JP2023143718A - 分光器、および分析システム - Google Patents

Abstract

【課題】分光器における構成部品の位置を調整すること。【解決手段】分光器は、外部からの光を入射させる光入射手段と、前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる回折格子と、反射面を有し、当該反射面の回転軸回りに傾きが可変である反射手段と、前記反射手段によって反射された前記光を外部に出射する光出射手段と、を有し、前記光入射手段、前記回折格子、および前記反射手段の少なくとも１つと、前記光出射手段と、が前記回転軸に直交する方向に位置変更が可能であり、前記光出射手段の位置は、前記光出射手段から出射される光の中心軸方向に沿って変更可能である。【選択図】図６Ａ

Description

本発明は、分光器、および分析システムに関する。

従来、測定光を分光することにより、波長ごとの分光スペクトルが得られるようにしたいわゆる分光器が知られている。このような分光器は、資源リサイクルのためにプラスチックの材質を判別する用途等の様々な用途において使用される。

上記の分光器には、回転可能な回折格子と、回転可能な反射手段と、を有し、回折効率を向上するために回折格子を回転させた際に生じる光軸と交差する方向への光軸のずれを反射手段の回転により補正する構成が開示されている（例えば、特許文献１参照）。

しかしながら、分光器では、構成部品の寸法公差や組立公差に応じたばらつきが生じる場合がある。特許文献１の構成では、光軸と交差する方向への光軸のずれを補正し、分光器からの出射光の集光位置等の光軸方向へのずれは補正できない。

本発明は、上述した従来技術の課題を解決するため、分光器における構成部品の位置を調整することを目的とする。

上述した課題を解決するために、本発明の分光器は、外部からの光を入射させる光入射手段と、前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる回折格子と、反射面を有し、当該反射面の回転軸回りに傾きが可変である反射手段と、前記反射手段によって反射された前記光を外部に出射する光出射手段と、を有し、前記光入射手段、前記回折格子、および前記反射手段の少なくとも１つと、前記光出射手段と、が前記回転軸に直交する方向に位置変更が可能であり、前記光出射手段の位置は、前記光出射手段から出射される光の中心軸方向に沿って変更可能である。

本発明によれば、分光器における構成部品の位置を調整できる。

第１実施形態に係る分光器の全体構成を例示する斜視図である。 図１の分光器におけるローランド円を説明する断面図である。 図１におけるIII－III切断線に沿った断面図である。 第１実施形態に係る位置変更のため構成を例示する図であり、図４（ａ）は第１例の上面図、図４（ｂ）は第１例の正面図、図４（ｃ）は第２例の上面図、図４（ｄ）は第２例の正面図、図４（ｅ）は第３例の上面図、図４（ｆ）は第３例の正面図である。 波長λ１近傍の分光スペクトルを例示する図である。 波長λ１、λ２、λ３それぞれの近傍の分光スペクトルを例示する図である。 凹面回折格子により分光された各波長光が可動光反射部で反射する際の回折角と可動光反射部で光が反射する角度の関係例を示す図である。 凹面回折格子、可動光反射部、光出射部それぞれの位置および姿勢に所定の公差を与えた際に各波長の光が第２光通過部を最も高い光量で通過するときの可動光反射部の角度を示す図である。 凹面回折格子、可動光反射部および光出射部それぞれの位置および姿勢に所定の公差を与えた場合に各波長の光が第２光通過部を最も高い光量で通過するときの光照度の半値全幅の値を示す図である。 凹面回折格子と光出射部の位置変更例を示す図である。 凹面回折格子における格子を例示する図である。 凹面回折格子の位置を変化させたときの出射光の集光位置変化を示す図であり、図９（ａ）は第１例の図、図９（ｂ）は第２例の図、図９（ｃ）は第３例の図である。 光入射部の位置変更例を示す図である。 可動光反射部の位置変更例を示す図である。 光入射部、凹面回折格子、可動光反射部、光出射部の各位置の変更例を示す図である。 凹面回折格子の角度調整機構の一例を示す断面図である。 凹面回折格子の角度調整機構の一例を示す下面図である。 凹面回折格子の角度調整機構の他の例を示す断面図である。 凹面回折格子の角度調整機構の他の例を示す下面図である。 凹面回折格子、可動光反射部および光出射部それぞれの位置および姿勢に所定の公差を与えて凹面回折格子の位置を調整した場合の可動光反射部の角度を示す図である。 凹面回折格子、可動光反射部、光出射部それぞれの位置および姿勢に所定の公差を与えて光出射部の位置を調整した場合に各波長の光が第２光通過部を最も高い光量で通過するときの光照度の半値全幅値を示す図である。 凹面回折格子、可動光反射部、光出射部それぞれの位置および姿勢に所定の公差を与えて凹面回折格子と光出射部の位置を並行して調整した場合に各波長の光が第２光通過部を最も高い光量で通過するときの光照度の半値全幅値を示す図である。 凹面回折格子、可動光反射部および光出射部それぞれの位置および姿勢に所定の公差を与えて凹面回折格子の姿勢を調整した場合の可動光反射部の角度を示す図である。 第２実施形態に係る分析システムの全体構成を例示する図である。 第２実施形態に係る分析システムを樹脂判別装置に適用した場合における樹脂判別動作を例示するフローチャートである。

以下、図面を参照して発明を実施するための形態について詳細に説明する。各図面において、同一の構成部分には同一符号を付し、重複した説明を適宜省略する。

以下に示す実施形態は、本開示の技術思想を具体化するための分光器を例示するものであって、本開示を以下に示す実施形態に限定するものではない。以下に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本開示の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、例示することを意図したものである。また図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため、誇張している場合がある。

［第１実施形態］
＜分光器１０の全体構成例＞
図１および図２を参照して、第１実施形態に係る分光器１０の構成を説明する。図１は、分光器１０の全体構成を例示する斜視図である。図２は、分光器１０におけるローランド円７を説明する図である。

図１および図２に示すように、分光器１０は、光入射部１と、凹面回折格子２と、可動光反射部３と、光出射部４と、基板５と、光検出部６と、を有する。図１は、各構成部のローカル座標系を併せて表示している。

光入射部１は、外部からの光Ｌｉを入射させる光入射手段の一例である。光入射部１は、第１光通過部１１を通して外部からの光Ｌｉを分光器１０に入射させる。光入射部１における第１光通過部１１以外の領域は、光Ｌｉを通過させない第１非光通過部１２を構成している。第１光通過部１１は、例えばピンホール形状、スリット形状等を有し、光の入射位置を決定したり、波長分解能を向上させたりするために設けられている。

凹面回折格子２は、光入射部１によって入射された光Ｌｉを波長分散させる回折格子の一例である。凹面回折格子２は、基板５上に形成されている。凹面回折格子２は、光Ｌｉを回折させることにより波長分散させつつ、波長分散光Ｌｄを可動光反射部３に向けて反射する。波長分散光Ｌｄに含まれる異なる波長の光は、それぞれ集束しながら伝搬して、反射面３２上の反射ライン３３上の異なる位置に入射し、反射面３２により反射される。

基板５の材料には、例えば半導体、ガラス、金属、樹脂等を適用できるが、これらに限定されるものではない。なお、凹面回折格子２は、基板５上に直接形成されてもよく、基板５上に形成された薄膜層、例えば樹脂層等の上に形成されてもよい。

可動光反射部３は、反射面３２を有し、反射面の傾きが可変である反射手段の一例である。可動光反射部３は、凹面回折格子２による波長分散光Ｌｄを、反射面３２により光出射部４に向けて反射する。

可動光反射部３は揺動軸３１を有している。可動光反射部３は、揺動軸３１回りに揺動することにより、波長分散光Ｌｄを反射する反射面３２の傾きを変化させる。波長分散光Ｌｄは、反射面３２の傾きに応じて走査される。

可動光反射部３は、例えば、半導体基板に半導体プロセス、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）プロセス等によって薄型且つ小型に形成可能である。また、半導体基板に可動光反射部３を形成することにより、圧電駆動、静電駆動、電磁駆動等の駆動素子部を半導体基板上にモノリシックに形成できる。これにより、分光器１０は、モータ等の外部駆動装置を用いなくても可動光反射部３を駆動させることができるため、さらなる小型化が可能となる。但し、可動光反射部３が形成される基板は半導体に限定されるものではなく、ガラス、金属、樹脂等であってもよい。

光出射部４は、可動光反射部３によって反射された波長分散光Ｌｄに含まれる異なる波長の光のうち一部の光を、第２光通過部４１を通して外部に出射させる光出射手段の一例である。波長分散光Ｌｄに含まれる異なる波長の光うち一部の光は、第２光通過部４１を通って外部に出射する。光出射部４における第２光通過部４１以外の領域は、波長分散光Ｌｄを通過させない第２非光通過部４２を構成している。

第２光通過部４１は、例えばピンホール形状、スリット形状等を有し、波長分散光Ｌｄに含まれる異なる波長の光のうち一部の光の出射位置を決定したり、波長分解能を向上させたりするために設けられている。

波長分散光Ｌｄに含まれる異なる波長の光は、それぞれ反射面３２上の反射ライン３３上の異なる位置において反射され、光出射部４上の出射ライン４３上の異なる位置に入射する。

可動光反射部３の反射面３２が揺動軸３１回りに傾きを変化させることにより、波長分散光Ｌｄに含まれる異なる波長の光それぞれの出射ライン４３上における入射位置が変化する。

波長分散光Ｌｄに含まれる異なる波長の光のうち、第２光通過部４１の位置に入射する光は、第２光通過部４１を通って出射する。光出射部４は、波長分散光Ｌｄに含まれる波長であって、可動光反射部３の揺動角により決定される波長の光を、第２光通過部４１を通して出射させることができる。図２に示す出射光Ｌｏは、光出射部４から出射される光を示している。

なお、光入射部１および光出射部４についても、基板上に形成されたものであってもよい。この場合、基板の材料には、例えば、半導体、ガラス、金属、樹脂等を適用できるが、これらに限定されるものではない。但し、基板の材料として半導体を用いると、半導体プロセス、ＭＥＭＳプロセス等を用いて高精度且つ廉価に光入射部１および光出射部４を形成できるため好ましい。

光検出部６は、光出射部４からの出射光Ｌｏを検出する光検出手段の一例である。光検出部６には、例えばフォトダイオードを使用できる。近赤外領域の光Ｌｉを分光する場合には、ＩｎＧａＡｓフォトダイオードが好ましい。

分光器１０において、上記各構成部は、図１に示すように所定の位置に配置され、さらに所定の姿勢を維持できるように、筐体や治具等に対して固定されている。

図２において、破線で示した円は、ローランド円７を表す。ローランド円とは、凹面回折格子２の曲率中心と、凹面回折格子２に含まれる凹曲面の中心と、を結ぶ線が直径となるような円をいう。本実施形態では、少なくとも光入射部１および凹面回折格子２がローランド円７上に配置される。光出射部４は、可動光反射部３の配置によってはローランド円７に配置されるが、図１では一例として光出射部４がローランド円７上に配置されない構成を示している。

＜凹面回折格子２の構成例＞
図３は、凹面回折格子２の構成を例示する図であり、図１におけるIII－III切断線に沿った断面図である。

図３に示すように、凹面回折格子２は、反射部材１５を有する。具体的には、基板５の上面に凹曲面が形成されており、この凹曲面に回折格子が形成されている。さらに、回折格子の表面に、反射率を向上させるためのＡｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属材料を用いた反射部材１５が形成されている。例えば、基板５の凹曲面に対してレジストを塗布し、干渉露光法等を用いてレジストに格子パターンを形成し、ドライエッチング等を行うことにより、基板５の凹曲面に回折格子を形成できる。

凹面回折格子２には、例えば、回折格子の溝部の断面形状として、矩形形状、正弦波形状、ノコギリ波形状等を有するものを適用できる。

凹面回折格子２は、反射部材１５を有さない構成であってもよい。また、凹面回折格子２の構成は、同様の波長分散機能を有するものであれば、図２に例示したものに限定されない。光入射部１から平行光が入射する場合には、凹面回折格子２の代わりに平面回折格子を用いることによっても、同様の波長分散機能が得られる。この場合には、平面回折格子の傾きを変える構成を採用した場合に必要となる複雑な装置構成（例えば、平面回折格子の前後で光を平行光にするためのコリメート光学系等）は不要である。

凹面回折格子２では、基板５の上面に形成された凹曲面に薄膜状の樹脂層が形成され、この樹脂層に回折格子が形成されていてもよい。この場合には、反射率を向上させるために、樹脂層に形成された回折格子の表面に、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の金属材料を用いた反射部材が形成されることが好ましい。

図４は、本実施形態に係る位置変更のため構成を例示する図である。図４（ａ）は第１例の上面図、図４（ｂ）は第１例の正面図、図４（ｃ）は第２例の上面図、図４（ｄ）は第２例の正面図、図４（ｅ）は第３例の上面図、図４（ｆ）は第３例の正面図である。

分光器１０は、光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４のそれぞれの位置変更のための構成として、ホルダ１００と、２つの位置決めピン１０１と、を有する。

図４において、上面図は、矢印Ｐ方向および矢印Ｑ方向のそれぞれに直交する方向からホルダ１００および位置決めピン１０１を視た図である。矢印Ｐ方向は、ホルダ１００が位置変更のためにスライドする方向である。矢印Ｑ方向は、ホルダ１００が位置決めピン１０１に突き当たる方向である。正面図は、矢印Ｐ方向に沿ってホルダ１００および位置決めピン１０１を視た図である。

ホルダ１００および２つの位置決めピン１０１は、適用される光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４の位置や形状に応じて、その構成を適宜変更可能である。図４（ａ）および（ｂ）はその第１例、図４（ｃ）および（ｄ）はその第２例、図４（ｅ）および（ｆ）はその第３例を示している。

第１例では、ホルダ１００の側面（矢印Ｑの方向に直交する面）が位置決めピン１０１に突き当たることにより、ホルダ１００はＱ方向における位置決めがなされる。この状態においてホルダ１００は矢印Ｐ方向に位置変更できる。

第２例では、ホルダ１００の底面（上面とは反対の面）に形成された溝１０２に位置決めピン１０１が入り込むことにより、ホルダ１００はＱ方向における位置決めがなされる。この状態においてホルダ１００は矢印Ｐ方向に位置変更できる。

第３例では、ホルダ１００の底面に形成された長孔１０３に位置決めピン１０１が入り込むことにより、ホルダ１００はＱ方向における位置決めがなされる。この状態においてホルダ１００は矢印Ｐ方向に位置変更できる。長孔１０３は矢印Ｐ方向および矢印Ｑ方向のそれぞれに直交する方向に貫通する孔であってもよいし、貫通しない孔であってもよい。

＜分光器１０による分光スペクトル例＞
図５および図６Ａを参照して、分光器１０による分光スペクトルについて説明する。図５は、１つの波長λ１近傍の分光スペクトルを例示する図である。図６Ａは、３つの波長λ１、λ２、λ３それぞれの近傍の分光スペクトルを例示する図である。分光スペクトルは、図５および図６Ａに示すように、波長ごとでの光強度を意味する。

実線のグラフ５１は、出射光Ｌｏの光軸方向において、出射光Ｌｏの集光位置と第２光通過部４１の位置とが略一致している状態での分光スペクトルを示している。ピーク波長は、λ１、λ２およびλ３である。一方、破線のグラフ５２は、出射光Ｌｏの光軸方向において、出射光Ｌｏの集光位置と第２光通過部４１の位置とが一致していない状態での分光スペクトルを示している。ピーク波長は、λ１'、λ２'およびλ３'である。出射光Ｌｏの集光位置と第２光通過部４１の位置との間の、出射光Ｌｏの光軸方向における位置ずれを、以降では光軸方向ずれと称する。また、以下、λ１に対するλ１'、λ２に対するλ２'、λ３に対するλ３'のように、正規の状態からの位置バラつき等にピーク波長が変化する場合には、その現象を波長シフトと称し、その差（λ１'－λ１、λ２'－λ２、λ３'－λ３）を波長シフト量と称する。

図５のグラフ５２に示すように、光軸方向ずれがあると、光強度が低下するとともにスペクトルの半値幅が大きくなる。光強度の低下および半値幅の増大は、分光におけるＳＮ（Signal/Noise）比および波長分解能を低下させ、分光器１０の性能を低下させる要因となる。このような光軸方向ずれは、光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４等の各構成部の寸法誤差や組立誤差に応じて生じる。仮に、分光器１０が公差範囲内で製造されても、各構成部の寸法公差や組立公差の範囲内での誤差によって、光軸方向ずれは生じ得る。

図６Ａに示すように、３つの波長λ１、λ２、λ３の光において光軸方向ずれがあると、中心付近の波長λ１から離れた波長λ２では波長シフトΔλ２が、波長λ３では波長シフトΔλ３が生じる。焦点位置と光出射部４が位置ずれしている場合、分光波長中心付近のλ１の波長シフト量は小さいが、中心波長から離れたλ２、λ３は波長シフト量が大きくなる。これら波長シフトも、分光器１０の性能を低下させる要因となる。

具体的な事象を図６Ｂに示す。図６Ｂは、凹面回折格子２により分光された波長λ１、λ２、λ３のそれぞれの光が可動光反射部３で反射する際の回折角θλ１、θλ２、θλ３と、可動光反射部３の角度αλ１、αλ２、αλ３および可動光反射部３で光が反射する角度（ここでは入射角と反射角の和を意味する）φλ１、φλ２、φλ３の関係を示している。但し、波長λ１、λ２、λ３のそれぞれの光は、主光線を表している。図６Ｂでは、波長λ１の光を実線、波長λ２の光を破線、波長λ３の光を一点鎖線で示している。

回折角は、凹面回折格子２の法線方向（Ｚ軸方向）に対する回転角として示されている。θλ１は法線方向と一致している、すなわちθλ１＝０であるとする。可動光反射部３の角度は、波長λ１の光が第２光通過部４１を通る条件の角度を０°、すなわちαλ１＝０として示している。理想状態では、θλ１＝αλ＝０、θλ２＝αλ２、θλ３＝αλ３であり、φλ１＝φλ２＝φλ３である。図６Ｂに示す通り、それぞれの波長の光は、可動光反射部３の異なる位置Ｐλ１、Ｐλ２、Ｐλ３で反射している。このため、例えば可動光反射部３の回転軸が理想位置、例えば図６Ｂに示すＹ軸およびＺ軸のそれぞれに直交するＸ軸上の位置、からずれた場合には、それぞれの波長の光ごとに異なる位置に到達することになる。これは、可動光反射部３を用いた分光器に特有の課題である。

図６Ｃは、凹面回折格子２、可動光反射部３、光出射部４の各素子の位置および姿勢に所定の公差を与えた際に、波長λ１、λ２およびλ３のそれぞれ光が第２光通過部４１を最も高い光量で通過するときの可動光反射部３の角度を示している。点線は、位置変動のない設計中央値の角度である。設計中央値からの角度の差が大きいほど波長シフト量も大きくなる。各素子の位置調整は、この角度バラつきを抑制するために不可欠である。

図６Ｄは、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４の各素子の位置および姿勢に所定の公差を与えた場合に、波長λ１、λ２およびλ３のそれぞれの光が第２光通過部４１を最も高い光量で通過するときの光照度の半値全幅の値を示している。点線は、位置変動のない設計中央値の値である。設計中央値からの位置変動にともない半値全幅が大きくなる。波長分解能は半値全幅の逆数として定義してもよい。

以上より、分光器１０の性能を高く確保するとともに、分光器１０ごとでの性能差を低減する観点では、光軸方向ずれを低減することが好ましい。

＜凹面回折格子２および光出射部４の位置変更例＞
図７は、凹面回折格子２および光出射部４それぞれの位置の変更例を示す図である。図８は、凹面回折格子２における格子２１を例示する図である。図９は、凹面回折格子２の位置を変化させたときの出射光Ｌｏの集光位置変化を示す図であり、図９（ａ）は第１例の図、図９（ｂ）は第２例の図、図９（ｃ）は第３例の図である。

本実施形態では、図７に示すように、凹面回折格子２の位置は、凹面回折格子２が配置される近傍におけるローランド円７の第１接線方向８２に沿って変更可能である。図８に示すように、凹面回折格子２では、延伸方向２１１に延伸する複数の格子２１が、整列方向２１２に沿って整列している。整列方向２１２は、複数の格子２１が並ぶ所定方向の一例である。第１接線方向８２は、整列方向２１２に沿う方向であり、延伸方向２１１に略直交する方向である。

凹面回折格子２の位置を第１接線方向８２に沿って変更することにより、光入射部１からの光の凹面回折格子２への入射角度が変化する。これにより、出射光Ｌｏの集光位置を変化させることができる。

図９（ａ）では、光軸方向８１において光出射部４の第２光通過部４１よりも可動光反射部３側に、出射光Ｌｏの集光位置Ｂｗが位置している。図９（ｂ）では、光軸方向８１において光出射部４の第２光通過部４１と出射光Ｌｏの集光位置Ｂｗとが略一致している。図９（ｃ）では、光軸方向８１において光出射部４の第２光通過部４１よりも可動光反射部３とは反対側に、出射光Ｌｏの集光位置Ｂｗが位置している。凹面回折格子２の位置を第１接線方向８２に沿って変更することにより、図９（ａ）～図９（ｃ）のように光軸方向８１に沿った集光位置Ｂｗの位置を変化させることができる。従って、第２光通過部４１と集光位置Ｂｗとが略一致させる調整が可能となる。

凹面回折格子２の位置を変化させる方向は、凹面回折格子２の長手方向である。このため、位置変更時の基準点を離れた位置に２点設定することができ、位置変更による凹面回折格子２の、格子方向を軸とした回転方向のずれを抑制できる。

また本実施形態では、図７に示すように、光出射部４の位置は、光出射部４から出射される出射光Ｌｏの光軸方向８１に沿って変更可能である。出射光Ｌｏの光軸方向８１は、出射光Ｌｏの中心軸方向に対応する。光出射部４の位置変更により、第２光通過部４１と集光位置Ｂｗとを略一致させる調整が可能となる。

なお、分光器１０では、出射光Ｌｏは可動光反射部３によって光軸方向８１と交差する方向に走査される。従って、光軸方向８１と交差する方向への集光位置Ｂｗの位置ずれは、極端に変動していない限り、出射光Ｌｏの光量や波長分解能等には影響しないため、光出射部４の位置を変更する方向は光軸方向８１のみでよい。

光出射部４の位置変更は、分光器１０における他の構成部の位置変更と比較して、光軸方向８１に沿った集光位置Ｂｗの変化以外の光学特性への影響は小さいため、集光位置Ｂｗと第２光通過部４１とを略一致させる調整を安定して行うことができる。

以上説明したように、本実施形態では、分光器における構成部品の位置を調整できる。本実施形態では、凹面回折格子２の位置をローランド円７の第１接線方向８２に変更し、或いは光出射部４の位置を光軸方向８１に変更することにより、出射光Ｌｏの集光位置Ｂｗと第２光通過部４１の位置を略一致させることができる。また、出射光Ｌｏの集光位置Ｂｗと第２光通過部４１の位置を略一致させることにより、分光器１０ごとの性能の個体差を低減できる。

例えば、光出射部４は、光出射部４からの出射光Ｌｏの集光位置Ｂｗと、光出射部４からの出射光Ｌｏが光出射部４を通過する位置と、が重なるように位置変更が可能である。或いは、凹面回折格子２および光出射部４のそれぞれは、光出射部４からの出射光Ｌｏの光量が最大となる位置変更が可能であってもよい。また、凹面回折格子２および光出射部４のそれぞれは、光出射部４からの出射光Ｌｏの波長分解能が最大となる位置変更が可能であってもよい。また凹面回折格子２および光出射部４のそれぞれは、光出射部４からの出射光Ｌｏの波長シフトが最小となる位置変更が可能であってもよい。さらに、上記の位置変更の２以上を適宜組み合わせてもよい。上記いずれの位置変更によって、分光器１０ごとの性能の個体差を低減する効果を得ることができる。

＜光入射部１の位置変更例＞
図１０は、光入射部１の位置変更例を示す図である。光入射部１が配置される近傍におけるローランド円７の第２接線方向８３または半径方向８４に沿って光入射部１の位置を変更すると、凹面回折格子２と光入射部１との相対位置が変化する。これにより、凹面回折格子２の位置を第１接線方向８２に沿って変更する場合と同様の作用効果が得られる。第２接線方向８３および半径方向８４のどちらに沿って位置変更するかは、他の構成部とのクリアランス、位置変更可能なスペース等に応じて適宜選択可能である。

＜可動光反射部３の位置変更例＞
図１１は、可動光反射部３の位置変更例を示す図である。図１１に示すように、移動方向８５に沿って凹面回折格子２から遠ざかる方向に可動光反射部３の位置を変更すると、出射光Ｌｏの集光位置Ｂｗは、光出射部４よりも可動光反射部３側の位置に変化する。可動光反射部３は、可動光反射部３に入射する光の光軸方向に沿って位置を変更することにより、出射光Ｌｏの集光位置Ｂｗを変更し、集光位置Ｂｗと光出射部４の第２光通過部４１の位置を略一致させることができる。

＜光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３、光出射部４の位置変更例＞
図１２は、光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４の各位置を変更可能な状態を例示する図である。光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４のうち少なくとも２つの位置を変更可能とすることにより、これら各構成部の寸法公差や実装公差、組付公差が大きい場合にも集光位置Ｂｗと光出射部４の第２光通過部４１の位置を略一致させることができる。これにより、各構成部の製造誤差等に対するロバスト性を高くし、分光器１０の性能を高く確保するとともに、分光器１０の個体差を低減できる。また複数の構成部の位置を変更可能とすることにより、構成部１つあたりの位置の変更範囲を小さくすることができ、分光器１０の小型化が可能となる。

また、分光器１０における光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３、光出射部４の各構成部は、所定の位置および姿勢を維持できるように、筐体や支持部材にて固定されている。そのため、これら各構成部の位置変更は、支持部材の位置を変更することにより行ってもよい。なお、位置変更機構の方式や形状等には特段の制限はない。

光出射部４の近傍に光検出部６が設置される場合には、光出射部４の位置変更を光検出部６の位置変更と並行して行うこともできる。並行して行うことにより、光出射部４と光検出部６のアライメントのずれが発生せず、分光器１０の光学特性を安定させることができる。

＜凹面回折格子２の角度調整機構例＞
図１３および図１４は、凹面回折格子２の角度調整機構の一例を示す図である。図１３は断面図、図１４は下面図である。図１３および図１４に示すように、角度調整機構２２は、下面２２ｄに凹部２３ａを有する。凹部２３ａは、円柱状の形状を有する位置決めピン２３ｂに嵌合している。位置決めピン２３ｂの円柱軸は、鉛直方向に略平行であり、角度調整機構２２の回転軸２ｃと略一致している。

角度調整機構２２は、回転軸２ｃ回り（矢印２４の方向）に揺動することにより、角度調整機構２２が保持した凹面回折格子２を回転軸２ｃ回りに揺動させることができる。図１４における角度調整機構２２'は揺動前の角度調整機構を表し、角度調整機構２２は、角度調整機構２２'の状態から回転軸２ｃ回りに所定の回転角度分、揺動した後の角度調整機構を表している。

図１５および図１６は、凹面回折格子２の角度調整機構の他の例を示す図である。図１５は断面図、図１６は下面図である。図１５および図１６に示すように、角度調整機構２２は、下面２２ｄに凹部２５ａが形成されている。凹部２５ａは、円柱状の形状を有するガイド部材２５ｂに嵌合している。ガイド部材２５ｂの円柱軸は、鉛直方向に略平行であり、角度調整機構２２の回転軸２ｃと略一致している。

角度調整機構２２は、回転軸２ｃ回り（矢印２６の方向）に揺動することにより、角度調整機構２２が保持した凹面回折格子２を回転軸２ｃ回りに揺動させることができる。

＜分光器１０の作用効果＞
本実施形態では、分光器１０は、外部からの光を入射させる光入射部１（光入射手段）と、光入射部１によって入射された光Ｌｉを波長分散させる凹面回折格子２（回折格子）と、反射面３２を有し、反射面３２の回転軸回りに傾きが可変である可動光反射部３（反射手段）と、可動光反射部３によって反射された光を外部に出射する光出射部４（光出射手段）と、を有する。光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４の少なくとも２つは、反射面３２の回転軸に直交する方向に位置変更が可能である。光出射部４の位置は、光出射部４から出射される光の中心軸方向に沿って変更可能である。この構成により、分光器における構成部品の位置を調整できる。

また、本実施形態では、光入射部１、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４のそれぞれのうちの少なくとも１つは、反射面３２の上記回転軸に直交する方向に位置調整可能である。この構成により、部品の寸法公差や組み立て公差によらず、出射光量の低減、波長分解能の悪化、波長精度の悪化を抑制し、分光性能の機差を低減することができる。

また、本実施形態では、凹面回折格子２が位置調整可能であり、凹面回折格子２は、可動光反射部３の回転軸に沿う方向をＸ軸、凹面回折格子２の中心から曲率中心に向かう方向をＺ軸、Ｘ軸およびＺ軸のそれぞれに直交する軸をＹ軸とすると、Ｙ軸に沿う方向に位置調整可能であってもよい。この構成により、凹面回折格子２と光出射部４の位置を調整可能することで、安定して分光性能を向上させることができる。

また、本実施形態では、凹面回折格子２の位置は、光入射部１と光出射部４とが、凹面回折格子２により形成されるローランド円上に位置するよう調整されていてもよい。この構成により、ローランド配置を実現でき、分光性能を向上させることができる。ここで、図１７は、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４のそれぞれの位置および姿勢に所定の公差を与えたうえで、凹面回折格子２の位置を調整した場合の可動光反射部３の角度を示す図である。図１７に示すように、凹面回折格子２を位置調整することにより、角度バラつきを大幅に低減することができる。

また、本実施形態では、光出射部４が位置調整可能であり、光出射部４は、可動光反射部３の回転軸に沿う方向をＸ軸、光出射部４の表面の法線方向をＺ軸、Ｘ軸およびＺ軸のそれぞれに直交する軸をＹ軸とすると、Ｚ軸に沿う方向に位置調整可能であってもよい。この構成により、凹面回折格子２と光出射部４の位置を調整可能になるため、安定して分光性能を向上させることができる。ここで、図１８は、凹面回折格子２、可動光反射部３、光出射部４のそれぞれの位置および姿勢に所定の公差を与え、さらに光出射部４の位置を調整した場合に、波長λ１、λ２およびλ３のそれぞれの光が第２光通過部４１を最も高い光量で通過するときの光照度の半値全幅の値を示す図である。図１８に示すように、光出射部４を調整することにより、半値全幅の増大を低減することができる。

また、本実施形態では、光出射部４の位置は、光入射部１と光出射部４とが光学的に共役関係となるように調整されていてもよい。この構成により、焦点位置と第２光通過部４１の位置を一致させることができ、分光性能を向上させることができる。

また、本実施形態では、凹面回折格子２および光出射部４のそれぞれは、位置調整可能であり、波長シフトが最小となる位置に配置されていてもよい。この構成により、波長依存のある波長シフトを低減することができ、これにより波長精度を向上させ、分光性能を向上させることができる。

また、本実施形態では、凹面回折格子２および光出射部４のそれぞれは、位置調整可能であり、波長分解能が最大となる位置に配置されていてもよい。この構成により、波長分解能が向上するため、分光性能を向上させることができる。ここで、図１９は、凹面回折格子２、可動光反射部３、光出射部４のそれぞれの位置および姿勢に所定の公差を与え、さらに凹面回折格子２と光出射部４の位置を並行して調整した場合に、波長λ１、λ２およびλ３のそれぞれ光が第２光通過部４１を最も高い光量で通過するときの光照度の半値全幅の値を示す図である。図１９に示すように、凹面回折格子２と光出射部４の位置を並行に調整することにより、光出射部４の位置のみ調整した場合に比較して、半値全幅の増大を低減することができる。

また、本実施形態では、凹面回折格子２および光出射部４のそれぞれは、位置調整可能であり、光出射部４の通過光量が最大となる位置に配置されていてもよい。光出射部４の通過光量を最大にすることにより、ＳＮ比を向上させることができ、分光性能を向上させることができる。

また、本実施形態では、光入射部１、凹面回折格子２および光出射部４のうちの少なくとも１つは、可動光反射部３の回転軸と平行な軸の回りに回転することにより姿勢調整が可能であってもよい。この構成により、部品の寸法公差や組み立て公差によらず、出射光量の低減、波長分解能の悪化、波長精度の悪化を抑制し、分光性能の機差を低減することができる。

また、本実施形態では、凹面回折格子２は、姿勢調整可能であり、可動光反射部３の回転軸と平行な軸は、凹面回折格子２の中心を通ってもよい。ここで、図２０は、凹面回折格子２、可動光反射部３および光出射部４のそれぞれの位置および姿勢に所定の公差を与えたうえで、凹面回折格子２の姿勢を調整した場合の可動光反射部３の角度を示す図である。図２０に示すように、凹面回折格子２を姿勢調整することにより、角度バラつきを大幅に低減することができる。

［第２実施形態］
次に、実施形態に係る分光器１０を有する分析システム３００を、第２実施形態として説明する。なお、既に説明した実施形態と同一の名称、符号については、同一もしくは同質の部材又は構成部を示しており、詳細説明を適宜省略する。

＜分析システム３００の構成例＞
図２１は、分析システム３００の全体構成を例示する図である。図２１に示すように、分析システム３００は、携帯型装置２００と、携帯端末３１０と、を有する。携帯型装置２００は、分光器１０と、プロセッサ３０６と、通信回路３０４と、を有する。

分析システム３００は、一つの携帯端末３１０に対して一つの分光器１０を有する構成の他に、一つの携帯端末３１０に対して複数の分光器１０を有する構成であってもよい。

プロセッサ３０６は、分光器１０から、受光部２１７が出力する電気信号を入力し、光スペクトルの時間と光の強度を含む出力が関連付けられた情報を演算により取得する。通信回路３０４は、プロセッサ３０６による取得結果を携帯端末３１０へ出力する。

携帯端末３１０は、インターフェース３１４、プロセッサ３１６、および通信回路３１７を有する。携帯端末３１０は、例えばスマートフォンまたはタブレット端末等の携帯機器である。携帯端末３１０は、カメラ機能を有していてもよい。

プロセッサ３１６は、携帯型装置２００の通信回路３０４から出力された光スペクトルの時間と光の強度を含む出力が関連付けられた情報Ｓｐを、通信回路３１７を用いて受信し、受信した情報Ｓｐと、分光器１０が有する可動光反射部３の回動周波数や回転角度振幅等に基づいて、時間を光の波長に換算し、光の波長ごとの光の強度の関係で構成される分光スペクトル情報Ｓｑを得る。またプロセッサ３１６は、得られた分光スペクトル情報Ｓｑを用いて対象物１０８の組成判別結果等の分析結果を演算により取得する。

プロセッサ３１６は、インターフェース３１４を介して分析結果をディスプレイ３１２に表示できる。

このような分析システム３００において、携帯型装置２００は、例えばＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）等の無線シリアル通信を用いて、通信回路３０４を介してデータを携帯端末３１０に伝送する。携帯端末３１０は、携帯型装置２００からデータを受信し、プロセッサ３１６によって処理および分析する。そして、分析システム３００は、この分析結果である、例えば光スペクトルの情報Ｓｑおよび組成判別結果等をディスプレイ３１２に表示させる。

＜分析システム３００の動作例＞
図２２は、分析システム３００を樹脂判別装置に適用した場合における樹脂判別動作を例示するフローチャートである。

まず、ステップＳ１において、分析システム３００は、分類または同定される樹脂を含む対象物が提供される。

続いて、ステップＳ２において、分析システム３００は、メモリに一または複数の赤外材料分類モデル（多変量分類モデル）を保存する。

続いて、 ステップＳ３において、分析システム３００は、未加工の赤外スペクトルデータを収集するために、対象物１０８に対する分光分析を実行する。

続いて、ステップＳ４において、分析システム３００は、携帯端末３１０のプロセッサ３１６による未加工の赤外スペクトルデータの多変量処理を実行する。

続いて、ステップＳ５において、分析システム３００は、携帯端末３１０のプロセッサ３１６により、特定のタイプの樹脂ベース複合材料として（材料モデルに一致する）、試料の組成を同定する。

続いて、ステップＳ６において、分析システム３００は、対象物１０８をさらに処理する（例えば、さらなるリサイクルステップのために適切な場所に保存される）。分析システム３００は、このようなステップＳ１からステップＳ６の各処理を、ステップＳ３において別の樹脂を含む対象物１０８に対して繰返すことができる。

例えば、分析システム３００は、分類モデルを用いて樹脂を含む対象物１０８の組成の同定を行い、特定の樹脂を含む試料が含みうる樹脂を決定する。例えば、分析システム３００を用いて樹脂を判別することにより、樹脂を含む対象物１０８のリサイクルにおいて、材料処理に使用される炉の処理条件を最適化する等の工程の処理条件を最適化できる。

また、図２２の動作における分光分析の実行前に既知の材料データを登録する処理を追加することも可能である。この処理により、対象物１０８の分析結果の精度を向上することが可能となる。このように、分析システム３００は、高い信頼性によって樹脂を判別できる。

［その他の好適な実施形態］
以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形又は変更が可能である。

例えば、実施形態に係る分光器１０は、分析装置に用いることができる。このような分析装置は、例えば分光器により得られるスペクトルを分光分析することにより、対象物の樹脂種等を同定し、対象物をリサイクル材料として樹脂種ごとに選別回収するために用いられる。分析装置は、分光器１０を有することにより、迷光の影響を抑制した高精度な分析を行うとともに、分析装置を小型化できる。

本発明の態様は、例えば、以下のとおりである。
＜１＞ 外部からの光を入射させる光入射手段と、前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる回折格子と、反射面を有し、当該反射面の回転軸回りに傾きが可変である反射手段と、前記反射手段によって反射された前記光を外部に出射する光出射手段と、を有し、前記光入射手段、前記回折格子、前記反射手段および前記光出射手段の少なくとも２つは、前記回転軸に直交する方向に位置変更が可能であり、前記光出射手段の位置は、前記光出射手段から出射される光の中心軸方向に沿って変更可能である、分光器である。
＜２＞ 前記回折格子は所定方向に並ぶ複数の格子を有し、前記回折格子の位置は、前記所定方向に沿って変更可能である、前記＜１＞に記載の分光器である。
＜３＞ 前記回折格子は、凹面回折格子であり、前記光入射手段および前記凹面回折格子は、それぞれローランド円上に配置され、前記凹面回折格子の位置は、前記凹面回折格子が配置される位置における前記ローランド円の接線方向に沿って変更可能である、前記＜１＞または前記＜２＞に記載の分光器である。
＜４＞ 前記光出射手段は、前記光出射手段から出射される光の集光位置と、前記光出射手段から出射される光が前記光出射手段を通過する位置と、が重なるように位置変更が可能である、前記＜１＞から前記＜３＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜５＞ 前記回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、前記光出射手段から出射される光の光量が最大となる位置変更が可能である、前記＜１＞から前記＜４＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜６＞ 前記回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、前記光出射手段から出射される光の波長分解能が最大となる位置変更が可能である、前記＜１＞から前記＜５＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜７＞ 前記回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、前記光出射手段から出射される光の波長シフトが最小となる位置変更が可能である、前記＜１＞から戦記＜６＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜８＞ 外部からの光を入射させる光入射手段と、前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる凹面回折格子と、反射面を有し、該反射面が所定の回転軸回りに揺動可能である反射手段と、前記反射手段によって反射された前記光を外部に出射する光出射手段と、を有し、前記光入射手段、前記凹面回折格子、前記反射手段および前記光出射手段のそれぞれのうちの少なくとも１つは、前記回転軸に直交する方向に位置調整可能である、分光器である。
＜９＞ 前記凹面回折格子は、位置調整可能であり、前記凹面回折格子は、前記反射手段の前記回転軸に沿う方向をＸ軸、前記凹面回折格子の中心から曲率中心に向かう方向をＺ軸、前記Ｘ軸および前記Ｚ軸のそれぞれに直交する軸をＹ軸とすると、前記Ｙ軸に沿う方向に位置調整可能である、前記＜８＞に記載の分光器である。
＜１０＞ 前記凹面回折格子が配置される位置は、前記光入射手段と前記光出射手段とが、前記凹面回折格子により形成されるローランド円上に位置するよう調整されている、前記＜８＞または前記＜９＞に記載の分光器である。
＜１１＞ 前記光出射手段は、位置調整可能であり、前記光出射手段は、前記反射手段の前記回転軸に沿う方向をＸ軸、前記光出射手段の表面の法線方向をＺ軸、前記Ｘ軸および前記Ｚ軸のそれぞれに直交する軸をＹ軸とすると、前記Ｚ軸に沿う方向に位置調整可能である、前記＜８＞から前記＜１０＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜１２＞ 前記光出射手段の位置は、前記光入射手段と前記光出射手段とが光学的に共役関係となるように調整されている、前記＜８＞から前記＜１１＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜１３＞ 前記凹面回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、位置調整可能であり、波長シフトが最小となる位置に配置されている、前記＜８＞から前記＜１２＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜１４＞ 前記凹面回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、位置調整可能であり、波長分解能が最大となる位置に配置されている、前記＜８＞から前記＜１３＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜１５＞ 前記凹面回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、位置調整可能であり、前記光出射手段の通過光量が最大となる位置に配置されている、前記＜８＞から前記＜１４＞のいずれか１つに記載の分光器である。
＜１６＞ 外部からの光を入射させる光入射手段と、前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる凹面回折格子と、反射面を有し、該反射面が所定の回転軸回りに揺動可能である反射手段と、前記反射手段によって反射された前記光を外部に出射する光出射手段と、を有し、前記光入射手段、前記凹面回折格子、前記光出射手段のうちの少なくとも１つは、前記回転軸と平行な軸の回りに回転することにより姿勢調整が可能である、分光器である。
＜１７＞ 前記凹面回折格子は、姿勢調整可能であり、前記回転軸と平行な軸は、前記凹面回折格子の中心を通る、前記＜１６＞に記載の分光器である。
＜１８＞ 前記＜１＞から前記＜１７＞のいずれか１つの分光器を有する、分析システムである。

１ 光入射部（光入射手段の一例）
１１ 第１光通過部
１２ 第１非光通過部
２ 凹面回折格子（回折格子の一例）
２１ 格子
３ 可動光反射部（反射手段の一例）
３１ 揺動軸
３２ 反射面
３３ 反射ライン
４ 光出射部（光出射手段の一例）
４１ 第２光通過部
４２ 第２非光通過部
４３ 出射ライン
５ 基板
６ 光検出部（光検出手段の一例）
７ ローランド円
１０ 分光器
１５ 反射部材
５１、５２ グラフ
８１ 光軸方向（中心軸方向の一例）
８２ 第１接線方向
８３ 第２接線方向
８４ 半径方向
８５ 移動方向
１００ ホルダ
１０１ 位置決めピン
１０２ 溝
１０３ 長孔
２１１ 延伸方向
２１２ 整列方向
Ｌｉ 光
Ｌｏ 出射光
λ１、λ２、λ３ 波長
Δλ２、Δλ３ 波長シフト
Ｐ、Ｑ 矢印

特開２０１３－１０９０８２号公報

Claims (18)

1. 外部からの光を入射させる光入射手段と、
   前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる回折格子と、
   反射面を有し、当該反射面の回転軸回りに傾きが可変である反射手段と、
   前記反射手段によって反射された前記光を外部に出射する光出射手段と、を有し、
   前記光入射手段、前記回折格子、および前記反射手段の少なくとも１つと、前記光出射手段と、が前記回転軸に直交する方向に位置変更が可能であり、
   前記光出射手段の位置は、前記光出射手段から出射される光の中心軸方向に沿って変更可能である、分光器。
2. 前記回折格子は所定方向に並ぶ複数の格子を有し、
   前記回折格子の位置は、前記所定方向に沿って変更可能である、請求項１に記載の分光器。
3. 前記回折格子は、凹面回折格子であり、
   前記光入射手段および前記凹面回折格子は、それぞれローランド円上に配置され、
   前記凹面回折格子の位置は、前記凹面回折格子が配置される位置における前記ローランド円の接線方向に沿って変更可能である、請求項１または請求項２に記載の分光器。
4. 前記光出射手段は、前記光出射手段から出射される光の集光位置と、前記光出射手段から出射される光が前記光出射手段を通過する位置と、が重なるように位置変更が可能である、請求項１または請求項２に記載の分光器。
5. 前記回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、前記光出射手段から出射される光の光量が最大となる位置変更が可能である、請求項１または請求項２に記載の分光器。
6. 前記回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、前記光出射手段から出射される光の波長分解能が最大となる位置変更が可能である、請求項１または請求項２に記載の分光器。
7. 前記回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、前記光出射手段から出射される光の波長シフトが最小となる位置変更が可能である、請求項１または請求項２に記載の分光器。
8. 外部からの光を入射させる光入射手段と、
   前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる凹面回折格子と、
   反射面を有し、該反射面が所定の回転軸回りに揺動可能である反射手段と、
   前記反射手段によって反射された前記光を外部に出射する光出射手段と、を有し、
   前記光入射手段、前記凹面回折格子、前記反射手段および前記光出射手段のそれぞれのうちの少なくとも１つは、前記回転軸に直交する方向に位置調整可能である、分光器。
9. 前記凹面回折格子は、位置調整可能であり、
   前記凹面回折格子は、前記反射手段の前記回転軸に沿う方向をＸ軸、前記凹面回折格子の中心から曲率中心に向かう方向をＺ軸、前記Ｘ軸および前記Ｚ軸のそれぞれに直交する軸をＹ軸とすると、前記Ｙ軸に沿う方向に位置調整可能である、請求項８の分光器。
10. 前記凹面回折格子が配置される位置は、前記光入射手段と前記光出射手段とが、前記凹面回折格子により形成されるローランド円上に位置するよう調整されている、請求項８または請求項９に記載の分光器。
11. 前記光出射手段は、位置調整可能であり、
    前記光出射手段は、前記反射手段の前記回転軸に沿う方向をＸ軸、前記光出射手段の表面の法線方向をＺ軸、前記Ｘ軸および前記Ｚ軸のそれぞれに直交する軸をＹ軸とすると、前記Ｚ軸に沿う方向に位置調整可能である、請求項８または請求項９に記載の分光器。
12. 前記光出射手段の位置は、前記光入射手段と前記光出射手段とが光学的に共役関係となるように調整されている、請求項８または請求項９に記載の分光器。
13. 前記凹面回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、位置調整可能であり、波長シフトが最小となる位置に配置されている、請求項８または請求項９に記載の分光器。
14. 前記凹面回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、位置調整可能であり、波長分解能が最大となる位置に配置されている、請求項８または請求項９に記載の分光器。
15. 前記凹面回折格子および前記光出射手段のそれぞれは、位置調整可能であり、前記光出射手段の通過光量が最大となる位置に配置されている、請求項８または請求項９に記載の分光器。
16. 外部からの光を入射させる光入射手段と、
    前記光入射手段によって入射された前記光を波長分散させる凹面回折格子と、
    反射面を有し、該反射面が所定の回転軸回りに揺動可能である反射手段と、
    前記反射手段によって反射された前記光を外部に出射する光出射手段と、を有し、
    前記光入射手段、前記凹面回折格子、前記光出射手段のうちの少なくとも１つは、前記回転軸と平行な軸の回りに回転することにより姿勢調整が可能である、分光器。
17. 前記凹面回折格子は、姿勢調整可能であり、
    前記回転軸と平行な軸は、前記凹面回折格子の中心を通る、請求項１６に記載の分光器。
18. 請求項１、請求項８または請求項１６に記載の分光器を有する、分析システム。

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