ（ｆｉｌｔｅｒ）などによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させる。黄色固体形態（Ｙｅｌｌｏｗ ｓｏｌｉｄ）の触媒前駆体を確保した。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.40(s, 6H), 0.86(d, 6H), 1.33(s, 9H), 2.38(m, 1H), 6.40-6.51(m, 4H), 7.31-7.49(m, 6H), 8.29(d, 1H).
比較例６
国際特許公報ＷＯ２０１８－１８５１７６ Ａ１に記載された方法に従い前記遷移金属化合物（２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－イソプロピル）インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ））を製造した。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3):1.10(s, 3H), 1.16(d, 3H), 1.20(s, 3H), 1.38(d, 3H), 1.87(s. 6H), 1.97(s, 3H), 1.99(s, 3H), 3.02(m, 1H), 6.96(m, 1H), 7.05(s, 1H), 7.31(m, 1H), 7.58(1H, d), 7.61(1H, d).
比較例７
リガンド化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチル（２－フェニル－４－（４’－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルシラン（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｐｈｅｎｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－フェニル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチル）フェニル）インデン（（２－ｐｈｅｎｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエン（ＴＭＣＰ，２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ジメチルシラン（Ｓｉｌａｎｅ、１．０５ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩（ｏｖｅｒｎｉｇｈｔ）攪拌した。別の反応器に（２－フェニル－４－（４’－ｔｅｒｔ－ブチル）フェニル）インデン（（２－ｐｈｅｎｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｅ）をトルエン／ＴＨＦの混合溶媒（体積比５／１，０．７Ｍ）に溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後ＣｕＣＮ（２ｍｏｌ％）を投入して３０分間攪拌した後、最初の反応物であるｍｏｎｏ－Ｓｉ溶液を投入した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥してリガンドを得た。
遷移金属化合物２，３，４，５－テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシリル（２－フェニル－４－（４’－ｔｅｒｔブチルフェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（２，３，４，５－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ （２－ｐｈｅｎｙｌ－４－（４’－ｔｅｒｔｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
前記で製造したリガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比２／１，０．７Ｍ）に溶かし、－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後、常温で５時間の間攪拌した。別のフラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエン（０．１７Ｍ）に混合して製造したスラリーを製造し、前記リガンド溶液に投入した後、常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタなどによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。その後生成された固体を濾過し真空乾燥して表題のメタロセン化合物を得た。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.21(s, 6H), 1.42(s, 9H), 1.72(s, 6H), 2.08(s, 6H), 6.92(s, 1H), 7.01(d, 2H), 7.19(m, 3H), 7.31(d, 2H), 7.39(d, 2H), 7.54(d, 1H), 8.32(d, 1H).
比較例８
リガンド化合物シクロペンタジエニルジメチル（２－イソプロピル－４－（４’－トリメチルシラニル－フェニル））インデニルシラン（Ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｙｌ－ｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｓｉｌａｎｅ）の製造
インデン（Ｉｎｄｅｎｅ）をＴＨＦに溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後シラン（Ｓｉｌａｎｅ、２ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩攪拌した。真空乾燥をした後ＴＨＦに溶かした。シクロペンタジエニルソデイウム／ＴＨＦ溶液（ＣＰＮａ／ＴＨＦ 溶液（ｓｏｌｕｔｉｏｎ）、１ ｅｑ．）を－２５℃でゆっくり滴加した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥し、シリカゲルカラム（ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ｃｏｌｕｍｎ）を用いて分離精製してリガンドを収得した。
インデン（Ｉｎｄｅｎｅ）をＴＨＦに溶かした後－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（１．０５ｅｑ）をゆっくり滴加した後、常温で３時間の間攪拌した。その後シラン（Ｓｉｌａｎｅ、２ｅｑ）を－１０℃で投入した後、常温で一晩攪拌した。真空乾燥をした後ＴＨＦに溶かした。シクロペンタジエニルソデイウム／ＴＨＦ溶液（ＣＰＮａ／ＴＨＦ 溶液（ｓｏｌｕｔｉｏｎ）、１ ｅｑ．）を－２５℃でゆっくり滴加した。その後常温で一晩攪拌し、水を利用してワークアップ（ｗｏｒｋ－ｕｐ）した後乾燥し、シリカゲルカラム（ｓｉｌｉｃａ ｇｅｌ ｃｏｌｕｍｎ）を用いて分離精製してリガンドを収得した。
遷移金属化合物シクロペンタジエニルジメチルシリルジメチル（２－イソプロピル－４－（４’－トリメチルシラニル－フェニル））インデニルジルコニウムジクロリド（Ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ｄｉｍｅｔｈｙｌ （２－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ－４－（４’－ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｙｌ－ｐｈｅｎｙｌ））ｉｎｄｅｎｙｌ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の製造
リガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比：２／１）に溶かして－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後常温で５時間の間攪拌した。フラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエンにスラリー（Ｓｌｕｒｒｙ）を作って投入した後常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタ（ｆｉｌｔｅｒ）などによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。黄色固体形態（Ｙｅｌｌｏｗ ｓｏｌｉｄ）で触媒前駆体を確保した。
リガンドをトルエン／エーテル（Ｅｔｈｅｒ）（体積比：２／１）に溶かして－２５℃でｎ－ＢｕＬｉ（２．０５ｅｑ）を投入した後常温で５時間の間攪拌した。フラスコにＺｒＣｌ４（１ｅｑ）をトルエンにスラリー（Ｓｌｕｒｒｙ）を作って投入した後常温で一晩攪拌した。反応が完了すると、溶媒を真空乾燥してジクロロメタンを再投入してフィルタ（ｆｉｌｔｅｒ）などによりＬｉＣｌを除去し、ろ液を真空乾燥し、トルエンを添加して常温で再結晶させた。黄色固体形態（Ｙｅｌｌｏｗ ｓｏｌｉｄ）で触媒前駆体を確保した。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3): 0.20(s, 6H), 0.23(s, 9H), 0.85(d, 6H), 2.38 (m, 1H), 6.40-6.50(m, 5H), 7.42-7.49 (m, 2H), 7.62(d, 2H), 7.82(d, 2H), 8.30(d, 2H).
＜担持触媒の製造＞
シリカ担体（ＳＰ２４１０） ３ｇをアルゴン（Ａｒ）気体の雰囲気下で２Ｌ反応器に入れ、１０重量％のメチルアルミノキサン（ＭＡＯ）トルエン溶液７６６ｍＬ（１３ｍｍｏｌ）を常温でゆっくり注入して９５℃で２４時間の間攪拌した。反応終結後、常温に冷まして１５分間放置してカニューレを利用して溶媒をデカント（ｄｅｃａｎｔ）した。トルエン４００ｍＬを入れて１分間攪拌して１５分間放置し、カニューレを利用して溶媒をデカントした。
シリカ担体（ＳＰ２４１０） ３ｇをアルゴン（Ａｒ）気体の雰囲気下で２Ｌ反応器に入れ、１０重量％のメチルアルミノキサン（ＭＡＯ）トルエン溶液７６６ｍＬ（１３ｍｍｏｌ）を常温でゆっくり注入して９５℃で２４時間の間攪拌した。反応終結後、常温に冷まして１５分間放置してカニューレを利用して溶媒をデカント（ｄｅｃａｎｔ）した。トルエン４００ｍＬを入れて１分間攪拌して１５分間放置し、カニューレを利用して溶媒をデカントした。
前記実施例および比較例で製造した遷移金属化合物それぞれ７０μｍｏｌをトルエン４０ｍＬに溶かした後、反応器にカニューレを利用してトランスファー（ｔｒａｎｓｆｅｒ）した。７５℃で５時間の間攪拌した後、常温に冷まして１５分間放置し、カニューレを利用して溶媒をデカントした。トルエン４００ｍＬを入れて１分間攪拌して１５分間放置し、カニューレを利用して溶媒をデカントすることを２回行った。同様の方法でヘキサン４００ｍＬを入れて１分間攪拌し、１５分間放置してカニューレを利用して溶媒をデカントした。
常温で真空下に５時間の間１次乾燥し、４５℃で４時間の間真空下に２次乾燥して担持触媒を収得した。
＜ポリプロピレン重合＞
２Ｌステンレス反応器を６５℃で真空乾燥した後冷却し、室温でトリエチルアルミニウム１．５ｍｍｏｌ、水素２ｂａｒおよびプロピレン７７０ｇを順次投入した。
２Ｌステンレス反応器を６５℃で真空乾燥した後冷却し、室温でトリエチルアルミニウム１．５ｍｍｏｌ、水素２ｂａｒおよびプロピレン７７０ｇを順次投入した。
その後１０分間攪拌し、温度を７０℃まで昇温させ、担持触媒メタロセン触媒をヘキサン（Ｈｅｘａｎｅ）２０ｍＬに溶かして窒素圧力で反応器に投入した。１時間の間重合工程を行った後、未反応のプロピレンはベントした。
前記実施例および比較例で製造した遷移金属化合物を使用したメタロセン担持触媒の活性と共に、前記担持触媒を使用して製造したホモポリプロピレンに対して次のような方法で物性評価を行った。その結果を下記表１に示した。
（１）溶融指数（ｍｅｌｔ ｉｎｄｅｘ，ＭＩ）
米国材料試験学会規格のＡＳＴＭ Ｄ １２３８に従い２３０℃で２．１６ｋｇ荷重で測定し、１０分間溶融して出た重合体の重量（ｇ）で示した。
米国材料試験学会規格のＡＳＴＭ Ｄ １２３８に従い２３０℃で２．１６ｋｇ荷重で測定し、１０分間溶融して出た重合体の重量（ｇ）で示した。
（２）溶融点（Ｔｍ）
示差走査熱量計（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ，ＤＳＣ、装置名：ＤＳＣ ２９２０，製造会社：ＴＡ ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ）を利用してプロピレン重合体の融点、溶融点（Ｔｍ）を測定した。具体的には、温度を上昇させて重合体を２２０℃まで加熱した後５分間その温度を維持し、その後２０℃まで下げて、再び温度を増加させてＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ，ＴＡ社製）曲線の頂点を溶融点とした。この時、温度の上昇と下降の速度は１０℃／ｍｉｎであり、溶融点は二番目の温度が上昇する区間で測定した結果を使用した。
示差走査熱量計（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ，ＤＳＣ、装置名：ＤＳＣ ２９２０，製造会社：ＴＡ ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ）を利用してプロピレン重合体の融点、溶融点（Ｔｍ）を測定した。具体的には、温度を上昇させて重合体を２２０℃まで加熱した後５分間その温度を維持し、その後２０℃まで下げて、再び温度を増加させてＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ，ＴＡ社製）曲線の頂点を溶融点とした。この時、温度の上昇と下降の速度は１０℃／ｍｉｎであり、溶融点は二番目の温度が上昇する区間で測定した結果を使用した。
（３）分子量分布（ＭＷＤ，ｐｏｌｙｄｉｓｐｅｒｓｉｔｙ ｉｎｄｅｘ）
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ，ｇｅｌ ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ，Ｗａｔｅｒ社製）を利用して重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）を測定し、重量平均分子量を数平均分子量で除して分子量分布（ＭＷＤ）を計算した。
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ，ｇｅｌ ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ，Ｗａｔｅｒ社製）を利用して重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）を測定し、重量平均分子量を数平均分子量で除して分子量分布（ＭＷＤ）を計算した。
具体的には、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置としてはＷａｔｅｒｓ ＰＬ－ＧＰＣ２２０機器を利用し、ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ ＰＬｇｅｌ ＭＩＸ－Ｂ ３００ｍｍ長さのカラムを用いた。この時、測定温度は１６０℃であり、１，２，４－トリクロロベンゼン（１，２，４－Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｅｎｅ）を溶媒として使用し、流速は１ｍＬ／ｍｉｎとした。実施例および比較例による重合体のサンプルはそれぞれＧＰＣ分析機器（ＰＬ－ＧＰ２２０）を利用してＢＨＴ ０．０１２５％含まれたトリクロロベンゼン（１，２，４－Ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｅｎｅ）で１６０℃、１０時間の間溶かして前処理し、１０ｍｇ／１０ｍＬの濃度に調剤した後、２００μＬの量で供給した。ポリスチレン標準試験片を利用して形成された検定曲線を利用してＭｗおよびＭｎの値を誘導した。ポリスチレン標準試験片の重量平均分子量は、２０００ｇ／ｍｏｌ、１００００ｇ／ｍｏｌ、３００００ｇ／ｍｏｌ、７００００ｇ／ｍｏｌ、２０００００ｇ／ｍｏｌ、７０００００ｇ／ｍｏｌ、２００００００ｇ／ｍｏｌ、４００００００ｇ／ｍｏｌ、１０００００００ｇ／ｍｏｌの９種を使用した。
前記表１を参照すると、本発明の一実施例による実施例１～１９のメタロセン化合物は、少ない水素量でも１２２８ｇ／１０ｍｉｎ～１４０９ｇ／１０ｍｉｎの高い溶融指数（ＭＩ２．１６）を有するポリプロピレンを生成し、これにより水素反応性が非常に良いことを確認することができる。また、実施例１～１９の場合、水素が多くなっても分子量分布（ＭＷＤ）を２．１５～２．３程度に狭く維持することを確認することができる。これと共に、実施例１～１９の場合、同じホモ（ｈｏｍｏ）重合であるが、Ｔｍが１４２℃～１４５℃で低くなることが分かり、そのため、ソフトなマルチフィラメントで卓越したポリプロピレンを製造できることを確認することができる。
反面、比較例１～８の場合は、高い溶融指数を達成するためには重合工程で過量の水素が投入されなければならず、比較例５、６、８の場合はこのように過量の水素を投入したにもかかわらず低い活性により生成された重合体の溶融指数測定ができなかった。具体的には、比較例１～４および比較例７の場合、インデニルリガンド２番位置に置換基がメチルまたはフェニルであるために水素反応性が顕著に劣り、重合工程に過量の水素が投入されなければならなかった。そのため分子量分布（ＭＷＤ）が２．４５～２．８２および２．４３で高く示され、溶融点（Ｔｍ）も１５２℃～１５３℃および１５０℃で高く示されることがわかる。特に、比較例５および８の場合はシクロペンタジエニル環に水素置換基のみ含まれることによってプロピレン重合時触媒のタクティシティー（ｔａｃｔｉｃｉｔｙ）が崩れてアタクチックポリプロピレン（ａｔａｃｔｉｃ ＰＰ）を形成したことがわかる。また、比較例６のように、インデニルリガンド４番位置に水素が置換された時も活性が劣ることにより溶融指数測定が不可能であることを確認した。
Claims (12)
- 下記化学式１で表される、遷移金属化合物：
Ｍは４族遷移金属であり、
Ｘ１およびＸ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲンであり、
Ｒ１およびＲ２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～２０アルキル、Ｃ２～２０アルケニル、Ｃ２～２０アルコキシアルキル、Ｃ６～２０アリール、Ｃ７～４０アルキルアリール、またはＣ７～４０アリールアルキルであり、
Ｒ３～Ｒ６は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～６ 直鎖アルキルであり、
Ｒ７はフェニル、Ｃ １～６ 直鎖または分枝鎖アルキルで置換されたフェニル、Ｃ １～６ 直鎖または分枝鎖アルキルシリルで置換されたフェニル、またはナフチルであり、
Ｒ８およびＲ９は互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ１～６ 直鎖アルキルである。 - Ｍはジルコニウム（Ｚｒ）またはハフニウム（Ｈｆ）である、請求項１に記載の遷移金属化合物。
- Ｒ１およびＲ２はそれぞれＣ１～８直鎖または分枝鎖アルキル、Ｃ２～１２直鎖または分枝鎖アルコキシアルキル、またはＣ６～１２アリールである、請求項１または２に記載の遷移金属化合物。
- 下記化学式１－１または化学式１－２で表されるものである、請求項１に記載の遷移金属化合物：
Ｍ、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２は請求項１で定義したとおりであり、
Ｒ１０～Ｒ１４ は互いに同一または相異し、それぞれ独立して水素、またはＣ１～２０アルキル、およびＣ１～２０アルキルシリルからなる群より選ばれた官能基であり、Ｒ １５ ～Ｒ ２１ は水素である。 - 下記構造式で表される化合物のいずれか一つである、請求項１に記載の遷移金属化合物：
- 請求項１から５のいずれか一項に記載の遷移金属化合物を含む、触媒組成物。
- 前記遷移金属化合物、および担体を含む、請求項６に記載の触媒組成物。
- 下記化学式２～４で表される化合物からなる群より選ばれた１種以上の助触媒をさらに含む、請求項６または７に記載の触媒組成物：
［化学式２］
－［Ａｌ（Ｒ２２）－Ｏ］ｍ－
前記化学式２において、
Ｒ２２は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
ｍは２以上の整数であり；
［化学式３］
Ｊ（Ｒ２３）３
前記化学式３において、
Ｒ２３は互いに同一または相異し、それぞれ独立してハロゲン、Ｃ１～２０アルキルまたはＣ１～２０ハロアルキルであり；
Ｊはアルミニウムまたはホウ素であり；
［化学式４］
［Ｅ－Ｈ］＋［ＺＱ４］－
前記化学式４において、
Ｅは中性またはカチオン性ルイス塩基であり；
Ｈは水素原子であり；
Ｚは１３族元素であり；
Ｑは、互いに同一または相異し、それぞれ独立してＣ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルであり、ここで前記Ｃ６～２０アリールまたはＣ１～２０アルキルは非置換かまたはハロゲン、Ｃ１～２０アルキル、Ｃ１～２０アルコキシおよびＣ６～２０フェノキシで構成される群より選ばれる一つ以上の置換基で置換される。 - 請求項６から８のいずれか一項に記載の触媒組成物の存在下で、プロピレン単量体を重合する段階を含む、ポリプロピレンの製造方法。
- 前記重合段階は、プロピレン単量体含有量を基準として水素ガス１５００ｐｐｍ以下を投入して行う、請求項９に記載のポリプロピレンの製造方法。
- 前記ポリプロピレンはホモ重合体である、請求項９または１０に記載のポリプロピレンの製造方法。
- 前記ポリプロピレンの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．３５以下であり、溶融指数（ＭＩ２．１６，２３０℃，２．１６ｋｇ荷重で測定した溶融指数）が１０００ｇ／１０ｍｉｎ～１５００ｇ／１０ｍｉｎであり、溶融点（Ｔｍ）が１４８℃以下である、請求項１１に記載のポリプロピレンの製造方法。
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