JP7184560B2 - ポリアルキレングリコール化合物 - Google Patents
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Description
本発明は、ポリアルキレングリコール化合物に関する。より詳しくは、洗剤等に有用なポリアルキレングリコール化合物に関する。
ポリアルキレングリコール鎖を有する化合物は、その鎖長や構成するアルキレンオキシドを適宜調整することによって親水性や疎水性、柔軟性や立体反発等の特性が付与され、洗剤用ビルダー、洗剤、水処理剤、スケール防止剤、分散剤等、種々の用途に用いられている。
これらの用途の中でも洗剤用途に用いられるものに関して、例えば特許文献１には、ポリオキシアルキレン系化合物であって、該ポリオキシアルキレン系化合物は、炭素数６以上のアリール基、炭素数１以上のアルキル基および炭素数２以上のアルケニル基から選ばれる疎水基を少なくとも２以上の末端に有し、該疎水基の内、少なくとも１の疎水基は、炭素数８以上のアリール基、炭素数８以上のアルキル基および炭素数８以上のアルケニル基から選ばれる疎水基であり、前記ポリオキシアルキレン系化合物は、更にオキシアルキレン基を有し、ポリオキシアルキレン系化合物１モルあたりのオキシアルキレン構造単位の含有量が１０～１００モルであり、上記疎水基は、エーテル結合および／または炭素炭素単結合によってポリオキシアルキレン基を含有する基と結合している、ポリオキシアルキレン系化合物が開示されている。
これらの用途の中でも洗剤用途に用いられるものに関して、例えば特許文献１には、ポリオキシアルキレン系化合物であって、該ポリオキシアルキレン系化合物は、炭素数６以上のアリール基、炭素数１以上のアルキル基および炭素数２以上のアルケニル基から選ばれる疎水基を少なくとも２以上の末端に有し、該疎水基の内、少なくとも１の疎水基は、炭素数８以上のアリール基、炭素数８以上のアルキル基および炭素数８以上のアルケニル基から選ばれる疎水基であり、前記ポリオキシアルキレン系化合物は、更にオキシアルキレン基を有し、ポリオキシアルキレン系化合物１モルあたりのオキシアルキレン構造単位の含有量が１０～１００モルであり、上記疎水基は、エーテル結合および／または炭素炭素単結合によってポリオキシアルキレン基を含有する基と結合している、ポリオキシアルキレン系化合物が開示されている。
近年、共働きの世帯の増加等により、家事の効率化を重視する傾向があり、洗濯時間を短縮することも求められている。上記の通り、特許文献１には、洗剤組成物として用いられる特定の構造で表されるポリアルキレングリコール化合物が開示されているが、洗浄速度の観点から本発明者が洗濯水の衣料等への浸透速度に着目したところ、従来のポリアルキレングリコール化合物は、洗濯水の衣料等への浸透速度においては改善の余地があった。
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、従来のポリアルキレングリコール化合物よりも洗濯水の衣料等への浸透速度を向上させるポリアルキレングリコール化合物を提供することを目的とする。
本発明者は、ポリアルキレングリコール化合物について種々検討したところ、少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物における疎水基を、分岐鎖を有する特定の炭素原子を有するものとすることにより、従来のポリアルキレングリコール化合物よりも洗濯水の衣料等への浸透速度が向上することを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
すなわち本発明は、少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物であって、上記ポリアルキレングリコール化合物は、下記式（１）；
（式中、Ｒ１、Ｒ２は、同一又は異なって、疎水基を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一方は、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する基であり、該第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものである。ＡＯは、同一又は異なって、オキシアルキレン基を表す。ｎはオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、３～１００の数である。Ｙ１、Ｙ２は、同一又は異なって、直接結合又は２価の連結基を表す。）で表されるポリアルキレングリコール化合物である。
上記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一方は、第２級炭素原子又は第３級炭素原子を介してポリアルキレングリコール鎖の酸素原子に結合していることが好ましい。
上記疎水基は、同一又は異なって、炭素数１～３０の直鎖アルキル基、炭素数３～３０の分岐アルキル基、炭素数２～３０の直鎖アルケニル基、炭素数３～３０の分岐アルケニル基又は炭素数６～３０のアリール基のいずれかであることが好ましい。
本発明はまた、上記ポリアルキレングリコール化合物と該化合物以外の洗剤添加剤とを含む洗剤組成物でもある。
本発明は更に、少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物を製造する方法であって、上記製造方法は、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物及び／又はアルキレンオキシド、並びに、疎水基含有化合物を原料として用いて、ポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基含有化合物由来の疎水基を導入する工程を含み、該ポリアルキレングリコール鎖含有化合物が有する疎水基、及び／又は、該疎水基を導入する工程においてポリアルキレングリコール鎖末端に導入された疎水基が、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有し、該第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものであるポリアルキレングリコール化合物の製造方法でもある。
上記ポリアルキレングリコール鎖含有化合物は、下記式（２）；
（式中、Ｒ１は、疎水基を表す。ＡＯは、同一又は異なって、オキシアルキレン基を表す。ｎはオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、３～１００の数である。）で表される化合物であり、上記疎水基含有化合物は、下記式（３）；
（式中、Ｒ２は、疎水基を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される化合物、又は、下記式（４）；
（式中、Ｒ２は、疎水基を表す。Ｒ３は、炭素数１～５のアルキレン基を表す。）で表される化合物であり、Ｒ２、Ｒ３の少なくとも一方は、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有し、該第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものであることが好ましい。
本発明のポリアルキレングリコール化合物は、上述の構成よりなり、従来のポリアルキレングリコール化合物よりも洗濯水の浸透速度を向上させることができるため、洗剤等に好適に用いることができる。
以下に本発明の好ましい形態について具体的に説明するが、本発明は以下の記載のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。なお、以下に記載される本発明の個々の好ましい形態を２又は３以上組み合わせた形態も、本発明の好ましい形態に該当する。
＜ポリアルキレングリコール化合物＞
本発明のポリアルキレングリコール化合物（以下、本発明のＰＡＧ化合物ともいう。）は、少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物であって、下記式（１）；
本発明のポリアルキレングリコール化合物（以下、本発明のＰＡＧ化合物ともいう。）は、少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物であって、下記式（１）；
（式中、Ｒ１、Ｒ２は、同一又は異なって、疎水基を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一方は、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する基であり、該第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものである。ＡＯは、同一又は異なって、オキシアルキレン基を表す。ｎはオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、３～１００の数である。Ｙ１、Ｙ２は、同一又は異なって、直接結合又は２価の連結基を表す。）で表される化合物である。
上記ＰＡＧ化合物における疎水基の少なくとも１つは、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有し、第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものである。
上記疎水基が第２級炭素原子を有し、第２級炭素原子が、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合している場合、疎水基は２本の分岐鎖を有することとなる。上記ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。好ましくは酸素原子である。より好ましくは第２級炭素原子が酸素原子と結合してエーテル構造を形成している形態であり、更に好ましくは第２級炭素原子がポリアルキレングリコール鎖末端の酸素原子と結合している形態である。
以下、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合する第２級炭素原子を第２級炭素原子（Ｃｓ）とも称する。
上記疎水基が第３級炭素原子を有する場合、疎水基は２又は３本の分岐鎖を有することとなる。
上記疎水基が第４級炭素原子を有する場合、疎水基は３本の分岐鎖を有することとなる。
本発明のＰＡＧ化合物がこのような特定の炭素原子を有する疎水基、すなわち、分岐鎖を有する疎水基をポリアルキレングリコール鎖末端に有することで、炭素数が同じである直鎖の疎水基を有する場合と比較してＰＡＧ化合物の流体力学半径がコンパクトになり、これによりＰＡＧ化合物の運動性が高まるため、衣料等への吸着速度が上がり、洗濯水の衣料等への浸透速度が上がると考えられる。また、本発明のＰＡＧ化合物は、上記構造を有することにより疎水性と親水性とのバランスに優れるため、親水性汚れと疎水性汚れが複合した複合汚れに対する洗浄力、再汚染防止能にも優れる。
上記ＰＡＧ化合物における疎水基の少なくとも１つは、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有し、第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものである。
上記疎水基が第２級炭素原子を有し、第２級炭素原子が、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合している場合、疎水基は２本の分岐鎖を有することとなる。上記ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。好ましくは酸素原子である。より好ましくは第２級炭素原子が酸素原子と結合してエーテル構造を形成している形態であり、更に好ましくは第２級炭素原子がポリアルキレングリコール鎖末端の酸素原子と結合している形態である。
以下、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合する第２級炭素原子を第２級炭素原子（Ｃｓ）とも称する。
上記疎水基が第３級炭素原子を有する場合、疎水基は２又は３本の分岐鎖を有することとなる。
上記疎水基が第４級炭素原子を有する場合、疎水基は３本の分岐鎖を有することとなる。
本発明のＰＡＧ化合物がこのような特定の炭素原子を有する疎水基、すなわち、分岐鎖を有する疎水基をポリアルキレングリコール鎖末端に有することで、炭素数が同じである直鎖の疎水基を有する場合と比較してＰＡＧ化合物の流体力学半径がコンパクトになり、これによりＰＡＧ化合物の運動性が高まるため、衣料等への吸着速度が上がり、洗濯水の衣料等への浸透速度が上がると考えられる。また、本発明のＰＡＧ化合物は、上記構造を有することにより疎水性と親水性とのバランスに優れるため、親水性汚れと疎水性汚れが複合した複合汚れに対する洗浄力、再汚染防止能にも優れる。
本発明のＰＡＧ化合物における疎水基の少なくとも１つは、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する限り、特に制限されない。
上記ＰＡＧ化合物は、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を、ポリアルキレングリコール鎖の１の末端に１つ有していてもよく、２以上の末端にそれぞれ有していてもよい。
本発明のＰＡＧ化合物は、ポリアルキレングリコール鎖末端の疎水基の少なくとも１つが第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有するものである限り、すなわち、疎水基の少なくとも１つが分岐鎖を有するものである限り、他の疎水基は分岐構造を有しないものであってもよい。
本発明のＰＡＧ化合物は、ポリアルキレングリコール鎖末端の疎水基の少なくとも１つが、第２級炭素原子又は第３級炭素原子を介してポリアルキレングリコール鎖の酸素原子に結合していることが好ましい。
上記ＰＡＧ化合物は、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を、ポリアルキレングリコール鎖の１の末端に１つ有していてもよく、２以上の末端にそれぞれ有していてもよい。
本発明のＰＡＧ化合物は、ポリアルキレングリコール鎖末端の疎水基の少なくとも１つが第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有するものである限り、すなわち、疎水基の少なくとも１つが分岐鎖を有するものである限り、他の疎水基は分岐構造を有しないものであってもよい。
本発明のＰＡＧ化合物は、ポリアルキレングリコール鎖末端の疎水基の少なくとも１つが、第２級炭素原子又は第３級炭素原子を介してポリアルキレングリコール鎖の酸素原子に結合していることが好ましい。
上記式（１）のＲ１、Ｒ２における疎水基は、同一又は異なって、炭素数１～３０の直鎖アルキル基、炭素数３～３０の分岐アルキル基、炭素数２～３０の直鎖アルケニル基、炭素数３～３０の分岐アルケニル基又は炭素数６～３０のアリール基のいずれかであることが好ましい。
上記アルキル基、アルケニル基の炭素数としては、好ましくは３～２５であり、より好ましくは４～２２であり、更に好ましくは６～２０であり、一層好ましくは８～１８、特に好ましくは１０～１６、最も好ましくは１２～１４である。
上記アリール基の炭素数としては、好ましくは６～２５であり、より好ましくは８～２２であり、更に好ましくは１０～２０である。
上記アルキル基、アルケニル基の炭素数としては、好ましくは３～２５であり、より好ましくは４～２２であり、更に好ましくは６～２０であり、一層好ましくは８～１８、特に好ましくは１０～１６、最も好ましくは１２～１４である。
上記アリール基の炭素数としては、好ましくは６～２５であり、より好ましくは８～２２であり、更に好ましくは１０～２０である。
炭素数１～３０の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基（アミル基）、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、ｎ－イコシル基、ｎ－ヘンイコシル基、ｎ－ドコシル基等が挙げられる。
炭素数３～３０の分岐アルキル基としては、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、１－メチルブチル基、１－エチルプロピル基、２－メチルブチル基、イソアミル基、１，２－ジメチルプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、ｔｅｒｔ－アミル基、１，３－ジメチルブチル基、３，３－ジメチルブチル基、１－メチルペンチル基、１－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、２－エチル－２－メチルプロピル基、ｓｅｃ－ヘプチル基、ｔｅｒｔ－ヘプチル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、イソオクチル基、１－エチルヘキシル基、１－プロピルペンチル基、２－エチルヘキシル基、２－プロピルペンチル基、ｓｅｃ－ノニル基、ｔｅｒｔ－ノニル基、ネオノニル基、１－エチルヘプチル基、１－プロピルヘキシル基、１－ブチルペンチル基、２－エチルヘプチル基、２－プロピルヘキシル基、２－ブチルペンチル基、イソデシル基、ｓｅｃ－デシル基、ｔｅｒｔ－デシル基、ネオデシル基、１－エチルオクチル基、１－プロピルヘプチル基、１－ブチルヘキシル基、２－エチルオクチル基、２－プロピルヘプチル基、２－ブチルヘキシル基、イソウンデシル基、ｓｅｃ－ウンデシル基、ｔｅｒｔ－ウンデシル基、ネオウンデシル基、１－エチルノニル基、１－プロピルオクチル基、１－ブチルヘプチル基、１－ペンチルヘキシル基、２－エチルノニル基、２－プロピルオクチル基、２－ブチルヘプチル基、２－ペンチルヘキシル基、イソドデシル基、ｓｅｃ－ドデシル基、ｔｅｒｔ－ドデシル基、ネオドデシル基、１－エチルデシル基、１－プロピルノニル基、１－ブチルオクチル基、１－ペンチルヘプチル基、２－エチルデシル基、２－プロピルノニル基、２－ブチルオクチル基、２－ペンチルヘプチル基、イソトリデシル基、ｓｅｃ－トリデシル基、ｔｅｒｔ－トリデシル基、ネオトリデシル基、１－エチルウンデシル基、１－プロピルデシル基、１－ブチルノニル基、１－ペンチルオクチル基、１－ヘキシルヘプチル基、２－エチルウンデシル基、２－プロピルデシル基、２－ブチルオクチル基、２－ペンチルオクチル基、２－ヘキシルヘプチル基、イソテトラデシル基、ｓｅｃ－テトラデシル基、ｔｅｒｔ－テトラデシル基、ネオテトラデシル基、１－エチルドデシル基、１－プロピルウンデシル基、１－ブチルデシル基、１－ペンチルノニル基、１－ヘキシルオクチル基、２－エチルドデシル基、２－プロピルウンデシル基、２－ブチルデシル基、２－ペンチルノニル基、２－ヘキシルオクチル基、イソペンタデシル基、ｓｅｃ－ペンタデシル基、ｔｅｒｔ－ペンタデシル基、ネオペンタデシル基、イソヘキサデシル基、ｓｅｃ－ヘキサデシル基、ｔｅｒｔ－ヘキサデシル基、ネオヘキサデシル基、イソヘプタデシル基、ｓｅｃ－ヘプタデシル基、ｔｅｒｔ－ヘプタデシル基、ネオヘプタデシル基、イソオクタデシル（イソステアリル）基、ｓｅｃ－オクタデシル基、ｔｅｒｔ－オクタデシル基、ネオオクタデシル基、イソノナデシル基、ｓｅｃ－ノナデシル基、ｔｅｒｔ－ノナデシル基、ネオノナデシル基、イソイコシル基、ｓｅｃ－イコシル基、ｔｅｒｔ－イコシル基、ネオイコシル基、イソヘンイコシル基、ｓｅｃ－ヘンイコシル基、ｔｅｒｔ－ヘンイコシル基、ネオヘンイコシル基、イソドコシル基、ｓｅｃ－ドコシル基、ｔｅｒｔ－ドコシル基、ネオドコシル基、イソトリコシル基、ｓｅｃ－トリコシル基、ｔｅｒｔ－トリコシル基、ネオトリコシル基、イソテトラコシル基、ｓｅｃ－テトラコシル基、ｔｅｒｔ－テトラコシル基、ネオテトラコシル基、イソペンタコシル基、ｓｅｃ－ペンタコシル基、ｔｅｒｔ－ペンタコシル基、ネオペンタコシル基、イソヘキサコシル基、ｓｅｃ－ヘキサコシル基、ｔｅｒｔ－ヘキサコシル基、ネオヘキサコシル基、イソヘプタコシル基、ｓｅｃ－ヘプタコシル基、ｔｅｒｔ－ヘプタコシル基、ネオヘプタコシル基、イソオクタコシル基、ｓｅｃ－オクタコシル基、ｔｅｒｔ－オクタコシル基、ネオオクタコシル基、イソノナコシル基、ｓｅｃ－ノナコシル基、ｔｅｒｔ－ノナコシル基、ネオノナコシル基、イソトリアコンチル基、ｓｅｃ－トリアコンチル基、ｔｅｒｔ－トリアコンチル基等が挙げられる。
炭素数２～３０の直鎖アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ドデセニル基、オクタデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
炭素数３～３０の分岐アルケニル基としては、イソプロペニル基、イソブテニル基、イソペンテニル基、イソヘキセニル基、イソヘプテニル基、イソオクテニル基、イソノネニル基、イソデセニル基、イソドデセニル基、イソオクタデセニル基、イソイコセニル基等が挙げられる。
炭素数３～３０の分岐アルケニル基としては、イソプロペニル基、イソブテニル基、イソペンテニル基、イソヘキセニル基、イソヘプテニル基、イソオクテニル基、イソノネニル基、イソデセニル基、イソドデセニル基、イソオクタデセニル基、イソイコセニル基等が挙げられる。
炭素数６～３０のアリール基としては、例えば、フェニル基；ナフチル基；ベンジル基、１－フェニルエチル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、４－フェニルブチル基、スチリル基（Ｐｈ－ＣＨ＝Ｃ－基）、シンナミル基（Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨＣＨ２－基）、１－ベンゾシクロブテニル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
上記第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基としては分岐の炭化水素基であることが好ましい。分岐の炭化水素基の炭素数としては３～３０であることが好ましい。より好ましくは３～２５であり、更に好ましくは４～２２であり、一層好ましくは６～２０であり、更に一層好ましくは８～１８、特に好ましくは１０～１６、最も好ましくは１２～１４である。
上記分岐の炭化水素基は、分岐のアルキル基であることが好ましい。分岐のアルキル基の具体例は上述のとおりである。
分岐のアルキル基として好ましくは、下記式（５）；
上記分岐の炭化水素基は、分岐のアルキル基であることが好ましい。分岐のアルキル基の具体例は上述のとおりである。
分岐のアルキル基として好ましくは、下記式（５）；
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、水素原子、又は、炭素数１～２０のアルキル基を表す。ただし、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６のうち少なくとも２つは炭素数１～２０のアルキル基である。）で表される分岐構造を有するものである。疎水基がこのような分岐構造を有することにより、ＰＡＧ化合物の流体力学半径がよりコンパクトになり、洗濯水の衣料等への浸透速度がより向上する。
本発明のＰＡＧ化合物は、疎水基の少なくとも１つが上記式（５）で表される基であることが好ましい。このような構造の疎水基を有することにより、ＰＡＧ化合物の流体力学半径がよりコンパクトになり、洗濯水の衣料等への浸透速度がより向上する。
また、本発明のＰＡＧ化合物において、上記式（５）で表される分岐のアルキル基がポリアルキレングリコール鎖末端の酸素原子に結合していることが更に好ましい。
すなわち、本発明のＰＡＧ化合物が有する少なくとも１つの疎水基が、第２級炭素原子（Ｃｓ）を有するものである形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。
本発明のＰＡＧ化合物は、疎水基の少なくとも１つが上記式（５）で表される基であることが好ましい。このような構造の疎水基を有することにより、ＰＡＧ化合物の流体力学半径がよりコンパクトになり、洗濯水の衣料等への浸透速度がより向上する。
また、本発明のＰＡＧ化合物において、上記式（５）で表される分岐のアルキル基がポリアルキレングリコール鎖末端の酸素原子に結合していることが更に好ましい。
すなわち、本発明のＰＡＧ化合物が有する少なくとも１つの疎水基が、第２級炭素原子（Ｃｓ）を有するものである形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記式（５）のＲ４、Ｒ５、Ｒ６におけるアルキル基は、直鎖構造であっても分岐構造を有するものであってもよい。
直鎖及び分岐のアルキル基の具体例は上述のとおりである。
上記Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６のうち少なくとも２つのアルキル基の炭素数としては２～１８が好ましい。より好ましくは４～１６であり、更に好ましくは５～１４であり、特に好ましくは６～１２である。
上記式（５）において、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６のうち２つが炭素数１～２０のアルキル基であることが好ましい。
上記式（５）において、Ｒ４、Ｒ５のそれぞれが炭素数６～１２のアルキル基であって、Ｒ６が水素原子である形態は本発明の好ましい実施形態の１つである。
直鎖及び分岐のアルキル基の具体例は上述のとおりである。
上記Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６のうち少なくとも２つのアルキル基の炭素数としては２～１８が好ましい。より好ましくは４～１６であり、更に好ましくは５～１４であり、特に好ましくは６～１２である。
上記式（５）において、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６のうち２つが炭素数１～２０のアルキル基であることが好ましい。
上記式（５）において、Ｒ４、Ｒ５のそれぞれが炭素数６～１２のアルキル基であって、Ｒ６が水素原子である形態は本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記式（１）中、ＡＯは、「同一又は異なって、」オキシアルキレン基を表すが、これは、ポリアルキレングリコール中にｎ個存在するＡＯのオキシアルキレン基が全て同一であってもよく、異なっていてもよいことを意味する。オキシアルキレン基の炭素数としては、２～１８が好ましく、より好ましくは２～１０であり、更に好ましくは２～８であり、特に好ましくは２～４である。
上記式（１）中、ＡＯで表されるオキシアルキレン基は、アルキレンオキシド付加物である。このようなアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、イソブチレンオキシド、１－ブテンオキシド、２－ブテンオキシド、スチレンオキシド等の炭素数２～８のアルキレンオキシドが挙げられる。より好ましくは、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等の炭素数２～４のアルキレンオキシドであり、更に好ましくは、エチレンオキシド、プロピレンオキシドである。
また、上記ポリアルキレングリコールが、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、スチレンオキシド等の中から選ばれる任意の２種類以上のアルキレンオキシド付加物である場合、ランダム付加、ブロック付加、交互付加等のいずれの形態であってもよい。
オキシアルキレン基におけるアルキレン基として具体的には、エチレン（－ＣＨ２ＣＨ２－）、トリメチレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）、テトラメチレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）等の、直鎖のアルキレン基；エチリデン［－ＣＨ（ＣＨ３）－］、プロピレン［－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－］、プロピリデン［－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－］、イソプロピリデン［－Ｃ（ＣＨ３）２－］、ブチレン［－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－］、イソブチレン［－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－］、ブチリデン［－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－］、イソブチリデン［－ＣＨ（ＣＨ（ＣＨ３）２）－］等の分岐鎖のアルキレン基等が挙げられる。
なお、親水性と疎水性とのバランス確保のため、ポリアルキレングリコール中のオキシアルキレン基として、オキシエチレン基を必須成分として有することが好ましく、５０モル％以上がオキシエチレン基であることがより好ましく、９０モル％以上がオキシエチレン基であることが更に好ましい。
また、上記ポリアルキレングリコールが、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、スチレンオキシド等の中から選ばれる任意の２種類以上のアルキレンオキシド付加物である場合、ランダム付加、ブロック付加、交互付加等のいずれの形態であってもよい。
オキシアルキレン基におけるアルキレン基として具体的には、エチレン（－ＣＨ２ＣＨ２－）、トリメチレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）、テトラメチレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）等の、直鎖のアルキレン基；エチリデン［－ＣＨ（ＣＨ３）－］、プロピレン［－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－］、プロピリデン［－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－］、イソプロピリデン［－Ｃ（ＣＨ３）２－］、ブチレン［－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－］、イソブチレン［－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－］、ブチリデン［－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－］、イソブチリデン［－ＣＨ（ＣＨ（ＣＨ３）２）－］等の分岐鎖のアルキレン基等が挙げられる。
なお、親水性と疎水性とのバランス確保のため、ポリアルキレングリコール中のオキシアルキレン基として、オキシエチレン基を必須成分として有することが好ましく、５０モル％以上がオキシエチレン基であることがより好ましく、９０モル％以上がオキシエチレン基であることが更に好ましい。
上記式（１）中、ｎは、オキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、３～１００である。好ましくは５～８０であり、より好ましくは１０～７０であり、更に好ましくは２０～６０であり、特に好ましくは３０～５０である。
また、本発明のＰＡＧ化合物において、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基の炭素数が３～３０であって、かつ、ｎが１０～７０であることが好ましい。これにより本発明のＰＡＧ化合物の親水性と疎水性のバランスがより好適な範囲となり、洗濯水の衣料等への浸透速度がより向上する。
より好ましくは上記疎水基の炭素数が１２～１４であって、ｎが３０～５０である。
また、本発明のＰＡＧ化合物において、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基の炭素数が３～３０であって、かつ、ｎが１０～７０であることが好ましい。これにより本発明のＰＡＧ化合物の親水性と疎水性のバランスがより好適な範囲となり、洗濯水の衣料等への浸透速度がより向上する。
より好ましくは上記疎水基の炭素数が１２～１４であって、ｎが３０～５０である。
上記式（１）において、Ｙ１、Ｙ２は、同一又は異なって、直接結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、２価の有機基が挙げられる。好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１～５の炭化水素基である。置換基としては、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、エーテル基、アミノ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられ、好ましくは水酸基、エーテル基である。
２価の連結基として好ましくは－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－である。
Ｒ１、Ｒ２が、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基である場合、Ｙ１、Ｙ２として好ましくは、直接結合である。
なお本発明のＰＡＧ化合物の構造を同定する方法としては、当業者が適宜選択して行えばよく、例えば、１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲ、ＤＥＰＴ１３５－ＮＭＲ等の分析装置を用いて簡便に測定できる。
２価の連結基として好ましくは－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－である。
Ｒ１、Ｒ２が、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基である場合、Ｙ１、Ｙ２として好ましくは、直接結合である。
なお本発明のＰＡＧ化合物の構造を同定する方法としては、当業者が適宜選択して行えばよく、例えば、１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲ、ＤＥＰＴ１３５－ＮＭＲ等の分析装置を用いて簡便に測定できる。
＜ポリアルキレングリコール化合物の製造方法＞
本発明のＰＡＧ化合物の製造方法は、少なくとも２以上のポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基を有するものであって、疎水基の少なくとも１つが、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有し、該第２級炭素原子が炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものであるポリアルキレングリコール化合物を製造する限り特に制限されないが、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物及び／又はアルキレンオキシド、並びに、疎水基含有化合物を原料として用いて、ポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基含有化合物由来の疎水基を導入する工程を含み、該ポリアルキレングリコール鎖含有化合物が有する疎水基、及び／又は、該疎水基を導入する工程においてポリアルキレングリコール鎖末端に導入された疎水基が、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有し、該第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものである製造方法が好ましい。
本発明のＰＡＧ化合物の製造方法は、少なくとも２以上のポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基を有するものであって、疎水基の少なくとも１つが、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有し、該第２級炭素原子が炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものであるポリアルキレングリコール化合物を製造する限り特に制限されないが、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物及び／又はアルキレンオキシド、並びに、疎水基含有化合物を原料として用いて、ポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基含有化合物由来の疎水基を導入する工程を含み、該ポリアルキレングリコール鎖含有化合物が有する疎水基、及び／又は、該疎水基を導入する工程においてポリアルキレングリコール鎖末端に導入された疎水基が、第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有し、該第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するものである製造方法が好ましい。
上記疎水基導入工程における疎水基導入方法としては、例えば、（ｉ）疎水基含有化合物とアルキレンオキシドとを反応させる第１工程と、得られた反応物に更に疎水基含有化合物を反応させる第２工程を行う方法、（ｉｉ）ポリアルキレングリコール鎖含有化合物と疎水基含有化合物とを反応させる方法等が挙げられる。好ましくは（ｉｉ）の方法である。
＜方法（ｉ）＞
上記方法（ｉ）におけるアルキレンオキシドの具体例及び好ましい例は、上述のとおりである。
方法（ｉ）の第１工程で用いる疎水基含有化合物は、疎水基と、アルキレンオキシドと反応性を有する官能基とを有する。
また、第２工程で用いる疎水基含有化合物は、疎水基と、第１工程で得られた反応物のポリアルキレングリコール鎖末端の水酸基と反応性を有する官能基とを有する。
方法（ｉ）では、アルキレンオキシドに対して第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を少なくとも１つ導入するために、第１工程、第２工程の少なくとも一方で用いる疎水基含有化合物は、下記の特定の第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を有していればよい。上記疎水基が第２級炭素原子を有するものである場合、第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するもの、又は、アルキレンオキシド若しくは水酸基と反応性を有する官能基が有するヘテロ原子に結合するものである。
上記方法（ｉ）におけるアルキレンオキシドの具体例及び好ましい例は、上述のとおりである。
方法（ｉ）の第１工程で用いる疎水基含有化合物は、疎水基と、アルキレンオキシドと反応性を有する官能基とを有する。
また、第２工程で用いる疎水基含有化合物は、疎水基と、第１工程で得られた反応物のポリアルキレングリコール鎖末端の水酸基と反応性を有する官能基とを有する。
方法（ｉ）では、アルキレンオキシドに対して第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を少なくとも１つ導入するために、第１工程、第２工程の少なくとも一方で用いる疎水基含有化合物は、下記の特定の第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を有していればよい。上記疎水基が第２級炭素原子を有するものである場合、第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するもの、又は、アルキレンオキシド若しくは水酸基と反応性を有する官能基が有するヘテロ原子に結合するものである。
上記アルキレンオキシドと反応性を有する官能基としては特に制限されないが、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、グリシジル基、アミノ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。好ましくは水酸基である。
上記第１工程で得られた反応物のポリアルキレングリコール鎖末端の水酸基と反応性を有する官能基としては例えば、ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジル基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられ、好ましくはハロゲン原子、グリシジル基である。
第２工程で用いる疎水基含有化合物の好ましい形態は、後述する方法（ｉｉ）で用いる疎水基含有化合物と同様である。
上記第１工程で得られた反応物のポリアルキレングリコール鎖末端の水酸基と反応性を有する官能基としては例えば、ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジル基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられ、好ましくはハロゲン原子、グリシジル基である。
第２工程で用いる疎水基含有化合物の好ましい形態は、後述する方法（ｉｉ）で用いる疎水基含有化合物と同様である。
＜方法（ｉｉ）＞
上記方法（ｉｉ）におけるポリアルキレングリコール鎖含有化合物（以下、ＰＡＧ鎖含有化合物ともいう。）は、ポリアルキレングリコール鎖を有するものであれば、ポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基を有していても、有していなくてもよい。
ＰＡＧ鎖含有化合物として好ましくは疎水基を１つ有するものであり、より好ましくは下記式（２）；
上記方法（ｉｉ）におけるポリアルキレングリコール鎖含有化合物（以下、ＰＡＧ鎖含有化合物ともいう。）は、ポリアルキレングリコール鎖を有するものであれば、ポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基を有していても、有していなくてもよい。
ＰＡＧ鎖含有化合物として好ましくは疎水基を１つ有するものであり、より好ましくは下記式（２）；
（式中、Ｒ１は、疎水基を表す。ＡＯは、同一又は異なって、オキシアルキレン基を表す。ｎはオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、３～１００の数である。）で表される化合物である。上記Ｒ１、ＡＯ、ｎは、上述のとおりである。
上記ＰＡＧ鎖含有化合物が、ポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基を有している場合、疎水基は、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有していても、有していなくてもよい。
ポリアルキレングリコール鎖含有化合物として好ましくは第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を有するものである。
ポリアルキレングリコール鎖含有化合物として好ましくは第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を有するものである。
上記ポリアルキレングリコール鎖含有化合物が第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を有する場合、方法（ｉｉ）で用いる疎水基含有化合物は疎水基を有する限り特に制限されない。疎水基の具体例は及び好ましい例は、式（１）のＲ１、Ｒ２における疎水基と同様である。
方法（ｉｉ）で用いる疎水基含有化合物は、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物のＰＡＧ鎖末端の水酸基等と反応性を有する官能基を有することが好ましい。また上記ＰＡＧ鎖末端が置換基等で置換されている場合、疎水基含有化合物は該置換基と反応性を有する官能基を有することが好ましい。上記官能基としては例えば、ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジル基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられ、好ましくはハロゲン原子、グリシジル基である。
上記疎水基含有化合物としては、下記式（３）；
方法（ｉｉ）で用いる疎水基含有化合物は、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物のＰＡＧ鎖末端の水酸基等と反応性を有する官能基を有することが好ましい。また上記ＰＡＧ鎖末端が置換基等で置換されている場合、疎水基含有化合物は該置換基と反応性を有する官能基を有することが好ましい。上記官能基としては例えば、ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジル基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられ、好ましくはハロゲン原子、グリシジル基である。
上記疎水基含有化合物としては、下記式（３）；
（式中、Ｒ２は、疎水基を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される化合物、又は、下記式（４）；
（式中、Ｒ２は、疎水基を表す。Ｒ３は、炭素数１～５のアルキレン基を表す。）で表される化合物であることが好ましい。
上記式（２）～（４）において、Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一方が、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有するものであればよい。Ｒ１、Ｒ２における疎水基としては、上述の炭素数１～３０の直鎖アルキル基、炭素数３～３０の分岐アルキル基、炭素数２～３０の直鎖アルケニル基、炭素数３～３０の分岐アルケニル基又は炭素数６～３０のアリール基のいずれかであることが好ましい。
好ましくはＲ１が第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有するものである。Ｒ１、Ｒ２の両方が第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有するものであってもよい。
第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基の好ましい形態は上述のとおりである。
好ましくはＲ１が第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有するものである。Ｒ１、Ｒ２の両方が第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有するものであってもよい。
第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基の好ましい形態は上述のとおりである。
上記式（３）のＸにおけるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、好ましくは塩素である。
上記式（３）で表される化合物として好ましくは、炭素数１～３０のハロゲン化アルキルであり、具体的にはメチルクロライド、エチルクロライド、プロピルクロライド、ブチルクロライド、ペンチルクロライド、ヘキシルクロライド、ヘプチルクロライド、オクチルクロライド、ノニルクロライド、デシルクロライド、ウンデシルクロライド、ドデシルクロライド（ラウリルクロライド）、トリデシルクロライド、テトラデシルクロライド、ペンタデシルクロライド、ヘキサデシルクロライド、ヘプタデシルクロライド、オクタデシルクロライド、ノナデシルクロライド、エイコサニルクロライド等が挙げられる。
これらの中でも好ましくは炭素数４～２０のハロゲン化アルキルであり、ハロゲン化アルキルの炭素数としてより好ましくは６～１８であり、更に好ましくは８～１６である。
上記式（３）で表される化合物として好ましくは、炭素数１～３０のハロゲン化アルキルであり、具体的にはメチルクロライド、エチルクロライド、プロピルクロライド、ブチルクロライド、ペンチルクロライド、ヘキシルクロライド、ヘプチルクロライド、オクチルクロライド、ノニルクロライド、デシルクロライド、ウンデシルクロライド、ドデシルクロライド（ラウリルクロライド）、トリデシルクロライド、テトラデシルクロライド、ペンタデシルクロライド、ヘキサデシルクロライド、ヘプタデシルクロライド、オクタデシルクロライド、ノナデシルクロライド、エイコサニルクロライド等が挙げられる。
これらの中でも好ましくは炭素数４～２０のハロゲン化アルキルであり、ハロゲン化アルキルの炭素数としてより好ましくは６～１８であり、更に好ましくは８～１６である。
上記式（４）のＲ３は、炭素数１～５のアルキレン基であり、アルキレン基の炭素数として好ましくは１～４であり、より好ましくは１～３であり、特に好ましくは１～２であり、最も好ましくは１である。
上記式（４）で表される化合物として好ましくは、炭素数４～３０のアルキルグリシジルエーテルであり、具体的にはメチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、ヘプタデシルグリシジルエーテル等が挙げられる。
これらの中でも好ましくは炭素数７～２０のアルキルグリシジルエーテルであり、アルキルグリシジルエーテルの炭素数としてより好ましくは１１～１８であり、更に好ましくは１５～１７である。
上記式（４）で表される化合物として好ましくは、炭素数４～３０のアルキルグリシジルエーテルであり、具体的にはメチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、ヘプタデシルグリシジルエーテル等が挙げられる。
これらの中でも好ましくは炭素数７～２０のアルキルグリシジルエーテルであり、アルキルグリシジルエーテルの炭素数としてより好ましくは１１～１８であり、更に好ましくは１５～１７である。
上記方法（ｉｉ）で用いるポリアルキレングリコール鎖含有化合物が、第２級炭素原子（Ｃｓ）、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を有しないものである場合、方法（ｉｉ）における疎水基導入工程では、疎水基含有化合物として、下記特定の第２級炭素原子、第３級炭素原子及び第４級炭素原子の少なくともいずれか１つを有する疎水基を有する化合物を用いる。上記疎水基が、第２級炭素原子を有するものである場合、第２級炭素原子は、炭素原子と結合するヘテロ原子に結合するもの、又は、ＰＡＧ鎖末端の水酸基と反応性を有する官能基が有するヘテロ原子に結合するものである。上記ＰＡＧ鎖末端の水酸基と反応性を有する官能基としては、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基が挙げられる。
本発明のＰＡＧ化合物の製造方法（ｉ）の第１工程において、アルキレンオキシドの使用量は、疎水基含有化合物１００モル％に対して３００～１００００モル％であることが好ましい。より好ましくは３０００～５０００モル％である。
第２工程における疎水基含有化合物の使用量は特に制限されないが、第１工程で得られた反応物１００モル％に対して、９０～５００モル％であることが好ましい。より好ましくは１００～３００モル％である。
第２工程における疎水基含有化合物の使用量は特に制限されないが、第１工程で得られた反応物１００モル％に対して、９０～５００モル％であることが好ましい。より好ましくは１００～３００モル％である。
上記（ｉｉ）の方法において、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物が疎水基を有しない場合、疎水基含有化合物の使用量は、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物１００モル％に対して１８０～１０００モル％であることが好ましい。より好ましくは２００～６００モル％である。
またポリアルキレングリコール鎖含有化合物が疎水基を有する場合、疎水基含有化合物の使用量は、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物１００モル％に対して９０～５００モル％であることが好ましい。より好ましくは１００～３００モル％である。
またポリアルキレングリコール鎖含有化合物が疎水基を有する場合、疎水基含有化合物の使用量は、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物１００モル％に対して９０～５００モル％であることが好ましい。より好ましくは１００～３００モル％である。
上記本発明のＰＡＧ化合物の製造方法における、（ｉ）の方法の第１工程、第２工程、及び、上記（ｉｉ）の方法の反応工程では、反応速度の観点から反応触媒を用いることが好ましい。反応触媒としては、硫酸、リン酸などの鉱酸、四塩化スズ、三フッ化ホウ素等のルイス酸等の酸触媒；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物等の塩基性触媒が挙げられる。好ましくは塩基性触媒であり、より好ましくは水酸化ナトリウムである。
上記（ｉ）の方法の第１工程、第２工程、及び、上記（ｉｉ）の方法の反応工程における反応温度としては特に制限されないが、２０～１８０℃が好ましく、より好ましくは３０～１６０℃である。また、反応圧力としては、常圧から２０Ｋｇ／ｃｍ２Ｇ以下が好ましく、より好ましくは１～１０Ｋｇ／ｃｍ２Ｇである。
上記（ｉ）の方法の第１工程、第２工程、及び、上記（ｉｉ）の方法の反応工程では、窒素ガスなどの不活性ガスの雰囲気下で行なうことが好ましい。また、反応後に窒素ガスなどの不活性ガスの雰囲気下で保存してもよい。
また、上記工程において、溶媒を用いてもよいが、無溶媒で反応を行うことが好ましい。
また、上記工程において、溶媒を用いてもよいが、無溶媒で反応を行うことが好ましい。
本発明のＰＡＧ化合物の製造方法では、必要に応じて、上記（ｉ）の方法の第１工程、第２工程、及び、上記（ｉｉ）の方法の反応工程の後または途中に、精製工程を設けてもよい。
精製工程としては、残存原料、副生成物、水分、触媒の残渣等を除去する工程や、触媒を中和する工程等が挙げられる。
触媒を中和する工程としては、例えば、水酸化ナトリウムおよび／または水酸化カリウム存在下で反応した場合、その際の中和剤としては硫酸、酢酸、あるいは活性白土等の固体酸を使用することができる。
精製工程としては、残存原料、副生成物、水分、触媒の残渣等を除去する工程や、触媒を中和する工程等が挙げられる。
触媒を中和する工程としては、例えば、水酸化ナトリウムおよび／または水酸化カリウム存在下で反応した場合、その際の中和剤としては硫酸、酢酸、あるいは活性白土等の固体酸を使用することができる。
＜本発明のＰＡＧ化合物を含む組成物＞
本発明のＰＡＧ化合物を含む組成物は、本発明のＰＡＧ化合物を必須として含むものである。上記組成物は、本発明のＰＡＧ化合物以外に、未反応の原料、副生成物、触媒の残渣、溶媒等のその他の成分を含みうる。
本発明のＰＡＧ化合物を含む組成物は、本発明のＰＡＧ化合物を必須として含むものである。上記組成物は、本発明のＰＡＧ化合物以外に、未反応の原料、副生成物、触媒の残渣、溶媒等のその他の成分を含みうる。
上記組成物における本発明のＰＡＧ化合物の含有量は、組成物１００質量％に対して、１～９９．９質量％であることが好ましい。より好ましくは１～９９質量％である。
すなわち、本発明のポリアルキレングリコール化合物を含む組成物は、ポリアルキレングリコール化合物と該化合物以外のその他の成分とを含み、ポリアルキレングリコール化合物の含有量が、組成物１００質量％に対して、１～９９．９質量％である。ポリアルキレングリコール化合物の含有量として好ましくは３０～９９．９質量％であり、更に好ましくは５０～９９．９質量％である。
すなわち、本発明のポリアルキレングリコール化合物を含む組成物は、ポリアルキレングリコール化合物と該化合物以外のその他の成分とを含み、ポリアルキレングリコール化合物の含有量が、組成物１００質量％に対して、１～９９．９質量％である。ポリアルキレングリコール化合物の含有量として好ましくは３０～９９．９質量％であり、更に好ましくは５０～９９．９質量％である。
＜本発明のポリアルキレングリコール化合物の用途＞
本発明のポリアルキレングリコール化合物は、洗剤用ビルダー、洗剤、水処理剤、スケール防止剤、分散剤等、種々の用途に用いられるが、好ましくは洗剤用ビルダー、洗剤等に用いられることが好ましい。
本発明のポリアルキレングリコール化合物は、洗剤用ビルダー、洗剤、水処理剤、スケール防止剤、分散剤等、種々の用途に用いられるが、好ましくは洗剤用ビルダー、洗剤等に用いられることが好ましい。
本発明はまた、本発明のポリアルキレングリコール化合物と該化合物以外の洗剤添加剤とを含む洗剤組成物でもある。
本発明のポリアルキレングリコール化合物以外の洗剤添加剤としては、界面活性剤や通常洗剤に用いられる添加剤であれば特に制限されず、洗剤分野において従来公知の知見が適宜参照されうる。
また、上記洗剤組成物は、粉末洗剤組成物であってもよいし、液体洗剤組成物であってもよい。
本発明のポリアルキレングリコール化合物以外の洗剤添加剤としては、界面活性剤や通常洗剤に用いられる添加剤であれば特に制限されず、洗剤分野において従来公知の知見が適宜参照されうる。
また、上記洗剤組成物は、粉末洗剤組成物であってもよいし、液体洗剤組成物であってもよい。
上記界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤及び両性界面活性剤からなる群から選択される１種又は２種以上であることが好ましい。
アニオン性界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルケニルエーテル硫酸塩、アルキル硫酸塩、アルケニル硫酸塩、α－オレフィンスルホン酸塩、α－スルホ脂肪酸又はエステル塩、アルカンスルホン酸塩、飽和脂肪酸塩、不飽和脂肪酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、アルケニルエーテルカルボン酸塩、アミノ酸型界面活性剤、Ｎ－アシルアミノ酸型界面活性剤、アルキルリン酸エステル又はその塩、アルケニルリン酸エステル又はその塩等が好適である。これらのアニオン性界面活性剤におけるアルキル基、アルケニル基には、メチル基等のアルキル基が分岐していてもよい。
ノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、高級脂肪酸アルカノールアミド又はそのアルキレンオキサイド付加物、ショ糖脂肪酸エステル、アルキルグリコキシド、脂肪酸グリセリンモノエステル、アルキルアミンオキサイド等が好適である。これらのノニオン性界面活性剤におけるアルキル基、アルケニル基には、メチル基等のアルキル基が分岐していてもよい。
カチオン性界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩等が好適である。また、両性界面活性剤としては、カルボキシル型両性界面活性剤、スルホベタイン型両性界面活性剤等が好適である。これらのカチオン性界面活性剤、両性界面活性剤におけるアルキル基、アルケニル基は、メチル基等のアルキル基が分岐していてもよい。
上記界面活性剤の配合割合は、通常、洗剤組成物の全量に対して１０～６０質量％であり、好ましくは１５～５０質量％であり、更に好ましくは２０～４５質量％であり、特に好ましくは２５～４０質量％である。界面活性剤の配合割合が少なすぎると、十分な洗浄力を発揮できなくなる虞があり、界面活性剤の配合割合が多すぎると、経済性が低下する虞がある。
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味するものとする。
＜実施例１＞
温度計、還流管及び窒素導入管を備えた容量１００ｍＬのガラス製四つ口ナスフラスコ反応容器に、株式会社日本触媒製ソフタノール５００（炭素数１２～１４の第２級アルコールに酸化エチレンを平均５０モル付加した化合物であり、以下、ＳＦＴ５００とも称する。）３０．０ｇ（１２．５ｍｍоｌ）、反応触媒として水酸化ナトリウム０．７５ｇ（１８ｍｍоｌ）、撹拌子を仕込み、マグネティックスターラーで撹拌下、反応容器内を窒素置換した後、８０℃で１時間加熱した。その後、１－クロロドデカン３．３ｇ（１６．３ｍｍоｌ）を一括で加え、窒素雰囲気下で８０℃を維持したまま、１２時間撹拌した。その後、反応溶液を室温になるまで放冷し、イオン交換水を加えてよく撹拌した。この分散溶液を、分液漏斗に移した後、ｎ－ヘキサンで洗浄し、下相を抜き取ることで水相を回収した。この洗浄操作を３回繰り返した。回収した水相の溶媒をエバポレーションによって留去した。残存物にアセトニトリルを加え、不溶物を遠心分離によって分離した。遠心分離後の上澄み液を回収し、エバポレーションによってアセトニトリルを留去した。このようにして、両末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物（１）を得た。
温度計、還流管及び窒素導入管を備えた容量１００ｍＬのガラス製四つ口ナスフラスコ反応容器に、株式会社日本触媒製ソフタノール５００（炭素数１２～１４の第２級アルコールに酸化エチレンを平均５０モル付加した化合物であり、以下、ＳＦＴ５００とも称する。）３０．０ｇ（１２．５ｍｍоｌ）、反応触媒として水酸化ナトリウム０．７５ｇ（１８ｍｍоｌ）、撹拌子を仕込み、マグネティックスターラーで撹拌下、反応容器内を窒素置換した後、８０℃で１時間加熱した。その後、１－クロロドデカン３．３ｇ（１６．３ｍｍоｌ）を一括で加え、窒素雰囲気下で８０℃を維持したまま、１２時間撹拌した。その後、反応溶液を室温になるまで放冷し、イオン交換水を加えてよく撹拌した。この分散溶液を、分液漏斗に移した後、ｎ－ヘキサンで洗浄し、下相を抜き取ることで水相を回収した。この洗浄操作を３回繰り返した。回収した水相の溶媒をエバポレーションによって留去した。残存物にアセトニトリルを加え、不溶物を遠心分離によって分離した。遠心分離後の上澄み液を回収し、エバポレーションによってアセトニトリルを留去した。このようにして、両末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物（１）を得た。
＜実施例２＞
温度計、還流管及び窒素導入管を備えた容量１００ｍＬのガラス製四つ口ナスフラスコ反応容器に、株式会社日本触媒製ソフタノール３００（炭素数１２～１４の第２級アルコールに酸化エチレンを平均３０モル付加した化合物であり、以下、ＳＦＴ３００とも称する。）１３．０ｇ（８．６ｍｍоｌ）、反応触媒として水酸化ナトリウム０．５１ｇ（１２．８ｍｍоｌ）、撹拌子を仕込み、マグネティックスターラーで撹拌下、反応容器内を窒素置換した後、８０℃で１時間加熱した。その後、１－クロロドデカン３．３ｇ（１６．３ｍｍоｌ）を一括で加え、窒素雰囲気下で８０℃を維持したまま、１２時間撹拌した。その後、反応溶液を室温になるまで放冷し、イオン交換水を加えてよく撹拌した。この分散溶液を、分液漏斗に移した後、ｎ－ヘキサンで洗浄し、下相を抜き取ることで水相を回収した。この洗浄操作を３回繰り返した。回収した水相の溶媒をエバポレーションによって留去した。残存物にアセトニトリルを加え、不溶物を遠心分離によって分離した。遠心分離後の上澄み液を回収し、エバポレーションによってアセトニトリルを留去した。このようにして、両末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物（２）を得た。
温度計、還流管及び窒素導入管を備えた容量１００ｍＬのガラス製四つ口ナスフラスコ反応容器に、株式会社日本触媒製ソフタノール３００（炭素数１２～１４の第２級アルコールに酸化エチレンを平均３０モル付加した化合物であり、以下、ＳＦＴ３００とも称する。）１３．０ｇ（８．６ｍｍоｌ）、反応触媒として水酸化ナトリウム０．５１ｇ（１２．８ｍｍоｌ）、撹拌子を仕込み、マグネティックスターラーで撹拌下、反応容器内を窒素置換した後、８０℃で１時間加熱した。その後、１－クロロドデカン３．３ｇ（１６．３ｍｍоｌ）を一括で加え、窒素雰囲気下で８０℃を維持したまま、１２時間撹拌した。その後、反応溶液を室温になるまで放冷し、イオン交換水を加えてよく撹拌した。この分散溶液を、分液漏斗に移した後、ｎ－ヘキサンで洗浄し、下相を抜き取ることで水相を回収した。この洗浄操作を３回繰り返した。回収した水相の溶媒をエバポレーションによって留去した。残存物にアセトニトリルを加え、不溶物を遠心分離によって分離した。遠心分離後の上澄み液を回収し、エバポレーションによってアセトニトリルを留去した。このようにして、両末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物（２）を得た。
＜比較例１＞
温度計、還流管及び窒素導入管を備えたガラス製四つ口ナスフラスコ反応容器に、日本乳化剤株式会社製ニューコール２３６０（炭素数１２～１３の第１級アルコールに酸化エチレンを平均６０モル付加した化合物であり、以下、ＮＣ２３６０とも称する）１５．０ｇ（５．３ｍｍоｌ）、反応触媒として水酸化ナトリウム０．３２ｇ（８．０ｍｍоｌ）、撹拌子を仕込み、マグネティックスターラーで撹拌下、反応容器内を窒素置換した後、８０℃で１時間加熱した。その後、１－クロロドデカン３．３ｇ（１６．３ｍｍоｌ）を一括で加え、窒素雰囲気下で８０℃を維持したまま、１２時間撹拌した。その後、反応溶液を室温になるまで放冷し、イオン交換水を加えてよく撹拌した。この分散溶液を、分液漏斗に移した後、ｎ－ヘキサンで洗浄し、下相を抜き取ることで水相を回収した。この洗浄操作を３回繰り返した。回収した水相の溶媒をエバポレーションによって留去した。残存物にアセトニトリルを加え、不溶物を遠心分離によって分離した。遠心分離後の上澄み液を回収し、エバポレーションによってアセトニトリルを留去した。このようにして、両末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物（３）を得た。
温度計、還流管及び窒素導入管を備えたガラス製四つ口ナスフラスコ反応容器に、日本乳化剤株式会社製ニューコール２３６０（炭素数１２～１３の第１級アルコールに酸化エチレンを平均６０モル付加した化合物であり、以下、ＮＣ２３６０とも称する）１５．０ｇ（５．３ｍｍоｌ）、反応触媒として水酸化ナトリウム０．３２ｇ（８．０ｍｍоｌ）、撹拌子を仕込み、マグネティックスターラーで撹拌下、反応容器内を窒素置換した後、８０℃で１時間加熱した。その後、１－クロロドデカン３．３ｇ（１６．３ｍｍоｌ）を一括で加え、窒素雰囲気下で８０℃を維持したまま、１２時間撹拌した。その後、反応溶液を室温になるまで放冷し、イオン交換水を加えてよく撹拌した。この分散溶液を、分液漏斗に移した後、ｎ－ヘキサンで洗浄し、下相を抜き取ることで水相を回収した。この洗浄操作を３回繰り返した。回収した水相の溶媒をエバポレーションによって留去した。残存物にアセトニトリルを加え、不溶物を遠心分離によって分離した。遠心分離後の上澄み液を回収し、エバポレーションによってアセトニトリルを留去した。このようにして、両末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物（３）を得た。
＜比較例２＞
株式会社日本触媒製ＳＦＴ５００をポリアルキレングリコール化合物（４）とした。
株式会社日本触媒製ＳＦＴ５００をポリアルキレングリコール化合物（４）とした。
＜末端疎水基に含まれる分岐炭素原子（酸素原子に直接結合したもの）の同定＞
下記条件の下で測定する１３Ｃ－ＮＭＲ、及び、ＤＥＰＴ１３５－ＮＭＲにおいて、７７～８２ｐｐｍにピークが検出される場合は、末端の疎水基に、酸素原子に直接結合したメチン炭素原子を有するポリアルキレングリコール化合物であることを示す。また、同条件において、１３Ｃ－ＮＭＲでピークが検出されるが、及び、ＤＥＰＴ１３５－ＮＭＲでピークが検出されない場合は、末端の疎水基に、酸素原子に直接結合し、かつ、水素原子と結合しない炭素原子を有するポリアルキレングリコール化合物であることを示す。
＜１３Ｃ－ＮＭＲの測定条件＞
装置：Ａｇｉｌｅｎｔ社ＶＮＭＲ６００、溶媒：重クロロホルム、サンプル濃度１０重量％、繰り返し待ち時間３秒、積算回数：５１２回
＜ＤＥＰＴ１３５－ＮＭＲの測定条件＞
装置：Ａｇｉｌｅｎｔ社ＶＮＭＲ６００、溶媒：重クロロホルム、サンプル濃度１０重量％、繰り返し待ち時間１秒、積算回数：５１２回
下記条件の下で測定する１３Ｃ－ＮＭＲ、及び、ＤＥＰＴ１３５－ＮＭＲにおいて、７７～８２ｐｐｍにピークが検出される場合は、末端の疎水基に、酸素原子に直接結合したメチン炭素原子を有するポリアルキレングリコール化合物であることを示す。また、同条件において、１３Ｃ－ＮＭＲでピークが検出されるが、及び、ＤＥＰＴ１３５－ＮＭＲでピークが検出されない場合は、末端の疎水基に、酸素原子に直接結合し、かつ、水素原子と結合しない炭素原子を有するポリアルキレングリコール化合物であることを示す。
＜１３Ｃ－ＮＭＲの測定条件＞
装置：Ａｇｉｌｅｎｔ社ＶＮＭＲ６００、溶媒：重クロロホルム、サンプル濃度１０重量％、繰り返し待ち時間３秒、積算回数：５１２回
＜ＤＥＰＴ１３５－ＮＭＲの測定条件＞
装置：Ａｇｉｌｅｎｔ社ＶＮＭＲ６００、溶媒：重クロロホルム、サンプル濃度１０重量％、繰り返し待ち時間１秒、積算回数：５１２回
＜綿布への洗濯水の浸透速度の評価＞
規定の条件の試験溶液に試験布を浸した瞬間から、試験布が沈降するまでの時間を、下記手順により測定した。
（１）試験布（木綿 ６号帆布、直径２０ｍｍのディスク）を１００℃の乾燥器中にて１時間乾燥後、デシケーター内にて一昼夜放置して吸湿度を安定させた。
（２）直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＬＡＳ）１０００ｐｐｍ、ポリマー１００ｐｐｍを含む水溶液を調整し洗濯水とした。
（３）（２）の洗濯水３５０ｇを３００ｍＬビーカーに量り取り、恒温層内で２５℃に調整した。
（４）頂部の内径４１ｍｍ、高さ８０ｍｍ、脚の内径６ｍｍ、長さ５０ｍｍのグーチロートに、直径１ｍｍのステンレスワイヤの両端を曲げ、それに内径それぞれ１０ｍｍ、および１５ｍｍの大小２個のステンレスワイヤリングを同心垂直線上８５ｍｍの間隔に平行に連結したディスク架台を準備した。
（５）（１）の試験布を（４）ディスク架台にセットし、（３）のビーカー内へ静かに速やかに浸し、同時にストップウォッチをスタートした。
（６）ロート上部に浮いた試験布に次第に溶液が浸透し、最終的に試験布がビーカー底部に到達すると同時にストップウォッチをストップし、経過時間を読み取った。
（７）試験布を取り替え、３回測定を繰り返し平均値を求めた。この平均値が短いほど、浸透速度が速いことを意味する。
規定の条件の試験溶液に試験布を浸した瞬間から、試験布が沈降するまでの時間を、下記手順により測定した。
（１）試験布（木綿 ６号帆布、直径２０ｍｍのディスク）を１００℃の乾燥器中にて１時間乾燥後、デシケーター内にて一昼夜放置して吸湿度を安定させた。
（２）直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＬＡＳ）１０００ｐｐｍ、ポリマー１００ｐｐｍを含む水溶液を調整し洗濯水とした。
（３）（２）の洗濯水３５０ｇを３００ｍＬビーカーに量り取り、恒温層内で２５℃に調整した。
（４）頂部の内径４１ｍｍ、高さ８０ｍｍ、脚の内径６ｍｍ、長さ５０ｍｍのグーチロートに、直径１ｍｍのステンレスワイヤの両端を曲げ、それに内径それぞれ１０ｍｍ、および１５ｍｍの大小２個のステンレスワイヤリングを同心垂直線上８５ｍｍの間隔に平行に連結したディスク架台を準備した。
（５）（１）の試験布を（４）ディスク架台にセットし、（３）のビーカー内へ静かに速やかに浸し、同時にストップウォッチをスタートした。
（６）ロート上部に浮いた試験布に次第に溶液が浸透し、最終的に試験布がビーカー底部に到達すると同時にストップウォッチをストップし、経過時間を読み取った。
（７）試験布を取り替え、３回測定を繰り返し平均値を求めた。この平均値が短いほど、浸透速度が速いことを意味する。
＜複合汚れ（油／タンパク質／泥／カーボンブラック）の洗浄力評価（通常条件）＞
（１）５ｃｍ×５ｃｍの湿式人工汚染布（財団法人洗濯科学協会頒布）の白色度を予め日本電飾工業社製の測色色差計ＳＥ６０００型を用いて、反射率にて測定した。
（２）塩化カルシウム二水和物７．３４ｇに純水を加えて２０ｋｇとし、硬水を調製した。
（３）２０ｍＬのスクリュー管に、各評価サンプルの固形分２％水溶液を１０ｇ調製した。
（４）洗剤成分として、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＬＡＳ）０．５ｇ、硫酸ナトリウム純水２ｇ、炭酸ナトリウム０．５ｇをビーカーに量り取った。
（５）（４）のビーカーに（２）の硬水を加えて２ｋｇに調整し、洗浄液とした。
（６）ターゴットメーターを２５℃に設定し、各ポットに（５）の洗浄液５００ｍＬ、（３）のサンプル水溶液１．０ｇを投入し、１００ｒｐｍで２分間撹拌した。その後、汚染布５枚と浴比調整のための綿布（Ｔｅｓｔ ｆａｂｒｉｃｓ社製５ｃｍ×５ｃｍのＣＷ９８）１４．６ｇを入れ、１００ｒｐｍで１０分間撹拌した。（リファレンスとして、（３）のサンプル水溶液の代わりに純水を添加したものを併せて評価した。）
（７）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、（２）の硬水５００ｍＬをポットに入れ２５℃に調温し、１００ｒｐｍで４分間撹拌した。
（８）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、室温で一晩乾燥させた後、上記測色色差計にて再度、汚染布の白色度を反射率にて測定した。
（９）（８）と同様に、汚染されていない布（以下、白布とも称する）として、ＣＷ９８の白色度を反射率にて測定した。
（１０）以上の測定結果から下式により洗浄率（洗浄力）を求めた。
洗浄率（％）＝（（洗浄前の汚染布の白色度）－（洗浄後の汚染布の白色度））／（（洗浄前の汚染布の白色度）－（白布の白色度））×１００
洗浄率の値が大きいほど、洗浄力が良好であることを意味する。
（１）５ｃｍ×５ｃｍの湿式人工汚染布（財団法人洗濯科学協会頒布）の白色度を予め日本電飾工業社製の測色色差計ＳＥ６０００型を用いて、反射率にて測定した。
（２）塩化カルシウム二水和物７．３４ｇに純水を加えて２０ｋｇとし、硬水を調製した。
（３）２０ｍＬのスクリュー管に、各評価サンプルの固形分２％水溶液を１０ｇ調製した。
（４）洗剤成分として、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＬＡＳ）０．５ｇ、硫酸ナトリウム純水２ｇ、炭酸ナトリウム０．５ｇをビーカーに量り取った。
（５）（４）のビーカーに（２）の硬水を加えて２ｋｇに調整し、洗浄液とした。
（６）ターゴットメーターを２５℃に設定し、各ポットに（５）の洗浄液５００ｍＬ、（３）のサンプル水溶液１．０ｇを投入し、１００ｒｐｍで２分間撹拌した。その後、汚染布５枚と浴比調整のための綿布（Ｔｅｓｔ ｆａｂｒｉｃｓ社製５ｃｍ×５ｃｍのＣＷ９８）１４．６ｇを入れ、１００ｒｐｍで１０分間撹拌した。（リファレンスとして、（３）のサンプル水溶液の代わりに純水を添加したものを併せて評価した。）
（７）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、（２）の硬水５００ｍＬをポットに入れ２５℃に調温し、１００ｒｐｍで４分間撹拌した。
（８）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、室温で一晩乾燥させた後、上記測色色差計にて再度、汚染布の白色度を反射率にて測定した。
（９）（８）と同様に、汚染されていない布（以下、白布とも称する）として、ＣＷ９８の白色度を反射率にて測定した。
（１０）以上の測定結果から下式により洗浄率（洗浄力）を求めた。
洗浄率（％）＝（（洗浄前の汚染布の白色度）－（洗浄後の汚染布の白色度））／（（洗浄前の汚染布の白色度）－（白布の白色度））×１００
洗浄率の値が大きいほど、洗浄力が良好であることを意味する。
＜複合汚れ（油／タンパク質／泥／カーボンブラック）の洗浄力評価（時短条件）＞
（１）５ｃｍ×５ｃｍの湿式人工汚染布（財団法人洗濯科学協会頒布）の白色度を予め日本電飾工業社製の測色色差計ＳＥ６０００型を用いて、反射率にて測定した。
（２）塩化カルシウム二水和物７．３４ｇに純水を加えて２０ｋｇとし、硬水を調製した。
（３）２０ｍＬのスクリュー管に、各評価サンプルの固形分２％水溶液を１０ｇ調製した。
（４）洗剤成分として、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＬＡＳ）０．５ｇ、硫酸ナトリウム純水２ｇ、炭酸ナトリウム０．５ｇをビーカーに量り取った。
（５）（４）のビーカーに（２）の硬水を加えて２ｋｇに調整し、洗浄液とした。
（６）ターゴットメーターを２５℃に設定し、各ポットに（５）の洗浄液５００ｍＬ、（３）のサンプル水溶液１．０ｇを投入し、１００ｒｐｍで２分間撹拌した。その後、汚染布５枚と浴比調整のための綿布（Ｔｅｓｔ ｆａｂｒｉｃｓ社製５ｃｍ×５ｃｍのＣＷ９８）１４．６ｇを入れ、１００ｒｐｍで３分間撹拌した。（リファレンスとして、（３）のサンプル水溶液の代わりに純水を添加したものを併せて評価した。）
（７）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、（２）の硬水５００ｍＬをポットに入れ２５℃に調温し、１００ｒｐｍで２分間撹拌した。
（８）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、室温で一晩乾燥させた後、上記測色色差計にて再度、汚染布の白色度を反射率にて測定した。
（９）（８）と同様に、汚染されていない布（以下、白布とも称する）として、ＣＷ９８の白色度を反射率にて測定した。
（１０）以上の測定結果から下式により時短条件における洗浄率（洗浄力）を求めた。
時短条件における洗浄率（％）＝（（洗浄前の汚染布の白色度）－（洗浄後の汚染布の白色度））／（（洗浄前の汚染布の白色度）－（白布の白色度））×１００
この洗浄率の値が大きいほど、時短条件における洗浄力が良好であり、洗浄速度が高いことを意味する。
（１）５ｃｍ×５ｃｍの湿式人工汚染布（財団法人洗濯科学協会頒布）の白色度を予め日本電飾工業社製の測色色差計ＳＥ６０００型を用いて、反射率にて測定した。
（２）塩化カルシウム二水和物７．３４ｇに純水を加えて２０ｋｇとし、硬水を調製した。
（３）２０ｍＬのスクリュー管に、各評価サンプルの固形分２％水溶液を１０ｇ調製した。
（４）洗剤成分として、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＬＡＳ）０．５ｇ、硫酸ナトリウム純水２ｇ、炭酸ナトリウム０．５ｇをビーカーに量り取った。
（５）（４）のビーカーに（２）の硬水を加えて２ｋｇに調整し、洗浄液とした。
（６）ターゴットメーターを２５℃に設定し、各ポットに（５）の洗浄液５００ｍＬ、（３）のサンプル水溶液１．０ｇを投入し、１００ｒｐｍで２分間撹拌した。その後、汚染布５枚と浴比調整のための綿布（Ｔｅｓｔ ｆａｂｒｉｃｓ社製５ｃｍ×５ｃｍのＣＷ９８）１４．６ｇを入れ、１００ｒｐｍで３分間撹拌した。（リファレンスとして、（３）のサンプル水溶液の代わりに純水を添加したものを併せて評価した。）
（７）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、（２）の硬水５００ｍＬをポットに入れ２５℃に調温し、１００ｒｐｍで２分間撹拌した。
（８）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、室温で一晩乾燥させた後、上記測色色差計にて再度、汚染布の白色度を反射率にて測定した。
（９）（８）と同様に、汚染されていない布（以下、白布とも称する）として、ＣＷ９８の白色度を反射率にて測定した。
（１０）以上の測定結果から下式により時短条件における洗浄率（洗浄力）を求めた。
時短条件における洗浄率（％）＝（（洗浄前の汚染布の白色度）－（洗浄後の汚染布の白色度））／（（洗浄前の汚染布の白色度）－（白布の白色度））×１００
この洗浄率の値が大きいほど、時短条件における洗浄力が良好であり、洗浄速度が高いことを意味する。
＜複合汚れ（クレー－カーボンブラック）再汚染防止能評価＞
（１）綿布（Ｔｅｓｔ ｆａｂｒｉｃｓ社製ＣＷ９８）を５ｃｍ×５ｃｍに裁断し、白布を作成した。この白布を予め日本電飾工業社製の測色色差計ＳＥ６０００型を用いて、白色度を反射率にて測定した。
（２）塩化カルシウム二水和物１．４７ｇに純水を加えて２０ｋｇとし、硬水を調製した。
（３）２０ｍＬのスクリュー管に、各評価サンプルの固形分１％水溶液を１０ｇ調製した。
（４）４％ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムを１００ｇ調製し、界面活性剤水溶液とした。
（５）ターゴットメーターを２５℃に設定し、各ポットに（２）の硬水１Ｌ、（３）のサンプル水溶液５．０ｇ、（４）の界面活性剤水溶液５．０ｇ、カーボンブラック（財団法人洗濯科学協会製）０．２５ｇ、およびクレー（ＪＩＳ試験用粉体１－１１種（関東ローム焼成品））０．５０ｇをポットに入れ、１００ｒｐｍで１分間撹拌した。その後、綿布５枚を入れ、１００ｒｐｍで１０分間撹拌した。（リファレンスとして、（３）のサンプル水溶液の代わりに純水を添加したものを併せて評価した。）
（６）手で白布の水を切り、（２）の硬水１Ｌをポットに入れ２５℃に調温し、１００ｒｐｍで２分間撹拌した。
（７）白布に当て布をして、アイロンでしわを伸ばしながら乾燥させた後、上記測色色差計にて再度綿布の白色度を反射率にて測定した。
（８）以上の測定結果から下式により再汚染防止率（再汚染防止能）を求めた。
再汚染防止率（％）＝（洗浄後の白色度）／（洗浄前の白色度）×１００
再汚染防止率の値が大きいほど、再汚染防止能が良好であることを意味する。
（１）綿布（Ｔｅｓｔ ｆａｂｒｉｃｓ社製ＣＷ９８）を５ｃｍ×５ｃｍに裁断し、白布を作成した。この白布を予め日本電飾工業社製の測色色差計ＳＥ６０００型を用いて、白色度を反射率にて測定した。
（２）塩化カルシウム二水和物１．４７ｇに純水を加えて２０ｋｇとし、硬水を調製した。
（３）２０ｍＬのスクリュー管に、各評価サンプルの固形分１％水溶液を１０ｇ調製した。
（４）４％ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムを１００ｇ調製し、界面活性剤水溶液とした。
（５）ターゴットメーターを２５℃に設定し、各ポットに（２）の硬水１Ｌ、（３）のサンプル水溶液５．０ｇ、（４）の界面活性剤水溶液５．０ｇ、カーボンブラック（財団法人洗濯科学協会製）０．２５ｇ、およびクレー（ＪＩＳ試験用粉体１－１１種（関東ローム焼成品））０．５０ｇをポットに入れ、１００ｒｐｍで１分間撹拌した。その後、綿布５枚を入れ、１００ｒｐｍで１０分間撹拌した。（リファレンスとして、（３）のサンプル水溶液の代わりに純水を添加したものを併せて評価した。）
（６）手で白布の水を切り、（２）の硬水１Ｌをポットに入れ２５℃に調温し、１００ｒｐｍで２分間撹拌した。
（７）白布に当て布をして、アイロンでしわを伸ばしながら乾燥させた後、上記測色色差計にて再度綿布の白色度を反射率にて測定した。
（８）以上の測定結果から下式により再汚染防止率（再汚染防止能）を求めた。
再汚染防止率（％）＝（洗浄後の白色度）／（洗浄前の白色度）×１００
再汚染防止率の値が大きいほど、再汚染防止能が良好であることを意味する。
実施例１～２及び比較例１～２で得られたポリアルキレングリコール化合物について、上記式（１）におけるＲ１及びＲ２の構造及びオキシアルキレン基の平均付加モル数ｎを表１に示した。更にこれらの化合物について複合汚れの洗浄力、及び、綿布への洗浄液(洗濯水)の浸透速度を評価し、結果を表２に示した。
実施例１～２と比較例１は末端アルキル基に分岐構造を有するか否かの点で主に相違する。一方、実施例１と比較例１はポリアルキレングリコールの両末端に疎水基を有するか否かの点で、主に相違する。
実施例１～２と比較例１は、比較例２と比較して、複合汚れの洗浄力に優れる。
一方、実施例１～２と比較例２は、比較例１と比較して、洗濯水の浸透力に優れる。
以上より、実施例１～２は、複合汚れの高い洗浄力を保ちながら、洗濯水の浸透力に優れるポリアルキレングリコール化合物であることが分かった。
一方、実施例１～２と比較例２は、比較例１と比較して、洗濯水の浸透力に優れる。
以上より、実施例１～２は、複合汚れの高い洗浄力を保ちながら、洗濯水の浸透力に優れるポリアルキレングリコール化合物であることが分かった。
Claims (6)
- 少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物であって、
該ポリアルキレングリコール化合物は、下記式（１）；
- 少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物であって、
該ポリアルキレングリコール化合物は、下記式（１）；
Ｒ９－Ｏ－（ＥＯ）ｍ－ＣＨ２－ＣＨＯＨ－ＣＨ２－Ｏ－Ｒ１０ （８）
（式中、Ｒ９は炭素数８～２０のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ１０は炭素数１～５のアルキル基、ＥＯはオキシエチレン基、ｍはＥＯの平均付加モル数を示し、３～１２の数である。）で表される化合物を除く）。 - 少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物であって、
該ポリアルキレングリコール化合物は、下記式（１）；
- 前記式（１）において、Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一方は、第２級炭素原子又は第３級炭素原子を介してポリアルキレングリコール鎖の酸素原子に結合していることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載のポリアルキレングリコール化合物。
- 請求項１～４のいずれかに記載のポリアルキレングリコール化合物と該化合物以外の洗剤添加剤とを含むことを特徴とする洗剤組成物。
- 少なくとも２以上の末端に疎水基を有するポリアルキレングリコール化合物を製造する方法であって、
該製造方法は、ポリアルキレングリコール鎖含有化合物及び／又はアルキレンオキシド、並びに、疎水基含有化合物を原料として用いて、ポリアルキレングリコール鎖末端に疎水基含有化合物由来の疎水基を導入する工程を含み、
該ポリアルキレングリコール鎖含有化合物は、下記式（２）；
Priority Applications (1)
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Publications (2)
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| Country | Link |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002194390A (ja) | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Lion Corp | 洗浄強化剤及び洗浄剤組成物 |
| JP2004002499A (ja) | 2002-04-23 | 2004-01-08 | Lion Corp | 高密度粉末洗剤組成物 |
| JP2006008951A (ja) | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Lion Corp | 洗浄剤組成物 |
| JP2009040821A (ja) | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Nippon Shokubai Co Ltd | ポリアルキレングリコール系化合物とその用途 |
| JP2009052012A (ja) | 2007-07-31 | 2009-03-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | カチオン性共重合体およびその用途 |
| JP2010241881A (ja) | 2009-04-02 | 2010-10-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | 重合体組成物およびその製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2909343B2 (ja) * | 1993-03-03 | 1999-06-23 | 旭電化工業株式会社 | 界面活性剤組成物 |
-
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- 2018-07-31 JP JP2018144259A patent/JP7184560B2/ja active Active
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| JP2010241881A (ja) | 2009-04-02 | 2010-10-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | 重合体組成物およびその製造方法 |
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