JP7147143B2 - 分光器および分析装置 - Google Patents
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Description
以下、図面を参照して、本発明の第1実施形態について説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る分光器10Aの構成を示す概念図である。図1に示す分光器10Aは、本発明の「分光器」の一例である。この分光器10Aは、光入射部1、凹面回折格子2、可動光反射部3、光出射部4、基板5、および基板6を備えて構成されている。
ここで、図2~図4を参照して、光反射ユニット11の具体的な構成について説明する。図2は、本発明の第1実施形態に係る光反射ユニット11の構成の概略図である。図2に示すように、光反射ユニット11は、可動光反射部3、基板6、駆動回路7(本発明の「駆動手段」の一例)、および梁部8を有して構成されている。可動光反射部3は、基板6の開口部6a内において、基板6と同一平面上に配置されている。開口部6aは、例えば、異方性深掘りエッチング等のMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)プロセスを用いて形成されたものである。可動光反射部3は、回転軸3aの一端となる部分と、回転軸3aの他端となる部分との双方が、梁部8によって支持されている。
次に、図5~図7を参照して、凹面回折格子2の具体的な構成について説明する。
以上のように構成された本実施形態の分光器10Aは、可動光反射部3を駆動して、可動光反射部3の反射面の傾きを変化させることにより、光出射部4から外部へと出射される回折光の波長を変化させることが可能となっている。具体的には、凹面回折格子2によって波長分散された回折光の焦点距離は、波長によって異なる。そこで、分光器10Aは、光出射部4の光通過部4aの位置が、所望する波長の回折光の焦点距離に応じた位置となるように、可動光反射部3の反射面の傾きを変化させる。これにより、図1に示すように、光出射部4の光通過部4aから、所望する波長の回折光が出射されることとなる。なお、図1における破線は、ある特定の波長の光の光路を、概略的に示すものである。すなわち、図1では、ある特定の波長の回折光が出射されるように、可動光反射部3の反射面の傾きが設定されている様子が示されている。
分光器の構成の変形例について説明する。なお、以下に説明する各変形例においては、それ以前に説明した分光器からの変更点について説明する。また、各変形例において、それ以前に説明した構成要素と同様の機能を有する構成要素については、それ以前に説明した構成要素と同一の符号を付すことにより説明を省略する。また、各変形例において、分光器の動作原理等は、それ以前に説明したものと同様であるため、説明を省略する。
図8は、本発明の第1実施形態に係る分光器の構成の第1変形例を示す概念図である。図8に示す分光器10Bでは、光入射部1と可動光反射部3とが、同一の基板6上に形成されている。また、分光器10Bでは、光出射部4と凹面回折格子2とが、同一の基板5上に形成されている。例えば、基板5,6にSi基板を用いた場合、光入射部1および光出射部4は、半導体プロセス、MEMSプロセス等を用いて、それぞれ基板5,6上に一体的に形成することが可能である。
図9は、本発明の第1実施形態に係る分光器の構成の第2変形例を示す概念図である。図9に示す分光器10Cでは、光入射部1と光出射部4とが、同一の基板16上に形成されている。
図10は、本発明の第1実施形態に係る分光器の構成の第3変形例を示す概念図である。図10に示す分光器10Dは、図8に示す分光器10Bに対して、基板5と基板6との間に左右一対のスペーサ17がさらに配置された構成を有している。基板5は、本発明の「第2の基板」の一例である。基板6は、本発明の「第1の基板」の一例である。スペーサ17は、本発明の「介在部材」の一例である。基板5,6の各々は、スペーサ17に接合されている。スペーサ17には、例えば、柱状または板状のものを用いることができる。基板5と基板6との間隔は、スペーサ17の厚みにより、所望の分光特性が得ることができるようにするための適切な間隔に調整されている。
図11は、本発明の第1実施形態に係る分光器の構成の第4変形例を示す概念図である。図11に示す分光器10Eは、基板5において、光出射部4が凹面回折格子2よりも右側(図中Y軸正側)に形成されている点で、図10に示す分光器10Dと異なる。分光器10Eでは、凹面回折格子2における格子ピッチが、図10に示す分光器10Dよりも広められている。これにより、凹面回折格子2による回折角が変化したため、分光器10Eでは、光出射部4の位置が変更されている。この分光器10Eによれば、分光器10Dと比較して、凹面回折格子2の格子ピッチが大きいため、凹面回折格子2を容易に製造することができる。このため、分光器10Eによれば、分光器10Dと比較して、製造ばらつきを小さくすることができ、かつ、分光器の低価格化を実現することができる。
図12は、本発明の第1実施形態に係る分光器の構成の第5変形例を示す概念図である。図12に示す分光器10Fは、基板5において、凹面回折格子2の中心部の垂線と基板5の基板面とが直交しないように、凹面回折格子2が基板5に対して光入射部1側(図中Y軸負側)に傾けられた状態で配置されている点で、図10に示す分光器10Dと異なる。
図13は、本発明の第1実施形態に係る分光器の構成の第6変形例を示す概念図である。図13に示す分光器10Gは、左側(図中Y軸負側)のスペーサ17が基板19に変更されている点、および、光入射部1と光出射部4とが、基板19に形成されている点で、図10に示す分光器10Dと異なる。
図14は、本発明の第1実施形態に係る分光器の構成の第7変形例を示す概念図である。図15は、本発明の第1実施形態に係る分光器の構成の第8変形例を示す概念図である。図14に示す分光器10Hは、光出射部4の代わりに、光出射部4の位置に光検出部18が設けられている点で、図1に示す分光器10Aと異なる。図15に示す分光器10Iは、光出射部4の代わりに、光出射部4の位置に光検出部18が設けられている点で、図8に示す分光器10Bと異なる。分光器10H,Iの光検出部18は、本発明の「光検出手段」の一例である。
次に、図16~図26を参照して、本発明の第2実施形態について説明する。この第2実施形態では、分光器に対し、特定波長検出器をさらに備える例を説明する。
図16は、本発明の第2実施形態に係る分光器50Aの構成を示す概念図である。図16に示す分光器50Aは、特定波長検出器20をさらに備える点で、第1実施形態(図1)の分光器10Aと異なる。
ここで、図17および図18を参照して、特定波長検出器20の具体的な構成について説明する。図17は、本発明の第2実施形態に係る特定波長検出器20の構成(第1例)の概略図である。例えば、図17に示すように、特定波長検出器20は、光検出器21とバンドパスフィルタ22とを備えて構成される。光検出器21は、本発明の「光検出部」の一例である。光検出器21は、特定の波長λsの光を検出する。光検出器21としては、例えば、Siフォトダイオード、InGaAsフォトダイオード等が用いられる。バンドパスフィルタ22は、特定の波長範囲(特定の波長λsを範囲内に含む)の光を透過させる。バンドパスフィルタ22には、通過帯域の狭いフィルタ(例えば、ファブリペローフィルタ等)を使用することが好ましい。
分光器の構成の変形例について説明する。なお、以下に説明する各変形例においては、それ以前に説明した分光器からの変更点について説明する。また、各変形例において、それ以前に説明した構成要素と同様の機能を有する構成要素については、それ以前に説明した構成要素と同一の符号を付すことにより説明を省略する。また、各変形例において、分光器の動作原理等は、それ以前に説明したものと同様であるため、説明を省略する。
図23は、本発明の第2実施形態に係る分光器の構成の第1変形例を示す概念図である。図23に示す分光器50Bでは、光入射部1と可動光反射部3とが、同一の基板6上に形成されている。また、分光器50Bでは、光出射部4と、凹面回折格子2と、特定波長検出器20とが、同一の基板5上に形成されている。例えば、基板5,6にSi基板を用いた場合、光入射部1および光出射部4は、半導体プロセス、MEMSプロセス等を用いて、それぞれ基板5,6上に一体的に形成することが可能である。
図24は、本発明の第2実施形態に係る分光器の構成の第2変形例を示す概念図である。図24に示す分光器50Cは、基板5において、特定の波長λsの光の集光位置に光出射部24が形成されており、特定波長検出器20が外部に配置されている点で、図23に示す分光器50Bと異なる。光出射部24は、本発明の「第2の光出射手段」の一例である。このように構成された分光器50Cによれば、特定波長検出器20を基板5に形成しないため、基板5のプロセスを簡略化することができる。一方、光出射部4および光出射部24については、基板5上に同一のプロセスで同時に形成できるため、それぞれの位置関係を精密に制御することが可能である。このため、分光器50Cによれば、可動光反射部3の振れ角を正確に検出し、測定波長範囲を安定させることが可能である。
図25は、本発明の第2実施形態に係る分光器の構成の第3変形例を示す概念図である。図25に示す分光器50Dは、特定波長検出器20の構成要素である検出器21とバンドパスフィルタ22とが互いに分離されて配置されている点で、図24に示す分光器50Cと異なる。具体的には、バンドパスフィルタ22は、基板5上において、光出射部24を覆うように配置されている。一方、検出器21は、外部に配置されている。このように構成された分光器50Cによれば、外部には検出器21のみが配置されるため、外部にさらにバンドパスフィルタ22を配置する構成と比較して、小型化が可能である。
図26は、本発明の第2実施形態に係る分光器の構成の第4変形例を示す概念図である。図26に示す分光器50Eは、基板5において、特定波長検出器20が光出射部4よりも左側(図中Y軸負側)に配置されている点で、図23に示す分光器50Bと異なる。この配置変更は、特定の波長λsが、測定波長範囲の最大波長λxよりも長波長側に設定されたことに応じてなされたものである。すなわち、特定波長検出器20は、最大波長λxの光が光出射部4を通過するときに特定の波長λsの光が集光する位置に配置されている。
2 凹面回折格子(回折格子)
3 可動光反射部(反射手段)
4 光出射部(光出射手段)
5 基板(第2の基板)
6 基板(第1の基板)
7 駆動回路(駆動手段)
8 梁部
10A~10I 分光器
11 光反射ユニット
14 樹脂層
15 反射部材
17 スペーサ(介在部材)
18 光検出部(光検出手段)
19 基板(第3の基板)
20 特定波長検出器(特定波長検出手段)
21 光検出器(光検出部)
22 バンドパスフィルタ
23 遮光部材
24 光出射部(第2の光出射手段)
50A~50E 分光器
Claims (20)
- 外部からの光を入射させる光入射手段と、
前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる凹面回折格子と、
前記凹面回折格子によって波長分散された異なる波長の前記光を反射する反射面を有し、当該反射面の傾きが可変自在である反射手段と、
前記反射手段の前記反射面の傾きを変化させることによって反射された前記波長が異なり焦点距離が異なる光を外部に出射する単一の光出射手段と
を備え、
前記光入射手段によって入射された前記光は、前記光出射手段によって出射される前に2回だけ反射することを特徴とする分光器。 - 前記反射手段を駆動することによって前記反射面の傾きを制御する駆動手段
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の分光器。 - 前記光出射手段の光通過部は、前記光の入射側よりも出射側の方が広いことを特徴とする請求項1または2に記載の分光器。
- 前記光入射手段と前記光出射手段は、前記入射手段から前記凹面回折格子に向かう前記光の光路と、前記凹面格子から前記光出射手段に向かう前記光の光路と、が交差するよう位置することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の分光器。
- 前記光出射手段と、前記凹面回折格子とが、同一の基板に形成されている
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の分光器。 - 前記光入射手段と、前記反射手段とが、同一の基板に形成されている
ことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の分光器。 - 前記光出射手段と、前記光入射手段とが、同一の基板に形成されている
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の分光器。 - 第1の基板および第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置された介在部材とをさらに備え、
前記光入射手段と前記反射手段とが、前記第1の基板に形成されており、
前記光出射手段と前記凹面回折格子とが、前記第2の基板に形成されており、
前記第1の基板および前記第2の基板の各々が、前記介在部材に接合されている
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の分光器。 - 第1の基板および第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間において、前記第1の基板および前記第2の基板に対して非平行に配置された第3の基板と
をさらに備え、
前記反射手段が、前記第1の基板に形成されており、
前記凹面回折格子が、前記第2の基板に形成されており、
前記光入射手段と前記光出射手段とが、前記第3の基板に形成されており、
前記第1の基板および前記第2の基板の各々が、前記第3の基板に接合されている
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の分光器。 - 前記凹面回折格子の中心部の垂線と、前記凹面回折格子が形成されている基板面とが直交しないように、前記凹面回折格子が形成されている
ことを特徴とする請求項1から6,8,9のいずれか一項に記載の分光器。 - 光出射手段から出射された前記光を検出する光検出手段を
さらに備えることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載の分光器。 - 光出射手段に代えて、前記反射手段によって反射された前記光を検出する光検出手段を備え、前記光検出手段は単一の光センサであることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載の分光器。
- 前記反射手段によって反射された光の特定の波長の光を検出する特定波長検出手段
をさらに備えることを特徴とする請求項1から12のいずれか一項に記載の分光器。 - 前記特定波長検出手段と、前記凹面回折格子とが、同一の基板に形成されている
ことを特徴とする請求項13に記載の分光器。 - 前記反射手段によって反射された光を、外部に設けられた前記特定波長検出手段に向けて出射する第2の光出射手段
をさらに備えることを特徴とする請求項13に記載の分光器。 - 前記第2の光出射手段と、前記凹面回折格子とが、同一の基板に形成されている
ことを特徴とする請求項15に記載の分光器。 - 前記特定波長検出手段によって検出された、前記特定の波長の光の検出信号の時間間隔を一定に制御することで、前記反射手段の傾き範囲を一定に制御する
ことを特徴とする請求項13から16のいずれか一項に記載の分光器。 - 光検出手段によって検出される前記光の次数と、前記特定波長検出手段によって検出される前記特定の波長の光の次数とが異なる
ことを特徴とする請求項13から17のいずれか一項に記載の分光器。 - 光源と、
請求項1から18のいずれか一項に記載の分光器と
を備えることを特徴とする分析装置。 - 光源と、
請求項1から17のいずれか一項に記載の分光器と
を備えることを特徴とする波長可変光源。
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